CN102650036A - 金属外壳上形成乳白色膜层的方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种在金属外壳上形成乳白色膜层的方法，包括提供一个金属外壳；利用反应式磁控溅射镀膜工艺，以纯铬为靶材，以氮气为反应气体，于该金属外壳表面形成一个氮化铬膜层；利用反应式磁控溅射镀膜工艺，以纯铬及纯铝为靶材共溅镀，以氧气为反应气体，在该氮化铬膜层上形成一由氧化铬及氧化铝组成的乳白色膜层，该铝靶材和该铬靶材受轰击的功率比约为12∶1，该反应式磁控溅射镀膜工艺的偏压介于180至220伏特，温度介于摄氏180至220度，时间介于58至62分钟。该镀膜方法所镀制的乳白色膜层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L坐标介于86.15至86.25，a坐标介于0.425至0.435，而b坐标介于0.715至0.725。
Description
技术领域
本发明涉及镀膜领域，尤其涉及一种在金属外壳上形成乳白色膜层的方法。
背景技术
目前，某些电子装置的外壳由于采用显得干净、大方的乳白色而受到消费者的欢迎。这些乳白色的外壳一般为塑料外壳，而比塑料外壳坚固、有质感的金属外壳却因难以形成乳白色膜而较为罕见。
发明内容
有鉴于此，有必要提供了一种在金属外壳上形成乳白色膜层的方法。
一种在金属外壳上形成乳白色膜层的方法，包括提供一个金属外壳；利用反应式磁控溅射镀膜工艺，以纯铬为靶材，以氮气为反应气体，于该金属外壳表面形成一个氮化铬膜层；利用反应式磁控溅射镀膜工艺，以纯铬及纯铝为靶材共溅镀，以氧气为反应气体，在该氮化铬膜层上形成一由氧化铬及氧化铝组成的乳白色膜层，该铝靶材和该铬靶材受轰击的功率比约为12∶1，该反应式磁控溅射镀膜工艺的偏压介于180至220伏特，温度介于摄氏180至220度，时间介于58至62分钟。
该方法所镀制的乳白色膜层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L坐标介于86.15至86.25，a坐标介于0.425至0.435，而b坐标介于0.715至0.725，具有较好的视觉感受，提高了电子装置的美观度。
附图说明
图1是本发明较佳实施方式的乳白色膜层的镀制方法的流程图。
图2是图1的方法所镀制的膜层覆盖在金属外壳上的剖示图。主要元件符号说明
金属外壳 1
氮化铬层 2
乳白色膜层 3
具体实施方式
请参阅图1及图2，本发明较佳实施方式的乳白色膜层的镀制方法包括以下步骤：
首先，提供金属外壳1。金属外壳1可以是电子产品的外壳，其材质可为铝或不锈钢等。
其次，在金属外壳1表面形成一氮化铬层2。本实施方式中，采用反应式磁控溅射镀膜法于金属外壳1的表面上形成氮化铬层2。以纯铬为靶材，于高真空镀制舱内通入比例约为2.3∶1的氮气与氩气，如氩气流量为25sccm，氮气流量为58sccm。经电磁场作用，氮气及氩气等离子化形成等离子并加速撞击纯铬靶材，纯铬靶材表面的材质将喷溅出来，氮原子与之结合，于金属外壳1表面形成氮化铬膜层2。在镀制氮化铬膜层2之前，可在金属外壳1的表面预先进行粗化或抛光处理，以利于提高氮化铬层2的附着性。
接着，于氮化铬层2表面形成一乳白色膜层3。本实施方式中，亦采用反应式磁控溅射镀膜法形成乳白色膜层3。以纯铬及纯铝为靶材，于高真空镀制舱内通入比例约为3∶2的氧气与氩气，如氧气流量为300sccm，氩气流量为200sccm。经电磁场作用，氧气及氩气等离子化，分别形成等离子轰击纯铬及纯铝靶材。其中，铝靶材和铬靶材受轰击的功率比约为12∶1，如铝靶材受轰击的功率为30千瓦，铬靶材受轰击的功率为2.5千瓦，反应式磁控溅射镀膜工艺的偏压介于180至220伏特，温度介于摄氏180至220度，时间介于58至62分。优选地，金属外壳1还以5转速每分(revolution per minute，rpm)的转速进行公转，同时以介于3.3至2.7rpm的转速进行自转，且公转方向与自转方向相反。乳白色膜层3中铝与铬的比例可调，当铝的含量远低于铬的含量时，乳白色膜层3趋于呈现金属质感；当铝的含量远高于铬的含量时，乳白色膜层3趋于呈现陶瓷质感。因此，通过改变铝与铬的比例，乳白色膜层3可由金属质感渐变至陶瓷质感，或由陶瓷质感渐变为金属质感。
根据上述步骤，通过共溅镀可于氮化铬层2形成所需的乳白色膜层3，并且乳白色膜层3呈现的色度区域于国际照明委员会(Commission internationalede l′éclairag，CIE)LAB表色系统的L坐标介于86.15至86.25，a坐标介于0.425至0.435，而b坐标介于0.715至0.725。另外，相较于乳白色膜层3，氮化铬层2与金属外壳1的相互结合性更佳，相较于附着于金属外壳1，乳白色膜层3与氮化铬层2的相互结合力更强，因此，本发明的乳白色膜层的镀制方法所镀制的膜层耐磨性好。
可以理解的是，本领域技术人员还可于本发明精神内做其它变化等用于本发明的设计，只要其不偏离本发明的技术效果均可。这些依据本发明精神所做的变化，都应包含在本发明所要求保护的范围内。
Claims (5)
1.一种在金属外壳上形成乳白色膜层的方法，包括：
步骤1：提供一金属外壳；
步骤2：利用反应式磁控溅射镀膜工艺，以纯铬为靶材，以氮气为反应气体，于该金属外壳表面形成一氮化铬膜层；以及
步骤3：利用反应式磁控溅射镀膜工艺，以纯铬及纯铝为靶材共溅镀，以氧气为反应气体，在该氮化铬膜层上形成一由氧化铬及氧化铝组成的乳白色膜层，该铝靶材和该铬靶材受轰击的功率比约为12∶1，该反应式磁控溅射镀膜工艺的偏压介于180至220伏特，温度介于摄氏180至220度，时间介于58至62分钟。
2.如权利要求1所述的乳白色膜层的镀制方法，其特征在于，步骤2中，在所述反应式磁控溅射镀膜工艺中向高真空镀制舱内通入的氮气与氩气的比例约为2.3∶1。
3.如权利要求2所述的乳白色膜层的镀制方法，其特征在于，步骤2中，该氩气流量为25sccm，该氮气流量为58sccm。
4.如权利要求1所述的乳白色膜层的镀制方法，其特征在于，该纯铬靶材受轰击的功率为2.5千瓦，该纯铝靶材受轰击的功率为30千瓦。
5.如权利要求1所述的乳白色膜层的镀制方法，其特征在于，步骤3中，在所述反应式磁控溅射镀膜工艺中该金属外壳的公转转速为5转速每分钟，自转转速介于3.3至2.7转速每分钟，该自转方向与该公转方向相反。
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