光配向制程与使用此光配向制程的液晶显示装置
技术领域
本发明是有关于一种配向制程与使用此配向制程的显示装置,且特别是有关于一种光配向制程与使用此光配向制程的液晶显示装置。
背景技术
液晶显示装置是以两块基板上的电极对于液晶层施加电场,液晶层内的液晶分子因电场的作用而产生偏转,使得液晶层具有相应于此电场的光线穿透率,以依据电场大小而显示不同的灰度画面。此外,为了提供液晶分子稳定的边界条件而诱导液晶分子沿特定的方向排列,在至少一块基板接触液晶层的表面上会形成一配向层。要使配向层产生特定方向的配向效果,已知做法是以接触式的制程对配向层与进行摩擦(rubbing),但此方式有配向层可能被刮伤以及容易产生微粒(particle)污染的问题,故发展出非接触式配向制程,如光配向制程。光配向制程是以线偏振光照射配向层以产生配向效果。而线偏振光入射时的方向决定配向层的配向方向,线偏振光入射时与配向层的夹角则会影响之后液晶分子受配向时的预倾角。
图1是已知配向制程的示意图,而图2A与图2B是图1的两个区的放大示意图。请参照图1,为了使配向层110在不同位置具有不同的配向方向,不同方向的线偏振光120是经由一掩模130而照射配向层110。并且,移动基板140或光源而使配向层110的各区都受线偏振光120的照射而具有特定的配向方向。掩模130一般仅在其周围受到机台的支撑使之与基板140保持距离。随着基板140的尺寸增加以及缩短制程时间的需求,掩模130的尺寸越做越大。然而,掩模130会因为重力而产生弯曲。此外,掩模本身的材质容易受到挠曲,导致不同位置的掩模130与配向层110之间的距离不同。在线偏振光120的入射角度相同的条件下,如图2B所示的掩模130的外围区与配向层110之间的距离较大,而如图2A所示的掩模130的中央区与配向层110之间的距离较小。如上所述,一般光配向技术的入射光相对于基板及掩模都会具有一斜向入射角度,然而该斜向入射角度会因为掩模挠曲的问题而使斜向入射光在基板上的投影会有位移误差。因此,当掩模130的中央区与配向层110准确对位时,掩模130的外围区与配向层110之间就会存在对位误差,导致配向层110未能获得理想的配向效果。
图3A说明已知的光配向制程中线偏振光与配向层的关系。请参照图3A,为了使液晶分子受配向层110作用时具有预倾角,已知的光配向技术的线偏振光120与配向层110的法向量之间会具有一斜向入射角度。线偏振光120的波向量122、线偏振光120的偏振方向124与配向层110的法向量112共平面。此条件下,配向层110所获得的配向方向114跟波向量122、偏振方向124与法向量112共平面,且配向层110所获得的配向方向114平行于偏振方向124在配向层110上的正投影。因此,要调整配向膜的配向方向114就必须调整线偏振光120的波向量122,亦即线偏振光120的入射方向。如此一来,要在配向层110上获得多种不同的配向方向就必须多次调整提供线偏振光120的光源装置(未绘示)与基板之间的相对方位,增加光配向制程的时间成本,并增加制程误差发生的机会。
图3B是图1的配向制程所使用的掩模与光入射方向的示意图。请参照图3B,掩模130具有多个透光区132,这些透光区132独立而互不相连。线偏振光120以箭头所示的方向通过透光区132后,理想上会照设在虚线框152所圈住的位置。然而,因为掩模130弯曲使之与基板的距离改变而导致线偏振光120通过透光区132后会有一位移误差,照射在与虚线框152不同的虚线框154所圈住的位置。虚线框154的位置相较于虚线框152的位置在X轴与Y轴上都有偏移量。若像素中两相邻区域为不同配向方向,掩模130弯曲造成的位移偏差量可能会造成两相邻不同配向方向的区域互相重叠,使配向效果降低。举例而言,虚线框154的位置是线偏振光120通过透光区132后照射的区域。虚线框156的位置是透光区132由于位置偏移而移到目前位置的左下方的区域后,线偏振光120通过透光区132照射的区域。由图3B可见虚线框154与虚线框156会有部分重叠,导致重叠部分的配向层的配向方向混乱。在其他状况中,则可能发生部分的配向层未能被线偏振光120而未产生偏振方向的问题。
