CN102193316A - 正型感光性树脂组合物、固化膜的形成方法、固化膜、有机el显示装置以及液晶显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明的目的是提供一种可获得涂布性优良、显影不均和像素缺陷少、平面性优良的固化膜的正型感光性树脂组合物以及使用其的固化膜的形成方法、固化膜、有机EL显示装置以及液晶显示装置。本发明的正型感光性树脂组合物的特征在于，其含有：成分A：包含式(1)表示的结构单元A和结构单元B、且重均分子量为1,000～10,000的共聚物，成分B：树脂，其含有具有通过酸分解而生成羧基或酚性羟基的酸分解性基团的结构单元和具有能与羧基或酚性羟基反应而形成共价键的官能团的结构单元，成分C：光产酸剂，以及成分D：溶剂，其中，含有0.001～1.00重量％的所述成分A。结构单元A 结构单元B：

Description

正型感光性树脂组合物、固化膜的形成方法、固化膜、有机EL显示装置以及液晶显示装置

技术领域

本发明涉及正型感光性树脂组合物、固化膜的形成方法、固化膜、有机EL(有机电致)显示装置以及液晶显示装置。

背景技术

在有机EL显示装置或液晶显示装置等中设置有经图案形成得到的层间绝缘膜。从用于获得所需的图案形状的工序数少并且能够获得充分的平坦性的角度出发，感光性树脂组合物被广泛地用于该层间绝缘膜的形成中。

专利文献1中记载了一种正型感光性树脂组合物，其特征在于，至少含有：(A)树脂，所述树脂含有具有酸解离性基团的下述通式(1)表示的结构单元以及具有可以与羧基反应而形成共价键的官能团的结构单元，该树脂为碱不溶性或碱难溶性，且当所述酸解离性基团解离时成为碱可溶性；以及(B)通过活性光线或者放射线的照射产生酸的化合物。

(通式(1)中，R¹表示氢原子、甲基、卤素原子或氰基。R²和R³各自独立地表示氢原子、直链状或支链状烷基或环烷基。其中，R²和R³中的至少一个表示直链状或支链状烷基或环烷基。R⁴表示可以被取代的直链状或支链状的烷基、环烷基或芳烷基。R²或R³与R⁴可以连接形成环状醚。)

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2009-98616号公报

发明内容

发明所要解决的问题

正如专利文献1所记载的，含有具有酸解离性基团的树脂的组合物的涂布适性几乎没有被研究。本发明人等发现，特定结构的氟系表面活性剂对这样的组合物具有特异的效果，从而完成了本发明。

本发明的目的是提供一种可获得涂布性优良、显影不均和像素缺陷少、平面性优良的固化膜的正型感光性树脂组合物以及使用其的固化膜的形成方法。

解决问题所采用的手段

本发明的上述课题可通过以下的<1>、<13>、<14>、<16>或<17>所述的手段来解决。与作为优选实施方式的<2>～<12>和<15>一并记载如下。

<1>一种正型感光性树脂组合物，其特征在于，其含有：(成分A)包含下述式(1)表示的结构单元A和结构单元B、且重均分子量为1,000～10,000的共聚物，(成分B)树脂，其含有具有通过酸分解而生成羧基或酚性羟基的酸分解性基团的结构单元和具有能与羧基或酚性羟基反应而形成共价键的官能团的结构单元，(成分C)光产酸剂，以及(成分D)溶剂，其中，含有0.001～1.00重量％的所述成分A。

结构单元A              结构单元B

(式(1)中，R¹和R³各自独立地表示氢原子或甲基，R²表示碳原子数为1～4的直链亚烷基，R⁴表示氢原子或烷基，L表示碳原子数为3～6的亚烷基，p和q是表示结构单元A和结构单元B的聚合比的重量百分数，p表示10重量％～80重量％的数值，q表示20重量％～90重量％的数值，r表示1～18的整数，n表示1～10的整数。)

<2>上述<1>所述的正型感光性树脂组合物，其中，所述L是下述式(2)表示的支链亚烷基。

(式(2)中，R⁵表示碳原子数为1～4的烷基。)

<3>上述<2>所述的正型感光性树脂组合物，其中，所述R⁵是乙基。

<4>上述<1>～<3>中任一项所记载的正型感光性树脂组合物，其中，所述成分B进一步含有来自于选自苯乙烯衍生物、马来酰亚胺衍生物、(甲基)丙烯酸以及含有羟基的(甲基)丙烯酸酯化合物中的至少一种化合物的结构单元。

<5>上述<1>～<4>中任一项所记载的正型感光性树脂组合物，其中，所述酸分解性基团是式(Ia)、式(Ib)、式(IIa)或式(IIb)表示的基团。

(式(Ia)、式(Ib)、式(IIa)和式(IIb)中，R¹各自独立地表示烷基或环烷基，R²各自独立地表示烷基，R¹和R²也可以形成环，R³表示叔烷基，R⁴表示叔烷基或叔丁氧基羰基，Ar¹和Ar²各自独立地表示二价的芳香族基团，波浪线部分表示与其他结构的键合部位。)

<6>上述<1>～<6>中任一项所记载的正型感光性树脂组合物，其中，所述官能团是环氧基和/或氧杂环丁烷基。

<7>上述<6>所述的正型感光性树脂组合物，其中，所述官能团是氧杂环丁烷基。

<8>上述<1>～<7>中任一项所记载的正型感光性树脂组合物，其中，所述成分C是肟磺酸酯化合物。

<9>上述<1>～<8>中任一项所记载的正型感光性树脂组合物，其中，所述成分B是选自式(OS-3)、式(OS-4)以及式(OS-5)表示的化合物中的至少1种化合物。

(式(OS-3)～式(OS-5)中，R¹表示烷基、芳基或杂芳基，R²各自独立地表示氢原子、烷基、芳基或卤素原子，R⁶各自独立地表示卤素原子、烷基、烷氧基、磺酸基、氨基磺酰基或烷氧基磺酰基，X表示O或S，n表示1或2，m表示0～6的整数。)

<10>上述<1>～<9>中任一项所记载的正型感光性树脂组合物，其进一步含有(成分E)增感剂。

<11>上述<10>所述的正型感光性树脂组合物，其中，所述成分E是选自蒽衍生物、吖啶酮衍生物、噻吨酮衍生物、香豆素衍生物、基于苯乙烯基(ベ一ススチリル)的衍生物以及二苯乙烯基苯衍生物中的化合物。

<12>上述<1>～<11>中任一项所记载的正型感光性树脂组合物，其中，所述成分D是沸点为130℃以上且低于160℃的溶剂、沸点为160℃以上的溶剂或它们的混合物。

<13>一种固化膜的形成方法，其包含下述工序：(1)将上述<1>～<12>中任一项所记载的正型感光性树脂组合物涂布到基板上的涂布工序、(2)从已涂布的正型感光性树脂组合物中除去溶剂的溶剂除去工序、(3)利用活性光线进行曝光的曝光工序、(4)利用水性显影液进行显影的显影工序、以及(5)进行热固化的后烘烤工序。

<14>一种固化膜，其是通过上述<13>所述的方法形成的。

<15>上述<14>所述的固化膜，其为层间绝缘膜。

<16>一种有机EL显示装置，其具备上述<14>或<15>所述的固化膜。

<17>一种液晶显示装置，其具备上述<14>或<15>所述的固化膜。

发明的效果

根据本发明，能够提供一种可获得涂布性优良、显影不均和像素缺陷少、平面性优良的固化膜的正型感光性树脂组合物以及使用其的固化膜的形成方法。

附图说明

图1表示有机EL显示装置的一个例子的结构示意图。其表示底部发光型的有机EL显示装置中的基板的示意剖视图，其具有平坦化膜4。

图2表示液晶显示装置的一个例子的结构示意图。其表示液晶显示装置中的有源矩阵基板的示意剖视图，其具有作为层间绝缘膜的固化膜17。

符号说明

1：TFT(薄膜晶体管)、2：配线、3：绝缘膜、4：平坦化膜、5：第一电极、6：玻璃基板、7：接触孔、8：绝缘膜、10：液晶显示装置、12：背光灯单元、14、15：玻璃基板、16：TFT、17：固化膜、18：接触孔、19：ITO透明电极、20：液晶、22：滤色器

具体实施方式

以下对本发明的正型感光性树脂组合物详细地进行说明。

(正型感光性树脂组合物)

本发明的正型感光性树脂组合物(以下也仅称为“感光性树脂组合物”)的特征在于，其含有：(成分A)包含下述式(1)表示的结构单元A和结构单元B、且重均分子量为1,000～10,000的共聚物，(成分B)树脂，其含有具有通过酸分解而生成羧基或酚性羟基的酸分解性基团的结构单元和具有能与羧基或酚性羟基反应而形成共价键的官能团的结构单元，(成分C)光产酸剂，以及(成分D)溶剂，其中，含有0.001～1.00重量％的所述成分A。

结构单元A                 结构单元B

(式(1)中，R¹和R³各自独立地表示氢原子或甲基，R²表示碳原子数为1～4的直链亚烷基，R⁴表示氢原子或烷基，L表示碳原子数为3～6的亚烷基，p和q是表示结构单元A和结构单元B的聚合比的重量百分数，p表示10重量％～80重量％的数值，q表示20重量％～90重量％的数值，r表示1～18的整数，n表示1～10的整数。)

本发明的感光性树脂组合物为正型感光性树脂组合物。

另外，本发明的正型感光性树脂组合物优选为化学放大型的正型感光性树脂组合物(化学放大正型感光性树脂组合物)。

本发明的感光性树脂组合物优选不含有1，2-苯醌二叠氮基(quinonediazide)化合物作为感应活性光线的光产酸剂。1，2-苯醌二叠氮基化合物通过连串型光化学反应生成羧基，但其量子效率一定为1以下。

与此相对，对于本发明中使用的(成分C)光产酸剂，由于对活性光线发生感应而生成的酸对被保护的酸性基团的脱保护起到催化剂的作用，因此在1个光量子的作用下生成的酸有助于多个脱保护反应，量子效率超过1，例如是10的数次方这样大的值，从而获得所谓的化学放大，其结果可以得到高感度。

以下，上述(成分A)等表示的各成分也分别称为“成分A”。

(成分A)

对于本发明的感光性树脂组合物，相对于感光性树脂组合物的总重量，含有0.001～1.00重量％的(成分A)包含下述式(1)表示的结构单元A和结构单元B、且重均分子量为1,000～10,000的共聚物。

结构单元A                 结构单元B

式(1)中，R¹和R³各自独立地表示氢原子或甲基，R²表示碳原子数为1～4的直链亚烷基，R⁴表示氢原子或烷基，L表示碳原子数为3～6的亚烷基，p和q是表示结构单元A和结构单元B的聚合比的重量百分数，p表示10重量％～80重量％的数值，q表示20重量％～90重量％的数值，r表示1～18的整数，n表示1～10的整数。

此外，所谓上述L的碳原子数，是指构成包括支链部分在内的亚烷基的所有的碳原子数。

上述L可以是直链亚烷基，也可以是支链亚烷基，但优选是支链亚烷基，更优选是下述式(2)表示的亚烷基。

此处，R⁵表示碳原子数为1～4的烷基，在相容性和对被涂布面的润湿性方面，优选碳原子数为1～3的烷基，更优选碳原子数为2的烷基，即乙基。

上述p和q是表示聚合比的重量百分数。

p表示10重量％～80重量％的数值，在疏水性-亲水性的平衡方面，优选为20重量％～60重量％的数值。

另外，q表示20重量％～90重量％的数值，在疏水性-亲水性的平衡方面，优选为40重量％～80重量％的数值。

上述r优选为6～18的数值。另外，上述n优选为6～10的整数。

上述R²优选碳原子数为1或2的直链亚烷基，即亚甲基或亚乙基，更优选为亚乙基。

上述R⁴优选为氢原子或碳原子数为1～4的烷基，更优选为氢原子或甲基，进一步优选为氢原子。

成分A也可以具有除上述结构单元A和结构单元B以外的其他的结构单元。作为其他的结构单元，没有特别限制，能够优选例示出来自于公知的烯键不饱和化合物的结构单元。

在构成成分A的总单体单元中，形成结构单元A的单体单元的含量和形成结构单元B的单体单元的含量的合计优选为90摩尔％以上。

作为成分A，具体而言，可以优选例示出以下所示的K-1～K-12，但本发明并不限定于此。

结构单元A               结构单元B

成分A的重均分子量(Mw)为1,000～10,000，从涂布性的观点出发，优选为1,000～6,000，更优选为1,000～3,000，进一步优选为1,200～2,000。此外，本发明的重均分子量优选为通过以四氢呋喃(THF)溶剂为载体的凝胶渗透色谱法(GPC)得到的聚苯乙烯换算重均分子量。

作为成分A的制作方法，没有特别限制，可以通过公知的合成方法或聚合方法来制作。

成分A可以单独使用1种或混合2种以上来使用。

本发明的感光性树脂组合物中的成分A的添加量相对于感光性树脂组合物的总重量为0.001～1.00重量％，从涂布性的观点出发，优选为0.005～0.20重量％，更优选为0.007～0.15重量％。通过将成分A按上述范围的量添加，能得到优良的涂布性。对于在大型基板上进行狭缝涂布特别有效。此处所谓大型基板，是指1m×1m见方～5m×5m见方的基板。另外，通过将成分A按上述范围的量添加，即使大型基板也能得到优良的显影性。此外，让人吃惊的是，通过将成分A按上述范围的量添加，能得到液晶电阻率良好的效果。

(成分B)

成分B是至少含有具有通过酸分解而生成羧基或酚性羟基的酸分解性基团的结构单元和具有能与羧基或酚性羟基反应而形成共价键的官能团的结构单元的树脂。

成分B可以分别单独含有1种上述的各结构单元，也可以含有2种以上的上述的各结构单元。另外，成分B也可以含有除上述的各结构单元以外的结构单元。

成分B优选为碱不溶性，且是酸分解性基团分解时成为碱可溶性的树脂。这里，“酸分解性基团”是指在酸的存在下能够分解的官能团。另外，所谓“碱可溶性”，是指当将化合物(树脂)的溶液涂布到基板上并在90℃下加热2分钟而形成的涂膜(厚度为3μm)进行浸渍显影时，在23℃下的0.4重量％四甲基氢氧化铵水溶液中的溶解速度为0.01μm/秒以上。另一方面，所谓“碱不溶性”，是指上述溶解速度小于0.01μm/秒。

<具有通过酸分解而生成羧基或酚性羟基的酸分解性基团的结构单元>

对于成分B所含的具有通过酸分解而生成羧基或酚性羟基的酸分解性基团(以下也仅称为“酸分解性基团”)的结构单元，优选含有具有通过酸分解(解离)而生成羧基的式(Ia)或式(IIa)表示的结构的结构单元或者含有具有通过酸分解而生成酚性羟基的式(Ib)或式(IIb)表示的结构的结构单元。

