CN103466302A - 传送辊装置和具有该传送辊装置的清洗机气刀单元 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种传送辊装置和具有该传送辊装置的清洗机气刀单元,该传送辊装置,包括:多个辊轴;每一所述辊轴上设置的多个辊轮;在至少一所述辊轴的两边缘辊轮的两相对外侧设置的两挡边轮,所述两挡边轮的两相对内侧为斜面结构。本发明可大大减少气刀单元的撞片破片问题,提高清洗机的稼动率。
Description
技术领域
本发明涉及平板显示面板制造领域,尤其涉及一种传送辊装置及具有该传送辊装置的清洗机气刀单元。
背景技术
清洗机(clean machine,或称清洗机台)广泛应用于半导体、TFT等行业,用于玻璃基板清洁。清洗机具有气刀(air knife)单元,气刀单元的作用是通过形成高强度冲击气流,以对玻璃基板(glass)进行清洁。
现有技术中,如图1-图4所示,玻璃基板1在清洗机台内靠传送辊装置来进行传送,而现有技术的传送辊装置,包括辊轴2和辊轮(roller)3,辊轮3设置在辊轴2上,且每一辊轴2上设置有多个辊轮3。辊轮3可以在辊轴2的带动下转动。辊轴2转动的驱动力可来自于马达(图中未示出)。而玻璃基板1移动的动力来自于与辊轮3之间的摩擦力。
图1-图3中的实线箭头表示玻璃基板移动的方向,而虚线箭头则表示气刀单元的气源(gas port)吹出气流的方向。
图1所示为现有技术的气刀单元的玻璃基板移动的理想状态示意图;图3是现有技术的气刀单元的传送辊装置在没有放置玻璃基板时的示意图;但是,并不是所有的玻璃基板1的移动都是图1所示的理想状态,在部分情况下,如图2所示,在清洗制程中,例如气源的吹气压力和方向不一致时,容易导致玻璃基板1在辊轮3上偏移而导致撞片破片,或玻璃基板1被传送辊装置的周边物件刮伤。
玻璃基板1发生的刮伤、撞片问题,是影响清洗机稼动率的重要因素。稼动率(activation)是指设备在所能提供的时间内为了创造价值而占用的时间所占的比重,是指一台机器设备可能的生产数量与实际生产数量的比值。
因此解决玻璃基板1在清洗机气刀单元的传送辊装置上的移动偏移问题显得极为重要。
发明内容
针对现有技术中存在的问题,本发明的目的为提供一种传送辊装置,以解决现有技术中玻璃基板在气刀单元的传送辊装置上的移动偏移问题的技术问题。
本发明的另一目的为提供一种具有本发明传送辊装置的清洗机气刀单元。
为实现上述目的,本发明的技术方案如下:
一种传送辊装置,所述传送辊装置包括:多个辊轴;每一所述辊轴上设置的多个辊轮;在至少一所述辊轴的两边缘辊轮的两相对外侧设置的两挡边轮,所述两挡边轮的两相对内侧为斜面结构。
本发明的传送辊装置,优选的,所述挡边轮紧靠于其内侧的所述边缘辊轮。
本发明的传送辊装置,优选的,所述斜面结构的斜面坡度为45度或30度。
本发明的传送辊装置,优选的,各所述辊轴的所述边缘辊轮的两相对外侧均设置有所述挡边轮。
本发明的传送辊装置,优选的,所述挡边轮包括圆柱部和具有所述斜面结构的斜面部,所述斜面部在所述圆柱部的内侧。
本发明的传送辊装置,优选的,所述挡边轮的外径为55mm,厚度为20mm。
本发明的传送辊装置,优选的,每一所述辊轴上的两挡边轮的内间距等于所传送的玻璃基板的宽度。
本发明的传送辊装置,优选的,所述辊轴的外径为25mm。
本发明的传送辊装置,优选的,所述玻璃基板的移出端的所述辊轴上设置所述挡边轮。
本发明的清洗机气刀单元,具有本发明的传送辊装置。
本发明的有益效果在于,本发明的传送辊装置及具有该传送辊装置的清洗机气刀单元,在气刀单元的传送辊装置的接触玻璃基板的边缘辊轮处加装挡边轮,且挡边轮为斜坡状设计,可以起到对玻璃基板的移动偏移的有效校正。且挡边轮的设置位置又不会造成玻璃基板的边缘受力过大而损伤玻璃基板。因此,本发明使用在清洗机上,可大大减少气刀单元的撞片破片问题,提高清洗机的稼动率。
附图说明
图1为现有技术的气刀单元的玻璃基板移动的理想状态示意图;
图2为现有技术的气刀单元的玻璃基板移动的偏移状态示意图;
图3为现有技术的气刀单元的传送辊装置在没有放置玻璃基板时的示意图;
图4为现有技术的气刀单元的传送辊装置的辊轴与辊轮的示意图;
图5为本发明实施例的传送辊装置传送玻璃基板的示意图;
图6为本发明实施例的传送辊装置的挡边轮的示意图;
图7为本发明实施例的传送辊装置的挡边轮安装于辊轴的示意图。
具体实施方式
体现本发明特征与优点的典型实施例将在以下的说明中详细叙述。应理解的是本发明能够在不同的实施例上具有各种的变化,其皆不脱离本发明的范围,且其中的说明及附图在本质上是当作说明之用,而非用以限制本发明。
本发明实施例的清洗机气刀单元,具有本发明实施例的传送辊装置;但本发明实施例的传送辊装置,并不局限于用于本发明实施例的清洗机气刀单元,也可以用在其他需要传送玻璃基板的场合,尤其是需要保证玻璃基板的传送不发生偏移的场合。
