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CN101458608A - 触摸屏、触摸屏的制备方法及使用该触摸屏的显示装置 - Google Patents

触摸屏、触摸屏的制备方法及使用该触摸屏的显示装置 Download PDF

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CN101458608A
CN101458608A CNA2007101251168A CN200710125116A CN101458608A CN 101458608 A CN101458608 A CN 101458608A CN A2007101251168 A CNA2007101251168 A CN A2007101251168A CN 200710125116 A CN200710125116 A CN 200710125116A CN 101458608 A CN101458608 A CN 101458608A
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Hongfujin Precision Industry Shenzhen Co Ltd
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Abstract

本发明涉及一种触摸屏，包括：一第一电极板，该第一电极板包括一第一基体及一第一导电层，该第一导电层设置在该第一基体的下表面；以及一第二电极板，该第二电极板与第一电极板间隔设置，该第二电极板包括一第二基体及一第二导电层，该第二导电层设置在该第二基体的上表面；其中，上述第一导电层和第二导电层中的至少一个导电层包括一碳纳米管层，该碳纳米管层包括各向同性或沿一固定方向取向或不同方向取向排列的多个碳纳米管。进一步地，本发明还涉及上述触摸屏的制备方法以及一种使用上述触摸屏的显示装置，上述显示装置包括一触摸屏及一显示设备。

Description

触摸屏、触摸屏的制备方法及使用该触摸屏的显示装置
技术领域
本发明涉及一种触摸屏、触摸屏的制备方法及使用该触摸屏的显示装置，尤其涉及一种基于碳纳米管的触摸屏、该触摸屏的制备方法及使用该触摸屏的显示装置。
背景技术
近年来，伴随着移动电话与触摸导航系统等各种电子设备的高性能化和多样化的发展，在液晶等显示元件的前面安装透光性的触摸屏的电子设备逐步增加。这样的电子设备的利用者通过触摸屏，一边对位于触摸屏背面的显示元件的显示内容进行视觉确认，一边利用手指或笔等方式按压触摸屏来进行操作。由此，可以操作电子设备的各种功能。
按照触摸屏的工作原理和传输介质的不同，现有的触摸屏通常分为四种类型，分别为电阻式、电容感应式、红外线式以及表面声波式。其中电阻式触摸屏的应用最为广泛，请参见文献“Production of Transparent ConductiveFilms with Inserted SiO2 Anchor Layer，and Application to a Resistive TouchPanel”Kazuhiro Noda，Kohtaro Tanimura.Electronics and Communications inJapan，Part 2，Vol.84，P39-45(2001)。
