CN101619446A - 镀膜蒸发载具及使用该镀膜蒸发载具的真空镀膜装置 - Google Patents
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- 230000008020 evaporation Effects 0.000 title claims abstract description 65
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 title claims abstract description 65
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 54
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 54
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 33
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 32
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims abstract description 11
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 4
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 abstract 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 10
- 239000010408 film Substances 0.000 description 7
- 241000208340 Araliaceae Species 0.000 description 5
- 235000005035 Panax pseudoginseng ssp. pseudoginseng Nutrition 0.000 description 5
- 235000003140 Panax quinquefolius Nutrition 0.000 description 5
- 235000008434 ginseng Nutrition 0.000 description 5
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 239000003302 ferromagnetic material Substances 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 description 1
- 230000005389 magnetism Effects 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/28—Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation
- C23C14/30—Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation by electron bombardment
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/243—Crucibles for source material
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
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- Toxicology (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
本发明涉及一种镀膜蒸发载具，其包括一个具有一个转子的驱动部，至少一个转动部及多个可放置薄膜材料的收容部，该至少一个转动部包括一个活动耦合至该转子的柱状转动体及沿该柱状转动体延伸且分别用于支撑该多个收容部的多个支撑体。所述的镀膜蒸发载具通过在多个收容部内分散放置不同或相同的薄膜材料及驱动部驱动转动部将放置所需薄膜材料的收容部转动至电子发射源发射电子的路径上，无需频繁更换镀膜蒸发载具及薄膜材料，提高了生产效率，且所需预熔的薄膜材料的深度变小，从而改善了预熔效果。本发明还涉及一种使用上述镀膜蒸发载具的真空镀膜装置。
Description
技术领域
本发明涉及一种镀膜技术，特别涉及一种镀膜蒸发载具及使用该镀膜蒸发载具的真空镀膜装置。
背景技术
目前，真空镀膜技术被广泛应用于光学领域，如在光学镜片的各个表面镀上各种功能薄膜等。一般地，真空镀膜装置包括一个真空室，位于该真空室内的一个蒸发源及一个与该蒸发源相对的夹具。该蒸发源包括一个用于放置薄膜材料的镀膜蒸发载具如坩埚及一个用于将镀膜蒸发载具内的薄膜材料从固态变为气态的电子发射源。该夹具用于夹持待镀膜的光学镜片以使待镀膜的光学镜片表面镀上所需薄膜。
