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CN102367519A - 一种ito废靶的高效回收方法 - Google Patents

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彭晖
常鹏北
王政红
刘冠鹏
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725th Research Institute of CSIC
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Abstract

本发明介绍了一种TO废靶的高效回收方法,采用等离子气化法生产装置,使ITO靶材直接气化生成ITO粉末;整个回收过程在等离子气化装置中完成,该装置中产生稳定等离子电弧,在电弧高温作用下ITO废靶瞬间气化、冷却收集。本发明将等离子气化法生产装置应用到陶瓷废靶回收领域中,成功实现了ITO废靶的高效回收,回收效率可达99%;制备成的ITO粉末颗粒的平均粒径<100nm,颗粒形貌大多呈类球状和四方状,粉末团聚少,可直接用于生产ITO靶材;具有工序简单、自动化程度高、循环再利用周期短、回收率高、成本低、节能环保等明显的优点。

Description

一种ITO废靶的高效回收方法
技术领域
本发明涉及一种铟锡复合氧化物技术,特别是一种ITO废靶的高效回收方法。
背景技术
ITO(Tin-doped Indium Oxide)靶材是一种铟锡复合氧化物陶瓷材料,ITO膜具有透光、导电和热反射等特性,广泛应用于平面显示器件的透明电极、高档建筑幕墙、飞机及车辆的防霜防雾玻璃、太阳能聚能装置和照明灯具等方面,是一种重要的光电材料。工业应用中,ITO靶材溅射镀膜的利用率一般仅为30%~40%,剩余的部分成为废靶材,再加上靶材成型过程中产生的边角料、切削、废品。目前全球ITO靶材用量超过1000吨,每年产生废靶材约为400吨左右。铟是稀贵金属,世界上已探明的总储量只有1.6万吨,中国是全球最大的产铟国,也是最大的出口国,原生铟产量占到全球原生铟总量的60%以上。因此,铟的循环利用极为重要,ITO废靶的回收是占铟循环利用的85%以上。
ITO废靶主成份为:铟70%~75%,锡7%~8%,其他为氧,杂质微量。传统ITO废靶回收技术的核心在于铟、锡的有效分离,并以粗铟的品质和收率作为技术水平的衡量标准,目前已公开的回收技术有电解、水解沉淀、碱法分离、置换等方法。公开申请号CN1487102A提出一种从铟锡氧化物废靶中回收铟的方法:将ITO废靶破碎球磨至粒度<149μm后,采用浸出、除杂、置换、电解的全湿法流程从废ITO靶材中回收铟,得到含铟达99.99%的高纯铟。公开申请号CN101701292A采用的是氧化法从ITO废靶材中回收铟锡的方法:将ITO废靶经破碎、球磨后,加浓盐酸溶解浸出,通过添加NaOH氧化浸出液并调节PH值获得浸出渣,再经洗涤、焙烧、氧化后实现锡分离,得到粗铟,经一次电解后得到4N铟,铟的回收率可稳定在97%以上。公开申请号CN101701291A采用的是蒸馏法从ITO废靶中回收铟锡的方法,将ITO废靶经破碎、球磨后,将盐酸浸出,加入适量的氧化剂,制成蒸馏原液,按一定的蒸馏工艺分离铟、锡,达到废靶循环利用的目的。
上述这些方法都存在铟、锡分离不彻底,流程繁琐,效率较低、回收成本高等不足。同时传统方法需加强酸进行反应,会产生大量的废酸液,严重污染环境。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种ITO废靶的高效回收方法,针对传统ITO废靶回收技术的不足,实现工艺流程简单、回收率高、工业化程度高、回收成本低、节能环保等目的。
为了实现解决上述技术问题的目的,本发明采用了如下技术方案:
本发明的一种ITO废靶的高效回收方法,采用等离子气化法生产装置,使ITO靶材直接气化生成ITO粉末;整个回收过程在等离子气化装置中完成,该装置中产生稳定等离子电弧,在电弧高温作用下ITO废靶瞬间气化、冷却收集。
具体工艺为:
(1)ITO废靶表面清洁:先将废靶表层明显杂物去除后,放置在有机溶剂中浸泡10~15min,取出擦拭表面有机溶剂或者待有机溶剂挥发完毕,再用以纯水为清洗液进行超声波清洗后,干燥待用;
(2)等离子气化法回收ITO废靶:回收过程在等离子气化生产装置中完成,将干燥后的ITO靶材作为阴极放置在等离子气化生产装置反应器中,等离子枪作为阳极,ITO靶材既是被气化体又是导电体,在阴极和阳极之间通入大电流,在此电流产生的电阻热及强磁场对射流的压缩下,产生电弧,使ITO靶变成蒸气,在氧气氛保护下,骤冷形成ITO粉末。
优选的有机溶剂为沸点200℃以下的烃类、醚类、酮类、一元醇类有机溶剂。更优选的有机溶剂为乙醇、乙醚、丙酮、环己烷、汽油、石油醚、甲苯、乙苯、苯、二甲苯的任一种或者其任意比例的混合物。
所述的等离子气化法回收ITO废靶工艺,其更具体的技术方案是:将清洗后的ITO废靶置入等离子气化生产装置反应器中,位于等离子枪下方;反应器通入过滤空气或纯氧气,形成氧气氛保护;在ITO废靶与等离子枪之间通入电流,电流强度范围为50A~2000A,调整等离子枪和ITO废靶之间的距离,产生连续电弧;在高温电弧作用下,ITO废靶材气化变成氧化物蒸汽,氧化物蒸汽经冷却后形成ITO粉末。
由于常温下过滤空气或纯氧气的温度为20~30℃左右,而高温电弧的温度则为3000~6000℃左右,使得ITO蒸汽和空气或纯氧气之间存在极大的过冷度,ITO蒸汽在与空气或纯氧气接触的瞬间发生了骤冷,有效的约束氧化物颗粒的长大,最终收集的ITO粉末平均粒径<100nm。
通过采用上述技术方案,本发明具有以下的有益效果:
本发明将等离子气化法生产装置应用到陶瓷废靶回收领域中,成功实现了ITO废靶的高效回收,回收效率可达99%;本发明可将ITO废靶直接制备成ITO粉末,粉末颗粒的平均粒径<100nm,颗粒形貌大多呈类球状和四方状,粉末团聚少;所制备的ITO粉末可直接用于生产ITO靶材,大大缩短了废靶的循环再利用周期;本发明与传统回收技术相比具有工序简单、自动化程度高、循环再利用周期短、回收率高、成本低、节能环保等明显的优点。
附图说明
图1为实施例1回收制备的ITO粉末TEM观察照片。
图2为实施例2回收制备的ITO粉末TEM观察照片。
具体实施方式
实施例1
将废靶先用丙酮液浸泡15min后擦拭表面,然后用水为清洗液用超声波清洗2h,然后放入等离子气化法生产装置,用等离子枪直接起弧、产生持续稳定的电弧,气化,并骤冷收粉。
参数如下:
电流:~1000A 
工作电压:~50V
空载电压:~100V 
采用XRD分析粉末的相组成是单一的立方In2O3结构,没有其它衍射峰的出现,获得了标准结构的ITO粉末。
采用TEM分析粉末的形貌及粒径尺寸,采用丙酮为分散液,超声波分散五分钟,蘸取上部液体滴于铜网上进行TEM观察,结果如图1。ITO粉末的微观形貌大部分呈类球形和四方状,粉末平均粒径<100nm,分散性良好。
实施例2
工艺同上,参数如下:
电流:~2000A 
工作电压:~80V
空载电压:~200V
采用XRD分析粉末的相组成是单一的立方In2O3结构,没有其它衍射峰的出现,获得了标准结构的ITO粉末。
采用TEM分析粉末的形貌及粒径尺寸,采用丙酮为分散液,超声波分散五分钟,蘸取上部液体滴于铜网上进行TEM观察,结果如图2。ITO粉末的微观形貌大部分呈类球形和四方状,粉末粉末平均粒径<100nm,分散性良好。