现有的电阻式触摸屏一般包括一上基板，该上基板的下表面形成有一上透明导电层；一下基板，该下基板的上表面形成有一下透明导电层；以及多个点状隔离物(Dot Spacer)设置在上透明导电层与下透明导电层之间。其中，该上透明导电层与该下透明导电层通常采用具有导电特性的铟锡氧化物(Indium Tin Oxide，ITO)层(下称ITO层)。当使用手指或笔按压上基板时，上基板发生扭曲，使得按压处的上透明导电层与下透明导电层彼此接触。通过外接的电子电路分别向上透明导电层与下透明导电层依次施加电压，触摸屏控制器通过分别测量第一导电层上的电压变化与第二导电层上的电压变化，并进行精确计算，将它转换成触点坐标。触摸屏控制器将数字化的触点坐标传递给中央处理器。中央处理器根据触点坐标发出相应指令，启动电子设备的各种功能切换，并通过显示器控制器控制显示元件显示。
现有的电阻式触摸屏的制备方法通常是采用离子束溅射或蒸镀等工艺在上下基板上沉积一层ITO层作为透明导电层，在制备的过程，需要较高的真空环境及需要加热到200～300℃，因此，使得ITO层的制备成本较高。此外，ITO层作为透明导电层具有机械性能不够好、难以弯曲及阻值分布不均匀等缺点。另外，ITO在潮湿的空气中透明度会逐渐下降。从而导致现有的电阻式触摸屏及显示装置存在耐用性不够好，灵敏度低、线性及准确性较差等缺点。
因此，确有必要提供一种耐用性好，且灵敏度高、线性及准确性强的触摸屏，以及一种方法简单、成本低的触摸屏的制备方法及使用该触摸屏的显示装置。
发明内容
一种触摸屏，包括：一第一电极板，该第一电极板包括一第一基体及一第一导电层，该第一导电层设置在该第一基体的下表面；以及一第二电极板，该第二电极板与第一电极板间隔设置，该第二电极板包括一第二基体及一第二导电层，该第二导电层设置在该第二基体的上表面；其中，上述第一导电层和第二导电层中的至少一个导电层包括一碳纳米管层，该碳纳米管层包括各向同性或沿一固定方向取向或不同方向取向排列的多个碳纳米管。
一种触摸屏的制备方法，包括以下步骤：提供一碳纳米管阵列形成于一基底及一第一基体和一第二基体；通过挤压上述碳纳米管阵列，从而获得一碳纳米管层分别形成在上述第一基体和第二基体表面，形成第一导电层和第二导电层，进而形成第一电极板和第二电极板；在上述第一电极板上设置两个第一电极，在上述第二电极板上设置两个第二电极，并将上述第一电极板和第二电极板间隔设置，且使上述第一导电层和上述第二导电层相对设置，从而得到一触摸屏。
一种显示装置，包括：一触摸屏，该触摸屏包括一第一电极板及一第二电极板，该第一电极板包括一第一基体及一第一导电层，该第一导电层设置在该第一基体的下表面，该第二电极板与第一电极板间隔设置，且包括一第二基体及一第二导电层，该第二导电层设置在该第二基体的上表面；及一显示设备，该显示设备正对且靠近上述触摸屏的第二电极板设置；其中，上述第一导电层和第二导电层中的至少一个导电层包括一碳纳米管层，该碳纳米管层包括各向同性或沿一固定方向取向或不同方向取向排列的多个碳纳米管。
本技术方案实施例提供的采用碳纳米管层作为透明导电层的触摸屏及显示装置具有以下优点：其一，碳纳米管的优异的力学特性使得透明导电层具有很好的韧性和机械强度，故，可以相应的提高触摸屏的耐用性，进而提高显示装置的耐用性；其二，由于碳纳米管具有优异的导电性能，上述该碳纳米管层包括各向同性或沿一固定方向取向或不同方向取向排列的多个碳纳米管，故，采用上述碳纳米管层作透明导电层，可使得透明导电层具有均匀的阻值分布，从而提高触摸屏及使用该触摸屏的显示装置的分辨率和精确度；其三，由于碳纳米管层中的碳纳米管薄膜是通过一施压装置挤压碳纳米管阵列获得，制备方法简单，且该方法无需真空环境和加热过程，故采用上述方法制备的碳纳米管薄膜所形成的碳纳米管层做透明导电层有利于降低触摸屏及使用该触摸屏的显示装置的成本。
附图说明
图1是本技术方案实施例触摸屏的立体结构示意图。
图2是本技术方案实施例触摸屏的侧视结构示意图。
图3是本技术方案实施例触摸屏的制备方法的流程示意图。
图4是本技术方案实施例获得的各向同性碳纳米管薄膜的扫描电镜照片。
图5是本技术方案实施例获得的择优取向碳纳米管薄膜的扫描电镜照片。
图6是本技术方案实施例显示装置的侧视结构示意图。
具体实施方式