式(Ia)和式(Ib)中，R¹各自独立地表示烷基或环烷基。

R¹中的烷基可以是直链状也可以是支链状。

作为R¹中的烷基的优选的碳原子数，优选为1～20，更优选为1～10，进一步优选为1～7。

作为R¹中的环烷基的优选的碳原子数，优选为3～20，更优选为3～10，进一步优选为5～7。

此外，这些碳原子数在具有取代基的情况下也包括取代基的碳原子数在内。

作为R¹中的烷基，可列举出例如甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、正戊基、新戊基、正己基、正庚基、正辛基、2-乙基己基、正壬基、正癸基等。

作为R¹中的环烷基，可列举出例如环丙基、环丁基、环戊基、环己基、环庚基、环辛基、降冰片基、异冰片基等。

另外，R¹中的烷基和环烷基也可以具有取代基。

作为上述烷基和环烷基中的取代基，可例示出碳原子数为1～10的烷基(甲基、乙基、丙基、丁基等)、碳原子数为3～10的环烷基、碳原子数为6～10的芳基、卤素原子(氟原子、氯原子、溴原子、碘原子)、氰基、硝基、羟基、碳原子数为1～10的烷氧基等，这些取代基还可以被上述取代基进一步取代。

另外，作为R¹中的烷基或环烷基，优选碳原子数为1～10的烷基、碳原子数为3～10的环烷基或碳原子数为7～11的芳烷基，更优选碳原子数为1～6的烷基、碳原子数为3～6的环烷基或苄基，进一步优选为乙基或环己基，特别优选为乙基。

式(Ia)和式(Ib)中，R²各自独立地表示烷基。

R²中的烷基可以是直链状也可以是支链状。

作为R²中的烷基的优选的碳原子数，优选为1～20、更优选为1～10、进一步优选为1～7。

此外，这些碳原子数在具有取代基的情况下也包括取代基的碳原子数在内。

另外，作为R²中的烷基，优选碳原子数为1～6的烷基、特别优选甲基。

R¹与R²可以形成环，作为其优选的例子，优选通过饱和烃链来形成环，可列举出5元环结构即四氢呋喃酯结构或6元环结构即四氢吡喃酯结构。另外，上述环结构可以有取代基，作为取代基，可例示出碳原子数为1～10的烷基(甲基、乙基、丙基、丁基等)、碳原子数为3～10的环烷基、碳原子数为6～10的芳基、卤素原子(氟原子、氯原子、溴原子、碘原子)、氰基、硝基、羟基、碳原子数为1～10的烷氧基等。这些取代基还可以被上述取代基进一步取代。

式(Ib)中，Ar¹表示二价的芳香族基团，在芳香环上具有OCH(OR¹)(R²)。

作为Ar¹中的二价的芳香族基团，没有特别限制，可例示出亚苯基、取代亚苯基、亚萘基和取代亚萘基等，优选为亚苯基或取代亚苯基，更优选为亚苯基，进一步优选为1，4-亚苯基。

另外，Ar¹中的二价的芳香族基团在芳香环上可以具有取代基，作为取代基，可例示出碳原子数为1～10的烷基(甲基、乙基、丙基、丁基等)、碳原子数为3～10的环烷基、碳原子数为6～10的芳基、卤素原子(氟原子、氯原子、溴原子、碘原子)、氰基、硝基、羟基、碳原子数为1～10的烷氧基等，这些取代基可以被上述取代基进一步取代。

具有酸分解性基团的结构单元优选具有上述式(Ia)和/或式(Ib)表示的结构。

作为通过使羧基被保护而能够形成具有上述式(Ia)表示的结构的结构单元的羧酸单体，只要是通过使羧基被保护而能够成为具有酸分解性基团的结构单元的单体即可使用，可列举出例如丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸、α-甲基-对羧基苯乙烯等单羧酸；马来酸、富马酸、柠康酸、中康酸、衣康酸等二羧酸。另外，作为具有酸分解性基团的结构单元，可列举出来自于上述羧基被保护而形成的羧酸的单体单元作为优选的结构单元。

作为通过使酚性羟基被保护而能够形成具有上述式(Ib)表示的结构的结构单元的具有酚性羟基的单体，只要是通过使酚性羟基被保护而能够成为具有酸分解性基团的结构单元的单体即可使用，作为优选的单体，可列举出例如对羟基苯乙烯、α-甲基-对羟基苯乙烯等羟基苯乙烯类、日本特开2008-40183号公报的段落0011～0016中记载的化合物、日本专利第2888454号公报的段落0007～0010中记载的4-羟基苯甲酸衍生物类、4-羟基苯甲酸与甲基丙烯酸缩水甘油酯的加成反应物、4-羟基苯甲酸与丙烯酸缩水甘油酯的加成反应物等。

这些之中，更优选α-甲基-对羟基苯乙烯、日本特开2008-40183号公报的段落0011～0016中记载的化合物、日本专利第2888454号公报的段落0007～0010中记载的4-羟基苯甲酸衍生物类、4-羟基苯甲酸与甲基丙烯酸缩水甘油酯的加成反应物、4-羟基苯甲酸与丙烯酸缩水甘油酯的加成反应物。

这些结构中，作为具有酸分解性基团的结构单元，更优选为式(III)表示的结构单元。

式(III)中，R⁵表示烷基或环烷基、R⁵的优选的形态与式(Ia)和式(Ib)中的R¹的优选的形态相同。

另外，式(III)中，R⁶表示氢原子或甲基。

作为用于形成式(III)表示的结构单元而采用的自由基聚合性单体的优选的具体例子，可列举出例如甲基丙烯酸1-乙氧基乙酯、丙烯酸1-乙氧基乙酯、甲基丙烯酸1-甲氧基乙酯、丙烯酸1-甲氧基乙酯、甲基丙烯酸1-正丁氧基乙酯、丙烯酸1-正丁氧基乙酯、甲基丙烯酸1-异丁氧基乙酯、丙烯酸1-异丁氧基乙酯、甲基丙烯酸1-(2-乙基己基氧基)乙酯、丙烯酸1-(2-乙基己基氧基)乙酯、甲基丙烯酸1-正丙氧基乙酯、丙烯酸1-正丙氧基乙酯、甲基丙烯酸1-环己基氧基乙酯、丙烯酸1-环己基氧基乙酯、甲基丙烯酸1-(2-环己基乙氧基)乙酯、丙烯酸1-(2-环己基乙氧基)乙酯、甲基丙烯酸1-苄基氧基乙酯、丙烯酸1-苄基氧基乙酯等；作为特别优选的具体例子，为甲基丙烯酸1-乙氧基乙酯和丙烯酸1-乙氧基乙酯。这些结构单元可以单独使用1种，也可以2种以上组合使用。

用于形成具有酸分解性基团的结构单元而采用的自由基聚合性单体可以使用市售的单体，也可以使用通过公知的方法合成的单体。例如，如下所示，通过在酸催化剂的存在下使(甲基)丙烯酸与乙烯基醚化合物反应来合成。

这里，R⁵和R⁶分别对应于式(III)中的R⁵和R⁶。

另外，具有酸分解性基团的结构单元还可以通过下述方法形成：使含有被保护的羧基或者酚性羟基的单体与后述的单体或其前体聚合，然后使羧基或者酚性羟基与乙烯基醚化合物反应，由此可以形成具有酸分解性基团的结构单元。此外，如此形成的优选的单体单元的具体例子与来自于上述自由基聚合性单体的优选的具体例子的单体单元相同。

具有式(Ia)或式(Ib)表示的结构的酸分解性基团的结构单元中，作为具有酸分解性基团的结构单元，还优选下述式(IV)的结构单元。

(式(IV)中，R¹表示氢原子或碳原子数为1～4的烷基，L¹表示羰基或亚苯基，R²¹～R²⁷各自独立地表示氢原子或碳原子数为1～4的烷基。)

另外，上述结构中，作为具有酸分解性基团的结构单元，更优选为下述式(IV-1)～(IV-4)表示的结构单元。另外，作为具有酸分解性基团的结构单元，特别优选下述式(IV-1)或(IV-2)表示的结构单元，最优选下述式(IV-1)表示的结构单元。

(式(IV-1)～(IV-4)中，R⁶表示氢原子或甲基。)

上述式(IIa)和式(IIb)中，R³表示叔烷基，R⁴表示叔烷基或叔丁氧基羰基，Ar²表示二价的芳香族基团，波浪线部分表示与其他结构的键合部位。

作为R³和R⁴中的叔烷基，优选碳原子数为4～20的叔烷基，更优选碳原子数为4～14的叔烷基，进一步优选碳原子数为4～8的叔烷基。

R³中的叔烷基、R⁴中的叔烷基或叔丁氧基羰基、Ar²中的二价的芳香族基团可以具有取代基，作为取代基，可例示出碳原子数为1～10的烷基(甲基、乙基、丙基、丁基等)、碳原子数为3～10的环烷基、碳原子数为6～10的芳基、卤素原子(氟原子、氯原子、溴原子、碘原子)、氰基、硝基、羟基、碳原子数为1～10的烷氧基等。这些取代基可以被上述取代基进一步取代。

另外，作为R³和R⁴中的叔烷基，更优选为选自以下所示的式(V)表示的基团中的至少1种。

-C(R⁹R¹⁰R¹¹)                       (V)

式中、R⁹、R¹⁰和R¹¹各自独立地表示碳原子数为1～12的烷基、碳原子数为3～12的环烷基、碳原子数为6～12的芳基或碳原子数7～12的芳烷基，另外，R⁹、R¹⁰和R¹¹中的任2个可以相互键合且与它们所键合的碳原子一起形成环。

式(V)中的R⁹、R¹⁰和R¹¹的碳原子数为1～12的烷基可以是直链状也可以是支链状，可列举出例如甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、正戊基、新戊基、正己基、2，3-二甲基-2-丁基(thexyl)、正庚基、正辛基、2-乙基己基、正壬基、正癸基等。

作为碳原子数为3～12的环烷基，可列举出例如环丙基、环丁基、环戊基、环己基、环庚基、环辛基、降冰片基、异冰片基等。

作为碳原子数为6～12的芳基，可列举出例如苯基、甲苯基、二甲苯基、枯烯基、1-萘基等。

作为碳原子数7～12的芳烷基，可列举出例如苄基、α-甲基苄基、苯乙基、萘基甲基等。

另外，R⁹、R¹⁰和R¹¹可以相互键合且与它们所键合的碳原子一起形成环。作为R⁹与R¹⁰、R⁹与R¹¹或R¹⁰与R¹¹键合时的环结构，可列举出例如环丁基、环戊基、环己基、环庚基、四氢呋喃基、金刚烷基和四氢吡喃基等。

另外，对于式(IIa)中的R³，优选碳原子数为4～12的叔烷基或2-四氢吡喃基，更优选碳原子数为4～8的叔烷基或2-四氢吡喃基，进一步优选为叔丁基或2-四氢吡喃基，特别优选叔丁基。

另外，式(IIb)中的R⁴优选碳原子数为4～12的叔烷基、2-四氢吡喃基、叔丁氧基羰基，更优选碳原子数为4～12的叔烷基或2-四氢吡喃基，进一步优选为叔丁基或2-四氢吡喃基，特别优选为2-四氢吡喃基。

式(IIb)中，Ar²表示二价的芳香族基团，其在芳香环上具有OCH(OR¹)(R²)。

式(IIb)中的Ar²的优选的形态与上述式(IIa)中的Ar¹的优选的形态相同。

具有酸分解性基团的结构单元优选含有上述式(IIa)表示的被保护的羧基和/或上述式(IIb)表示的被保护的酚性羟基。

作为通过使羧基被保护而能够形成具有上述式(IIa)表示的结构的单体单元的羧酸单体，只要是通过使羧基被保护而能够成为具有酸分解性基团的结构单元的单体即可使用，例如，可优选列举出式(1a)的说明中上面叙述的羧酸单体。

作为通过使酚性羟基被保护而能够形成具有上述式(IIb)表示的结构的单体单元的具有酚性羟基的单体，只要是通过使酚性羟基被保护而能够成为具有酸分解性基团的结构单元的单体即可使用，例如，可优选列举出式(1b)的说明中上面叙述的具有酚性羟基的单体。

这些结构中，作为具有酸分解性基团的结构单元，特别优选为下述式(VI)表示的结构单元。

式(VI)中，R⁷表示叔烷基，R⁸表示氢原子或甲基。

此外，式(VI)中，R⁷的优选的形态与式(IIa)中的R³的优选的形态相同。

作为用于形成式(VI)表示的结构单元所采用的自由基聚合性单体的优选的具体例子，可列举出例如甲基丙烯酸叔丁酯、丙烯酸叔丁酯、甲基丙烯酸2-甲基-2-金刚烷酯、丙烯酸2-甲基-2-金刚烷酯、甲基丙烯酸1-甲基环己酯、丙烯酸1-甲基环己酯等，特别优选甲基丙烯酸叔丁酯、丙烯酸叔丁酯。这些结构单元可以单独使用1种，也可以2种以上组合使用。

作为具有酸分解性基团的结构单元的优选的具体例子，可例示出下述单体单元。

构成成分B的总单体单元中，用于形成具有酸分解性基团的结构单元的单体单元的含量优选为5～60摩尔％，进一步优选为10～50摩尔％，特别优选为10～40摩尔％。如果是上述的比例，能够得到高感度且曝光宽容度宽的感光性树脂组合物。

<具有能与羧基或酚性羟基反应而形成共价键的官能团的结构单元>

作为能与羧基或酚性羟基反应而形成共价键的官能团，可以列举出环氧基、氧杂环丁烷基、酸酐基、酰卤基、异氰酸酯基，优选使用含有这些官能团的自由基聚合性单体来合成成分B。这些官能团中，优选环氧基和/或氧杂环丁烷基。

作为上述具有环氧基和/或氧杂环丁烷基的结构单元，优选为具有脂环环氧基和/或氧杂环丁烷基的结构单元、更优选为具有氧杂环丁烷基的结构单元。

脂环环氧基是脂肪族环与环氧环形成稠环而成的基团，具体而言，优选可列举出例如3，4-环氧环己基、2，3-环氧环己基、2，3-环氧环戊基等。

作为具有氧杂环丁烷基的基团，只要具有氧杂环丁烷环，则没有特别限制，可以优选例示出(3-乙基氧杂环丁烷-3-基)甲基。

具有环氧基和/或氧杂环丁烷基的结构单元可以在1个结构单元中具有至少1个环氧基或氧杂环丁烷基，也可以具有1个以上的环氧基和1个以上的氧杂环丁烷基、2个以上的环氧基或2个以上的氧杂环丁烷基，没有特别限定，但优选总计具有1～3个环氧基和/或氧杂环丁烷基，更优选总计具有1或2个环氧基和/或氧杂环丁烷基，进一步优选具有1个环氧基或氧杂环丁烷基。

