CN103676339A - 一种彩膜基板及其制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种彩膜基板及其制造方法，所述彩膜基板包括：多个凸起物，形成在所述彩膜基板边缘将要涂覆封框胶的区域内的所述彩膜基板上；反射层，覆盖所述多个凸起物，且位于所述彩膜基板边缘将要涂覆封框胶的区域内。由此，能够使封框胶中的紫外光反应成分充分反应，提高封框胶的固化效率，从而提升固化强度和屏幕抗压能力。

Description

一种彩膜基板及其制造方法

技术领域

本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种彩膜基板及其制造方法。

背景技术

随着显示装置的各项指标提升，消费者对于显示装置的分辨率要求越来越高，边框要求越来越窄，以获取更加好的观看效果。与此同时，显示装置边框金属走线的密度也越来越高，特别是使用了阵列基板上栅极驱动(GOA，gate driver on array)技术之后，金属层的宽度增加，密度也越来越高。

图1示出了现有的显示面板封框胶固化的示意图。如图1所示，紫外光从阵列基板11边缘侧照射，由于阵列基板11上的金属层13的遮挡，只有少部分光线通过金属层13间的缝隙，并穿过封框胶14和取向层16直到彩膜基板12上的黑矩阵层15而被吸收。封框胶14中的紫外反应成分被紫外光照射后反应固化，但是被金属层13遮挡部位的封框胶中的紫外反应成分往往无法完全反应，导致固化强度不足，还会导致产品出现剥离、屏幕抗压能力下降、以及封框胶14中的紫外光反应成分无法完全反应所致的液晶污染等等不良发生。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是显示面板的封框胶中的紫外光反应成分无法完全反应的问题。

为此目的，本发明提出了一种彩膜基板，包括：多个凸起物，形成在所述彩膜基板边缘将要涂覆封框胶的区域内的所述彩膜基板上；反射层，覆盖所述多个凸起物，且位于所述彩膜基板边缘将要涂覆封框胶的区域内。

优选地，在所述多个凸起物与所述彩膜基板之间还包括黑矩阵层。

优选地，所述凸起物的材料为树脂材料、氧化硅或氮化硅中的至少一种。

优选地，所述凸起物与所述黑矩阵层是一体形成的。

优选地，所述凸起物为半球形。

优选地，所述凸起物的直径为3至15μm，所述凸起物之间的间隔为3至15μm。

优选地，所述凸起物的位置与所述彩膜基板面对的阵列基板上的金属层之间的间隙相对。

本发明还提出了一种制造彩膜基板的方法，包括：在基板上依次形成黑矩阵层和光刻胶层；采用半色调掩膜板或灰色调掩膜板来对所述光刻胶层进行曝光；对曝光后的所述光刻胶层进行显影；在显影工艺之后对所述黑矩阵层进行蚀刻；在蚀刻后的黑矩阵层图形上形成反射层。

优选地，所述蚀刻后的黑矩阵层图形是多个半球形凸起物。

优选地，所述蚀刻后的黑矩阵层图形和所述反射层位于所述彩膜基板边缘将要涂覆封框胶的区域内。

通过采用本发明所公开的彩膜基板及其制造方法，能够使封框胶中的紫外光反应成分充分反应，提高封框胶的固化效率，从而提升固化强度和屏幕抗压能力。

附图说明

通过参考附图会更加清楚的理解本发明的特征和优点，附图是示意性的而不应理解为对本发明进行任何限制，在附图中：

图1示出了现有的显示面板封框胶固化的示意图；

图2示出了根据本发明实施例的彩膜基板边缘部分的示意图；

图3示出了根据本发明实施例的彩膜基板上的凸起物的示意图；

图4示出了根据本发明实施例的显示面板封框胶固化的示意图；

图5A至5D示出了根据本发明实施例的彩膜基板的制造方法的示意图；

图6A至6D示出了根据本发明实施例的彩膜基板的另一制造方法的示意图。

具体实施方式

下面将结合附图对本发明的实施例进行详细描述。

为了解决显示面板边框胶固化过程中，封框胶中的紫外反应成分无法完全反应的问题，本发明对显示面板的彩膜基板进行了改进。图2示出了根据本发明实施例的彩膜基板边缘部分的示意图。如图2所示，根据本发明实施例的彩膜基板边缘部分包括基板21、形成在基板21上的黑矩阵层22、形成在黑矩阵层22上的凸起物23、以及覆盖凸起物23的反射层24，其中凸起物23和反射层24形成在彩膜基板边缘将要涂覆封框胶的区域内。

图3示出了根据本发明实施例的彩膜基板上的凸起物的示意图。如图3所示，凸起物位于彩膜基板的边缘部分，优选地为半球型，凸起物的直径优选地为3至15μm，凸起物之间的间隔优选地为3至15μm，凸起物可以规则排列或者也可以不规则排列。本领域技术人员应当理解，凸起物并不限于为半球形，也可以选用其他任何适当的形状，凸起物的直径和间隔也可以根据实际情况而选用合适的值。