以下将结合附图详细说明本技术方案实施例提供的触摸屏、触摸屏的制备方法及使用该触摸屏的显示装置。
请参阅图1及图2，本技术方案实施例提供一种触摸屏10，该触摸屏10包括一第一电极板12，一第二电极板14以及设置在该第一电极板12与第二电极板14之间的多个透明点状隔离物16。
该第一电极板12包括一第一基体120，一第一导电层122以及两个第一电极124。该第一基体120为平面结构，该第一导电层122与两个第一电极124均设置在第一基体120的下表面。两个第一电极124分别设置在第一导电层122沿第一方向的两端并与第一导电层122电连接。该第二电极板14包括一第二基体140，一第二导电层142以及两个第二电极144。该第二基体140为平面结构，该第二导电层142与两个第二电极144均设置在第二基体140的上表面。两个第二电极144分别设置在第二导电层142沿第二方向的两端并与第二导电层142电连接。该第一方向垂直于该第二方向，即两个第一电极124与两个第二电极144正交设置。其中，该第一基体120为透明的且具有一定柔软度的薄膜或薄板，该第二基体140为透明基板，该第二基体140的材料可选择为玻璃、石英、金刚石及塑料等硬性材料或柔性材料。所述第二基体140主要起支撑的作用。该第一电极124与该第二电极144的材料为金属、碳纳米管薄膜或其他导电材料，只要确保导电性即可。本实施例中，该第一基体120为聚酯膜，该第二基体140为玻璃基板，该第一电极124与第二电极144为导电的银浆层或碳纳米管薄膜。
进一步地，该第二电极板14上表面外围设置有一绝缘层18。上述的第一电极板12设置在该绝缘层18上，且该第一电极板12的第一导电层122正对第二电极板14的第二导电层142设置。上述多个透明点状隔离物16设置在第二电极板14的第二导电层142上，且该多个透明点状隔离物16彼此间隔设置。第一电极板12与第二电极板14之间的距离为2～10微米。该绝缘层18与点状隔离物16均可采用绝缘树脂或其他绝缘材料制成。设置绝缘层18与点状隔离物16可使得第一电极板14与第二电极板12电绝缘。可以理解，当触摸屏10尺寸较小时，点状隔离物16为可选择的结构，只需确保第一电极板14与第二电极板12电绝缘即可。
该第一导电层122与第二导电层142中的至少一个导电层包括一碳纳米管层，该碳纳米管层包括各向同性或沿一固定方向取向或不同方向取向排列的多个碳纳米管。进一步地，该碳纳米管层中的碳纳米管与碳纳米管层的表面成一夹度α，其中，α大于等于零度且小于等于15度(0≤α≤15°)。优选地，所述碳纳米管层中的碳纳米管平行于碳纳米管层的表面。该碳纳米管层中的碳纳米管之间通过范德华力相互吸引，紧密结合，形成一自支撑结构，使得该碳纳米管层具有很好的韧性，可以弯折，故本技术方案实施例中的基体可为柔性基体。所述碳纳米管层的厚度为0.5纳米～100微米，碳纳米管层的长度及宽度不限，可根据实际需要制成具有任意长度和宽度的碳纳米管层。所述碳纳米管层可以为一透明的碳纳米管薄膜。本实施例中，该第一导电层122与第二导电层142均为碳纳米管层。该碳纳米管层为一碳纳米管薄膜，该碳纳米管薄膜中的碳纳米管平行于碳纳米管薄膜表面且沿不同方向取向排列。该碳纳米管层的长度为30厘米，宽度为30厘米，厚度为1微米。
另外，该第一电极板12上表面可进一步设置一透明保护膜126，该透明保护膜126可由氮化硅、氧化硅、苯丙环丁烯(BCB)、聚酯以及丙烯酸树脂等材料形成。该透明保护膜126也可采用一层表面硬化处理、光滑防刮的塑料层，如聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜，用于保护第一电极板12，提高耐用性。该透明保护膜126还可用于提供一些其它的附加功能，如可以减少眩光或降低反射。