作为用于形成具有环氧基的结构单元所采用的自由基聚合性单体的具体例子，可列举出例如丙烯酸缩水甘油酯、甲基丙烯酸缩水甘油酯、α-乙基丙烯酸缩水甘油酯、α-正丙基丙烯酸缩水甘油酯、α-正丁基丙烯酸缩水甘油酯、丙烯酸-3，4-环氧丁基酯、甲基丙烯酸-3，4-环氧丁基酯、丙烯酸-6，7-环氧庚基酯、甲基丙烯酸-6，7-环氧庚基酯、α-乙基丙烯酸-6，7-环氧庚基酯、邻乙烯基苄基缩水甘油基醚、间乙烯基苄基缩水甘油基醚、对乙烯基苄基缩水甘油基醚、日本专利第4168443号公报的段落0031～0035中记载的含有脂环式环氧骨架的化合物等。

作为用于形成具有氧杂环丁烷基的结构单元所采用的自由基聚合性单体的例子，可列举出例如日本特开2001-330953号公报的段落0011～0016中记载的具有氧杂环丁烷基的(甲基)丙烯酸酯等。

作为用于形成具有环氧基和/或氧杂环丁烷基的结构单元所采用的自由基聚合性单体的例子，优选为含有甲基丙烯酸酯结构的单体、含有丙烯酸酯结构的单体。

这些单体中，作为进一步优选的单体，为日本专利第4168443号公报的段落0034～0035中记载的含有脂环式环氧骨架的化合物和日本特开2001-330953号公报的段落0011～0016中记载的具有氧杂环丁烷基的(甲基)丙烯酸酯；作为特别优选的单体，为日本特开2001-330953号公报的段落0011～0016中记载的具有氧杂环丁烷基的(甲基)丙烯酸酯。其中，优选的单体是丙烯酸3，4-环氧环己基甲酯、甲基丙烯酸3，4-环氧环己基甲酯、丙烯酸(3-乙基氧杂环丁烷-3-基)甲酯和甲基丙烯酸(3-乙基氧杂环丁烷-3-基)甲酯；最优选的单体是丙烯酸(3-乙基氧杂环丁烷-3-基)甲酯和甲基丙烯酸(3-乙基氧杂环丁烷-3-基)甲酯。这些结构单元可以单独使用1种，也可以2种以上组合使用。

作为具有能与羧基或酚性羟基反应而形成共价键的官能团的结构单元的优选的具体例子，可例示出下述的结构单元。

在构成成分B的总单体单元中，用于形成具有能与羧基或酚性羟基反应而形成共价键的官能团的结构单元的单体单元的含有率优选为10～80摩尔％，进一步优选为15～70摩尔％，特别优选为20～65摩尔％。通过以上述比例含有，固化膜的物性变得良好。

上述结构单元中，在感光性组合物的贮藏稳定性优良方面，特别优选具有氧杂环丁烷基的结构单元。

<其他的结构单元>

在不妨碍本发明的效果的范围内，成分B可以含有上述结构单元以外的其他的结构单元。作为其他的结构单元，可以优选例示出具有羧基和/或酚性羟基的结构单元。

[具有羧基和/或酚性羟基的结构单元]

在成分B不会成为碱可溶性的范围内，成分B可以含有具有羧基和/或酚性羟基的结构单元。羧基也包含羧酸酐残基。作为用于形成具有羧基的结构单元所采用的自由基聚合性单体，例如优选为(甲基)丙烯酸、巴豆酸等单羧酸；马来酸、富马酸、柠康酸、中康酸、衣康酸等二羧酸。另外，作为用于形成具有羧酸酐残基的结构单元所采用的自由基聚合性单体，例如优选为马来酸酐、衣康酸酐等。作为用于形成具有酚性羟基的结构单元的自由基聚合性单体，例如优选为对羟基苯乙烯、α-甲基-对羟基苯乙烯等羟基苯乙烯类、日本特开2008-40183号公报的段落0011～0016中记载的化合物等。其中，更优选为(甲基)丙烯酸、羟基苯乙烯类。这些结构单元可以单独使用1种，也可以2种以上组合使用。

作为优选的具体例，可以例示出下述的结构单元。此外，R表示氢原子或甲基。

从获得优良的感度和显影性出发，在构成上述成分B的总单体单元中，用于形成具有羧基和/或酚性羟基的结构单元的单体单元的含有率优选为0～20摩尔％，更优选为5～15摩尔％。

另外，作为用于形成其他结构单元的自由基聚合性单体，可列举出例如日本特开2004-264623号公报的段落0021～0024中记载的化合物。

其中，从提高电特性的观点出发，优选(甲基)丙烯酸二环戊烯基酯、(甲基)丙烯酸环己基酯、丙烯酸环己基酯等含有脂环结构的(甲基)丙烯酸酯类。另外，从透明性的观点出发，优选(甲基)丙烯酸甲酯。另外，从耐侵蚀性的观点出发，优选苯乙烯或α-甲基苯乙烯、氯甲基苯乙烯、乙酰氧基苯乙烯等苯乙烯类。

对于成分B，作为其他的结构单元，优选具有来自于选自马来酰亚胺衍生物、(甲基)丙烯酸和含有羟基的(甲基)丙烯酸酯化合物中的至少1种化合物的结构单元。

作为马来酰亚胺衍生物，优选N-丁基马来酰亚胺、N-环己基马来酰亚胺。

作为含有羟基的(甲基)丙烯酸酯化合物，优选(甲基)丙烯酸羟基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸3-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸4-羟基丁酯。

在构成成分B的总单体单元中，用于形成其他的结构单元的单体单元的含有率优选为0～50摩尔％，更优选为0～45摩尔％，特别优选为5～40摩尔％。通过以上述的比例含有，固化膜的物性变得良好。

成分B的重均分子量优选为1,000～100,000，更优选为2,000～50,000。

以下，作为成分B，例示出优选的例子，但本发明并不限定于此。

此外，下述所例示的成分B的重均分子量优选为2,000～50,000。

甲基丙烯酸1-乙氧基乙酯/甲基丙烯酸叔丁酯/甲基丙烯酸缩水甘油酯共聚物

甲基丙烯酸四氢-2H-呋喃-2-基酯/甲基丙烯酸叔丁酯/甲基丙烯酸缩水甘油酯/甲基丙烯酸共聚物

甲基丙烯酸1-乙氧基乙酯/甲基丙烯酸四氢-2H-吡喃-2-基酯/甲基丙烯酸缩水甘油酯/甲基丙烯酸共聚物

甲基丙烯酸1-乙氧基乙酯/甲基丙烯酸四氢-2H-吡喃-2-基酯/甲基丙烯酸3，4-环氧环己基甲酯/4-羟基苯甲酸(3-甲基丙烯酰氧基丙基)酯共聚物

甲基丙烯酸1-乙氧基乙酯/甲基丙烯酸四氢-2H-吡喃-2-基酯/甲基丙烯酸3，4-环氧环己基甲酯/4-羟基苯甲酸(3-甲基丙烯酰氧基丙基)酯/甲基丙烯酸2-羟基乙酯共聚物

甲基丙烯酸1-乙氧基乙酯/甲基丙烯酸2-甲基-2-金刚烷酯/甲基丙烯酸(3-乙基氧杂环丁烷-3-基)甲酯/4-羟基苯甲酸(3-甲基丙烯酰氧基丙基)酯共聚物

甲基丙烯酸1-乙氧基乙酯/甲基丙烯酸1-甲基-1-环己基酯/甲基丙烯酸(3-乙基氧杂环丁烷-3-基)甲酯/4-羟基苯甲酸(3-甲基丙烯酰氧基丙基)酯共聚物

甲基丙烯酸1-乙氧基乙酯/甲基丙烯酸四氢-2H-吡喃-2-基酯/甲基丙烯酸(3-乙基氧杂环丁烷-3-基)甲酯/4-羟基苯甲酸(3-甲基丙烯酰氧基丙基)酯共聚物

甲基丙烯酸1-乙氧基乙酯/甲基丙烯酸四氢-2H-吡喃-2-基酯/甲基丙烯酸(3-乙基氧杂环丁烷-3-基)甲酯/4-羟基苯甲酸(3-甲基丙烯酰氧基丙基)酯/甲基丙烯酸2-羟基乙酯共聚物

甲基丙烯酸1-乙氧基乙酯/N-环己基马来酰亚胺/甲基丙烯酸缩水甘油酯/甲基丙烯酸共聚物

甲基丙烯酸1-乙氧基乙酯/甲基丙烯酸/甲基丙烯酸(3-乙基氧杂环丁烷-3-基)甲酯/甲基丙烯酸2-羟基乙酯共聚物

甲基丙烯酸1-乙氧基乙酯/甲基丙烯酸/甲基丙烯酸缩水甘油酯/甲基丙烯酸2-羟基乙酯共聚物

甲基丙烯酸1-乙氧基乙酯/甲基丙烯酸/甲基丙烯酸缩水甘油酯/甲基丙烯酸2-羟基乙酯/苯乙烯共聚物

甲基丙烯酸1-环己基氧基乙基酯/甲基丙烯酸/甲基丙烯酸缩水甘油酯/甲基丙烯酸2-羟基乙酯/苯乙烯共聚物

甲基丙烯酸四氢呋喃-2-基酯/甲基丙烯酸/甲基丙烯酸缩水甘油酯/甲基丙烯酸2-羟基乙酯/苯乙烯共聚物

甲基丙烯酸四氢-2H-吡喃-2-基酯/甲基丙烯酸/甲基丙烯酸缩水甘油酯/甲基丙烯酸2-羟基乙酯/苯乙烯共聚物

甲基丙烯酸四氢呋喃-2-基酯/甲基丙烯酸/甲基丙烯酸(3-乙基氧杂环丁烷-3-基)甲酯/甲基丙烯酸2-羟基乙酯共聚物

成分B可以单独使用1种，也可以2种以上组合使用。

本发明的感光性树脂组合物中的成分B的含量是，相对于感光性树脂组合物的总固体成分，优选为20～99重量％、更优选为40～97重量％、进一步优选为60～95重量％。当含量在该范围时，显影时的图案形成性变得良好。此外，感光性树脂组合物的固体成分量表示除去了溶剂等挥发性成分后的量。

此外，本发明的感光性树脂组合物中，在不妨碍本发明的效果的范围内，还可以并用成分B以外的树脂。不过，从显影性的观点出发，成分B以外的树脂的含量优选比成分A的含量少。

(成分C)光产酸剂

本发明的感光性树脂组合物含有(成分C)光产酸剂。

作为成分C，可以使用公知的光产酸剂。

作为本发明中使用的光产酸剂，优选为对波长为300nm以上、更优选波长为300～450nm的活性光线发生感应而产生酸的化合物，对其化学结构没有限制。另外，对于例如对波长为300nm以上的活性光线不直接发生感应的光产酸剂，只要是通过与增感剂并用就能够对波长为300nm以上的活性光线发生感应并产生酸的化合物，就也可以与增感剂组合而优选地使用。

作为本发明中使用的光产酸剂，优选为产生pKa为4以下的酸的光产酸剂、更优选为产生pKa为3以下的酸的光产酸剂。

作为光产酸剂的例子，可列举出三氯甲基-s-三嗪类、硫鎓盐或碘鎓盐、季铵盐类、重氮甲烷化合物、酰亚胺磺酸酯化合物和肟磺酸酯化合物等。其中，从绝缘性和感度的观点出发，优选使用肟磺酸酯化合物。

这些光产酸剂可以单独使用1种，也可以2种以上组合使用。

作为肟磺酸酯化合物即具有肟磺酸酯残基的化合物，优选可例示出含有式(B1)的肟磺酸酯残基的化合物。

式(B1)中，R⁵表示烷基、烷氧基、芳基或卤素原子。

作为R⁵的烷基，优选碳原子数为1～10的直链状或支链状烷基。R⁵的烷基可以被卤素原子(氟原子、氯原子、溴原子、碘原子)、氰基、硝基、碳原子数为6～11的芳基、碳原子数为1～10的烷氧基或环烷基(包含7，7-二甲基-2-氧杂降冰片基等有桥式脂环基、优选双环烷基等)取代。

作为R⁵的烷氧基，优选碳原子数为1～4的直链状或支链状的烷氧基，优选甲氧基或乙氧基。该烷氧基可以与烷基一样被取代。

作为R⁵的芳基，优选碳原子数为6～11的芳基，更优选苯基或萘基。R⁵的芳基可以被碳原子数为1～5的烷基、烷氧基或卤素原子取代。

含有式(B1)表示的肟磺酸酯残基的化合物更优选为式(B2)表示的肟磺酸酯化合物。

(式(B2)中，R⁵与式(B1)中的R⁵的定义相同，X表示烷基、烷氧基或卤素原子，m表示0～3的整数，当m为2或3时，多个X可以相同也可以不同。)

X中的烷基优选碳原子数为1～4的直链状或支链状烷基。烷氧基优选碳原子数为1～4的直链状或支链状烷氧基。卤素原子优选为氯原子或氟原子。

m优选为0或1。

式(B2)中，特别优选m为1、X为甲基、X的取代位置为邻位、R⁵为碳原子数为1～10的直链状烷基、7，7-二甲基-2-氧杂降冰片基甲基或对甲苯酰基的化合物。

含有式(B1)表示的肟磺酸酯残基的化合物更优选为式(B3)表示的肟磺酸酯化合物。

(式(B3)中，R⁵与式(B1)中的R⁵的定义相同，X’表示卤素原子、羟基、碳原子数为1～4的烷基、碳原子数为1～4的烷氧基或硝基，L表示0～5的整数。)

作为式(B3)中的R⁵，优选为甲基、乙基、正丙基、正丁基、正辛基、三氟甲基、五氟乙基、全氟正丙基、全氟正丁基、对甲苯基、4-氯苯基或五氟苯基，特别优选正辛基。

作为X’，优选碳原子数为1～5的烷氧基，更优选为甲氧基。

作为L，优选为0～2的整数，特别优选为0或1。

作为肟磺酸酯化合物的具体例子，可列举出(i)～(vii)，它们可以1种单独使用或2种以上并用。化合物(i)～(vii)可以以市售品的形式获得。另外，还可以与其他种类的光产酸剂组合使用。

