CN103922602A - Tft玻璃基板减薄液及其制备方法、tft玻璃基板减薄工艺 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种TFT玻璃基板减薄液，包括：氢氟酸10%～12%，氟化氢铵4%～6%，硝酸5%～8%，硫酸5%～8%，水余量。将TFT玻璃基板减薄液的各组分混合在一起，既得成品。本发明提供的TFT玻璃基板减薄液可以稳定蚀刻速率，针对硼硅玻璃材质蚀刻效果更佳，能有效控制化学蚀刻过程中玻璃产生的凹点、划伤缺陷的放大，软化玻璃粉解决蚀刻过程中边缘凸起问题，且安全、稳定，有效满足TFT玻璃基板减薄品质要求，满足了客户的需求。

Description

TFT玻璃基板减薄液及其制备方法、TFT玻璃基板减薄工艺

技术领域

本发明涉及TFT玻璃基板减薄领域，具体涉及一种TFT玻璃基板减薄液及其制备方法，还涉及一种TFT玻璃基板减薄工艺。

背景技术

液晶显示屏目前通常的减薄方法有两种，一为物理抛光研磨，一为化学蚀刻，其中化学薄化玻璃有一下几个特点：

1、薄化时间短；

2、薄化产量较高；

3、成分简单，配制比较容易。

目前，有进行TFT玻璃减薄的厂家，大部分是以氢氟酸为主要原料，且有些仅使用单一氢氟酸溶液，这种做法存在以下缺点：1，直接接触氢氟酸，毒性高，且该药液易产生氢氟酸气体，生产过程中特别是配制时危险性高，如果辅以加热，则危险性更高；2，蚀刻过程产生白色难溶物，容易悬浮在蚀刻液中及粘附于管道槽壁，难于处理。而且该难溶物吸附性较强，容易粘附在FPD玻璃表面，使TFT玻璃基板的边缘产生凸起，对TFT玻璃基板外观良品率以及后处理造成了很大的影响；3，生产过程中速率不稳定且利用率较低；4，由于利用率低，废液处理困难，与之相配套的废液处理成本较高；5，蚀刻过程中，玻璃上的凹点、划伤缺陷等会放大。

随着薄化TFT市场发展越来越大，TFT玻璃基板的减薄将有越来越多的企业加入，采用单一氢氟酸根本满足不了TFT玻璃基板减薄品质要求，适量添加其它辅助酸液来增加其TFT玻璃减薄的品质是必行之势。

发明内容

本发明的目的在于克服上述不足，提供一种TFT玻璃基板减薄液，为TFT玻璃基板提供安全、稳定、高效的生产环境的同时，能有效避免控制蚀刻过程中TFT玻璃基板产生的凹点、划伤缺陷的放大，解决凸起的问题。

本发明的第一个方面是提供一种TFT玻璃基板减薄液，按照质量百分比计，其组分包括：

氢氟酸 10%～12%，

氟化氢铵 4%～6%，

硝酸 5%～8%，

硫酸 5%～8%

水余量。

优选地，所述TFT玻璃基板减薄液的各组分重量配比为：

氢氟酸 10.5%～11.5%，

氟化氢铵 4.5%～5.5%，

硝酸 5.5%～7.5%，

硫酸 5.5%～7.5%，

水余量。

进一步优选地，所述TFT玻璃基板减薄液的各组分重量配比为：

氢氟酸 10%，

氟化氢铵 5%，

硝酸 8%，

硫酸 8%，

水 69%。

其中所述水为超纯水，其纯度≥99%，优选为≥99.9%，更优选为≥99.99%。

本发明的第二个方面是提供一种本发明第一个方面所述的TFT玻璃基板减薄液的制备方法：将本发明第一个方面所述的TFT玻璃基板减薄液的各组分混合在一起，既得。

本发明的第三个方面是提供一种TFT玻璃基板减薄工艺，包括以下步骤：

步骤1，对TFT玻璃基板进行封胶处理，UV固化；

步骤2，将步骤1处理后的TFT玻璃基板置入装有权利要求1所述的TFT玻璃基板减薄液的蚀刻槽内蚀刻；

步骤3，清洗。

优选地，所述TFT玻璃基板减薄工艺，还包括：

步骤4，对步骤3处理后的TFT玻璃基板进行成品质量检验，不合格进行步骤5，合格进行步骤6；

步骤5，物理抛光处理，清洗后进行步骤4；

步骤6，进行出货品质检验，合格进行步骤7，不合格进行步骤4，

步骤7，包装入库。

本发明提供的TFT玻璃基板减薄液可以稳定蚀刻速率，针对硼硅玻璃材质蚀刻效果更佳，能有效控制化学蚀刻过程中玻璃产生的凹点、划伤缺陷的放大，软化玻璃粉解决蚀刻过程中边缘凸起问题，且安全、稳定，有效满足TFT玻璃基板减薄品质要求，满足了客户的需求。

