CN102523987A - 一种分层立体温室 - Google Patents
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Abstract
一种分层立体温室，所述温室包括一个或多个温室本体，所述温室本体包括东、西、北三面墙和透光膜，所述透光膜覆盖在三面墙之上，在温室本体北面墙的北侧设有第一密闭空间，在第一密闭空间位于地面之上设有棚架，在所述棚架上进行有土种植或无土种植，在温室本体的三面墙之间的地面之下设有一个或多个用于种植喜阴植物或菌类的第二密闭空间。本发明通过在温室大棚地面之下和阴棚内分别设有密闭空间，从而扩大了使用面积，并且不会阻挡相邻温室大棚的阳光。而且，本发明通过在该密闭空间位于地面之上部分设置有棚架，解决了温室阴棚部分因为光照较少无法种植和利用的问题，增加了同等土地使用面积的1～3倍。
Description
技术领域
本发明属于温室技术领域，特别是涉及一种分层立体温室。
背景技术
日光温室大棚是我国北方地区独有的一种温室类型，主要由围护墙体、后屋面和前屋面三部分组成，简称日光温室的“三要素”，其中前屋面是温室的全部采光面，白天采光时段前屋面只覆盖塑料膜采光，当室外光照减弱时，及时用活动保温被覆盖塑料膜，以加强温室的保温。即使在最寒冷的季节，也只依靠太阳光来维持室内一定的温度水平，以满足蔬菜作物生长的需要。
常规日光温室土地利用率低，只利用一层土壤种植，温室阴影不能利用或极少利用，受阴影部分影响，温室行间距在十米或十米以上导致大量土地浪费，温室内立体种植受制于光照影响，有效种植面积较小；连续作业效率低，由于温室大棚自身条件的限制，其内的土壤肥力如果得不到及时有效的补充，连续作业时，蔬菜的产量和质量都会降低，并且容易随着土壤传播病虫害。为了提高蔬菜的产量和品质，目前的有机蔬菜栽培方法用水、用肥量比较大，不仅污染周边环境，更重要的是提高了蔬菜成本。不同地域与区域的土地，不一定能保证提供蔬菜生长所需要的营养成分。
而且，常规温室种植要求条件好的耕地或基本农田，但这类耕地或农田本身就是极为紧张的稀缺资源，建造成方连片的大规模种植基地面临选址困难问题。
发明内容
(一)要解决的技术问题
本发明要解决的技术问题是：现有的温室大棚受阴影部分影响，温室行间距在十米或以上，导致大量土地浪费，温室内立体种植受制于光照影响，有效种植面积较小。
(二)技术方案
为了解决上述技术问题，本发明提供一种分层立体温室。
其中，所述温室包括一个或多个温室本体，所述温室本体包括东、西、北三面墙和透光膜，所述透光膜覆盖在三面墙之上，在温室本体北面墙的北侧设有第一密闭空间，在第一密闭空间位于地面之上设有棚架，在所述棚架上进行有土种植或无土种植，在温室本体的三面墙之间的地面之下设有一个或多个用于种植喜阴植物或菌类的第二密闭空间。
优选地，所述棚架的顶部设有防虫网、网棚温室、温室网棚或者塑料大棚。
优选地，所述温室本体与相邻的温室本体的北面墙之间的距离D为透光膜离地高度H的1.5～1.8倍。
优选地，所述棚架的长度1和高度h满足如下关系：1≤Dh/H。
优选地，所述第一密闭空间位于地面之下，在所述第一密闭空间内进行菌类种植。
优选地，所述第一密闭空间的底面和顶面的距离大于2米。
优选地，所述透光膜为塑料膜或者玻璃。
优选地，所述温室本体内进行无土种植。
(三)有益效果
上述技术方案具有如下优点：本发明通过在温室大棚地面之下和阴棚内分别设有密闭空间，在该密闭空间内进行喜阴植物或菌类的种植，从而扩大了使用面积，并且不会阻挡相邻温室大棚的阳光。而且，本发明通过在该密闭空间位于地面之上部分设置有进行有土种植或无土种植的棚架，解决了温室阴棚部分因为光照较少无法种植和利用的问题，增加了同等土地使用面积的1～3倍。