作为具有至少一个上述式(B1)表示的肟磺酸酯残基的化合物，优选为下述式(OS-3)、式(OS-4)或式(OS-5)表示的肟磺酸酯化合物。

(式(OS-3)～式(OS-5)中，R¹表示烷基、芳基或杂芳基，多个存在的R²各自独立地表示氢原子、烷基、芳基或卤素原子，多个存在的R⁶各自独立地表示卤素原子、烷基、烷氧基、磺酸基、氨基磺酰基或烷氧基磺酰基，X表示O或S，n表示1或2，m表示0～6的整数。)

上述式(OS-3)～(OS-5)中，R¹表示的烷基、芳基或杂芳基可以具有取代基。

上述式(OS-3)～(OS-5)中，作为R¹表示的烷基，优选为可以具有取代基的总碳原子数为1～30的烷基。

作为R¹表示的烷基可具有的取代基，可列举出卤素原子、烷氧基、芳氧基、烷基硫基、芳基硫基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氨基羰基。

上述式(OS-3)～(OS-5)中，作为R¹表示的烷基，可列举出甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、叔丁基、正戊基、正己基、正辛基、正癸基、正十二烷基、三氟甲基、全氟丙基、全氟己基、苄基等。

另外，上述式(OS-3)～(OS-5)中，作为R¹表示的芳基，优选为可以具有取代基的总碳原子数为6～30的芳基。

作为R¹表示的芳基可具有的取代基，可列举出卤素原子、烷基、烷氧基、芳氧基、烷基硫基、芳基硫基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氨基羰基、磺酸基、氨基磺酰基、烷氧基磺酰基。

作为R¹表示的芳基，优选苯基、对甲基苯基、对氯苯基、五氯苯基、五氟苯基、邻甲氧基苯基、对苯氧基苯基。

另外，上述式(OS-3)～(OS-5)中，作为R¹表示的杂芳基，优选为可具有取代基的总碳原子数为4～30的杂芳基。

作为R¹表示的杂芳基可具有的取代基，可列举出卤素原子、烷基、烷氧基、芳氧基、烷基硫基、芳基硫基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氨基羰基、磺酸基、氨基磺酰基、烷氧基磺酰基。

上述式(OS-3)～(OS-5)中，R¹表示的杂芳基优选具有至少1个杂芳香环，例如可以是杂芳香环与苯环的稠环。

作为R¹表示的杂芳基，可列举出从选自可具有取代基的噻吩环、吡咯环、噻唑环、咪唑环、呋喃环、苯并噻吩环、苯并噻唑环和苯并咪唑环中的环中除去了1个氢原子后得到的基团。

上述式(OS-3)～(OS-5)中，R²优选为氢原子、烷基或芳基，更优选为氢原子或烷基。

上述式(OS-3)～(OS-5)中，化合物中存在的2个以上的R²中的1个或2个优选为烷基、芳基或卤素原子，更优选其中的1个为烷基、芳基或卤素原子，特别优选其中的1个为烷基且剩余的为氢原子。

上述式(OS-3)～(OS-5)中，R²表示的烷基或芳基可以具有取代基。

作为R²表示的烷基或芳基可具有的取代基，可例示出与上述R¹中的烷基或芳基可具有的取代基同样的基团。

上述式(OS-3)～(OS-5)中，作为R²表示的烷基，优选为可具有取代基的总碳原子数为1～12的烷基、更优选为可具有取代基的总碳原子数为1～6的烷基。

作为R²表示的烷基，优选为甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、正己基、烯丙基、氯甲基、溴甲基、甲氧基甲基、苄基，更优选甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、正己基，进一步优选甲基、乙基、正丙基、正丁基、正己基，特别优选甲基。

上述式(OS-3)～(OS-5)中，作为R²表示的芳基，优选为可具有取代基的总碳原子数为6～30的芳基。

作为R²表示的芳基，优选苯基、对甲基苯基、邻氯苯基、对氯苯基、邻甲氧基苯基、对苯氧基苯基。

作为R²表示的卤素原子，可列举出氟原子、氯原子、溴原子、碘原子。其中，优选氯原子、溴原子。

上述式(OS-3)～(OS-5)中，X表示O或S，优选为O。

上述式(OS-3)～(OS-5)中，含有X作为环成员的环为5元环或6元环。

上述式(OS-3)～(OS-5)中，n表示1或2，当X为O时，n优选为1；另外，当X为S时，n优选为2。

上述式(OS-3)～(OS-5)中，R⁶表示的烷基和烷氧基可以具有取代基。

上述通式(OS-3)～(OS-5)中，作为R⁶表示的烷基，优选为可具有取代基的总碳原子数为1～30的烷基。

作为R⁶表示的烷基可具有的取代基，可列举出卤素原子、烷氧基、芳氧基、烷基硫基、芳基硫基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氨基羰基。

上述式(OS-3)～(OS-5)中，作为R⁶表示的烷基，优选甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、叔丁基、正戊基、正己基、正辛基、正癸基、正十二烷基、三氟甲基、全氟丙基、全氟己基、苄基。

上述式(OS-3)～(OS-5)中，作为R⁶表示的烷氧基，优选为可具有取代基的总碳原子数为1～30的烷氧基。

作为R⁶表示的烷氧基可具有的取代基，可列举出卤素原子、烷氧基、芳氧基、烷基硫基、芳基硫基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氨基羰基。

上述式(OS-3)～(OS-5)中，作为R⁶表示的烷氧基，优选甲氧基、乙氧基、丁氧基、己氧基、苯氧基乙氧基、三氯甲氧基或乙氧基乙基氧基。

作为R⁶中的氨基磺酰基，可列举出甲基氨基磺酰基、二甲基氨基磺酰基、苯基氨基磺酰基、甲基苯基氨基磺酰基、氨基磺酰基。

作为R⁶表示的烷氧基磺酰基，可列举出甲氧基磺酰基、乙氧基磺酰基、丙氧基磺酰基、丁氧基磺酰基。

另外，上述式(OS-3)～(OS-5)中、m表示0～6的整数，优选为0～2的整数，更优选为0或1，特别优选为0。

另外，上述式(OS-3)表示的化合物特别优选为下述式(OS-6)、式(OS-10)或式(OS-11)表示的化合物，上述式(OS-4)表示的化合物特别优选为下述式(OS-7)表示的化合物，上述式(OS-5)表示的化合物特别优选为下述式(OS-8)或式(OS-9)表示的化合物。

(式(OS-6)～式(OS-11)中，R¹表示烷基、芳基或杂芳基，R⁷表示氢原子或溴原子，R⁸表示氢原子、碳原子数为1～8的烷基、卤素原子、氯甲基、溴甲基、溴乙基、甲氧基甲基、苯基或氯苯基，R⁹表示氢原子、卤素原子、甲基或甲氧基，R¹⁰表示氢原子或甲基。)

上述式(OS-6)～式(OS-11)中的R¹与上述式(OS-3)～式(OS-5)中的R¹的定义相同，优选的形态也相同。

上述式(OS-6)中的R⁷表示氢原子或溴原子，优选为氢原子。

上述式(OS-6)～式(OS-11)中的R⁸表示氢原子、碳原子数为1～8的烷基、卤素原子、氯甲基、溴甲基、溴乙基、甲氧基甲基、苯基或氯苯基，优选碳原子数为1～8的烷基、卤素原子或苯基，更优选碳原子数为1～8的烷基，进一步优选碳原子数为1～6的烷基，特别优选为甲基。

上述式(OS-8)和式(OS-9)中的R⁹表示氢原子、卤素原子、甲基或甲氧基，优选为氢原子。

上述式(OS-8)～式(OS-11)中的R¹⁰表示氢原子或甲基，优选为氢原子。

另外，在上述肟磺酸酯化合物中，关于肟的立体结构(E、Z)，可以是任一种，也可以是混合物。

作为上述式(OS-3)～式(OS-5)表示的肟磺酸酯化合物的具体例子，可列举出下述示例化合物，但本发明并不限定于此。

作为具有至少一个上述式(B1)表示的肟磺酸酯基的肟磺酸酯化合物的优选的其他形态，可以列举出下述式(OS-1)表示的化合物。

上述式(OS-1)中，R¹表示氢原子、烷基、链烯基、烷氧基、烷氧基羰基、酰基、氨基甲酰基、氨磺酰基、磺基、氰基、芳基或杂芳基。R²表示烷基或芳基。

X表示-O-、-S-、-NH-、-NR⁵-、-CH₂-、-CR⁶H-或-CR⁶R⁷-，R⁵～R⁷表示烷基或芳基。

R²¹～R²⁴各自独立地表示氢原子、卤素原子、烷基、链烯基、烷氧基、氨基、烷氧基羰基、烷基羰基、芳基羰基、酰胺基、磺基、氰基或芳基。R²¹～R²⁴中的2个可以分别相互键合而形成环。

作为R²¹～R²⁴，优选为氢原子、卤素原子和烷基，另外还可优选列举出R²¹～R²⁴中的至少2个相互键合而形成芳基的形态。其中，从感度的观点出发，优选R²¹～R²⁴均为氢原子的形态。

上述的取代基均可进一步具有取代基。

上述式(OS-1)表示的化合物更优选为下述式(OS-2)表示的化合物。

上述式(OS-2)中，R¹、R²、R²¹～R²⁴分别与通式(OS-1)中的R¹、R²、R²¹～R²⁴的定义相同，优选的例子也相同。

这些之中，式(OS-1)和式(OS-2)中的R¹更优选为氰基或芳基的形态，最优选为由式(OS-2)表示且R¹为氰基、苯基或萘基的形态。

另外，在上述肟磺酸酯化合物中，关于肟或苯并噻唑环的立体结构(E、Z等)，可以分别是任一个，也可以是混合物。

以下示出本发明中可优选使用的上述式(OS-1)表示的化合物的具体例子(例示化合物b-1～b-34)，但本发明并不限定于此。此外，具体例中，Me表示甲基、Et表示乙基、Bn表示苄基、Ph表示苯基。

上述化合物中，从兼顾感度和稳定性的观点出发，优选b-9、b-16、b-31、b-33。

具有至少一个由上述式(B1)表示的肟磺酸酯残基的肟磺酸酯化合物优选是下述式(2)表示的化合物。

R^1A-C(R^2A)＝N-O-SO₂-R^3A        (2)

式(2)中，R^1A表示碳原子数为1～6的烷基、碳原子数为1～4的卤化烷基、苯基、联苯基、萘基、2-呋喃基、2-噻吩基、碳原子数为1～4的烷氧基或氰基，R^1A为苯基、联苯基、萘基或蒽基时，上述基团可以被选自卤素原子、羟基、碳原子数为1～4的烷基、碳原子数为1～4的烷氧基和硝基中的取代基所取代。R^2A表示碳原子数为1～10的烷基、碳原子数为1～10的烷氧基、碳原子数为1～5的卤化烷基、碳原子数为1～5的卤化烷氧基、可以被W取代的苯基、可以被W取代的萘基或可以被W取代的蒽基、二烷基氨基、吗啉基或氰基。R^2A和R^1A可以相互键合而形成5元环或6元环，该5元环或6元环可以与可具有1个或2个的任意取代基的苯环相键合。R^3A表示碳原子数为1～10的烷基、碳原子数为1～10的烷氧基、碳原子数为1～5的卤化烷基、碳原子数为1～5的卤化烷氧基、可以被W取代的苯基、可以被W取代的萘基或可以被W取代的蒽基。W表示卤素原子、氰基、硝基、碳原子数为1～10的烷基、碳原子数为1～10的烷氧基、碳原子数为1～5的卤化烷基或碳原子数为1～5的卤化烷氧基。

R^1A表示的碳原子数为1～6的烷基可以是直链或支链烷基，可以列举出例如甲基、乙基、丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、叔丁基、正戊基、异戊基、正己基或2-乙基丁基。

作为R^1A表示的碳原子数为1～4的卤化烷基，可以列举出例如氯甲基、三氯甲基、三氟甲基或2-溴丙基。

作为R^1A表示的碳原子数为1～4的烷氧基，可以列举出甲氧基或乙氧基。

R^1A表示苯基、联苯基、萘基或蒽基时，上述基团可以被选自卤素原子(例如氯原子、溴原子、碘原子等)、羟基、碳原子数为1～4的烷基(例如甲基、乙基、丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、叔丁基)、碳原子数为1～4的烷氧基(例如甲氧基、乙氧基、正丙氧基、异丙氧基、正丁氧基)和硝基中的取代基所取代。

作为R^2A表示的碳原子数为1～10的烷基的具体例，可以列举出甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、正戊基、异戊基、仲戊基、正己基、正庚基、正辛基、正壬基、正癸基等。

作为R^2A表示的碳原子数为1～10的烷氧基的具体例，可以列举出甲氧基、乙氧基、正丙氧基、异丙氧基、正丁氧基、正戊氧基、正辛氧基、正癸氧基等。

作为R^2A表示的碳原子数为1～5的卤化烷基的具体例，可以列举出三氟甲基、五氟乙基、全氟正丙基、全氟正丁基、全氟正戊基等。

作为R^2A表示的碳原子数为1～5的卤化烷氧基的具体例，可以列举出三氟甲氧基、五氟乙氧基、全氟正丙氧基、全氟正丁氧基、全氟正戊氧基等。

作为R^2A表示的可以被W取代的苯基的具体例，可以列举出邻甲苯基、间甲苯基、对甲苯基、邻乙基苯基、间乙基苯基、对乙基苯基、对(正丙基)苯基、对(异丙基)苯基、对(正丁基)苯基、对(异丁基)苯基、对(仲丁基)苯基、对(叔丁基)苯基、对(正戊基)苯基、对(异戊基)苯基、对(叔戊基)苯基、邻甲氧基苯基、间甲氧基苯基、对甲氧基苯基、邻乙氧基苯基、间乙氧基苯基、对乙氧基苯基、对(正丙氧基)苯基、对(异丙氧基)苯基、对(正丁氧基)苯基、对(异丁氧基)苯基、对(仲丁氧基)苯基、对(叔丁氧基)苯基、对(正戊氧基)苯基、对(异戊氧基)苯基、对(叔戊氧基)苯基、对氯苯基、对溴苯基、对氟苯基、2，4-二氯苯基、2，4-二溴苯基、2，4-二氟苯基、2，4，6-二氯苯基、2，4，6-三溴苯基、2，4，6-三氟苯基、五氯苯基、五溴苯基、五氟苯基、对联苯基等。

作为R^2A表示的可以被W取代的萘基的具体例，可以列举出2-甲基-1-萘基、3-甲基-1-萘基、4-甲基-1-萘基、5-甲基-1-萘基、6-甲基-1-萘基、7-甲基-1-萘基、8-甲基-1-萘基、1-甲基-2-萘基、3-甲基-2-萘基、4-甲基-2-萘基、5-甲基-2-萘基、6-甲基-2-萘基、7-甲基-2-萘基、8-甲基-2-萘基等。