目前的镀膜蒸发载具之设计以装载薄膜材料为考虑，单纯要求其耐用度与装载容量，因此，镀膜蒸发载具只放置一种薄膜材料。但，对于待镀膜的光学镜片的各个表面需要镀不同的功能薄膜或不同待镀膜的光学镜片需要镀不同的功能薄膜时，则需要频繁更换镀膜蒸发载具及镀膜蒸发载具内的薄膜材料，导致生产效率低。另外，该镀膜蒸发载具放置较多的薄膜材料，在进行薄膜材料的预熔时，所需预熔的薄膜材料的深度较大，较难达到理想的预熔效果，进而影响镀膜效果。
发明内容
有鉴于此，有必要提供一种能提高生产效率且可改善预熔效果的镀膜蒸发载具及使用该镀膜蒸发载具的真空镀膜装置。
一种镀膜蒸发载具，其包括一个具有一个转子的驱动部，至少一个转动部及多个可放置薄膜材料的收容部，该至少一个转动部包括一个活动耦合至该转子的柱状转动体及沿该柱状转动体延伸且分别用于支撑该多个收容部的多个支撑体。
一种真空镀膜装置，其包括一个真空室，置于该真空室内的一个蒸发源及一个夹具，该夹具与该蒸发源相对设置。该蒸发源包括一个镀膜蒸发载具及一个电子发射源，该镀膜蒸发载具包括一个具有一个转子的驱动部，至少一个转动部及多个收容部，该至少一个转动部包括一个活动耦合至该转子的柱状转动体及沿该柱状转动体延伸且分别用于支撑该多个收容部的多个支撑体，该电子发射源用于发射电子至该多个收容部中的一个收容部。
所述的镀膜蒸发载具及使用该镀膜蒸发载具的真空镀膜装置，通过在多个收容部内分散放置不同或相同的薄膜材料及驱动部驱动转动部将放置所需薄膜材料的收容部转动至电子发射源的电子发射路径上，无需频繁更换镀膜蒸发载具及薄膜材料，提高了生产效率，且所需预熔的薄膜材料的深度变小，从而改善了预熔效果。
附图说明
图1为本发明第一实施方式的真空镀膜装置的结构示意图。
图2为图1中的真空镀膜装置的镀膜蒸发载具的平面示意图。
图3为图1中的真空镀膜装置的载具遮罩的结构示意图。
图4为本发明第二实施方式的真空镀膜装置的镀膜蒸发载具的结构示意图。
图5为图4中的镀膜蒸发载具的第一柱状转动部与底座的结合示意图。
图6为图5中的第一柱状转动部与底座间相配合的面的平面示意图。
图7为图4中的镀膜蒸发载具的转子位于一个位置的示意图。
图8为图4中的镀膜蒸发载具的转子位于另一个位置的示意图。
图9为图4中的镀膜蒸发载具的转子位于再一个位置的示意图。
具体实施方式
下面将结合附图对本发明实施方式作进一步的详细说明。
请一并参阅图1及图2，本发明第一实施方式提供的一种真空镀膜装置100包括一个真空室10，置于该真空室10内的一个蒸发源20及一个夹具30。该夹具30通过吊杆32固定在真空室10上，且与该蒸发源20相对设置，并用于夹持待镀膜的光学镜片(图未示)。该蒸发源20包括一个镀膜蒸发载具200及一个电子发射源250。
该镀膜蒸发载具200包括一个驱动部202，一个转动部210及四个收容部220。该四个收容部200用于放置不同或相同的薄膜材料。该转动部210包括一个柱状转动体212及沿该柱状转动体212延伸且分别用于支撑该四个收容部220的四个支撑体214，如图2所示。
每个收容部220开设有一个容置槽222，该容置槽222是面向夹持待镀膜的光学镜片的夹具30，以使从该容置槽222内蒸发的薄膜材料可以直接上升至该夹具30。该四个收容部220所放置的材料可视需求决定，如若待镀膜的光学镜片的各个表面需要镀不同的功能薄膜或不同待镀膜的光学镜片需要镀不同的功能薄膜时，对应地将不同的薄膜材料放置于容置槽222内。
该驱动部202具有一个定子204及一个由定子204驱动的转子206，该柱状转动体212与定子204相对的一个端面开设有一个与该转子206相配合的凹槽216。本实施方式中，该转子206的顶端208呈六角形，相应地，该凹槽216的截面也呈六角形。如此，该定子204驱动该转子206转动时，该柱状转动体212也同时被转子206带动而转动，因此，每个收容部220可依需要被转动至电子发射源250的电子252发射路径上。进行镀膜时，通过驱动部202驱动转动部210转动，而将放置所需薄膜材料的收容部220转动至电子发射源250的电子252发射路径上即可。可以理解，转子206的顶端208及该凹槽216的截面的形状不限于上述形状，也可设计为三角形，“1”字形或“十”字形等其他形状。
请结合图3，进一步地，为了使被蒸发的薄膜材料均匀地上升至该夹具30，该镀膜蒸发载具200还包括一个载具遮罩40，该载具遮罩40罩设转动部210及四个收容部220。载具遮罩40大致呈圆柱状，其包括一个顶面402及一个与顶面402大致垂直连接的侧面404。顶面402开设有呈矩阵状排列的多个孔洞406，侧面404开设一个供电子252进入的开口408。当将放置有当前所需的薄膜材料的收容部220转动至电子发射源250的电子252发射路径上时，该多个孔洞406与该收容部220的容置槽相对，被蒸发的薄膜材料上升遇到多个孔洞406间的部分顶面402的阻挡而分散到各个孔洞406均匀地逸出。