此外，可选择地，为了减小由显示设备产生的电磁干扰，避免从触摸屏10发出的信号产生错误，还可在第二基体140的下表面上设置一屏蔽层(图未示)。该屏蔽层可由铟锡氧化物(ITO)薄膜、锑锡氧化物(ATO)薄膜、镍金薄膜、银薄膜或碳纳米管层等透明导电材料形成。本实施例中，所述的屏蔽层包含一碳纳米管薄膜，该碳纳米管薄膜中的碳纳米管的排列方式不限，可为各向同性或沿一固定方向取向或不同方向取向排列也可为其它的排列方式。本实施例中，该屏蔽层中的碳纳米管沿不同方向取向排列。该碳纳米管薄膜作为电接地点，起到屏蔽的作用，从而使得触摸屏10能在无干扰的环境中工作。
请参阅图3，本技术方案实施例提供一种制备上述触摸屏10的方法，具体包括以下步骤：
步骤一：提供一碳纳米管阵列形成于一基底及一第一基体120和一第二基体140。
其中，优选地，该阵列为超顺排碳纳米管阵列。
本技术方案实施例提供的碳纳米管阵列为单壁碳纳米管阵列、双壁碳纳米管阵列和多壁碳纳米管阵列中的一种或多种。本实施例中，超顺排碳纳米管阵列的制备方法采用化学气相沉积法，其具体步骤包括：(a)提供一平整基底，该基底可选用P型或N型硅基底，或选用形成有氧化层的硅基底，本实施例优选为采用4英寸的硅基底；(b)在基底表面均匀形成一催化剂层，该催化剂层材料可选用铁(Fe)、钴(Co)、镍(Ni)或其任意组合的合金之一；(c)将上述形成有催化剂层的基底在700～900℃的空气中退火约30分钟～90分钟；(d)将处理过的基底置于反应炉中，在保护气体环境下加热到500～740℃，然后通入碳源气体反应约5～30分钟，生长得到超顺排碳纳米管阵列，其高度为200～400微米。该超顺排碳纳米管阵列为多个彼此平行且垂直于基底生长的碳纳米管形成的纯碳纳米管阵列。通过上述控制生长条件，该超顺排碳纳米管阵列中基本不含有杂质，如无定型碳或残留的催化剂金属颗粒等。该碳纳米管阵列中的碳纳米管彼此通过范德华力紧密接触形成阵列。该碳纳米管阵列与上述基底面积基本相同。
本实施例中碳源气可选用乙炔、乙烯、甲烷等化学性质较活泼的碳氢化合物，本实施例优选的碳源气为乙炔；保护气体为氮气或惰性气体，本实施例优选的保护气体为氩气。
可以理解，本实施例提供的碳纳米管阵列不限于上述制备方法。也可为石墨电极恒流电弧放电沉积法、激光蒸发沉积法等。
所述第一基体120和第二基体140的材料为玻璃、石英、金刚石及塑料等硬性材料或柔性材料。本实施例中，该第一基体120为聚酯膜，该第二基体140为玻璃基板。
步骤二：通过挤压上述碳纳米管阵列，从而获得一碳纳米管层分别形成在上述第一基体120和一第二基体140表面，形成第一导电层122和第二导电层142，进而形成第一电极板12和第二电极板14。
本技术方案实施例中，所述碳纳米管层包括一碳纳米管薄膜。
其中，由于本技术方案提供的碳纳米管具有很好的粘性，所以上述第一基体120和第二基体140可以比较牢固地粘附在碳纳米管阵列上。故本技术方案实施例中，所述第一导电层122和第二导电层142可通过以下两种方式形成：其一，提供一施压装置，并通过上述施压装置直接施加一定的压力于上述碳纳米管阵列上；在压力的作用下，该碳纳米管阵列与生长的基底分离，从而形成由多个碳纳米管组成的具有自支撑结构的碳纳米管薄膜；之后，将上述碳纳米管薄膜切割成基体大小形状的碳纳米管薄膜，通过导电粘结剂如导电银胶等分别粘结在上述第一基体120和第二基体140的表面，形成上述第一导电层122和第二导电层142。其二，分别将上述第一基体120和第二基体140的一表面直接覆盖在上述碳纳米管阵列上；提供一施压装置，通过上述施压装置直接施加一定的压力于上述第一基体120和第二基体140的另一表面上；在压力的作用下碳纳米管阵列与生长的基底分离，从而形成由多个碳纳米管组成的具有自支撑结构的碳纳米管薄膜，并且该碳纳米管薄膜直接粘结在上述第一基体120和第二基体140的表面，切除多余的碳纳米管薄膜，从而形成上述第一导电层122和第二导电层142。