另外,由于成本与技术问题,掩模130的尺寸无法等同于基板140(标示于图1)的尺寸,掩模130必须与基板140进行多次定位及照射线偏振光120,才能完成整个配向制程,导致制程成本增加并降低制程良率。为改善上述等问题,已知技术发展了扫描式配向法,因光入射方向与扫描方向相同,就算掩模在扫描平行延伸的方向有弯曲,因扫描的平行方向所有的配向方向皆一致,故扫描平行延伸方向掩模的弯曲所造成的投影偏差位移影响减少。然而此扫描方式同样存在上述的位移偏差,故被局限于只能将配向层配向成与扫描方向平行的方向,此方式目前使用于广视角垂直光配向技术如反扭转向列(InverseTwisted Nematic,ITN)产品的量产。
就另一个液晶反应速率较快的广视角光配向技术-电控双折射(ElectricallyControlled Birefringence,ECB)来说,由于ECB具有液晶反应速率较快等优点,故在液晶显示装置未来的应用可能性极高。广视角ECB模式在一般像素上同样需要至少四个方向的配向方向,且因ECB模式中上下基板配向的角度差180度,故在同一个次像素(sub-pixel)上需要分别作四次不同入射光方向的照射,故设计成扫描式的配向方式会有困难。
发明内容
本发明提供一种光配向制程,可提供以扫描方式配向且能得到与扫描方向不同的配向方向。
本发明提供一种液晶显示装置,可解决配向层的配向效果不好而导致画质不佳的问题。
本发明的光配向制程包括下列步骤。在一基板上形成一光配向材料层。以一线偏振光照射光配向材料层。光配向材料层的表面为一第一平面。线偏振光的波向量为一K向量。K向量与第一平面的法向量构成一第二平面。线偏振光的一偏振方向不垂直也不平行于第二平面。
在本发明的光配向制程的一实施例中,偏振方向在第一平面上的正投影与贴附在基板上的一偏光片的吸收轴的夹角为ψf,ψf实质上为45度、135度、225或315度。
在本发明的光配向制程的一实施例中,K向量与第一平面的法向量的夹角为θ,θ为40度。
在本发明的光配向制程的一实施例中,线偏振光是连续地照射光配向材料层,在线偏振光连续地照射光配向材料层时,K向量与第一平面的一交点沿一移动方向移动,K向量在第一平面上的正投影与移动方向重叠。使交点沿移动方向移动的方法包括固定基板而移动线偏振光。使交点沿移动方向移动的方法包括固定线偏振光而移动基板。基板划分为多个次像素区,各次像素区包含至少一分区,各分区沿垂直移动方向的方向分成多个配向区,沿移动方向排成一列的配向区形成有相同的配向方向。基板为矩形基板。各次像素区为矩形。各分区沿垂直移动方向的方向分成四个配向区。各次像素区包含两分区,沿垂直该移动方向的方向分成四个配向区。
在本发明的光配向制程的一实施例中,线偏振光是步进式地照射光配向材料层。基板划分为多个次像素区,各次像素区包含至少一分区,各分区至少由两条互相交叉的分隔线分成四个配向区。基板为矩形基板。各次像素区为矩形。各分区由两条互相垂直的分隔线分成四个配向区。各次像素区包含两个分区,各分区至少由两条互相交叉的分隔线分成四个配向区。
在本发明的光配向制程的一实施例中,线偏振光经由一掩模照射光配向材料层。
在本发明的光配向制程的一实施例中,线偏振光为紫外光。
本发明的液晶显示装置包括一第一基板、一第二基板以及一液晶层。第一基板具有一第一电极层与覆盖第一电极层的一第一配向层。第一配向层以前述的光配向制程进行配向。第二基板具有一第二电极层。液晶层配置于第一基板的第一配向层与第二基板的第二电极层之间。
在本发明的液晶显示装置的一实施例中,第二基板更具有一第二配向层,第二配向层覆盖第二电极层,第二配向层以如前述的光配向制程进行配向。第一配向层及第二配向层对应的区域的配向方向的夹角为180度。
在本发明的液晶显示装置的一实施例中,第一基板划分为多个次像素区,各次像素区包含至少一分区,各分区沿次像素区的一侧边分成多个配向区,任二相邻且属于不同的次像素区的配向区具有相同的配向方向。液晶显示装置更包括两个偏光板,分别贴附至第一基板及第二基板,其中至少一偏光板的吸收轴与至少一配向区的配向方向的夹角为45度。第一基板为矩形基板。各次像素区为矩形。任二相邻且属于不同的次像素区的配向区的边界在同一直线上。各分区沿次像素区的一侧边分成四个配向区。各分区的四个配向区的配向方向的方位角依序为225°、315°、45°与135°。第一电极层具有多个狭缝,狭缝的位置对应各次像素区的四个配向区的三个边界或三个边界的至少其中一。各次像素区的四个配向区的配向方向的方位角依序为225°、315°、135°与45°或者225°、135°、315°与45°。第一电极层具有多个狭缝,狭缝的位置对应各次像素区的四个配向区的三个边界中位于两侧的两个边界或三个边界中位于两侧的两个边界的至少其中一。各次像素区的四个配向区的配向方向的方位角依序为225°、45°、315°与135°。第一电极层具有多个狭缝,狭缝的位置对应各次像素区的四个配向区的三个边界中位于中央的边界。