作为R^2A表示的可以被W取代的蒽基的具体例，可以列举出2-甲基-1-蒽基、3-甲基-1-蒽基、4-甲基-1-蒽基、5-甲基-1-蒽基、6-甲基-1-蒽基、7-甲基-1-蒽基、8-甲基-1-蒽基、9-甲基-1-蒽基、10-甲基-1-蒽基、1-甲基-2-蒽基、3-甲基-2-蒽基、4-甲基-2-蒽基、5-甲基-2-蒽基、6-甲基-2-蒽基、7-甲基-2-蒽基、8-甲基-2-蒽基、9-甲基-2-蒽基、10-甲基-2-蒽基等。

作为R^2A表示的二烷基氨基，可以列举出二甲基氨基、二乙基氨基、二丙基氨基、二丁基氨基、二苯基氨基等。

作为R^3A表示的碳原子数为1～10的烷基的具体例，可以列举出甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、正戊基、异戊基、仲戊基、正己基、正庚基、正辛基、正壬基、正癸基等。

作为R^3A表示的碳原子数为1～10的烷氧基的具体例，可以列举出甲氧基、乙氧基、正丙氧基、异丙氧基、正丁氧基、正戊氧基、正辛氧基、正癸氧基等。

作为R^3A表示的碳原子数为1～5的卤化烷基的具体例，可以列举出三氟甲基、五氟乙基、全氟正丙基、全氟正丁基、全氟正戊基等。

作为R^3A表示的碳原子数为1～5的卤化烷氧基的具体例，可以列举出三氟甲氧基、五氟乙氧基、全氟正丙氧基、全氟正丁氧基、全氟正戊氧基等。

作为R^3A表示的可以被W取代的苯基的具体例，可以列举出邻甲苯基、间甲苯基、对甲苯基、邻乙基苯基、间乙基苯基、对乙基苯基、对(正丙基)苯基、对(异丙基)苯基、对(正丁基)苯基、对(异丁基)苯基、对(仲丁基)苯基、对(叔丁基)苯基、对(正戊基)苯基、对(异戊基)苯基、对(叔戊基)苯基、邻甲氧基苯基、间甲氧基苯基、对甲氧基苯基、邻乙氧基苯基、间乙氧基苯基、对乙氧基苯基、对(正丙氧基)苯基、对(异丙氧基)苯基、对(正丁氧基)苯基、对(异丁氧基)苯基、对(仲丁氧基)苯基、对(叔丁氧基)苯基、对(正戊氧基)苯基、对(异戊氧基)苯基、对(叔戊氧基)苯基、对氯苯基、对溴苯基、对氟苯基、2，4-二氯苯基、2，4-二溴苯基、2，4-二氟苯基、2，4，6-二氯苯基、2，4，6-三溴苯基、2，4，6-三氟苯基、五氯苯基、五溴苯基、五氟苯基、对联苯基等。

作为R^3A表示的可以被W取代的萘基的具体例，可以列举出2-甲基-1-萘基、3-甲基-1-萘基、4-甲基-1-萘基、5-甲基-1-萘基、6-甲基-1-萘基、7-甲基-1-萘基、8-甲基-1-萘基、1-甲基-2-萘基、3-甲基-2-萘基、4-甲基-2-萘基、5-甲基-2-萘基、6-甲基-2-萘基、7-甲基-2-萘基、8-甲基-2-萘基等。

作为R^3A表示的可以被W取代的蒽基的具体例，可以列举出2-甲基-1-蒽基、3-甲基-1-蒽基、4-甲基-1-蒽基、5-甲基-1-蒽基、6-甲基-1-蒽基、7-甲基-1-蒽基、8-甲基-1-蒽基、9-甲基-1-蒽基、10-甲基-1-蒽基、1-甲基-2-蒽基、3-甲基-2-蒽基、4-甲基-2-蒽基、5-甲基-2-蒽基、6-甲基-2-蒽基、7-甲基-2-蒽基、8-甲基-2-蒽基、9-甲基-2-蒽基、10-甲基-2-蒽基等。

作为W表示的碳原子数为1～10的烷基、碳原子数为1～10的烷氧基、碳原子数为1～5的卤化烷基和碳原子数为1～5的卤化烷氧基的具体例，可以列举出与作为R^2A或R^3A表示的碳原子数为1～10的烷基、碳原子数为1～10的烷氧基、碳原子数为1～5的卤化烷基和碳原子数为1～5的卤化烷氧基的具体例而列举出的基团相同的基团。

R^2A和R^1A可以相互键合而形成5元环或6元环。

R^2A和R^1A相互键合而形成5元环或6元环时，作为该5元环或6元环，可以列举出碳环式基团和杂环式环基团，例如可以是环戊烷、环己烷、环庚烷、吡咯、呋喃、噻吩、咪唑、噁唑、噻唑、吡喃、吡啶、吡嗪、吗啉、哌啶或哌嗪环。该5元环或6元环可以与可具有任意的取代基的苯环相键合，作为其例子，可以举出四氢化萘、二氢化蒽、茚、色满、芴、呫吨或噻吨环系。该5元环或6元环可以包含羰基，作为其例子，可以举出环己二烯酮、萘酮和蒽酮环系。

式(2)表示的化合物的优选形态之一为上述式(B2)表示的化合物。

作为式(2)表示的光产酸剂的优选形态之一，

R^1A表示碳原子数为1～4的烷基、三氟甲基、苯基、氯代苯基、二氯苯基、甲氧基苯基、4-联苯基、萘基或蒽基；

R^2A表示氰基；

R^3A表示碳原子数为1～10的烷基、碳原子数为1～10的烷氧基、碳原子数为1～5的卤化烷基、碳原子数为1～5的卤化烷氧基、可以被W取代的苯基、可以被W取代的萘基或可以被W取代的蒽基，W表示卤素原子、氰基、硝基、碳原子数为1～10的烷基、碳原子数为1～10的烷氧基、碳原子数为1～5的卤化烷基或碳原子数为1～5的卤化烷氧基。

作为式(2)表示的化合物，优选为上述式(B3)表示的化合物。

在式(2)表示的光产酸剂中，作为上述式(B3)表示的光产酸剂所包含的化合物的优选形态，是式(2)中R^1A表示苯基或4-甲氧基苯基；R^2A表示氰基；R^3A表示甲基、乙基、正丙基、正丁基或4-甲苯基的形态。

以下示出式(2)表示的光产酸剂中、上述式(B3)表示的光产酸剂所包含的化合物的特别优选的例子，但本发明并不限定于此。

α-(甲基磺酰基氧基亚氨基)苯乙腈(R^1A＝苯基、R^2A＝-CN基、R^3A＝甲基)

α-(乙基磺酰基氧基亚氨基)苯乙腈(R^1A＝苯基、R^2A＝-CN基、R^3A＝乙基)

α-(正丙基磺酰基氧基亚氨基)苯乙腈(R^1A＝苯基、R^2A＝-CN基、R^3A＝正丙基)

α-(正丁基磺酰基氧基亚氨基)苯乙腈(R^1A＝苯基、R^2A＝-CN基、R^3A＝正丁基)

α-(4-甲苯磺酰基氧基亚氨基)苯乙腈(R^1A＝苯基、R^2A＝-CN基、R^3A＝4-甲苯基)

α-〔(甲基磺酰基氧基亚氨基)-4-甲氧基苯基〕乙腈(R^1A＝4-甲氧基苯基、R^2A＝-CN基、R^3A＝甲基)

α-〔(乙基磺酰基氧基亚氨基)-4-甲氧基苯基〕乙腈(R^1A＝4-甲氧基苯基、R^2A＝-CN基、R^3A＝乙基)

α-〔(正丙基磺酰基氧基亚氨基)-4-甲氧基苯基〕乙腈(R^1A＝4-甲氧基苯基、R^2A＝-CN基、R^3A＝正丙基)

α-〔(正丁基磺酰基氧基亚氨基)-4-甲氧基苯基〕乙腈(R^1A＝4-甲氧基苯基、R^2A＝-CN基、R^3A＝正丁基)

α-〔(4-甲苯磺酰基氧基亚氨基)-4-甲氧基苯基〕乙腈(R^1A＝4-甲氧基苯基、R^2A＝-CN基、R^3A＝4-甲苯基)

本发明的感光性树脂组合物优选不含1，2-苯醌二叠氮基化合物作为对活性光线发生感应的(成分C)光产酸剂。这是因为，1，2-苯醌二叠氮基化合物通过连串型光化学反应生成羧基，但其量子效率为1以下，与肟磺酸酯化合物相比感度较低。

与此相对，推测肟磺酸酯化合物通过对活性光线发生感应而生成的酸对被保护的酸性基团的脱保护起到催化剂的作用，因此在1个光量子的作用下生成的酸有助于多个脱保护反应，量子效率超过1，例如是10的数次方这样大的值，从而获得所谓的化学放大，其结果是可以得到高感度。

本发明的感光性树脂组合物中，从感度和透明性的观点出发，相对于100重量份的成分B，成分C优选使用0.1～10重量份，更优选使用0.5～10重量份。

(成分D)溶剂

本发明的感光性树脂组合物优选含有(成分D)溶剂。

本发明的感光性树脂组合物优选调制成将必需成分即成分A～成分C、以及后述的任意成分溶解到(成分D)溶剂中而得到的溶液。

作为本发明的感光性树脂组合物中使用的(成分D)溶剂，可列举出例如：(1)乙二醇单甲基醚、乙二醇单乙基醚、乙二醇单丙基醚、乙二醇单丁基醚等乙二醇单烷基醚类；(2)乙二醇二甲基醚、乙二醇二乙基醚、乙二醇二丙基醚等乙二醇二烷基醚类；(3)乙二醇单甲基醚乙酸酯、乙二醇单乙基醚乙酸酯、乙二醇单丙基醚乙酸酯、乙二醇单丁基醚乙酸酯等乙二醇单烷基醚乙酸酯类；(4)丙二醇单甲基醚、丙二醇单乙基醚、丙二醇单丙基醚、丙二醇单丁基醚等丙二醇单烷基醚类；(5)丙二醇二甲基醚、丙二醇二乙基醚、二乙二醇单甲基醚、二乙二醇单乙基醚等丙二醇二烷基醚类；

(6)丙二醇单甲基醚乙酸酯、丙二醇单乙基醚乙酸酯、丙二醇单丙基醚乙酸酯、丙二醇单丁基醚乙酸酯等丙二醇单烷基醚乙酸酯类；(7)二乙二醇二甲基醚、二乙二醇二乙基醚、二乙二醇乙基甲基醚等二乙二醇二烷基醚类；(8)二乙二醇单甲基醚乙酸酯、二乙二醇单乙基醚乙酸酯、二乙二醇单丙基醚乙酸酯、二乙二醇单丁基醚乙酸酯等二乙二醇单烷基醚乙酸酯类；(9)二丙二醇单甲基醚、二丙二醇单乙基醚、二丙二醇单丙基醚、二丙二醇单丁基醚等二丙二醇单烷基醚类；(10)二丙二醇二甲基醚、二丙二醇二乙基醚、二丙二醇乙基甲基醚等二丙二醇二烷基醚类；

(11)二丙二醇单甲基醚乙酸酯、二丙二醇单乙基醚乙酸酯、二丙二醇单丙基醚乙酸酯、二丙二醇单丁基醚乙酸酯等二丙二醇单烷基醚乙酸酯类；(12)乳酸甲酯、乳酸乙酯、乳酸正丙酯、乳酸异丙酯、乳酸正丁酯、乳酸异丁酯、乳酸正戊酯、乳酸异戊酯等乳酸酯类；(13)醋酸正丁酯、醋酸异丁酯、醋酸正戊酯、醋酸异戊酯、醋酸正己酯、醋酸2-乙基己酯、丙酸乙酯、丙酸正丙酯、丙酸异丙酯、丙酸正丁酯、丙酸异丁酯、丁酸甲酯、丁酸乙酯、丁酸乙酯、丁酸正丙酯、丁酸异丙酯、丁酸正丁酯、丁酸异丁酯等脂肪族羧酸酯类；(14)羟基醋酸乙酯、2-羟基-2-甲基丙酸乙酯、2-羟基-3-甲基丁酸乙酯、甲氧基醋酸乙酯、乙氧基醋酸乙酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、3-甲氧基丁基乙酸酯、3-甲基-3-甲氧基丁基乙酸酯、3-甲基-3-甲氧基丁基丙酸酯、3-甲基-3-甲氧基丁基丁酸酯、乙酰乙酸甲酯、乙酰乙酸乙酯、丙酮酸甲酯、丙酮酸乙酯等其他酯类；

(15)甲基乙基酮、甲基丙基酮、甲基正丁基酮、甲基异丁基酮、2-庚酮、3-庚酮、4-庚酮、环己酮等酮类；(16)N-甲基甲酰胺、N，N-二甲基甲酰胺、N-甲基乙酰胺、N，N-二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮等酰胺类；(17)γ-丁内酯等内酯类等。

另外，这些溶剂中根据需要还可以进一步添加苄基乙基醚、二己基醚、乙二醇单苯基醚乙酸酯、二乙二醇单甲基醚、二乙二醇单乙基醚、异佛尔酮、己酸、辛酸、1-辛醇、1-壬醇、苄基醇、苯甲醚、醋酸苄酯、苯甲酸乙酯、草酸二乙酯、马来酸二乙酯、碳酸亚乙酯、碳酸亚丙酯等溶剂。

作为本发明的感光性树脂组合物中使用的溶剂，可以使用公知的溶剂，可例示出乙二醇单烷基醚类、乙二醇二烷基醚类、乙二醇单烷基醚乙酸酯类、丙二醇单烷基醚类、丙二醇二烷基醚类、丙二醇单烷基醚乙酸酯类、丁二醇单烷基醚类、丁二醇单烷基醚乙酸酯类、丁二醇二烷基醚类、丁二醇二烷基醚乙酸酯类、二乙二醇二烷基醚类、二乙二醇单烷基醚乙酸酯类、二丙二醇单烷基醚类、二丙二醇二烷基醚类、二丙二醇单烷基醚乙酸酯类、酯类、酮类、酰胺类、内酯类等。作为本发明的感光性树脂组合物中使用的溶剂，可以列举出例如日本特开2009-258722号公报的段落0074中记载的溶剂。

这些溶剂可以单独使用1种，也可以2种以上混合使用。

本发明中可使用的溶剂优选1种单独使用或2种并用，更优选2种并用，进一步优选丙二醇单烷基醚乙酸酯类、二烷基醚类或二乙酸酯类与二乙二醇二烷基醚类或酯类或丁二醇烷基醚乙酸酯类并用。