另外，在施压的过程中，碳纳米管阵列在压力的作用下会与生长的基底分离，从而形成由多个碳纳米管组成的具有自支撑结构的碳纳米管薄膜，且所述的多个碳纳米管基本上与碳纳米管薄膜的表面平行。本技术方案实施例中，施压装置为一压头，压头表面光滑，压头的形状及挤压方向决定制备的碳纳米管薄膜中碳纳米管的排列方式。具体地，当采用平面压头沿垂直于上述碳纳米管阵列生长的基底的方向挤压时，可获得碳纳米管为各向同性排列的碳纳米管薄膜(请参阅图4)；当采用滚轴状压头沿某一固定方向碾压时，可获得碳纳米管沿该固定方向取向排列的碳纳米管薄膜(请参阅图5)；当采用滚轴状压头沿不同方向碾压时，可获得碳纳米管沿不同方向取向排列的碳纳米管薄膜。
可以理解，当采用上述不同方式挤压上述的碳纳米管阵列时，碳纳米管会在压力的作用下倾倒，并与相邻的碳纳米管通过范德华力相互吸引、连接形成由多个碳纳米管组成的具有自支撑结构的碳纳米管薄膜。所述的多个碳纳米管与该碳纳米管薄膜的表面基本平行并为各向同性或沿一固定方向取向或不同方向取向排列。另外，在压力的作用下，碳纳米管阵列会与生长的基底分离，从而使得该碳纳米管薄膜容易与基底脱离。
本技术领域技术人员应明白，上述碳纳米管阵列的倾倒程度(倾角)与压力的大小有关，压力越大，倾角越大。制备的碳纳米管薄膜的厚度取决于碳纳米管阵列的高度以及压力大小。碳纳米管阵列的高度越大而施加的压力越小，则制备的碳纳米管薄膜的厚度越大；反之，碳纳米管阵列的高度越小而施加的压力越大，则制备的碳纳米管薄膜的厚度越小。本实施例中的碳纳米管薄膜中的碳纳米管与碳纳米管薄膜的表面成一夹角α，其中，α大于等于零度且小于等于15度(0≤α≤15°)。可以理解，所述碳纳米管薄膜的导电性能与上述的夹角有关。具体地，所述夹角越小，则制备的碳纳米管薄膜的导电性能越好。反之，所述夹角越大，则制备的碳纳米管薄膜的导电性能逐渐降低。优选地，所述碳纳米管层中的碳纳米管平行于碳纳米管层的表面。
进一步地，上述的碳纳米管层可以是本实施例步骤二中制备的一个碳纳米管薄膜或至少两个重叠设置的碳纳米管薄膜。具体地，上述碳纳米管薄膜进一步可以覆盖在另一碳纳米管阵列上，通过本技术方案实施例步骤二提供的施压装置挤压上述覆盖有碳纳米管薄膜的碳纳米管阵列形成一双层碳纳米管薄膜结构，该双层碳纳米管薄膜结构中的碳纳米管薄膜之间通过范德华力紧密结合。重复上述步骤，即可得到一包含多层碳纳米管薄膜的碳纳米管层。
本实施例中，上述的碳纳米管薄膜的宽度和长度与碳纳米管阵列所生长的基底的尺寸有关，该碳纳米管薄膜的宽度和长度不限，可根据实际需求制得。本技术方案实施例中采用4英寸的基底生长超顺排碳纳米管阵列。该碳纳米管层的厚度为0.5纳米～100微米。当该碳纳米管层中的碳纳米管为单壁碳纳米管时，该单壁碳纳米管的直径为0.5纳米～50纳米。当该碳纳米管层中的碳纳米管为双壁碳纳米管时，该双壁碳纳米管的直径为1.0纳米～50纳米。当该碳纳米管层中的碳纳米管为多壁碳纳米管时，该多壁碳纳米管的直径为1.5纳米～50纳米。
步骤三：在上述第一电极板12上设置两个第一电极124，在上述第二电极板14上设置两个第二电极144，并将上述第一电极板12和第二电极板14间隔设置，且使上述第一导电层122和上述第二导电层142相对设置，从而得到一触摸屏10。
本技术方案实施例中，所述两个第一电极124和两个第二电极144均为导电的银浆层。所述两个第一电极124和两个第二电极144的形成方法为：采用丝网印刷、移印或喷涂等方式分别将银浆涂覆在第一导电层142沿第一方向的两端及第二导电层142沿第二方向的两端，然后，将第一电极板和第二电极板分别放入烘箱中烘烤10-60分钟使银浆固化，烘烤温度为100℃-120℃，即可得到所述第一电极124及所述第二电极144。上述第一方向垂直于上述第二方向，即两个第一电极124与两个第二电极144正交设置。