在本发明的液晶显示装置的一实施例中,第一基板划分为多个次像素区,各次像素区包含至少一分区,各分区至少由两条互相交叉的分隔线分成四个配向区。各次像素区的四个配向区的配向方向的方位角沿顺时针方向分别为225°、135°、45°与315°。各次像素区包含两个分区,各分区至少由两条互相交叉的分隔线分成四个配向区。
基于上述,在本发明的光配向制程中,只要改变线偏振光的偏振方向而不需改变线偏振光的波向量就可以改变光配向材料层的配向方向,故可使用扫描方式于广视角电控双折射模式的制程,并可减少对位误差的发生方向,还可提升液晶反应速率,因此可提升本发明的液晶显示装置的显示品质。
附图说明
为让本发明的上述目的、特征和优点能更明显易懂,以下结合附图对本发明的具体实施方式作详细说明,其中:
图1是已知配向制程的示意图。
图2A与图2B是图1的两个区的放大示意图。
图3A说明已知的光配向制程中线偏振光与配向层的关系。
图3B是图1的配向制程所使用的掩模与光入射方向的示意图。
图4说明本发明一实施例的光配向制程中线偏振光与光配向材料层的关系。
图5是图4的光配向制程实际应用时掩模与线偏振光的关系图。
图6A为图5的掩模下方的基板的示意图。
图6B为本发明又一实施例的次像素区的示意图。
图7A为本发明另一实施例的掩模与基板的关系图。
图7B为本发明再一实施例的次像素区的示意图。
图8为本发明一实施例的液晶显示装置的剖视图。
图9A至图9D分别为四种实施例的次像素区的示意图。
图10为图9B的次像素区配置狭缝后模拟所得的透光状态。
主要元件符号说明:
110:配向层
112:配向层的法向量
114:配向方向
120:线偏振光
122:波向量
124:偏振方向
130、230:掩模
132、232:透光区
132A:边缘
140:基板
152、154:虚线框
210:基板
212、216、218A、218D、316:次像素区
212A、212B、212C、212D、216A、216B、216C、216D、218C、218E、316A、316B、316C、316D:配向区
214:分隔线
218B:分区
220:光配向材料层
230:偏光板
232:偏光板的吸收轴
P10:第一平面
P20:第二平面
P30:第三平面
L10:线偏振光
D10:偏振方向
D20:K向量的投影方向
D22:移动方向
D30:配向方向
ψi:偏振方向与第二平面法向量的夹角
ψf:偏振方向在第一平面上的正投影与贴附在基板上的一偏光片的吸收轴的夹角
θ:K向量与第一平面的法向量的夹角
300:液晶显示装置
310、320:基板
312、322:电极层
312A:狭缝
314:配向层
330:液晶层
具体实施方式
图4说明本发明一实施例的光配向制程中线偏振光与光配向材料层的关系。请参照图4,本实施例的光配向制程是先在一基板210上形成一光配向材料层220,接着以一线偏振光L10照射光配向材料层220,以使光配向材料层220具有配向能力。光配向技术是利用线偏振光让配向材料在特定方向进行聚合或裂解反应或使分子构型作有序性的重排,使得配向材料的分子排列从无次序性状态变成有次序性。利用有次序性的分子排列的配向材料可诱导液晶分子有次序性地排列。线偏振光L10可以是紫外光或其他适当光线。
在此,设定光配向材料层220的表面为一第一平面P10。线偏振光L10的波向量为一K向量,波向量是用于表示线偏振光L10的光波的传播方向的向量。K向量与第一平面的法向量(图4中以Z向量表示)构成一第二平面P20。线偏振光L10的一偏振方向D10不垂直也不平行于第二平面P20。
图5是图4的光配向制程实际应用时掩模与线偏振光的关系图。请参照图4与图5,掩模130具有矩形的透光区132。利用图4的光配向制程,线偏振光L10的K向量在光配向材料层220的第一平面P10上的投影如方向D20,而光配向材料层220受线偏振光L10照射后产生一配向方向D30。配向方向D30可经由调整线偏振光L10的偏振方向D10而改变,配向方向D30较佳的实施例为与基板210上贴附的偏光板230的吸收轴232夹45度角,可达到较佳的穿透度。此夹角可能会因制程误差而非恰好为45度。偏光板230与光配向材料层220位于基板210的不同面上。同时,线偏振光L10的K向量的投影方向D20平行于透光区132的边缘132A。因此,即使掩模130有弯曲的现象,也只会在垂直于边缘132A的方向产生对位偏移,而不会在平行于边缘132A的方向产生对位偏移。亦即是,采用本实施例的光配向制程可将对位偏移的影响局限在单一方向而易于补偿。而且,不需要改变线偏振光L10的K向量的投影方向D20,仍可改变线偏振光L10的偏振方向D10而改变配向方向D30,以符合各种设计需求。