该真空镀膜装置100通过在多个收容部220内分散放置不同或相同的薄膜材料及驱动部202驱动转动部210将放置所需薄膜材料的收容部220转动至电子发射源发射电子252的路径上，无需频繁更换镀膜蒸发载具及薄膜材料，提高了生产效率，且所需预熔的薄膜材料的深度变小，从而改善了预熔效果。
此外，该真空镀膜装置100还可减少预熔的次数，因当其中一个放置于容置槽222内的薄膜材料被预熔后，当再次被转动至电子发射源250的电子252发射路径上时，就无需再预熔了。
请参阅图4，本发明第二实施例提供的镀膜蒸发载具200’与第一实施方式提供的镀膜蒸发载具200的区别在于：本实施方式的镀膜蒸发载具200’包括三个转动部210a、210b、210c，十二个收容部220、一个定位支架50及一个底座60。
该底座60用于承载定位支架50及三个转动部210a、210b、210c。该三个转动部210a、210b、210c形成在底座上，且自远离底座60的方向依次叠合在一起(为方便说明，图4中，该三个转动部210a、210b、210c自远离底座60的方向分别为第一转动部210a、第二转动部210b及第三转动部210c)。第一转动部210a包括一个中空的第一柱状转动体212a及沿该第一柱状转动体212a延伸且分别可用于支撑四个收容部220的四个第一支撑体214a。第二转动部210b包括一个中空的第二柱状转动体212b及沿该第二柱状转动体212b延伸且分别可用于支撑四个收容部220的四个第二支撑体214b。第三转动部210c包括一个中空的第三柱状转动体212c及沿该第三柱状转动体212c延伸且分别可用于支撑四个收容部220的四个第三支撑体214c。较佳地，相邻的两个柱状转动体之间涂布有润滑材料，以减少相邻的两个柱状转动体之间的转动摩擦力。十二个收容部220分别被十二个支撑体214a、214b、214c所支撑。本实施方式中，三个柱状转动体212a、212b、212c内分别形成一个第一六角形通孔216a、第二六角形通孔216b及第三六角形通孔216c(参图7，图8及图9)，且三个六角形通孔216a、216b、216c相互对准且尺寸相同。
请结合图5及图6(图5及图6分别只表示第一柱状转动体212a及底座60)，该底座60上开设有一个供转子206(参图1)穿过的圆通孔602，该圆通孔602与第一六角形通孔216a对准，底座60的面向第一柱状转动体212a的表面604形成第一圆环容置槽606，圆环容置槽606是围绕圆通孔602在该表面604上的开口设置。第一柱状转动体212a与底座60相对的端面218a形成与第一圆环容置槽606对应的第二圆环容置槽219a，该第二圆环容置槽219a是围绕第一六角形通孔216a在该端面218a的开口设置，多个滚珠70置于第一圆环容置槽606与第二圆环容置槽219a间，并分别与第一圆环容置槽606与第二圆环容置槽219a抵触。因此，通过多个滚珠70滚动，第一柱状转动体212a可转动地设置在底座60上。
转子206的顶端208呈六角形(参图1，图7，图8及图9)。该转子206自远离驱动部202(参图1)的方向穿过圆通孔602并可分别插入至第一六角形通孔216a，第二六角形通孔216b及第三六角形通孔216c而活动耦合至三个转动部210a、210b、210c以对应驱动第一柱状转动体212a，第二柱状转动体212b或第三柱状转动体212c转动。本实施方式中，三个柱状转动体212a、212b、212c由铁磁材料制成。可以理解的是，可以将驱动部202置于一个升降装置(图未示)上，以使驱动部202相对于三个转动部210a、210b、210c作升降运动将转子206移动至对应的六角形通孔中。
转子206的顶端208及该通孔216a、216b、216c的形状不限于上述形状，也可设计为三角形，“1”字形或“十”字形等其他形状。
该定位支架50放置于载具遮罩40(参图3)内且与三个转动部210a、210b、210c相对，定位支架50包括一个主体502及固定在主体502上且沿主体502轴向间隔设置的三个电磁体504a、504b、504c，该三个电磁体504a、504b、504c分别与三个柱状转动体212a、212b、212c相对。通电时，每个电磁体504a、504b或504c产生磁场以吸引与每个电磁体504a、504b或504c对应的柱状转动体212a、212b或212c以使对应的柱状转动体212a、212b或212c固定。可以理解，每个电磁体504a、504b或504c通电时对于每个柱状转动体212a、212b或212c的吸引力的大小应该使当其中一个转动部如第一转动部210a转动时，第二转动部210b及第三转动部210c可相对于第一转动部210a保持不动。
本实施方式的镀膜蒸发载具200’除了具有与第一本实施方式的镀膜蒸发载具200相同的有益效果外，还具有因进一步设置三个依次叠合在一起的转动部212a、212b、212c及更多的收容部220，增加了放置不同薄膜材料的种类。
可以理解，本发明还包括其他的实施方式的镀膜蒸发载具，如叠合在一起的转动部可以是二个，四个或更多，及每个柱状转动体上所设的支撑体可以是二个，三个或更多等。
应该指出，上述实施方式仅为本发明的较佳实施方式，本领域技术人员还可在本发明精神内做其它变化。当然，这些依据本发明精神所做的变化，都应包含在本发明所要求保护的范围的内。