另外，作为成分D，优选沸点为130℃以上且低于160℃的溶剂、沸点为160℃以上的溶剂或它们的混合物，更优选沸点为130℃以上且低于160℃的溶剂、沸点为160℃～200℃的溶剂或它们的混合物，进一步优选沸点为130℃以上且低于160℃的溶剂与沸点为160℃～200℃的溶剂的混合物。

作为沸点为130℃以上且低于160℃的溶剂，可以例示出丙二醇单甲基醚乙酸酯(沸点为146℃)、丙二醇单丙基醚(沸点为150℃)、丙二醇单乙基醚乙酸酯(沸点为158℃)、丙二醇甲基正丁基醚(沸点为155℃)、丙二醇甲基正丙基醚(沸点为131℃)。

作为沸点为160℃以上的溶剂，可以例示出3-乙氧基丙酸乙酯(沸点为170℃)、二乙二醇甲基乙基醚(沸点为176℃)、1，3-丁二醇二乙酸酯(沸点为232℃)、丙二醇单甲基醚丙酸酯(沸点为160℃)、二丙二醇甲基醚乙酸酯(沸点为213℃)、3-甲氧基丁基醚乙酸酯(沸点为171℃)、二乙二醇二乙基醚(沸点为189℃)、二乙二醇二甲基醚(沸点为162℃)、丙二醇二乙酸酯(沸点为190℃)、二乙二醇单乙基醚乙酸酯(沸点为220℃)、二丙二醇二甲基醚(沸点为175℃)。

本发明的感光性树脂组合物中的成分D的含量是，相对于100重量份的成分B，优选为50～3,000重量份，更优选为100～2,000重量份，进一步优选为150～1,500重量份。

<其他成分>

本发明的感光性树脂组合物中，可以根据需要加入作为任意成分的以下所述的(成分E)增感剂、(成分F)抗氧化剂、(成分G)交联剂、(成分H)粘附改良剂、(成分I)碱性化合物、(成分J)增塑剂和(成分K)热自由基引发剂以及热产酸剂、紫外线吸收剂、增稠剂和有机或无机的沉淀防止剂等公知的添加剂。

(成分E)增感剂

本发明的正型感光性树脂组合物可以含有(成分E)增感剂。

通过含有增感剂，对提高曝光感度有效，在曝光光源为g，h射线的混合射线时特别有效。

作为增感剂，优选蒽衍生物、吖啶酮衍生物、噻吨酮衍生物、香豆素衍生物、基于苯乙烯基的衍生物、二苯乙烯基苯衍生物。

作为蒽衍生物，优选蒽、9，10-二丁氧基蒽、9，10-二氯代蒽、2-乙基-9，10-二甲氧基蒽、9-羟甲基蒽、9-溴代蒽、9-氯代蒽、9，10-二溴代蒽、2-乙基蒽、9，10-二甲氧基蒽。

作为吖啶酮衍生物，优选吖啶酮、N-丁基-2-氯代吖啶酮、N-甲基吖啶酮、2-甲氧基吖啶酮、N-乙基-2-甲氧基吖啶酮。

作为噻吨酮衍生物，优选噻吨酮、二乙基噻吨酮、1-氯-4-丙氧基噻吨酮、2-氯代噻吨酮。

作为香豆素衍生物，优选香豆素-1、香豆素-6H、香豆素-110、香豆素-102。

作为基于苯乙烯基的衍生物，可以列举出2-(4-二甲基氨基苯乙烯基)苯并噁唑、2-(4-二甲基氨基苯乙烯基)苯并噻唑、2-(4-二甲基氨基苯乙烯基)萘并噻唑。

作为二苯乙烯基苯衍生物，可以列举出二苯乙烯基苯、二(4-甲氧基苯乙烯基)苯、二(3，4，5-三甲氧基苯乙烯基)苯。

其中，优选蒽衍生物，更优选9，10-二烷氧基蒽(烷氧基的碳原子数为1～6)。

作为增感剂的具体例子，可以举出下述化合物。此外，在下述中，Me表示甲基，Et表示乙基，Bu表示丁基。

本发明的正型感光性树脂组合物中的成分E的含量是，相对于100重量份的成分B，优选为0.1～10重量份，更优选为0.5～10重量份。成分E的含量为0.1重量份以上时，容易得到期望的感度，另外，成分E的含量为10重量份以下时，容易确保涂膜的透明性。

(成分F)抗氧化剂

本发明的感光性树脂组合物优选含有(成分F)抗氧化剂。

作为成分F，可以含有公知的抗氧化剂。通过添加成分F，能够防止固化膜的着色或者降低分解所导致的膜厚减少，另外，具有耐热透明性优异的优点。

作为这样的抗氧化剂，可列举出例如磷系抗氧化剂、酰肼类、受阻胺系抗氧化剂、硫系抗氧化剂、酚系抗氧化剂、抗坏血酸类、硫酸锌、糖类、亚硝酸盐、亚硫酸盐、硫代硫酸盐、羟胺衍生物等。其中，从固化膜的着色、膜厚减少的观点出发，特别优选酚系抗氧化剂。它们可以1种单独使用，也可以2种以上混合使用。

作为酚系抗氧化剂的市售品，可列举出例如Adekastab AO-60(株式会社艾迪科制)、Adekastab AO-80(株式会社艾迪科制)、Irganox 1098(CibaJapan株式会社制)。

成分F的含量是，相对于感光性树脂组合物的总固体成分优选为0.1～6重量％，更优选为0.2～5重量％，特别优选为0.5～4重量％。通过设定在该范围，所形成的膜能够获得充分的透明性、且图案形成时的感度也变得良好。

另外，作为除抗氧化剂以外的添加剂，还可以在本发明的感光性树脂组合物中添加“高分子添加剤の新展開((株)日刊工業新聞社)”中记载的各种紫外线吸收剂或金属钝化剂等。

(成分G)交联剂

本发明的感光性树脂组合物优选含有(成分G)交联剂。

作为交联剂，可以添加例如以下所述的在分子内具有2个以上的环氧基或氧杂环丁烷基的化合物、含有烷氧基甲基的交联剂、具有至少1个烯键式不饱和双键的化合物。通过添加交联剂，能够将固化膜制成更坚固的膜。

<在分子内具有2个以上的环氧基或氧杂环丁烷基的化合物>

作为在分子内具有2个以上的环氧基的化合物的具体例子，可列举出双酚A型环氧树脂、双酚F型环氧树脂、苯酚酚醛清漆型环氧树脂、甲酚酚醛清漆型环氧树脂、脂肪族环氧树脂等。

这些化合物可以以市售品的形式获得。例如，作为双酚A型环氧树脂，可列举出JER827、JER828、JER834、JER1001、JER1002、JER1003、JER1055、JER1007、JER1009、JER1010(以上为Japan Epoxy Resins株式会社制)等。它们可以单独使用1种，也可以2种以上组合使用。

其中，作为优选的化合物，可列举出双酚A型环氧树脂、双酚F型环氧树脂、苯酚酚醛清漆型环氧树脂。特别优选双酚A型环氧树脂。

作为在分子内具有2个以上的氧杂环丁烷基的化合物的具体例子，可以使用ARON OXETANE OXT-121、OXT-221、OX-SQ、PNOX(以上为东亚合成株式会社制)。

另外，含有氧杂环丁烷基的化合物可以单独使用，也可以与含有环氧基的化合物混合使用。

在分子内具有2个以上的环氧基或氧杂环丁烷基的化合物在感光性树脂组合物中的添加量是，当将成分B的总量设为100重量份时，优选为1～50重量份，更优选为3～30重量份。

<含有烷氧基甲基的交联剂>

作为含有烷氧基甲基的交联剂，优选烷氧基甲基化三聚氰胺、烷氧基甲基化苯并胍胺、烷氧基甲基化甘脲和烷氧基甲基化尿素等。这些交联剂可以分别通过将羟甲基化三聚氰胺、羟甲基化苯并胍胺、羟甲基化甘脲或羟甲基化尿素的羟甲基变换为烷氧基甲基而得到。对该烷氧基甲基的种类没有特别限定，可列举出例如甲氧基甲基、乙氧基甲基、丙氧基甲基、丁氧基甲基等，但从脱气的产生量的观点出发，特别优选甲氧基甲基。

其中，作为含有烷氧基甲基的交联剂，优选烷氧基甲基化三聚氰胺、烷氧基甲基化苯并胍胺、烷氧基甲基化甘脲，从透明性的观点出发，特别优选烷氧基甲基化甘脲。

这些含有烷氧基甲基的交联剂可以以市售品的形式获得，例如可以优选使用Cymel 300、301、303、370、325、327、701、266、267、238、1141、272、202、1156、1158、1123、1170、1174、UFR65、300(以上为三井サイアナミツド株式会社制)、Nikalac MX-750、-032、-706、-708、-40、-31、-270、-280、-290、Nikalac MS-11、Nikalac MW-30HM、-100LM、-390、(以上为株式会社三和ケミカル制)等。

当本发明的感光性树脂组合物中使用含有烷氧基甲基的交联剂时，含有烷氧基甲基的交联剂的添加量是，相对于100重量份的成分B，优选为0.05～50重量份，更优选为0.5～10重量份。通过在该范围内添加，能够得到显影时的优选的碱溶解性和固化后的膜的优异的耐溶剂性。

<具有至少1个烯键式不饱和双键的化合物>

作为具有至少1个烯键式不饱和双键的化合物，可以优选使用单官能(甲基)丙烯酸酯、2官能(甲基)丙烯酸酯、3官能以上的(甲基)丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸酯化合物。

作为单官能(甲基)丙烯酸酯，可列举出例如(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯、(甲基)丙烯酸卡必醇酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯、(甲基)丙烯酸3-甲氧基丁酯、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基-2-羟基丙基邻苯二甲酸酯等。

作为2官能(甲基)丙烯酸酯，可列举出例如(甲基)丙烯酸乙二醇酯、二(甲基)丙烯酸1，6-己二醇酯、二(甲基)丙烯酸1，9-壬二醇酯、二(甲基)丙烯酸聚丙二醇酯、二(甲基)丙烯酸四乙二醇酯、联苯氧基乙醇芴二丙烯酸酯、联苯氧基乙醇芴二丙烯酸酯等。

作为3官能以上的(甲基)丙烯酸酯，可列举出例如三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、三((甲基)丙烯酰氧基乙基)磷酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等。

这些具有至少1个烯键式不饱和双键的化合物可以单独使用1种，也可以2种以上组合使用。

本发明的感光性树脂组合物中的具有至少1个烯键式不饱和双键的化合物的使用比例是，相对于100重量份的成分B，优选为50重量份以下，更优选为30重量份以下。通过以这样的比例含有具有至少1个烯键式不饱和双键的化合物，能够提高利用本发明的感光性树脂组合物得到的绝缘膜的耐热性和表面硬度等。在添加具有至少1个烯键式不饱和双键的化合物的情况下，优选添加(成分K)热自由基引发剂。

(成分H)粘附改良剂

本发明的感光性树脂组合物可以含有(成分H)粘附改良剂。

能够用于本发明的感光性树脂组合物中可以使用的粘附改良剂是能够提高作为基材的无机物与绝缘膜的粘附性的化合物，所述无机物例如是硅、氧化硅、氮化硅等硅化合物，金、铜、铝等金属。具体而言，可列举出硅烷偶联剂、硫醇系化合物等。本发明中使用的作为粘附改良剂的硅烷偶联剂的目的是对表面进行改性，对其没有特别限定，可以使用公知的那些。

作为优选的硅烷偶联剂，可列举出例如γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、γ-环氧丙氧基丙基三烷氧基硅烷、γ-环氧丙氧基丙基烷基二烷氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基三烷氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基烷基二烷氧基硅烷、γ-氯丙基三烷氧基硅烷、γ-巯基丙基三烷氧基硅烷、β-(3，4-环氧环己基)乙基三烷氧基硅烷、乙烯基三烷氧基硅烷。

其中，更优选γ-环氧丙氧基丙基三烷氧基硅烷或γ-甲基丙烯酰氧基丙基三烷氧基硅烷，进一步优选γ-环氧丙氧基丙基三烷氧基硅烷。

它们可以单独使用1种，也可以2种以上组合使用。它们不仅可以有效提高与基板的粘附性，而且还可以有效调整与基板的锥角。

本发明的感光性树脂组合物中的成分H的含量是，相对于100重量份的成分B，优选为0.1～20重量份、更优选为0.5～10重量份。

(成分I)碱性化合物

本发明的感光性树脂组合物可以含有(成分I)碱性化合物。

作为碱性化合物，可以从化学放大抗蚀剂中可使用的碱性化合物中任意地选择使用。可列举出例如脂肪族胺、芳香族胺、杂环式胺、氢氧化季铵、羧酸的季铵盐等。

作为碱性化合物的具体例子，可以例示出日本特开2009-98616号公报的段落0052～0056中记载的化合物。

可用于本发明的碱性化合物可以单独使用1种也可以并用2种以上，但优选并用2种以上，更优选并用2种，进一步优选并用2种杂环式胺。

本发明的感光性树脂组合物中的成分I的含量是，相对于100重量份的成分B，优选为0.001～1重量份、更优选为0.005～0.2重量份。

(成分J)增塑剂

本发明的感光性树脂组合物可以含有(成分J)增塑剂。

作为增塑剂，可列举出例如邻苯二甲酸二丁酯、邻苯二甲酸二辛酯、邻苯二甲酸二(十二烷基)酯、聚乙二醇、甘油、邻苯二甲酸二甲基甘油酯、酒石酸二丁酯、己二酸二辛酯、三乙酰甘油等。

本发明的感光性树脂组合物中的成分J的添加量是，相对于100重量份的成分B，优选为0.1～30重量份、更优选为1～10重量份。

(成分K)热自由基引发剂

本发明的感光性树脂组合物可以含有(成分K)热自由基引发剂，在含有如上述的具有至少1个烯键式不饱和双键的化合物那样的烯键式不饱和化合物的情况下，优选含有(成分K)热自由基引发剂。

作为本发明中的热自由基引发剂，可以使用公知的热自由基引发剂。

热自由基引发剂是利用热能而产生自由基、从而引发或者促进聚合性化合物的聚合反应的化合物。通过添加热自由基引发剂，有时得到的固化膜变得更加强韧，而且耐热性、耐溶剂性得以提高。

作为优选的热自由基引发剂，可列举出芳香族酮类、鎓盐化合物、有机过氧化物、硫化合物、六芳基双咪唑化合物、酮肟酯化合物、硼酸盐化合物、连氮鎓(azinium)化合物、茂金属化合物、活性酯化合物、具有碳卤键的化合物、偶氮系化合物、二苯乙烷化合物等。