以下参照图4说明线偏振光L10的偏振方向D10与配向方向D30之间的关系。K向量的偏振态具有P向量与S向量的分量,P向量平行于第二平面P20,S向量平行第一平面P10且垂直于第二平面P20。其中,S向量、P向量与偏振方向D10位于一第三平面P30上。线偏振光L10的偏振方向D10必垂直于线偏振光L10的波向量(即K向量,亦即线偏振光L10的行进方向)。偏振方向D10与S向量的夹角为ψi。在此,夹角ψi的定义是以S向量为基准转至平行偏振方向D10时所转的角度。K向量与第一平面P 10的法向量(即Z向量)的夹角为θ。光配向材料层220受线偏振光L 10照射后产生的配向方向D30与基板210上贴附的偏光板230的吸收轴232的夹角为ψf。此时,ψf=tan-1(tanψi/cosθ)。例如,ψi为37.5度,ψf为45度,θ为40度。
。请参照图4与图5,线偏振光L10的K向量的投影方向D20平行于透光区132的边缘132A,可将对位偏移局限在单一方向而易于补偿。以图5的掩模130而言,由于每个透光区132并不相连,因此在完成掩模130所对应的光配向材料层220的配向后,就需移动掩模130与提供线偏振光L10的光源以对其他区域进行光配向。当然,也可固定掩模130与提供线偏振光L10的光源,而改为移动基板210,也可达成相同功效。这种移动与照射光线的步骤交替进行的方式称为步进式。
图6A为图5的掩模下方的基板的示意图。请参照图5与图6A。基板210划分为多个次像素区212。各次像素区212由两条互相交叉的分隔线214分成四个配向区212A、212B、212C与212D。沿顺时针方向,配向区212A、配向区212B、配向区212C与配向区212D的配向方向的方位角例如依序为225°、135°、45°与315°,但不限定于此。在图6B的实施例中,各次像素区218A有两个分区218B,每个分区218B由两条互相交叉的分隔线214分成四个配向区218C,而各配向区218C的配向方向如箭头所示。将次像素区218A分成多个分区218B的方式可应用于低色偏的设计。
图7A为本发明另一实施例的掩模与基板的关系图。请参照图4与图7A,本实施例中线偏振光L10是连续地照射光配向材料层220。在线偏振光L10连续地照射光配向材料层220时,K向量与第一平面P10的一交点Z10沿一移动方向D22移动。K向量在第一平面P10上的正投影方向D20与移动方向D22重叠。本实施例中,基板210的各次像素区216沿垂直移动方向D22的方向(沿次像素区216的侧边E10)分成四个配向区216A、216B、216C与216D。其中,沿移动方向D22排成一列的多个配向区形成有相同的配向方向。本实施例中,各次像素区216A、216B、216C与216D与移动方向D22垂直的各边界呈一直线。然而,各次像素区216A、216B、216C与216D与移动方向D22垂直的各边界也可不呈一直线,只要任二相邻且属于不同的次像素区的配向区的边界在同一直线上即可。掩模230的透光区232可对齐沿移动方向D22排成一列的一个或多个配向区。由于同一列的配向区有相同的配向方向,因此提供线偏振光L10的光源与掩模230在沿移动方向D22时,线偏振光L10可连续对通过的多个配向区进行配向,不需采用步进的方式做多次的对位动作。如此,可进一步节省制程时间与成本。同时,由于K向量在第一平面P10上的正投影与移动方向D22重叠,因此在移动方向D22上并不会有线偏振光L10斜向照射所产生的偏移,可减少移动方向D22因掩模230弯曲而在移动方向D22沿线上不同区域有不同的对位偏移量的问题。
在图7B的实施例中,各次像素区218D分成八个配向区218E,而各配向区218E的配向方向如箭头所示。这些配向区218E也可分成上下两组或更多组,以应用于低色偏的设计。
