CN102534619B - 一种铝钼蚀刻液及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种铝钼蚀刻液及其制备方法,所述铝钼蚀刻液包括以下重量百分比的组合物:磷酸60%~80%;硝酸1%~10%;醋酸钠1%~10%;聚氧乙烯烷基苯基醚0.1%~0.5%;水10%~30%。本发明提供的铝钼蚀刻液及其制备方法,通过在铝钼蚀刻液中引入的醋酸钠起到了缓冲剂的作用,使刻蚀速度得到控制,从而达到控制住刻蚀角度的要求,能满足不同客户对刻蚀角度的要求;加入非离子型界面活性剂聚氧乙烯烷基苯基醚,使产品对金属层的渗透性提高,从而达到控制刻蚀量的要求,能满足不同客户对刻蚀量的要求。
Description
技术领域
本发明涉及一种蚀刻液及其制备方法,尤其涉及一种用于铝层和钼层的铝钼蚀刻液及其制备方法。
背景技术
铝钼蚀刻液,本品为无色透明液体,有酸性气味,该产品主要用作半导体或FPD(Flat Panel Display,平板显示器)面板制程中铝层和钼层的蚀刻,目前铝钼蚀刻液主要由磷酸、硝酸和醋酸组成;该铝钼蚀刻液主要存在以下几点缺点:
1)铝钼蚀刻液蚀刻角度难以控制,无法满足不同客户对蚀刻角度的需求,使用效果不是很好,影响产品的良率;
2)铝钼蚀刻液对金属层的蚀刻量难以控制,无法满足不同客户对蚀刻角度的需求,容易时刻过量,也会影响到产品的优良率。因此有必要提供铝钼蚀刻液及其制备方法,提高蚀刻产品优良率,满足不同用户对蚀刻角度和蚀刻量的要求。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种铝钼蚀刻液及其制备方法,能够提高蚀刻产品优良率,满足不同用户对蚀刻角度和蚀刻量的要求。
本发明为解决上述技术问题而采用的技术方案是提供一种铝钼蚀刻液,包括以下重量百分比的组合物:
磷酸 60%~80%;
硝酸 1%~10%;
醋酸钠 1%~10%;
聚氧乙烯烷基苯基醚 0.1%~0.5%;
水 10%~30%。
上述的铝钼蚀刻液,其中,所述磷酸的浓度为85%~86%(重量百分比)。
上述的铝钼蚀刻液,其中,所述硝酸的浓度为69%~71%(重量百分比)。
上述的铝钼蚀刻液,其中,所述醋酸钠的纯度大于99%(重量百分比)。
上述的铝钼蚀刻液,其中,所述聚氧乙烯烷基苯基醚的浓度大于99%(重量百分比)。
本发明为解决上述技术问题还提供一种铝钼蚀刻液的制备方法,包括如下步骤:
先称取一定量的磷酸,在搅拌下加入硝酸,充分搅拌均匀;
然后加入醋酸钠,循环搅拌1~2小时;
接着加入非离子型表面活性剂聚氧乙烯烷基醚和水,其中,磷酸的重量百分含量为60%~80%,硝酸的重量百分含量为1%~10%;醋酸钠的重量百分含量为1%~10%,聚氧乙烯烷基苯基醚的重量百分含量为0.1%~0.5%,水的重量百分含量为10%~30%;再循环搅拌11~2小时;
最后将制得的混合物先经0.5μm的过滤器循环过滤,再经0.2μm的过滤器过滤,以去除混合物中粒径大于0.2μm的有害粒子,即得铝钼蚀刻液。
本发明对比现有技术有如下的有益效果:本发明提供的铝钼蚀刻液及其制备方法,通过在铝钼蚀刻液中引入的醋酸钠起到了缓冲剂的作用,使刻蚀速度得到控制,从而达到控制住刻蚀角度的要求,能满足不同客户对刻蚀角度的要求;加入非离子型界面活性剂聚氧乙烯烷基苯基醚,使产品对金属层的渗透性提高,从而达到控制刻蚀量的要求,能满足不同客户对刻蚀量的要求。
具体实施方式
下面通过实施例进一步描述本发明,但不限于所举的实施例。
选用浓度为85重量%的磷酸,电子级,江阴澄星磷化工有限公司生产,其指标如表1:
类别 | 电子级以%计 |
含量 | 85~86 |
色度 | ≤10 |
挥发性酸(以HAc计) | ≤10 |
硫酸盐(SO4) | <2×10-4 |
氯化物(Cl) | <1×10-4 |
锑(Sb) | <3×10-4 |
砷(As) | <2×10-5 |
铅(Pb) | <3×10-5 |
钙(Ca) | <2×10-4 |
铜(Cu) | <2×10-5 |
铬(Cr) | <5×10-5 |
铁(Fe) | <3×10-4 |
镁(Mg) | <5×10-5 |
镍(Ni) | <5×10-5 |
钾(K) | <1×10-4 |
