发明内容
本发明目的是,为克服现有技术中的不足,提供一种有优异的电绝缘和抗腐蚀性能的纳米氧化铝基复合陶瓷涂层,具有作为高压环境中各种设备零件的抗含氟等离子体腐蚀的用途。
本发明的目的通过以下方式实现。
本发明的纳米氧化铝基复合陶瓷涂层的用途,所述纳米氧化铝基复合陶瓷涂层由热喷涂方法制备得到,其涂层厚度在50μm-2mm;所述纳米氧化铝基复合陶瓷涂层包含如下组分:氧化铝20-75wt%,氧化锆10-40wt%,稀土氧化物10-60wt%;其中稀土氧化物为氧化钇、氧化镧、氧化钆、氧化铈、氧化镝、氧化钕、氧化铕中的任意一种或两种以上的组合;其特征在于,该纳米氧化铝基复合陶瓷涂层具有24-29KV/MM的抗电击穿能力和耐含氟等离子体腐蚀的用途。
本发明的纳米氧化铝基复合陶瓷涂层,所述24-29KV/MM的抗电击穿能力和耐含氟等离子体腐蚀的用途是指用作各类等离子设备中的零件表面的保护涂层,例如,等离子体刻蚀设备的底极板涂层、真空沉积设备的静电夹盘等。当需要更大的抗击穿电压能力时,可以通过加大陶瓷涂层的厚度实现。
本发明的纳米氧化铝基复合陶瓷涂层,由如下热喷涂方法制备得到:
(1)配制氧化铝基细粉料:称取组分氧化铝、氧化锆、稀土氧化物,然后将各组分混合并加入酒精进行湿法球磨10-24小时,再烘干过筛,获得粒度为20-100μm的粉料;所述氧化铝的重量占总重量的20-75wt%,氧化锆的重量占总重量的10-40wt%,稀土氧化物的重量占总重量的10-60 wt%;所述稀土氧化物是氧化钇、氧化镧、氧化钆、氧化铈、氧化镝、氧化钕、氧化铕中的任意一种或两种以上的组合;
(2)热喷涂陶瓷涂层:使用大气等离子喷涂工艺或超音速火焰喷涂工艺将氧化铝基细粉料喷涂到基体上,形成具有纳米结构的氧化铝基陶瓷涂层,该陶瓷涂层厚度在50μm-2mm。
本发明以氧化铝、氧化锆、稀土氧化物的粒度为20-100μm的氧化铝基细粉料作为热喷涂物料制备复合陶瓷涂层,取得了非常好的使用效果。由于所述氧化铝基细粉料能形成三相低共熔点,经热喷涂高温火焰作用形成熔化充分、结构均匀致密的氧化铝基玻璃结构。玻璃颗粒在冷却过程中产生结晶析出纳米晶粒,由于这种晶粒是从玻璃基质中直接析出的,晶粒细小,因此整个涂层完全是分布均匀的纳米结构,而且由玻璃前驱体纳米化得到的纳米晶粒之间的晶界干净,能显著降低材料本征内应力,纳米晶粒还有阻止材料微裂纹扩展的作用。相比现有的热喷涂氧化铝或氧化钇涂层,它还消除了由于团聚料的结构疏松所带来的气孔,同时,由于玻璃质熔点相对较低,其在熔融时有粘滞流动作用,这十分有利于形成更加致密的涂层。经检测,本发明涂层气孔率达到2%以下。更叫人意想不到的是:高致密度也大大提高了涂层的绝缘性能。经检测,纳米氧化铝基复合陶瓷涂层的击穿电压最高可达到29600 V/mm;同时,高致密度、低内应力和低气孔率还大大提高了其抗含氟等离子体腐蚀性能,。将其应用于干法刻蚀设备的底极板上,试用1年6个月后(经常性使用),对涂层表面进行微粒检查,发现3-5微米的颗粒仅为159颗,大于5微米的颗粒为87颗。由此可以看出,在各类等离子设备中,有关零件表面使用该陶瓷涂层,可以避免现有技术中需要频繁进行维护、清理、更换的情况。
下面结合实施例对本发明作进一步说明。
具体实施方式
实施例1:在干法刻蚀设备的底极板表面制备纳米氧化铝基复合陶瓷涂层
(1)配制氧化铝基细粉料:秤取50克氧化铝、氧化锆和氧化镧混合粉料(重量百分配比是氧化铝38.6wt%,氧化镧42.4wt%和氧化锆19wt%),加入75毫升酒精和200克氧化铝磨球,湿法球磨混合24小时,然后100℃下烘干,过100目筛得到氧化铝基细粉料;