图8为本发明一实施例的液晶显示装置的剖视图。请参照图8,本实施例的液晶显示装置300包括一基板310、一基板320以及一液晶层330。基板310具有一电极层312与覆盖电极层312的一配向层314。基板320具有一电极层322与覆盖电极层322的一配向层324。液晶层330配置于基板310的配向层314与基板320的配向层324之间。配向层314与324在互相对应的区域上的配向方向的夹角例如是180度。液晶显示装置300还可包括两个偏光板340,分别贴附在基板310与320的表面上。配向层314与324可以前述各实施例或其他本发明的光配向制程进行配向。因此,本实施例的配向层314与324的制程良率佳且制程成本较低,进而提升本实施例的液晶显示装置300的显示品质并降低成本。
在此,基板320可以是彩色滤光基板,电极层322可以是共用电极层,基板310可以是有源元件阵列基板,电极层312可以是像素电极层,或者也可采用其他适当的配置方式。另外,基板320也可具有覆盖电极层322的配向层。
图9A至图9D分别为四种实施例的次像素区的示意图。请参照图9A,类似图7的次像素区216,图8的基板310也可分成多个次像素区316,在此仅绘示一个次像素区316。各次像素区316沿光配向制程的线偏振光的移动方向的垂直方向分成四个配向区316A、316B、316C与316D。由图9A的上半部可看到,四个配向区316A、316B、316C与316D的配向方向的方位角分别为225°、315°、45°与135°。由图9A的下半部可看到这种配向方式时模拟所得的次像素区316电压启动后的透光状态。此时,可在电极层312上形成有多个狭缝312A,狭缝312A的位置对应各次像素区316的四个配向区316A与316B间、316B与316C间、316C与316D间的各三个边界中的至少一个。当然,电极层322上也可设计有狭缝。借由狭缝312A的边际电场作用,加快液晶受电压后排列的速度而改善四个配向区316A与316B间、316B与316C间、316C与316D间的三个边界上的暗纹分布的面积并提高亮度。
请参照图9B,四个配向区316A、316B、316C与316D的配向方向的方位角分别为225°、45°、315°与135°。由图9B的下半部可看到这种配向方式时模拟所得的次像素区316电压启动后的透光状态,其中仅配向区316B与316C间的边界有暗纹。此时,可让狭缝312A的位置对应配向区316B与316C间的边界。借由狭缝312A边际电场的作用,加快液晶受电压后排列的速度而改善配向区316B与316C的边界上的暗纹分布的面积并提高亮度,如图10所示。
请参照图9C,四个配向区316A、316B、316C与316D的配向方向的方位角分别为225°、135°、315°与45°。由图9C的下半部可看到这种配向方式时模拟所得的次像素区316电压启动后的透光状态,其中配向区316A与316B间的边界以及配向区316C与316D间的边界有明显暗纹。此时,可让狭缝312A的位置对应配向区316A与316B间的边界以及配向区316C与316D间的边界。借由狭缝312A边际电场的作用,加快液晶受电压后排列的速度而改善配向区316A与316B的边界以及配向区316C与316D的边界上的暗纹分布的面积并提高亮度。
请参照图9D,四个配向区316A、316B、316C与316D的配向方向的方位角分别为225°、315°、135°与45°。由图9D的下半部可看到这种配向方式时模拟所得的次像素区316电压启动后的透光状态,其中配向区316A与316B间的边界以及配向区316C与316D间的边界有明显暗纹。此时,可让狭缝312A的位置对应配向区316A与316B间的边界以及配向区316C与316D间的边界。借由狭缝312A的作用,可改善配向区316A与316B间的边界以及配向区316C与316D间的边界上的暗纹分布的面积并提高亮度。
综上所述,在本发明的光配向制程中,线偏振光的波向量与偏振方向在配向材料层上的投影互不垂直也不平行,因此线偏振光的入射方向可调整为平行于掩模的透光区的边缘,进而控制对位偏移的方向。另外,借由调整配向方向的分布方式,可采用线偏振光连续照射的扫瞄式制程而加快制程速度并减少对位误差。另外,本发明的液晶显示装置的配向层采用前述的光配向制程,因此可减少制程成本并提升显示品质。
虽然本发明已以较佳实施例揭示如上,然其并非用以限定本发明,任何本领域技术人员,在不脱离本发明的精神和范围内,当可作些许的修改和完善,因此本发明的保护范围当以权利要求书所界定的为准。