钠(Na) | <3×10-4 |
锌(Zn) | <2×10-5 |
铝(Al) | <1×10-4 |
表1
选用浓度为70重量%的硝酸,电子级,江阴市江化微电子材料有限公司生产,其指标如表2:
类别 | 电子级以%计 |
含量 | 69~71 |
色度,Hazen | ≤10 |
灼烧残渣,以ppm计 | ≤10 |
硫酸盐(SO4) | <5×10-5 |
氯化物(Cl) | <2×10-5 |
低氮氧化物(N2O3) | <5×10-5 |
锑(Sb) | <1×10-6 |
砷(As) | <5×10-7 |
铅(Pb) | <1×10-6 |
钙(Ca) | <1×10-6 |
铜(Cu) | <1×10-6 |
铬(Cr) | <1×10-6 |
铁(Fe) | <1×10-6 |
镁(Mg) | <1×10-6 |
镍(Ni) | <1×10-6 |
钾(K) | <1×10-6 |
钠(Na) | <1×10-6 |
锌(Zn) | <1×10-6 |
铝(Al) | <1×10-6 |
表2
选用纯度为99%的醋酸钠,优等品,无锡市优利森化工产品有限公司生产,其指标如表3:
类别 | 优等品以%计 |
含量 | ≥99.0 |
pH(20℃,5%溶液) | 7.5-9.0 |
水不溶物 | ≤0.05 |
硫酸盐(SO4) | ≤0.005 |
氯化物(Cl) | ≤0.035 |
重金属(以Pb计) | ≤0.001 |
表3
选用浓度为99重量%的非离子型表面活性剂聚氧乙烯烷基苯基醚,优等品,南京威尔化工有限公司,其指标如表4:
类别 | 优等级以%计 |
含量 | ≥99.0 |
外观 | 合格 |
表4
例1、称取磷酸72kg,在搅拌下加入硝酸10kg,充分搅拌均匀,加入醋酸钠5kg,循环搅拌1小时,加入非离子型表面活性剂聚氧乙烯烷基醚0.15kg,加水至100kg,循环搅拌1小时后,将制得的混合物先经0.5μm的过滤器过滤,再经0.2μm的过滤器过滤,以去除混合物中粒径大于0.2μm的有害粒子,即得铝钼蚀刻液。
例2、称取磷酸72kg,在搅拌下加入硝酸10kg,充分搅拌均匀,加入醋酸钠5kg,循环搅拌1小时,加入非离子型表面活性剂聚氧乙烯烷基醚0.2kg,加水至100kg,循环搅拌1小时后,将制得的混合物先经0.5μm的过滤器过滤,再经0.2μm的过滤器过滤,以去除混合物中粒径大于0.2μm的有害粒子,即得铝钼蚀刻液。
例3、称取磷酸72kg,在搅拌下加入硝酸10kg,充分搅拌均匀,加入醋酸钠5kg,循环搅拌1小时,加入非离子型表面活性剂聚氧乙烯烷基醚0.3kg,加水至100kg,循环搅拌1小时后,将制得的混合物先经0.5μm的过滤器过滤,再经0.2μm的过滤器过滤,以去除混合物中粒径大于0.2μm的有害粒子,即得铝钼蚀刻液。
例4、称取磷酸72kg,在搅拌下加入硝酸10kg,充分搅拌均匀,加入醋酸钠5kg,循环搅拌1小时,加入非离子型表面活性剂聚氧乙烯烷基醚0.4kg,加水至100kg,循环搅拌1小时后,将制得的混合物经先经0.5μm的过滤器过滤,再0.2μm的过滤器过滤,以去除混合物中粒径大于0.2μm的有害粒子,即得铝钼蚀刻液。
综上所述,本发明提供的铝钼蚀刻液及其制备方法具有的如下优点:1)本发明提供的铝钼蚀刻液引入的特殊添加剂起到了缓冲剂的作用,使刻蚀速度得到控制,从而达到控制住刻蚀角度的要求,蚀刻角度控制在30°~60°,能满足不同客户对刻蚀角度的要求;2)本发明的铝钼蚀刻液中加入了非离子型界面活性剂聚氧乙烯烷基苯基醚,使产品对金属层的渗透性提高,从而达到控制刻蚀量的要求,使其蚀刻量控制在500±1nm,能满足不同客户对刻蚀量的要求。
虽然本发明已以较佳实施例揭示如上,然其并非用以限定本发明,任何本领域技术人员,在不脱离本发明的精神和范围内,当可作些许的修改和完善,因此本发明的保护范围当以权利要求书所界定的为准。
Claims (1)
1.一种铝钼蚀刻液的制备方法,铝钼蚀刻液包括以下重量百分比的组合物:
所述磷酸的浓度为85%~86%(重量百分比);
所述硝酸的浓度为69%~71%(重量百分比);
所述醋酸钠的纯度大于99%(重量百分比);
所述聚氧乙烯烷基苯基醚的浓度大于99%(重量百分比);