Claims (4)

1.一种ITO废靶的高效回收方法,其特征是具体工艺为:
(1)ITO废靶表面清洁:先将废靶表层明显杂物去除后,放置在有机溶剂中浸泡10~15min,取出擦拭表面有机溶剂或者待有机溶剂挥发完毕,再用以纯水为清洗液进行超声波清洗后,干燥待用;
(2)等离子气化法回收ITO废靶:回收过程在等离子气化生产装置中完成,将干燥后的ITO靶材作为阴极放置在等离子气化生产装置反应器中,等离子枪作为阳极,ITO靶材既是被气化体又是导电体,在阴极和阳极之间通入大电流,在此电流产生的电阻热及强磁场对射流的压缩下,产生电弧,使ITO靶变成蒸气,在氧气氛保护下,骤冷形成ITO粉末。
2.根据权利要求1所述ITO废靶的高效回收方法,其特征是:所述的有机溶剂为沸点200℃以下的烃类、醚类、酮类、一元醇类有机溶剂。
3.根据权利要求1所述ITO废靶的高效回收方法,其特征是:所述的有机溶剂为乙醇、乙醚、丙酮、环己烷、汽油、石油醚、甲苯、乙苯、苯、二甲苯的任一种或者其任意比例的混合物。
4.根据权利要求1所述ITO废靶的高效回收方法,其特征是:所述的离子气化法回收ITO废靶工艺是将清洗后的ITO废靶置入等离子气化生产装置反应器中,位于等离子枪下方;反应器通入过滤空气或纯氧气,形成氧气氛保护;在ITO废靶与等离子枪之间通入电流,电流强度范围为50A~2000A,调整等离子枪和ITO废靶之间的距离,产生连续电弧;在高温电弧作用下,ITO废靶材气化变成氧化物蒸汽,氧化物蒸汽经冷却后形成ITO粉末。
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