本说明书中提到的内侧,是对于辊轴来讲的,靠近所述辊轴几何中点的一侧为内侧,反之为外侧。而本说明书中提到的前后,是对于玻璃基板的传送方向来讲的,玻璃基板是从后侧传送至前侧。也就是说传送辊装置的玻璃基板进入端为后端,而移出端为前端。
下面具体介绍本发明实施例的传送辊装置。但本发明并不局限于以下的实施例。
如图5-图7所示,本发明实施例的传送辊装置,包括辊轴2、辊轮3和挡边轮4。其中辊轴2为多个,相互平行排列,辊轴2延伸的方向与玻璃基板1前进的方向垂直;而每一辊轴2上设置多个辊轮3,各辊轮3之间的间距通常相等。
上述的辊轮3和辊轴2均可与现有技术的辊轮与辊轴相同。与现有技术不同点在于,本发明实施例的传送辊装置,在辊轴2上还设置有挡边轮4。
如图5所示,本发明实施例的传送辊装置,挡边轮4设置在边缘辊轮31的两相对外侧,这里所说的边缘辊轮31,是指分别位于辊轴3两端的距离辊轴3的几何中点最远的两个辊轮3。
如图6和图7所示,挡边轮4的内侧(安装在辊轴2以后位于内侧)为斜面结构,以便于对玻璃基板1起到导向的作用。在制作挡边轮4时,可以将挡边轮4与边缘辊轮31一体成型,也可分别制作挡边轮4和边缘辊轮31,然后将挡边轮4和边缘辊轮31安装在辊轴2上,并且使挡边轮4紧靠于边缘辊轮31的外侧。
在单独制作挡边轮4时,可以将挡边轮制作为一个斜面部41和圆柱部42的组合体,其中,圆柱部42为圆柱状,而斜面部41的形状为圆台状,圆台是指一个大圆锥被一平行于大圆锥底面的平面截去一个小圆锥后所得的几何体形状,因此其斜面结构由圆台形成。而这里斜面结构的斜面坡度例如可为45度、30度等。
而在挡边轮4安装于辊轴2以后,斜面部41是在圆柱部42的内侧。因此,边缘辊轮31的外端面的直径优选的等于斜面部41内端面的直径。而在斜面结构的最大直径处,可具有倒角。
本发明实施例的传送辊装置,辊轴的外径例如为25mm。这时,挡边轮4的外径为55mm,厚度为20mm。这里所说的挡边轮4的外径是指斜面部41的最大直径,而挡边轮4的厚度是指其在辊轴2轴向上的最大跨度。上述的具体数值仅是举例,本发明并不局限于上述的外径和厚度数值。
为了能够保证玻璃基板1的不发生偏移的传送,每一辊轴2上的两挡边轮4的内间距为玻璃基板1的宽度。
本发明实施例的传送辊结构,除了所有的辊轴2上的边缘辊轮31上均设置有挡边轮4的实施方式以外,也可以只在其中的一根辊轴2的边缘辊轮31的两相对外侧的挡边轮4,优选的是在玻璃基板1的移出端的辊轴2上设置挡边轮4。
本发明实施例的传送辊装置及具有该传送辊装置的清洗机气刀单元,在气刀单元的传送辊装置的接触玻璃基板1的边缘辊轮31处加装挡边轮4,且挡边轮4为斜坡状设计,可以对玻璃基板1的移动偏移进行有效校正。且挡边轮4的设置位置又不会造成玻璃基板1的边缘受力过大而损伤玻璃基板1。因此,本发明使用在清洗机上,可大大减少气刀单元的撞片破片问题,提高清洗机的稼动率。
本领域技术人员应当意识到在不脱离本发明所附的权利要求所揭示的本发明的范围和精神的情况下所作的更动与润饰,均属本发明的权利要求的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种传送辊装置,所述传送辊装置包括:
多个辊轴;
每一所述辊轴上设置的多个辊轮;
在至少一所述辊轴的两边缘辊轮的两相对外侧设置的两挡边轮,所述两挡边轮的两相对内侧为斜面结构。
2.如权利要求1所述的传送辊装置,其特征在于,所述挡边轮紧靠于其内侧的所述边缘辊轮。
3.如权利要求2所述的传送辊装置,其特征在于,所述斜面结构的斜面坡度为45度或30度。
4.如权利要求2所述的传送辊装置,其特征在于,各所述辊轴的所述边缘辊轮的两相对外侧均设置有所述挡边轮。
5.如权利要求2所述的传送辊装置,其特征在于,所述挡边轮包括圆柱部和具有所述斜面结构的斜面部,所述斜面部在所述圆柱部的内侧。
6.如权利要求1所述的传送辊装置,其特征在于,所述挡边轮的外径为55mm,厚度为20mm。
7.如权利要求2所述的传送辊装置,其特征在于,每一所述辊轴上的两挡边轮的内间距等于所传送的玻璃基板的宽度。
8.如权利要求2所述的传送辊装置,其特征在于,所述辊轴的外径为25mm。
9.如权利要求1所述的传送辊装置,其特征在于,所述玻璃基板的移出端的所述辊轴上设置所述挡边轮。
10.一种清洗机气刀单元,其特征在于,所述清洗机气刀单元具有权利要求1-9任一所述的传送辊装置。
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Legal Events
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C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20131225 |