(2)喷涂陶瓷涂层:使用干法刻蚀设备的底极板作为基体材料进行涂层喷涂,喷涂前先对底极板进行喷砂处理,去除表面污染物并使表面粗糙化。喷涂使用大气等离子喷涂设备,把步骤(1)所得的氧化铝基细粉料均匀喷涂到底极板上,喷涂参数为:氩气40 L/Min、氢气10 L/Min、电压68V、电流650A,形成厚度为100-200μm的涂层。另外还同时喷涂了一块200μm左右的涂层,以作检测比较用。
用扫描电镜(SEM)对本实施例获得的底极板表面的涂层进行分析,结果显示:通过等离子喷涂方法得到的氧化铝-氧化锆-氧化镧复合涂层具有纳米结构,结构致密。喷涂涂层的底极板试用1年6个月后,对涂层表面进行微粒检查,发现3-5微米的颗粒为159颗,大于5微米的颗粒为87颗。大大低于不高于2400颗的要求。
实施例2: 在真空沉积设备的静电夹盘(Electrostatic chuck)表面制备氧化铝基复合陶瓷涂层
(1)配制氧化铝基细粉料:氧化铝-氧化锆-氧化钇复合材料作为原料,(重量百分配比是氧化铝55.8wt%,氧化钇28.6wt%和氧化锆15.6wt%),并按照实施例1所述方法,进行球磨混合制粉得到氧化铝基细粉料;
(2)喷涂陶瓷涂层:按照实施例1所述方法,通过等离子喷涂方法将步骤(1)所得氧化铝基细粉料喷涂到真空沉积设备的静电夹盘表面上形成1000-1100μm的涂层。另外还同时喷涂了一块200μm左右的涂层,以作检测比较用。
用扫描电镜(SEM)对本实施例获得的涂层进行分析,结果显示:通过等离子喷涂方法得到的氧化铝-氧化锆-氧化钇复合涂层具有纳米结构,结构致密。
实施例3:在干法刻蚀设备的腔体内表面制备纳米氧化铝复合陶瓷涂层
(1)配制氧化铝基细粉料:氧化铝-氧化锆-氧化钇复合材料作为原料,(重量百分配比是氧化铝55.8wt%,氧化钇28.6wt%和氧化锆15.6wt%),并按照实施例1所述方法,进行球磨混合制粉得到氧化铝基细粉料;
(2)喷涂陶瓷涂层: 以干法刻蚀设备的腔体内表面作为基体材料进行涂层喷涂,喷涂前对基体进行喷砂处理。喷涂使用超音速火焰喷涂(HVOF)设备,把步骤(1)所得的氧化铝基粉料均匀喷涂到基体上,喷涂参数为:氧气240 L/Min、丙烷72 L/Min、压缩空气400 L/Min,形成的涂层厚度1800-1900μm。另外还同时喷涂了一块200μm左右的涂层,以作检测比较用。
用扫描电镜(SEM)对本实施例获得的涂层进行测试,结果显示:用超音速火焰喷涂方法制备的涂层具有纳米结构,结构致密。
为了比较,下面给出两个对照例:
对照例1:
使用目前广泛应用的商用氧化铝粉末(Sulzermetco公司生产, Metco 105SFP)作为喷涂物料,按照实施例1步骤(2)所述方法进行热喷涂,得到200μm左右的涂层。
对照例2:
使用目前广泛应用的商用氧化钇粉末(Praxair公司,YO-118)作为喷涂物料,按照实施例1步骤(2)所述方法进行热喷涂,得到200μm左右的涂层。
对实施例1、2、3厚度为200μm左右的涂层和对照例1、2的涂层分别进行电绝缘性能测试,所用的仪器是直流高压发生器(SD-DC200KV)。涂层的耐等离子体腐蚀性能使用反应性离子蚀刻设备(RIE)测试,具体测试条件为CF4气体流量:0.054L/min,O2气体流量:0.005L/min,腔体压力:5Pa,等离子功率:80W。得到的数据记录在表1:
表 1
从表1可以看出,实施例1、2、3的击穿电压达到对照例的一倍左右,而等离子体腐蚀率仅是对照例1(氧化铝)的1/5左右,与对照例2(氧化钇)相比,其耐等离子体腐蚀性能也有较大提高。