Claims (9)
1.一种镀膜蒸发载具，其特征在于：其包括一个具有一个转子的驱动部，至少一个转动部及多个可放置薄膜材料的收容部，该至少一个转动部包括一个活动耦合至该转子的柱状转动体及沿该柱状转动体延伸且分别用于支撑该多个收容部的多个支撑体。
2.如权利要求1所述的镀膜蒸发载具，其特征在于，所述柱状转动体的一个端面开设有一个与该转子相配合的凹槽。
3.如权利要求2所述的镀膜蒸发载具，其特征在于，所述转子的顶端呈六角形及该凹槽的截面呈六角形。
4.如权利要求1所述的镀膜蒸发载具，其特征在于，所述镀膜蒸发载具还包括一个载具遮罩，该载具遮罩罩设该至少一个转动部及该多个收容部，该载具遮罩大致呈圆柱状，其包括一个顶面及一个与顶面大致垂直连接的侧面，该顶面开设有呈矩阵状排列的多个孔洞，该侧面开设一个用于供电子进入的开口。
5.如权利要求1所述的镀膜蒸发载具，其特征在于，所述镀膜蒸发载具包括三个依次叠合的转动部，一个定位支架及一个底座，该底座支撑该定位支架及最靠近该底座的一个转动部，且与最靠近该底座的一个转动部活动连接，该底座开设有一个供该转子穿过的圆通孔，每个转动部的柱状转动体是中空的，该转子穿过该圆通孔且可分别活动耦合至每个柱状转动体，该定位支架包括一个主体及固定在主体上且沿主体轴向间隔设置的三个电磁体，三个电磁体分别与三个柱状转动体相对。
6.如权利要求5所述的镀膜蒸发载具，其特征在于，所述每个转动部的柱状转动体内形成一个六角形通孔，该每个六角形通孔相互对准且尺寸相同。
7.如权利要求6所述的镀膜蒸发载具，其特征在于，所述转子的顶端呈六角形。
8.如权利要求5所述的镀膜蒸发载具，其特征在于，所述镀膜蒸发载具还包括一个载具遮罩，该载具遮罩罩设三个转动部及多个收容部，该载具遮罩大致呈圆柱状，其包括一个顶面及一个与顶面大致垂直连接的侧面，该顶面开设有呈矩阵状排列的多个孔洞，该侧面开设一个用于供电子进入的开口。
9.一种真空镀膜装置，其包括一个真空室，置于该真空室内的一个蒸发源及一个夹具，该夹具与该蒸发源相对设置。该蒸发源包括一个如权利要求1至8项中任一项所述的镀膜蒸发载具及一个电子发射源，该电子发射源用于发射电子至该多个收容部中的一个收容部。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN200810302486A CN101619446A (zh) | 2008-06-30 | 2008-06-30 | 镀膜蒸发载具及使用该镀膜蒸发载具的真空镀膜装置 |
| US12/431,778 US8273180B2 (en) | 2008-06-30 | 2009-04-29 | Device for film coating |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN200810302486A CN101619446A (zh) | 2008-06-30 | 2008-06-30 | 镀膜蒸发载具及使用该镀膜蒸发载具的真空镀膜装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN101619446A true CN101619446A (zh) | 2010-01-06 |
Family
ID=41445913
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN200810302486A Pending CN101619446A (zh) | 2008-06-30 | 2008-06-30 | 镀膜蒸发载具及使用该镀膜蒸发载具的真空镀膜装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8273180B2 (zh) |
| CN (1) | CN101619446A (zh) |
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| CN118563262A (zh) * | 2024-07-31 | 2024-08-30 | 蒙城繁枫真空科技有限公司 | 一种线性蒸发源设备 |
| CN118563262B (zh) * | 2024-07-31 | 2024-10-01 | 蒙城繁枫真空科技有限公司 | 一种线性蒸发源设备 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US8273180B2 (en) | 2012-09-25 |
| US20090320757A1 (en) | 2009-12-31 |
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| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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