CN101956173B - 使用承载组件的镀膜装置 - Google Patents
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Abstract
一种承载组件，其包括一承载板、一操作杆及一离子风源；所述承载板固设于操作杆上且邻近操作杆的端部；所述承载板上设置有两个用于承载镀膜基板的承载座，承载座相对所述操作杆对称地分布在所述承载板上；所述操作杆为一中空杆，在其承载有所述承载板一端的侧壁上对应承载座的位置处分别开设有两个通风口；所述离子风源与操作杆上远离承载板的另一端相连接，并向所述操作杆中通入离子风。所述离子风源产生的离子风通过中空的操作杆，从通风口吹出后作用于承载座中的镀膜基板，可有效的去除了镀膜基板上的静电和灰尘。本发明还提供一种使用该承载组件的镀膜装置。
Description
技术领域
本发明涉及一种镀膜技术，尤其涉及一种承载组件及使用该承载组件的镀膜装置。
背景技术
一般，对镀膜基板进行不同种类镀膜时，如先对镀膜基板进行底漆或面漆喷涂，接着对镀膜基板进行溅镀(sputtering)，或者对镀膜基板进行喷雾热解(Spray pyrolysis)等等，需要采用不同的镀膜工艺对所述镀膜基板进行镀膜。
由于镀膜基板的镀膜均是在真空条件下进行的，因此，每当完成一次镀膜，就必须将所述镀膜基板从对应的镀膜腔体中撤出，移动至下一个镀膜腔体中进行另一次镀膜。但是，当承载组件带动镀膜基板在镀膜腔体内移动过程中，由于镀膜腔体内的移动通道内可能存在静电或灰尘，容易造成镀膜基板或刚镀上的薄膜层的镀膜基板被污染。因此，所述镀膜基板镀膜完成后，会造成所述镀膜基板的薄膜层品质不佳，从而造成镀膜良率下降。
发明内容
有鉴于此，有必要提供一种能去除镀膜基板上静电和灰尘的承载组件及使用该承载组件的镀膜装置。
一种承载组件，其包括一承载板、一操作杆及一离子风源；所述承载板固设于操作杆上且邻近操作杆的端部；所述承载板上设置有两个用于承载镀膜基板的承载座，承载座相对所述操作杆对称地分布在所述承载板上；所述操作杆为一中空杆，在其承载有所述承载板一端的侧壁上对应承载座的位置处分别开设有两个通风口；所述离子风源与操作杆上远离承载板的另一端相连接，并向所述操作杆中通入离子风。
一种镀膜装置，其包括一本体及一承载组件；所述本体包括多个用于不同镀膜方式的镀膜腔体，所述多个镀膜腔体之间设置有通道；所述承载组件用于承载镀膜基板，并通过在通道间的移动，将镀膜基板移动到多个镀膜腔体；其特征在于：所述承载组件包括一承载板、一操作杆及一离子风源；所述承载板固设于操作杆上且邻近操作杆的端部；所述承载板上设置有两个用于承载镀膜基板的承载座，承载座相对所述操作杆对称地分布在所述承载板上；所述操作杆为一中空杆，在其承载有所述承载板一端的侧壁上对应承载座的位置处分别开设有两个通风口；所述离子风源与操作杆上远离承载板的另一端相连接，并向所述操作杆中通入离子风。
与现有技术相比，本发明提供的承载组件及使用该承载组件的镀膜装置中的离子风源产生的离子风通过中空的操作杆，从通风口吹出后作用于承载座中的镀膜基板，有效的去除了镀膜基板上的静电和灰尘；进而显著提升了镀膜良率。
附图说明
图1为本发明实施方式提供的镀膜装置的立体示意图。
图2为图1中的镀膜装置的承载组件的结构示意图。
图3为图1中的镀膜装置的操作杆的剖视图。
具体实施方式
下面将结合附图对本发明实施方式作进一步的详细说明。
请参阅图1至图3，为本发明实施方式提供的镀膜装置100，其用于对镀膜基板200进行镀膜。所述镀膜装置100包括一本体10及一承载组件20。所述承载组件20的一端位于本体10内，并用于承载待镀膜的镀膜基板200。