其特征在于,所述制备方法包括如下步骤:
先称取一定量的磷酸,在搅拌下加入硝酸,充分搅拌均匀;
然后加入醋酸钠,循环搅拌1~2小时;
接着加入非离子型表面活性剂聚氧乙烯烷基醚和水,再循环搅拌11~2小时;
最后将制得的混合物先经0.5μm的过滤器循环过滤,再经0.2μm的过滤器过滤,以去除混合物中粒径大于0.2μm的有害粒子,即得铝钼蚀刻液,从而达到控制住刻蚀角度的要求,蚀刻角度控制在30°~60°。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201110461737.XA CN102534619B (zh) | 2011-12-30 | 2011-12-30 | 一种铝钼蚀刻液及其制备方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201110461737.XA CN102534619B (zh) | 2011-12-30 | 2011-12-30 | 一种铝钼蚀刻液及其制备方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN102534619A CN102534619A (zh) | 2012-07-04 |
CN102534619B true CN102534619B (zh) | 2015-06-03 |
Family
ID=46342607
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201110461737.XA Active CN102534619B (zh) | 2011-12-30 | 2011-12-30 | 一种铝钼蚀刻液及其制备方法 |
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Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN102534619B (zh) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107587135A (zh) * | 2016-07-08 | 2018-01-16 | 深圳新宙邦科技股份有限公司 | 一种钼铝钼蚀刻液 |
CN107740101A (zh) * | 2017-09-19 | 2018-02-27 | 合肥惠科金扬科技有限公司 | 一种用于amoled阵列基板铜导线的蚀刻液 |
CN111876781B (zh) * | 2020-06-22 | 2023-02-17 | 成都虹波实业股份有限公司 | 一种厚钼板的蚀刻液及其制备方法 |
CN112795924A (zh) * | 2020-12-24 | 2021-05-14 | 昆山晶科微电子材料有限公司 | 一种双氧化组分铝蚀刻液、其制备方法与应用 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101792907A (zh) * | 2010-04-01 | 2010-08-04 | 江阴市江化微电子材料有限公司 | 一种铝钼蚀刻液 |
CN102181867A (zh) * | 2011-04-11 | 2011-09-14 | 江阴市润玛电子材料有限公司 | 一种新型酸性钼铝蚀刻液和制备工艺 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI245071B (en) * | 2002-04-24 | 2005-12-11 | Mitsubishi Chem Corp | Etchant and method of etching |
-
2011
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Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN102534619A (zh) | 2012-07-04 |
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