附图说明
图1是本发明的一种实施例的结构示意图。
其中，1：透光膜；2：北面墙；3：第二密闭空间；4：第一密闭空间；5：棚架；6：顶棚。
具体实施方式
下面结合附图和实施例，对本发明的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本发明，但不用来限制本发明的范围。
如图1所示，为本发明的一种实施例的结构示意图，该温室包括一个或多个温室本体，所述温室本体包括东、西、北三面墙和透光膜1，所述透光膜1覆盖在三面墙之上，在温室本体北面墙2的北侧设有第一密闭空间4，第一密闭空间4位于阳光较少的北面墙的北侧，又称之为温室阴棚。在第一密闭空间4位于地面之上设有棚架5，在所述棚架5上进行有土种植或无土种植，在温室本体的三面墙之间的地面之下设有一个或多个用于种植喜阴植物或菌类的第二密闭空间3。图中的A处为温室本体的前坡面，B处为温室本体的北面墙，C处为第一密闭空间的最北面，C处和温室阴棚的最北面还设有过道。本发明通过在温室大棚地面之下和阴棚内分别设有密闭空间，在该密闭空间内进行喜阴植物或菌类的种植，从而扩大了使用面积，并且不会阻挡相邻温室大棚的阳光。而且，本发明通过在该密闭空间位于地面之上部分设置有进行有土种植或无土种植的棚架，解决了温室阴棚部分因为光照较少无法种植和利用的问题，增加了同等土地使用面积的1～3倍。
本发明的第一密闭空间4用于种植喜阴植物或菌类，可以是全部位于地面之上、地面之下或者部分位于地面之上，即可以是地下室、半地下室或者地面上房屋。优选地，第一密闭空间4位于温室阴棚的地面之下，即为地下室，这种地下室的结构不会破坏温室阴棚地面土壤，并且可以在该地下室进行菌类种植，从而扩大了使用面积。图中示出了第一密闭空间4有部分位于地面之上，有部分位于地面之下，即半地下室结构。为了使相邻的温室大棚阳光充足，避免遮挡住相邻温室大棚的阳光，并且尽可能充分利用第一密闭空间上部的空间，在第一密闭空间4位于地面之上设有棚架5，在所述棚架5上进行有土种植或无土种植，温室本体与相邻的温室本体的北面墙之间的距离D为透光膜离地高度H的1.5～1.8倍。为了满足棚架5不遮住相邻温室本体，优选地，所述棚架5的长度1和高度h满足如下关系：1≤Dh/H。
本发明的棚架5的长度1的确定依据是：1、不能遮挡相邻温室的日照；2、长度不能超出温室阴棚部分的范围；3、根据菌类种植和采摘需要，预留种植区间与走道的长度。其高度h的确定依据为：1、不能遮挡相邻温室的日照；2、高度不低于菌室顶部八至九个月有日照以满足顶部无土栽培需求的要求；3、根据人体工学要求，参考民用建筑规范中地下室净高最低不得低于2米，以最大限度的利用阴影部分，并满足菌类种植与采摘需要。本发明的棚架5的高度h和长度1之间需满足的关系的确定依据如下：当棚架的最北端与日光线(图中的位于棚架上的虚线)重合时为最高高度，此时1/D＝h/H，为了避免棚架遮挡相连温室本体的阳光，其棚架长度1和高度h满足如下关系：1≤Dh/H。优选地，第一密闭空间内的顶面和底面之间的距离大于2米，从而使得第一密闭空间内可以进行人工操作，符合人体工学要求。