所述本体10包括一腔体11、一腔门12、一凸杆13及一弹簧14。所述腔体11与腔门12通过绞链(图未示)可转动连接。所述凸杆13通过弹簧14固设于腔门12上朝向于腔体11的一侧。
所述腔体11包括一顶壁111及一与顶壁111相对的底壁112。所述腔体11包括一第一镀膜腔体113及一位于第一镀膜腔体113正上方的第二镀膜腔体114。所述第一镀膜腔体113包括两个并排设置的第一子腔体113a及第二子腔体113b。所述第二镀膜腔体114包括两个并排设置的第三子腔体114a及第四子腔体114b。所述第一子腔体113a、第二子腔体113b、第三子腔体114a及第四子腔体114b呈田字型分布。所述第一子腔体113a及所述第二子腔体113b与底壁112之间形成一个第一通道15。所述第一子腔体113a与所述第二子腔体113b、所述第三子腔体13与所述第四子腔体114b之间形成一个与所述第一通道15垂直相通的第二通道16。所述第三子腔体114a与所述第一子腔体113a、所述第四子腔体114b与所述第二子腔体113b之间形成一个与所述第一通道15平行且与所述第二通道16垂直相通的第三通道17。在所述第一子腔体113a与第二子腔体113b与第一通道15相邻的底面上分别开设有一镀膜口101。所述第三子腔体114a与第四子腔体114b与第三通道17相邻的底面上也分别开设有一镀膜口101。所述腔体11的底壁112开设有一个供所述承载组件20通过的条形通孔102，且所述条形通孔102与第二通道16相对。
所述腔门12用于封闭所述第一镀膜腔体113及所述第二镀膜腔体114。所述凸杆13通过弹簧14弹性的固设于腔门12面向腔体11的一侧。所述凸杆13包括一个第一杆131及两个垂直固定在所述第一杆131上的第二杆132。所述腔门12封闭所述第一镀膜腔体113及所述第二镀膜 腔体114时，所述第一杆131紧密卡设于第二通道16内，两个第二杆132分别紧密卡设于第一通道15及第二通道16内。所述弹簧14保证凸杆13在卡设于上述通道内时对凸杆13施加一定的压力，保证所述凸杆13可紧密卡合在所述第一通道15及第二通道16内，以确保第一镀膜腔体113及第二镀膜腔体114被密封。
所述承载组件20包括一承载板21、一操作杆22、一传动齿轮23、一驱动马达24、一轴承25及一升降台26。所述承载板21为一条形基板，在其一侧设有两个用于承载镀膜基板200的承载座211。所述承载板21固设于操作杆22上且邻近操作杆22的端部，所述承载座211相对于操作杆22对称分布，且两个承载座211的间距与第一镀膜腔体113或第二镀膜腔体114内的两个镀膜口101的间距相等。所述操作杆22为一中空杆，所述操作杆22穿过所述承载板21且其穿过承载板21的一端被封闭并形成一封闭端221。在操作杆22靠近封闭端221的侧面上对应所述承载座211的位置处分别朝向于承载座211开设有两个通风口222。所述封闭端221靠近通风口222的一侧开设有一锥形凹槽223。所述传动齿轮23套设于操作杆22上远离承载板21所在的另一端。所述驱动马达24与轴承25相邻的固设于升降台26上。所述驱动马达24包括一驱动齿轮241，所述驱动齿轮241与传动齿轮23相啮合。所述升降台26包括一离子风源261，所述操作杆22穿过轴承25的内圈并与离子风源261相连通。
请一并参阅图1，在镀膜过程前，所述操作杆22上固设有承载板21的一端从条形通孔102伸入到腔体11内，所述承载座211保持与通风口222相对。所述离子风源261产生的离子风经过操作杆22从通风口222吹出，位于封闭端221的锥形凹槽223使得从通风口222吹出的离子风向承载座211所在位置倾斜。放置于承载座211上的镀膜基板200经过离子风的作用后，将有效减少位于镀膜基板200上的灰尘和静电，从而有效提高镀膜质量。