热自由基引发剂可以1种单独使用，也可以2种以上并用。

本发明的感光性树脂组合物中的成分K的添加量是，从提高膜物性的观点出发，当将成分B设为100重量份时，优选为0.01～50重量份，更优选为0.1～20重量份，最优选为0.5～10重量份。

(固化膜的形成方法)

下面对本发明的固化膜的形成方法进行说明。

本发明的固化膜的形成方法的特征在于包含以下的工序(1)～(5)。

(1)将本发明的正型感光性树脂组合物涂布到基板上的涂布工序

(2)从已涂布的正型感光性树脂组合物中除去溶剂的溶剂除去工序

(3)利用活性光线进行曝光的曝光工序

(4)利用水性显影液进行显影的显影工序

(5)进行热固化的后烘烤工序

以下按顺序对各工序进行说明。

在(1)的涂布工序中，优选将本发明的正型感光性树脂组合物涂布到基板上，从而形成含有溶剂的湿润膜。

在(2)的溶剂除去工序中，优选从已涂布的上述膜中，通过减压(真空)和/或加热将溶剂除去，从而在基板上形成干燥涂膜。

在(3)的曝光工序中，优选对得到的涂膜照射波长为300nm～450nm的活性光线。在该工序中，成分C分解产生酸。通过产生的酸的催化剂作用，成分B中所含的酸分解性基团被水解，生成羧基和/或酚性羟基。

在酸催化剂生成的区域中，为了加快上述水解反应，根据需要可以进行曝光后加热处理(Post Exposure Bake，以下也称为“PEB”)。通过PEB，能够促进从酸分解性基团生成羧基。

对于本发明中的成分B中的酸分解性基团，其通过酸分解的活性化能量低，容易通过经曝光由产酸剂产生的酸分解而生成羧基，因此不一定进行PEB，通过显影也能够形成正型图像。

此外，通过在较低的温度下进行PEB，能够在不引起交联反应的情况下促进酸分解性基团水解。进行PEB时的温度优选为30℃～130℃，更优选为40℃～110℃，特别优选为50℃～80℃。

在(4)的显影工序中，优选使用碱性显影液对具有游离的羧基的聚合物进行显影。通过除去曝光部区域，能够形成正型图像。

在(5)的后烘烤工序中，通过对得到的正型图像进行加热，使成分B中的酸分解性基团发生热分解而生成羧基，然后使之与环氧基和/或氧杂环丁烷基交联，能够形成固化膜。所述加热优选加热到150℃以上的高温，更优选加热到180～250℃，特别优选加热到200～250℃。加热时间可以根据加热温度等来适当设定，优选设定在10～90分钟的范围内。

在后烘烤工序之前，若增加对显影图案整面照射活性光线、优选紫外线的工序，则通过由活性光线照射而产生的酸能够促进交联反应，因此是优选的。

下面，对使用了本发明的感光性树脂组合物的固化膜的形成方法具体地进行说明。

<感光性树脂组合物的制备方法>

将成分A～成分D的必需成分以规定的比例并且通过任意的方法混合，搅拌溶解，从而制备感光性树脂组合物。例如也可以将成分A～成分C分别预先溶解到(成分D)溶剂中制成溶液后，将它们以规定的比例混合，从而制备树脂组合物。还可以将上述这样制备的组合物溶液使用孔径为0.2μm的过滤器等过滤后，供于使用。

<涂布工序和溶剂除去工序>

将树脂组合物涂布到规定的基板上，通过减压和/或加热(预烘烤)除去溶剂，由此能够形成期望的干燥涂膜。作为上述基板，可例示出例如在液晶显示元件的制造中，设置有偏光板、进而根据需要设置有黑色矩阵层、滤色器层、以及设置有透明导电电路层的玻璃板等。向基板上涂布的方法没有特别限定，可以使用例如狭缝涂布法、喷涂法、辊涂法、旋涂法等方法。其中，从适于大型基板的观点出发，狭缝涂布法是优选的。这里的大型基板是指各边为1m以上的尺寸的基板。

另外，(2)溶剂除去工序的加热条件是使未曝光部中的成分B中的酸分解性基团分解且使成分B不溶于碱性显影液中的范围，其根据各成分的种类和配合比的不同而不同，优选在80～130℃下加热30～120秒左右。

<曝光工序>

在曝光工序中，隔着具有规定的图案的掩模对设置有涂膜的基板照射活性光线。作为活性光线，只要是能够曝光，就没有特别限制，但可以优选使用具有波长为300nm～450nm的波长的活性光线。曝光工序之后，根据需要进行加热处理(PEB)。

对于利用活性光线进行的曝光，可以使用低压汞灯、高压汞灯、超高压汞灯、化学灯、激光发生装置、LED光源等。

在使用汞灯的情况下，可以优选使用具有g线(436nm)、i线(365nm)、h线(405nm)等的波长的活性光线。汞灯与激光器相比在适于大面积的曝光方面优选。

在使用激光器的情况下，固体(YAG)激光器使用343nm、355nm，准分子激光器使用351nm(XeF)，半导体激光器使用375nm、405nm。其中，从稳定性、成本等方面出发，更优选355nm、405nm。可以将激光以1次或分成多次照射到涂膜上。

激光的每1脉冲的能量密度优选为0.1mJ/cm²～10,000mJ/cm²。为了使涂膜充分固化，更优选0.3mJ/cm²以上，最优选0.5mJ/cm²以上，为了通过烧蚀现象使涂膜不分解，更优选1,000mJ/cm²以下，最优选100mJ/cm²以下。

另外，脉冲宽度优选为0.1nsec～30,000nsec。为了通过烧蚀现象使色涂膜不分解，更优选0.5nsec以上，最优选1nsec以上，为了使扫描曝光时的对准精度提高，更优选1,000nsec以下，最优选50nsec以下。

此外，激光的频率优选为1～50,000Hz，更优选10～1,000Hz。激光的频率低于1Hz时，曝光处理时间增多，如果超过50,000Hz，则扫描曝光时的对准精度降低。

为了缩短曝光处理时间，更优选10Hz以上，最优选100Hz以上，为了提高扫描曝光时的对准精度，更优选10,000Hz以下，最优选1,000Hz以下。

激光器与汞灯相比，容易将焦点集中，不需要曝光工序中的形成图案的掩膜，在能够降低成本方面是优选的。

作为本发明中可以使用的曝光装置，没有特别限制，但作为市售的曝光装置，可以使用Callisto(株式会社V-Technology制)或AEGIS(株式会社V-Technology制)或DF2200G(大日本スクリ一ン制造株式会社制)等。另外，上述以外的装置也可以优选使用。

另外，根据需要还可以通过长波长截止滤波器、短波长截止滤波器、带通滤波器这样的分光滤波器来调整照射光。

<显影工序>

显影工序中，优选使用碱性显影液将曝光部区域除去，从而形成图像图案。作为碱性化合物，可以使用例如氢氧化锂、氢氧化钠、氢氧化钾等碱金属氢氧化物类；碳酸钠、碳酸钾等碱金属碳酸盐类；碳酸氢钠、碳酸氢钾等碱金属碳酸氢盐类；四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、氢氧化胆碱等氢氧化铵类；硅酸钠、偏硅酸钠等的水溶液。另外，上述碱类的水溶液中还可以使用适当量添加了甲醇或乙醇等水溶性有机溶剂或表面活性剂而得到的水溶液作为显影液。

显影液的pH优选为10.0～14.0。

显影时间优选为30～180秒，另外，显影的方法可以为旋覆浸没(液盛り)法、浸渍法等中的任一种。显影后进行30～90秒的流水洗涤，可以形成期望的图案。

<后烘烤工序(交联工序)>

对于与通过显影得到的未曝光区域对应的图案，使用加热板或烘箱等加热装置，在规定的温度例如180～250℃下，进行规定的时间例如在加热板上为5～60分钟、使用烘箱则为30～90分钟的加热处理，由此使成分A中的酸分解性基团分解而产生羧基和/或酚性羟基，然后使之与成分A中的上述官能团反应而发生交联，由此能够形成耐热性、硬度等优异的保护膜或层间绝缘膜。另外，进行加热处理时，通过在氮气氛下进行，还能够提高透明性。

此外，优选在加热处理之前，利用活性光线对形成了图案的基板进行再曝光，然后进行后烘烤(再曝光/后烘烤)，由此由未曝光部分中存在的成分C产生酸，并作为促进交联工序的催化剂发挥功能。

即，本发明的固化膜的形成方法优选包含在显影工序和后烘烤工序之间，利用活性光线进行再曝光的再曝光工序。

再曝光工序中的曝光可以通过与上述曝光工序同样的方法进行，但在上述再曝光工序中，优选对基板的利用本发明的感光性树脂组合物形成了膜的一侧进行整面曝光。再曝光工序的优选的曝光量为100～1,000mJ/cm²。

本发明的固化膜是将本发明的感光性树脂组合物固化而得到的固化膜，可以适合用作层间绝缘膜。另外，本发明的固化膜优选是通过本发明的固化膜的形成方法而得到的固化膜。

利用本发明的感光性树脂组合物，能够得到绝缘性优异、即使在高温下进行烘烤也具有高的透明性的层间绝缘膜。使用本发明的感光性树脂组合物形成的层间绝缘膜由于具有高的透明性且固化膜物性优异，因此在有机EL显示装置或液晶显示装置的用途方面是有用的。

作为本发明的有机EL显示装置或液晶显示装置，除了具有使用上述本发明的感光性树脂组合物形成的保护膜或层间绝缘膜以外，没有特殊限制，可列举出具有各种结构的公知的各种有机EL显示装置或液晶显示装置。

另外，本发明的感光性树脂组合物和本发明的固化膜不限于上述用途，可以用于各种用途。例如，除了保护膜或层间绝缘膜以外，还可以适用于用于将液晶显示装置中的液晶层的厚度保持恒定的间隔物或固体摄像元件中在滤色器上设置的微透镜等。

图1是表示有机EL显示装置的一个例子的结构示意图。其表示底部发光型的有机EL显示装置中的基板的示意截面图，其具有平坦化膜4。

在玻璃基板6上形成底栅(bottom gate)型的TFT1，并以覆盖该TFT1的状态形成由Si₃N₄构成的绝缘膜3。在绝缘膜3上形成在此省略了图示的接触孔后，通过该接触孔在绝缘膜3上形成与TFT1连接的配线2(高度为1.0μm)。配线2用于将在TFT1之间或将在后面的工序中形成的有机EL元件与TFT1连接。

此外，为了使形成配线2所形成的凹凸平坦化，在绝缘膜3上以将配线2所形成的凹凸埋入的状态形成平坦化层4。

在平坦化膜4上形成底部发光型的有机EL元件。即，在平坦化膜4上，使由ITO构成的第一电极5以通过接触孔7与配线2连接的方式形成。另外，第一电极5相当于有机EL元件的阳极。

形成具有覆盖第一电极5的周缘的形状的绝缘膜8，通过设置该绝缘膜8，能够防止第一电极5与其后的工序中形成的第二电极之间的短路。

此外，虽然图1中未图示，但隔着期望的图案掩模，通过依次蒸镀来设置空穴输送层、有机发光层、电子输送层，然后在基板上方的整个面上形成由Al构成的第二电极，使用密封用玻璃板和紫外线固化型环氧树脂进行贴合以进行密封，从而得到将各有机EL元件与驱动其的TFT1连接而成的有源矩阵型的有机EL显示装置。

图2是表示有源矩阵方式的液晶显示装置10的一个例子的概念截面图。该彩色液晶显示装置10是在背面具有背光灯单元12的液晶面板，液晶面板配置有TFT16元件，所述TFT16元件与配置在贴附有偏振膜的2片玻璃基板14、15之间的全部像素对应。对于玻璃基板上形成的各元件，通过在固化膜17中形成的接触孔18，配线有形成像素电极的ITO透明电极19。在ITO透明电极19之上设置有液晶20的层和配置了黑色矩阵的RGB滤色器22。

实施例

以下，对本实施方式的实施例进行详细地说明，但本实施方式并不受这些实施例的限定。

<聚合物B-1的合成>

在乙基乙烯基醚144.2重量份(2摩尔当量)中添加吩噻嗪0.5重量份，将反应体系冷却到10℃以下的同时向其中滴加甲基丙烯酸86.1重量份(1摩尔当量)，然后在室温(25℃)下搅拌4小时。在添加对甲苯磺酸吡啶鎓5.0重量份后，在室温下搅拌2小时，室温下放置一夜。向反应液中添加碳酸氢钠5重量份和硫酸钠5重量份，在室温下搅拌1小时，在将不溶物过滤后，在40℃以下进行减压浓缩，将残渣的黄色油状物减压蒸馏，得到无色油状物形式的沸点(bp.)为43～45℃/7mmHg馏分的甲基丙烯酸1-乙氧基乙酯134.0重量份。

将得到的甲基丙烯酸1-乙氧基乙酯(79.1重量份(0.5摩尔当量))、甲基丙烯酸缩水甘油酯(GMA)(71.1重量份(0.5摩尔当量))和丙二醇单甲基醚乙酸酯(PGMEA)(125重量份)的混合溶液在氮气流下加热到70℃。在搅拌该混合溶液的同时，用2.5小时滴加为达到目标分子量所必需的量的自由基聚合引发剂V-65(2，2’-偶氮双(2，4-二甲基戊腈)、和光纯药工业株式会社制)和PGMEA的混合溶液。滴加结束后，在70℃下使之反应4小时，由此得到聚合物B-1的PGMEA溶液(固体成分浓度：40重量％)。得到的聚合物B-1的通过凝胶渗透色谱法(GPC)测定的重均分子量为12,000。

<聚合物B-2～B-21的合成>

除了将使用的各单体和其使用量变更为表1所记载的那样以外，与聚合物B-1的合成同样地分别合成了聚合物B-2～21。此外，表1所记载的各共聚比以摩尔比记载。

表1

此外，表1中记载的共聚比为摩尔比，表1中的简写符号如下。

MAEVE：甲基丙烯酸1-乙氧基乙酯

MACHVE：甲基丙烯酸1-环己基氧基乙酯

MATHPE：甲基丙烯酸四氢-2H-吡喃-2-基酯

MATHF：甲基丙烯酸四氢呋喃-2-基酯

t-BMA：甲基丙烯酸叔丁酯

GMA：甲基丙烯酸缩水甘油酯

OXE-30：甲基丙烯酸(3-乙基氧杂环丁烷-3-基)甲酯(大阪有机化学工业株式会社制)