附图说明

图1为本发明提供的TFT玻璃基板减薄工艺流程图。

具体实施方式

下面参照附图，结合具体的实施例对本发明作进一步的说明，以更好地理解本发明。

实施例1

一种TFT玻璃基板减薄液，按照质量百分比计，其组分包括：

氢氟酸 10%，

氟化氢铵 5%，

硝酸 8%，

硫酸 8%，

超纯水 69%。

将配方中的超纯水、氢氟酸、氟化氢铵、硝酸、硫酸依次加入配酸容器中混合，用搅拌机以搅拌速度120r/min～200r/min的速度搅拌分散40～60min后，即可得到成品TFT玻璃基板减薄液。

实施例2

本实施例与实施例的不同在于，TFT玻璃基板减薄液的组分包括：

氢氟酸 12%，

氟化氢铵 4%，

硝酸 7%，

硫酸 5%，

超纯水 72%。

实施例3

本实施例与实施例的不同在于，TFT玻璃基板减薄液的组分包括：

氢氟酸 11%，

氟化氢铵 6%，

硝酸 8%，

硫酸 5%，

超纯水 70%。

实施例4

本实施例与实施例的不同在于，TFT玻璃基板减薄液的组分包括：

氢氟酸 10.5%，

氟化氢铵 5.5%，

硝酸 7%，

硫酸 6%，

超纯水 71%。

实施例5

本实施例与实施例的不同在于，TFT玻璃基板减薄液的组分包括：

氢氟酸 12%，

氟化氢铵 5%，

硝酸 5%，

硫酸 5%，

超纯水 73%。

实施例6

本实施例与实施例的不同在于，TFT玻璃基板减薄液的组分包括：

氢氟酸 10.5%，

氟化氢铵 5.5%，

硝酸 7.5%，

硫酸 6.5%，

超纯水 70%。

实施例7

参照图1，一种TFT玻璃基板减薄工艺：

1）从客户/供应商获得TFT玻璃基板材料进行IQC（来料质量控制），合格后，进行封胶处理，UV固化，手动清洗后，进行蚀刻前清洗；

2）将处理后的TFT玻璃基板置入装有实施例1提供的TFT玻璃基板减薄液的蚀刻槽内蚀刻20min；

3）进行蚀刻后清洗；

4）进行FQC（最终品质管制，FinalQualityControl），检测合格进行步骤6），检测不合格进行步骤5）；

5）物理抛光处理，清洗后进行步骤4）；

6）进行OQC（出货品质检验，Outgoing Quality Control），合格进行步骤7），不合格则进行步骤4）；

7）包装入库。

采用实施例1～6提供的TFT玻璃基板减薄液，按照实施例7提供的TFT玻璃基板减薄工艺的步骤1）～3），对铝硅材质玻璃（3.97寸，厚度为1.1mm）进行减薄处理，单边的蚀刻量控制在0.15mm，然后进行外观检测和蚀刻速度检测，检查结果见表1。其中，对比例1采用3.5%的氢氟酸。

表1检测结果

由表1可知，采用实施例1～6提供的TFT玻璃基板减薄液进行蚀刻，蚀刻速度远高于对比例，且无凸起产生，凹点和微裂纹未见扩大，能够有效满足TFT玻璃基板减薄的品质要求。

以上对本发明的具体实施例进行了详细描述，但其只是作为范例，本发明并不限制于以上描述的具体实施例。对于本领域技术人员而言，任何对本发明进行的等同修改和替代也都在本发明的范畴之中。因此，在不脱离本发明的精神和范围下所作的均等变换和修改，都应涵盖在本发明的范围内。

Claims (7)

1.一种TFT玻璃基板减薄液，其特征在于，按照质量百分比计，其组分包括：

氢氟酸 10%～12%，

氟化氢铵 4%～6%，

硝酸 5%～8%，

硫酸 5%～8%

水余量。

2.根据权利要求1所述的TFT玻璃基板减薄液，其特征在于，各组分重量配比为：

氢氟酸 10.5%～11.5%，

氟化氢铵 4.5%～5.5%，

硝酸 5.5%～7.5%，

硫酸 5.5%～7.5%，

水余量。

3.根据权利要求2所述的TFT玻璃基板减薄液，其特征在于，各组分重量配比为：

氢氟酸 10%，

氟化氢铵 5%，

硝酸 8%，

硫酸 8%，

水 69%。

4.根据权利要求1～3中任意一项所述的TFT玻璃基板减薄液，其特征在于，所述水为超纯水，其纯度≥99.99%。

5.一种权利要求1所述的TFT玻璃基板减薄液，其特征在于，将权利要求1所述的TFT玻璃基板减薄液的各组分混合在一起，既得。

6.一种TFT玻璃基板减薄工艺，其特征在于，包括以下步骤：

步骤1，对TFT玻璃基板进行封胶处理，UV固化；

步骤2，将步骤1处理后的TFT玻璃基板置入装有权利要求1所述的TFT玻璃基板减薄液的蚀刻槽内蚀刻；

步骤3，清洗。

7.根据权利要求6所述的TFT玻璃基板减薄工艺，其特征在于，还包括：

步骤4，对步骤3处理后的TFT玻璃基板进行成品质量检验，不合格进行步骤5，合格进行步骤6；

步骤5，物理抛光处理，清洗后进行步骤4；

步骤6，进行出货品质检验，合格进行步骤7，不合格进行步骤4，

步骤7，包装入库。