接下来将会说明采用根据本发明实施例的彩膜基板来增强封框胶固化效果的原理。图4示出了根据本发明实施例的显示面板封框胶固化的示意图。如图4所示，紫外光从阵列基板41侧照射，透过阵列基板41上的金属层43缝隙，并穿过封框胶44和取向层46到达彩膜基板42侧，被形成在彩膜基板42上的黑矩阵层45表面的反射层48反射。由于反射层48覆盖形成在优选为半球状的凸起物47上方而起到凸面镜的作用，从而使得入射到反射层48表面的紫外光向不同方向反射，使得被金属层遮挡住的封框胶也能被照射，因而被金属层43遮挡部分的封框胶的紫外反应成分也能进行充分反应，因此增强了封框胶的固化效果。优选地，形成在彩膜基板的表面上的凸起物47的位置与金属层43之间的间隙相对。

下面将结合图5和图6，详细描述根据本发明实施例的彩膜基板的制造方法。

图5A至5D示出了根据本发明实施例的彩膜基板的制造方法的示意图。

如图5A所示，在现有的彩膜基板上涂覆凸起层53，凸起层的材料可以是树脂材料，也可以是氮化硅、氧化硅等。

接着，如图5B所示，在凸起层53上方涂覆光刻胶层54，并使用掩膜对光刻胶层54进行曝光。

接下来，如图5C所示，对凸起层53进行蚀刻，蚀刻完成后剥离光刻胶层，以形成凸起物55。

最后，如图5D所示，通过沉积等工艺在彩膜基板上形成一层反射层来覆盖凸起层53，然后采用光刻刻蚀工艺对反射层进行蚀刻，而仅保留将要涂覆封框胶区域内的反射层56。反射层的材料可以是诸如铝、银等金属材料，也可以选用其他材料，只要对紫外光有较高的反射性即可。

图6示出了根据本发明实施例的彩膜基板的另一制造方法的示意图。

如图6A所示，在涂覆有黑矩阵层62的彩膜基板上涂覆光刻胶层64。

接着，如图6B所示，采用半色调掩膜板(HTM)或灰色调掩膜板(GTM)来对光刻胶层64进行曝光。

接下来，如图6C所示，在显影工艺完成之后，对黑矩阵层进行蚀刻，蚀刻完成后剥离光刻胶层，得到具有凸起物64的黑矩阵层图形。

最后，如图6D所示，通过沉积等工艺在彩膜基板上形成一层反射层来覆盖凸起物64，然后采用光刻刻蚀工艺对反射层进行蚀刻，而仅保留将要涂覆封框胶区域内的反射层65。

对于内嵌式触控(In Cell Touch)产品而言，需要在彩膜基板内表面制作金属图层，本领域技术人员可以使用共用掩膜板，来在彩膜基板边缘部分将要涂覆封框胶的区域内制作凸面反射层来提升封框胶的固化效率。

本领域技术人员应当理解，由于反射层本身具有良好的遮光能力，因此在本发明中，凸起物与基板之间不一定需要黑矩阵层，即凸起物可以直接形成在基板之上。

通过采用本发明所公开的彩膜基板及其制造方法，能够使封框胶中的紫外光反应成分充分反应，提高封框胶的固化效率，从而提升固化强度和屏幕抗压能力。

虽然结合附图描述了本发明的实施方式，但是本领域技术人员可以在不脱离本发明的精神和范围的情况下作出各种修改和变型，这样的修改和变型均落入由所附权利要求所限定的范围之内。

Claims (10)

1.一种彩膜基板，包括：

多个凸起物，形成在所述彩膜基板边缘将要涂覆封框胶的区域内的所述彩膜基板上；

反射层，覆盖所述多个凸起物，且位于所述彩膜基板边缘将要涂覆封框胶的区域内。

2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其中，在所述多个凸起物与所述彩膜基板之间还包括黑矩阵层。

3.根据权利要求1所述的彩膜基板，其中，所述凸起物的材料为树脂材料、氧化硅或氮化硅中的至少一种。

4.根据权利要求2所述的彩膜基板，其中，所述凸起物与所述黑矩阵层是一体形成的。

5.根据权利要求1所述的彩膜基板，其中，所述凸起物为半球形。

6.根据权利要求1所述的彩膜基板，其中，所述凸起物的直径为3至15μm，所述凸起物之间的间隔为3至15μm。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的彩膜基板，其中，所述凸起物的位置与所述彩膜基板面对的阵列基板上的金属层之间的间隙相对。

8.一种制造彩膜基板的方法，包括：

在基板上依次形成黑矩阵层和光刻胶层；

采用半色调掩膜板或灰色调掩膜板来对所述光刻胶层进行曝光；

对曝光后的所述光刻胶层进行显影；

在显影工艺之后对所述黑矩阵层进行蚀刻；

在蚀刻后的黑矩阵层图形上形成反射层。

9.根据权利要求8所述的方法，其中，所述蚀刻后的黑矩阵层图形是多个半球形凸起物。

10.根据权利要求8所述的方法，其中，所述蚀刻后的黑矩阵层图形和所述反射层位于所述彩膜基板边缘将要涂覆封框胶的区域内。

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