MAA：甲基丙烯酸

HEMA：甲基丙烯酸-2-羟基乙酯

St：苯乙烯

PHSEVE：4-(1-乙氧基乙基氧基)苯乙烯

PHStBOC：4-(叔丁氧基羰基氧基)苯乙烯

CHMI：N-环己基马来酰亚胺

此外，MACHVE和MATHPE是将MAEVE合成法的乙烯基醚分别变更为环己基乙烯基醚、二氢吡喃而合成的。

PHSEVE是将MAEVE合成法的甲基丙烯酸变更为4-羟基苯乙烯而合成的。

PHStBOC是将4-羟基苯乙烯与叔丁氧基羧酸酐在碱性条件下反应，萃取后，通过硅胶色谱提纯而得到的。

<MATHF(甲基丙烯酸四氢呋喃-2-基酯)的合成>

先将甲基丙烯酸(86g、1mol)冷却到15℃，然后添加樟脑磺酸(4.6g、0.02摩尔)。向该溶液中滴加2，3-二氢呋喃(71g、1mol、1.0当量)。搅拌1小时后，加入饱和碳酸氢钠水溶液(500ml)，用乙酸乙酯(500ml)萃取，在用硫酸镁干燥后，将不溶物过滤，然后在40℃以下进行减压浓缩，对残渣的黄色油状物进行减压蒸馏，得到无色油状物形式的沸点(bp.)为54～56℃/3.5mmHg馏分的甲基丙烯酸四氢呋喃-2-基酯(MATHF)125g(收率为80％)。

<比较例中使用的聚合物B-X的合成>

将甲基丙烯酸1-乙氧基乙酯(79.1重量份(0.5摩尔当量))、甲基丙烯酸甲酯(30.0重量份(0.3摩尔当量))、HEMA(26.0重量份(0.2摩尔当量))和PGMEA(125重量份)的混合溶液在氮气流下加热到70℃。在搅拌该混合溶液的同时，用2.5小时向其中滴加自由基聚合引发剂V-65(和光纯药工业株式会社制，10重量份)和PGMEA(100.0重量份)的混合溶液。滴加结束后，在70℃下使之反应4小时，由此得到聚合物B-X的PGMEA溶液(固体成分浓度：40重量％)。得到的聚合物B-X的通过凝胶渗透色谱法(GPC)测定的重均分子量为11,000。

<比较例中使用的聚合物B-Y的合成>

除了将使用的各单体和其使用量变更为表1所记载的那样以外，与聚合物B-X的合成同样地合成了聚合物B-Y。此外，表1所记载的各共聚比以摩尔比记载。

<实施例和比较例中使用的成分A>

实施例和比较例中使用的成分A(K-1～12)和比较化合物(K-a～h)按以下所示。此外，它们可以通过公知的合成方法和聚合方法来制作。

表2

结构单元A            结构单元B

(1)感光性树脂组合物溶液的制备

将下述表3～表6所示的各成分混合制成均匀的溶液，然后用具有0.2μm的孔尺寸的聚四氟乙烯制过滤器来过滤，从而分别制备实施例1～100以及比较例1～13的感光性树脂组合物溶液(组合物1～100和比较组合物1～13)。

PAG-1：下述所示的肟磺酸酯化合物、CGI1397(Ciba SpecialtyChemicals公司制)

PAG-2：PAI-1001(Midori化学株式会社制)

PAG-3：PAI-101(Midori化学株式会社制)

PAG-4：CGI1325(Ciba Specialty Chemicals公司制)

PAG-5：下述的化合物

PAG-6：下述的化合物

PAG-7：下述的化合物

PAG-8：下述的化合物

S-1：9，10-二丁氧基蒽(川崎化成工业株式会社制)

D1：丙二醇单甲基醚乙酸酯

D2：3-乙氧基丙酸乙酯

D3：丙二醇甲基正丁基醚

D4：丙二醇甲基正丙基醚

D5：二乙二醇甲基乙基醚

D6：丙二醇单乙基醚乙酸酯

D7：丙二醇单甲基醚乙酸酯

D8：二丙二醇甲基醚乙酸酯

D9：3-甲氧基丁基醚乙酸酯

D10：二乙二醇二乙基醚

D11：二乙二醇二甲基醚

D12：丙二醇二乙酸酯

D13：二乙二醇单乙基醚乙酸酯

D14：二丙二醇二甲基醚

D15：1，3-丁二醇二乙酸酯

F1：Adekastab AO-60(株式会社艾迪科制)

G1：JER-157S70(多官能酚醛清漆型环氧树脂(环氧当量200～220g/eq)、Japan Epoxy Resins株式会社制)

碱性化合物1：4-二甲基氨基吡啶

碱性化合物2：1，5-二氮杂双环[4.3.0]-5-壬烯

粘附改良剂1：KBM-403(3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷，信越化学工业株式会社制)

<涂布性的评价>

在涂布速度为100mm/sec、涂布间隙为100μm、涂布流速为0.5ml/s的条件下，将各实施例和比较例中制备的感光性树脂组合物溶液分别通过狭缝口模涂布到1,500mm×1,800mm的Cr蒸镀玻璃基板(玻璃为EAGLE2000，Corning公司)上，以使干燥膜厚达到4μm(湿厚度为20μm)，通过减压干燥室进行真空干燥，以使到达真空度达到0.4Torr。将该干燥了的基板通过加热板在90℃×120sec下干燥后，在暗处使用Na灯、白色灯和绿灯来观察，按以下的标准评价了涂布条纹、干燥不均。

[涂布条纹]

○：无涂布条纹

△：仅在周端部有条纹

×：整个面有条纹

[干燥不均]

○：完全没有观察到干燥不均(干涉条纹)

△：仅观察到的干燥不均在容许范围内

×：观察到超过容许范围的干燥不均(干涉条纹)

<显影不均的评价>

将与涂布性评价同样地制作的基板通过株式会社日立High-Technologies制的G6尺寸的曝光机LE-9300S以30mJ进行图案曝光之后，用FHD-5(富士Film Electronics Materials株式会社制)的21％水溶液覆盖，静置60sec。静置后将纯水呈喷淋状散布，冲洗掉显影液后，使其自然干燥。

对干燥后的基板按下述的标准判定了显影不均的评价。

○：无显影不均

△：仅可见的显影不均在容许范围内

×：整个面被不均所覆盖

<涂布时产生的像素缺陷评价>

将上述基板通过AOI(Takano株式会社制、滤色器缺陷检查装置)对基板上的凹陷所引起的像素缺陷数目进行计数。

○：基板整个面上为10个以下

△：基板整个面上为11～25个

×：基板整个面上为26个以上

<后烘烤后的面状评价>

上述显影结束后，将基板以300mJ/cm²(照度为20mW/cm²)进行整面曝光后，在对流烘箱中进行230℃×1小时的后烘烤，然后，用光学显微镜观察表面状态。

○：表面平坦且无凹凸

△：虽有若干凹凸，但在容许范围内

×：可看见成分的分离，整个面有剧烈的凹凸

<液晶污染度评价(液晶电阻率)>

将各实施例和比较例中制备的感光性树脂组合物溶液分别旋涂到100mm×100mm的玻璃基板(EAGLE2000，Corning公司制)上，以使干燥膜厚达到4μm(湿厚度为20μm)，通过减压干燥室进行真空干燥，以使到达真空度达到0.4Torr。将该干燥了的基板通过加热板在90℃×120sec下干燥后，以300mJ/cm²进行整面曝光，然后在对流烘箱中进行230℃×1小时的后烘烤。将完成了的涂膜从基板上剥离之后，混入到液晶(Merck公司制MLC-6608)中，进行120℃×5小时加热后，用超微小电流计(株式会社Adc制数字超高电阻/微小电流计8340A)测定了液晶电阻率。评价结果判定如下。

○：电阻率与什么也没有混入的液晶相同

△：电阻率与什么也没有混入的液晶相比有少许降低，但在容许范围内

×：电阻率与什么也没有混入的液晶相比大幅度降低

一般地，液晶电阻率显示较高数值的一方对液晶的污染度低，在面板的可靠性方面优良。

进行了以上评价的结果记录于以下的表7～表9。

表7

表8

表9

(实施例101)

<有机EL显示装置的制作>

按照下述方法制作了使用了薄膜晶体管(TFT)的有机EL显示装置(参照图1)。

在玻璃基板6上形成底栅型的TFT1，并以覆盖该TFT1的状态形成由Si₃N₄构成的绝缘膜3。接着，在该绝缘膜3上形成在此省略了图示的接触孔，然后通过该接触孔在绝缘膜3上形成与TFT1连接的配线2(高度为1.0μm)。该配线2用于将TFT1之间或将在后面的工序中形成的有机EL元件与TFT1连接。

此外，为了使形成配线2所产生的凹凸平坦化，以将配线2所产生的凹凸埋入的状态在绝缘膜3上形成平坦化层4。平坦化膜4在绝缘膜3上的形成如下进行：将实施例13的感光性树脂组合物旋涂到基板上，在加热板上预烘烤(90℃×2分钟)后，从掩模上方使用高压汞灯以30mJ/cm²(照度为20mW/cm²)照射i线(365nm)，然后用碱性水溶液进行显影，形成图案，在230℃下进行加热处理60分钟。涂布该感光性树脂组合物时的涂布性良好，且曝光、显影、烧成之后得到的固化膜上未见发生皱纹或裂纹。此外，配线2的平均高低差为500nm，制作的平坦化膜4的膜厚为2,000nm。

接着，在得到的平坦化膜4上形成底部发光型的有机EL元件。首先，在平坦化膜4上，使由ITO构成的第一电极5通过接触孔7与配线2连接而形成。然后，涂布抗蚀剂并进行预烘烤，隔着具有期望的图案的掩模进行曝光、显影。将该抗蚀剂图案作为掩模，利用使用了ITO蚀刻剂的湿式蚀刻进行图案加工。然后，使用抗蚀剂剥离液(单乙醇胺与二甲基亚砜(DMSO)的混合液)将该抗蚀剂图案剥离。如此得到的第一电极5相当于有机EL元件的阳极。

接着，形成具有覆盖第一电极5的周缘的形状的绝缘膜8。关于绝缘膜8，是使用实施例7的感光性树脂组合物、通过与上述同样的方法形成的。通过设置该绝缘膜8，能够防止第一电极5与在其后的工序中形成的第二电极之间的短路。

此外，在真空蒸镀装置内隔着具有期望图案的掩模，依次蒸镀设置空穴输送层、有机发光层、电子输送层。接着，在基板上方的整个面上形成由Al构成的第二电极。从蒸镀机中取出得到的上述基板，通过使用紫外线固化型环氧树脂将其与密封用玻璃板贴合而进行密封。

如上所述，得到各有机EL元件与用于驱动其的TFT1连接而成的有源矩阵型的有机EL显示装置。通过驱动电路施加电压，结果可知其显示良好的显示特性，是可靠性高的有机EL显示装置。

Claims (17)

1.一种正型感光性树脂组合物，其特征在于，其含有：

成分A：包含下述式(1)表示的结构单元A和结构单元B、且重均分子量为1,000～10,000的共聚物，

成分B：树脂，其含有具有通过酸分解而生成羧基或酚性羟基的酸分解性基团的结构单元和具有能与羧基或酚性羟基反应而形成共价键的官能团的结构单元，

成分C：光产酸剂，以及

成分D：溶剂，

其中，含有0.001～1.00重量％的所述成分A，

结构单元A            结构单元B

式(1)中，R¹和R³各自独立地表示氢原子或甲基，R²表示碳原子数为1～4的直链亚烷基，R⁴表示氢原子或烷基，L表示碳原子数为3～6的亚烷基，p和q是表示结构单元A和结构单元B的聚合比的重量百分数，p表示10重量％～80重量％的数值，q表示20重量％～90重量％的数值，r表示1～18的整数，n表示1～10的整数。

2.根据权利要求1所述的正型感光性树脂组合物，其中，所述L是下述式(2)表示的支链亚烷基，

式(2)中，R⁵表示碳原子数为1～4的烷基。

3.根据权利要求2所述的正型感光性树脂组合物，其中，所述R⁵是乙基。

4.根据权利要求1所述的正型感光性树脂组合物，其中，所述成分B进一步含有来自于选自苯乙烯衍生物、马来酰亚胺衍生物、(甲基)丙烯酸以及含有羟基的(甲基)丙烯酸酯化合物中的至少一种化合物的结构单元。

5.根据权利要求1所述的正型感光性树脂组合物，其中，所述酸分解性基团是式(Ia)、式(Ib)、式(IIa)或式(IIb)表示的基团，

式(Ia)、式(Ib)、式(IIa)和式(IIb)中，R¹各自独立地表示烷基或环烷基，R²各自独立地表示烷基，R¹和R²也可以形成环，R³表示叔烷基，R⁴表示叔烷基或叔丁氧基羰基，Ar¹和Ar²各自独立地表示二价的芳香族基团，波浪线部分表示与其他结构的键合部位。

6.根据权利要求1所述的正型感光性树脂组合物，其中，所述官能团是环氧基和/或氧杂环丁烷基。

7.根据权利要求6所述的正型感光性树脂组合物，其中，所述官能团是氧杂环丁烷基。

8.根据权利要求1所述的正型感光性树脂组合物，其中，所述成分C是肟磺酸酯化合物。

9.根据权利要求1所述的正型感光性树脂组合物，其中，所述成分B是选自式(OS-3)、式(OS-4)以及式(OS-5)表示的化合物中的至少1种化合物，

式(OS-3)～式(OS-5)中，R¹表示烷基、芳基或杂芳基，R²各自独立地表示氢原子、烷基、芳基或卤素原子，R⁶各自独立地表示卤素原子、烷基、烷氧基、磺酸基、氨基磺酰基或烷氧基磺酰基，X表示O或S，n表示1或2，m表示0～6的整数。

10.根据权利要求1所述的正型感光性树脂组合物，其进一步含有成分E：增感剂。

11.根据权利要求10所述的正型感光性树脂组合物，其中，所述成分E是选自蒽衍生物、吖啶酮衍生物、噻吨酮衍生物、香豆素衍生物、基于苯乙烯基的衍生物以及二苯乙烯基苯衍生物中的化合物。

12.根据权利要求1所述的正型感光性树脂组合物，其中，所述成分D是沸点为130℃以上且低于160℃的溶剂、沸点为160℃以上的溶剂或它们的混合物。

13.一种固化膜的形成方法，其包含下述工序：

(1)将权利要求1～12中任一项所述的正型感光性树脂组合物涂布到基板上的涂布工序、

(2)从已涂布的正型感光性树脂组合物中除去溶剂的溶剂除去工序、

(3)利用活性光线进行曝光的曝光工序、

(4)利用水性显影液进行显影的显影工序、以及

(5)进行热固化的后烘烤工序。

14.一种固化膜，其是通过权利要求13所述的方法形成的。

15.根据权利要求14所述的固化膜，其为层间绝缘膜。

16.一种有机EL显示装置，其具备权利要求14所述的固化膜。

17.一种液晶显示装置，其具备权利要求14所述的固化膜。

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