本发明还在温室本体的三面围墙之间的地面之下设有一个或多个用于种植喜阴植物或菌类的第二密闭空间3，即在温室本体的地面之下设有密闭空间，用于种植喜阴植物或菌类，从而将常规的温室大棚内种植面积增加一倍左右。该实施例的密闭空间可以是设置统一品种的菌室，或者按照不同菌类所需温度与湿度条件进行隔断，设置不同环境条件的菌室。更优地，温室大棚和该密闭空间通过水泥等隔绝较好的材质进行隔离，并且该隔离面为倾斜设置，隔离面与第二密闭空间之间保留一定距离。
再次参阅图1，本发明的透光膜1为塑料膜或者玻璃，从而可以在温室本体中进行有土种植或无土种植。优选地，在温室本体中进行无土种植，从而使得温室本体的土壤选择的空间更大，有利于充分利用现有的土地。本发明还在棚架5顶部设有顶棚6，顶棚6可以为防虫网、网棚温室、温室网棚或者塑料大棚，从而可以在棚架5上进行土种植或无土种植，使得温室大棚的种植面积扩大为现有阳光温室的二倍到三倍左右。本发明的一个实施例中，温室本体的面积为600平方米，第二密闭空间也为600平方米，第一密闭空间和棚架的面积各为360平方米，在两个密闭空间内种植菌类，相对于阳光温室，该实施例利用第一密闭空间增加了720平方米的使用面积，增大了1.2倍，利用第二密闭空间增大了1倍的使用面积，该实施例相对于现有技术总共增大了2.2倍的使用面积。
本发明的温室可以是连栋温室，即由若干个温室本体排列而成，每个温室本体包括东、西、北三面墙和透光膜1，东面墙、西面墙和北面墙分别位于温室本体的东、西和北侧，该透光膜覆盖在三面墙之上，在大棚本体北面墙2的一侧设有第一密闭空间4。温室本体与相邻的温室本体北面墙之间的间距D为透光膜离地高度H的1.5～1.8倍，更优地为1.7倍，从而实现了连栋温室的设计，既减少了土地面积又最大程度提高了日照的面积。
由以上实施例可以看出，本发明实施例通过在温室大棚地面之下和阴棚内分别设有密闭空间，在该密闭空间内进行喜阴植物或菌类的种植，从而扩大了使用面积，并且不会阻挡相邻温室大棚的阳光。而且，该实施例通过在该密闭空间位于地面之上部分设置有进行有土种植或无土种植的棚架，解决了温室阴棚部分因为光照较少无法种植和利用的问题，增加了同等土地使用面积的1～3倍。
以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明技术原理的前提下，还可以做出若干改进和替换，这些改进和替换也应视为本发明的保护范围。
Claims (8)
1.一种分层立体温室，其特征在于，包括一个或多个温室本体，所述温室本体包括东、西、北三面墙和透光膜，所述透光膜覆盖在三面墙之上，在温室本体北面墙的北侧设有第一密闭空间，在第一密闭空间位于地面之上设有棚架，在所述棚架上进行有土种植或无土种植，在温室本体的三面墙之间的地面之下设有一个或多个用于种植喜阴植物或菌类的第二密闭空间。
2.如权利要求1所述的温室，其特征在于，所述棚架的顶部设有防虫网、网棚温室、温室网棚或者塑料大棚。
3.如权利要求2所述的温室，其特征在于，所述温室本体与相邻的温室本体的北面墙之间的距离D为透光膜离地高度H的1.5～1.8倍。
4.如权利要求3所述的温室，其特征在于，所述棚架的长度1和高度h满足如下关系：1≤Dh/H。
5.如权利要求1-4中任何一项所述的温室，其特征在于，所述第一密闭空间位于地面之下，在所述第一密闭空间内进行菌类种植。
6.如权利要求1-4中任何一项所述的温室，其特征在于，所述第一密闭空间的底面和顶面的距离大于2米。
7.如权利要求1-4中任何一项所述的温室，其特征在于，所述透光膜为塑料膜或者玻璃。
8.如权利要求1-4中任何一项所述的温室，其特征在于，所述温室本体内进行无土种植。
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