然后，关闭离子风源261，所述驱动马达21带动操作杆22旋转，所述升降台26带动操作杆22上下移动，从而使其中一个承载座211密封第一子腔体113a的镀膜口101并且使对应的镀膜基板200从所述镀膜口101暴露在所述第一子腔体113a内，另外一个承载座211密封第二子腔体113b的镀膜口101并且使对应的镀膜基板200从所述镀膜口101暴露在所述第二子腔体113b内。当镀膜基板200在第一镀膜腔体113内镀膜完成后，所述操作杆22在所述第一通道15内旋转使所述两个承载座211收容于所述第二通道16，操作杆22在所述第二通道16内移动使所述两个承载座22收容于所述第三通道17，从而所述操作杆22带动所述承载座211从所述第一通道15沿第二通道16移动至所述第三通道17。再调整承载座211的位置使其与通风口222相对，同时打开离子风源261，使离子风从通风口222吹出作用于位于承载座211上的镀膜基板200，从而消除镀膜基板200在从第一通道15移动到第三通道17所产生的静电以及粘附的灰 尘。然后控制所述操作杆22在所述第三通道17内旋转及移动，使其中一个承载座211密封第三子腔体114a的镀膜口101并且使对应的镀膜基板200从所述镀膜口101暴露在所述第三子腔体114a内，另外一个承载座211密封第四子腔体114b的镀膜口101并且使对应的镀膜基板200从所述镀膜口101暴露在所述第四子腔体114b内。相反，所述操作杆22在所述第三通道17内移动可使所述两个承载座221收容于所述第二通道16，所述操作杆22在所述第二通道16内旋转可使所述两个承载座221收容于所述第一通道15。
本发明实施方式提供的承载组件及使用该承载组件的镀膜装置中的离子风源产生的离子风通过中空的操作杆，从通风口吹出后作用于承载座中的镀膜基板，有效的去除了镀膜基板上的静电和灰尘；进而显著提升了镀膜良率。
虽然本发明已以较佳实施方式披露如上，但是，其并非用以限定本发明，另外，本领域技术人员还可以在本发明精神内做其它变化等。当然，这些依据本发明精神所做的变化，都应包含在本发明所要求保护的范围之内。
Claims (1)
1.一种镀膜装置，其包括一本体及一承载组件；所述本体包括一腔体，所述腔体包括一顶壁及一与顶壁相对的底壁；所述腔体包括用于不同镀膜方式的一第一镀膜腔体和一位于第一镀膜腔体正上方的第二镀膜腔体；所述第一镀膜腔体包括两个并排设置的第一子腔体及第二子腔体；所述第二镀膜腔体包括两个并排设置的第三子腔体及第四子腔体；所述第一子腔体、第二子腔体、第三子腔体及第四子腔体呈田字型分布；所述第一子腔体及所述第二子腔体与底壁之间形成一个第一通道，所述第一子腔体与所述第二子腔体、所述第三子腔体与所述第四子腔体之间形成一个与所述第一通道垂直相通的第二通道，所述第三子腔体与所述第一子腔体、所述第四子腔体与所述第二子腔体之间形成一个与所述第一通道平行且与所述第二通道垂直相通的第三通道；在所述第一子腔体与第二子腔体与第一通道相邻的底面上分别开设有一镀膜口，所述第三子腔体与第四子腔体与第三通道相邻的底面上也分别开设有一镀膜口；所述承载组件用于承载镀膜基板，并通过在第一通道、第二通道及第三通道间的移动，将镀膜基板移动到镀膜子腔体；其特征在于：所述承载组件包括一承载板、一操作杆及一离子风源；所述承载板固设于操作杆上且邻近操作杆的端部；所述承载板上设置有两个用于承载镀膜基板的承载座，承载座相对所述操作杆对称地分布在所述承载板上；所述操作杆为一中空杆，在其承载有所述承载板一端的侧壁上对应承载座的位置处分别开设有两个通风口；所述离子风源与操作杆上远离承载板的另一端相连接，并向所述操作杆中通入离子风；所述本体包括一腔门及一凸杆，所述腔门与凸杆之间通过弹簧连接，所述凸杆用于将通道封闭。
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