所述绝缘层18可采用绝缘树脂或其他绝缘材料制成，如绝缘粘合剂。本技术方案实施例中，该绝缘层18为透明的绝缘粘合剂。所述第一电极板12和所述第二电极板14通过绝缘粘合剂使彼此接合，该绝缘粘合剂可涂覆于上述第一电极板12和第二电极板14的外围。此外，多个透明点状隔离物16可设置在上述绝缘粘合剂所在区域之外的可视区内，以确保上述第一电极板12和第二电极板14电绝缘。
所述透明保护膜126可为一层表面硬化处理、光滑防刮的塑料层，如聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜，用于保护第一电极板12，提高耐用性。本技术方案实施例中，该透明保护膜126采用有粘性的PET膜，该PET膜可直接粘附于触摸屏表面用作透明保护膜126。
请参阅图6，本技术方案实施例还提供一使用上述触摸屏10的显示装置100，其包括上述触摸屏10及一显示设备20。该显示设备20正对且靠近上述触摸屏10的第二电极板14设置。该触摸屏10可以与该显示设备20间隔一预定距离设置，也可集成在该显示设备20上。当该触摸屏10与该显示设备20集成设置时，可通过粘结剂将该触摸屏10附着到该显示设备20上。
本技术方案显示设备20可以为液晶显示器、场发射显示器、等离子显示器、电致发光显示器、真空荧光显示器及阴极射线管等显示设备。
进一步地，当在该触摸屏10第二基体140的下表面上设置一屏蔽层22时，可在该屏蔽层22远离第二基体140的表面上设置一钝化层24，该钝化层24可由氮化硅、氧化硅等材料形成。该钝化层24与显示设备20的正面间隔一间隙26设置。该钝化层24作为介电层使用，且保护该显示设备20不致于由于外力过大而损坏。
另外，该显示装置100进一步包括一触摸屏控制器30、一中央处理器40及一显示设备控制器50。其中，该触摸屏控制器30、该中央处理器40及该显示设备控制器50三者通过电路相互连接，该触摸屏控制器30与该触摸屏20电连接，该显示设备控制器50连接该显示设备20。该触摸屏控制器30通过手指等触摸物60触摸的图标或菜单位置来定位选择信息输入，并将该信息传递给中央处理器40。该中央处理器40通过该显示器控制器50控制该显示元件20显示。
使用时，第一电极板12之间与第二电极板14之间分别施加5V电压。使用者一边视觉确认在触摸屏10下面设置的显示元件20的显示，一边通过触摸物60如手指或笔按压触摸屏10第一电极板12进行操作。第一电极板12中第一基体120发生弯曲，使得按压处70的第一导电层122与第二电极板14的第二导电层142接触形成导通。触摸屏控制器30通过分别测量第一导电层122第一方向上的电压变化与第二导电层142第二方向上的电压变化，并进行精确计算，将它转换成触点坐标。触摸屏控制器30将数字化的触点坐标传递给中央处理器40。中央处理器40根据触点坐标发出相应指令，启动电子设备的各种功能切换，并通过显示器控制器50控制显示元件20显示。
本技术方案实施例提供的采用碳纳米管层作为透明导电层的触摸屏及显示装置具有以下优点：其一，碳纳米管的优异的力学特性使得透明导电层具有很好的韧性和机械强度，故，可以相应的提高触摸屏的耐用性，进而提高显示装置的耐用性；其二，由于碳纳米管具有优异的导电性能，上述该碳纳米管层包括各向同性或沿一固定方向取向或不同方向取向排列的多个碳纳米管，故，采用上述碳纳米管层作透明导电层，可使得透明导电层具有均匀的阻值分布，从而提高触摸屏及使用该触摸屏的显示装置的分辨率和精确度；其三，由于碳纳米管层中的碳纳米管薄膜是通过一施压装置挤压碳纳米管阵列获得，制备方法简单，且该方法无需真空环境和加热过程，故采用上述方法制备的碳纳米管薄膜所形成的碳纳米管层做透明导电层有利于降低触摸屏及使用该触摸屏的显示装置的成本。
另外，本领域技术人员还可在本发明精神内作其它变化，当然这些依据本发明精神所作的变化，都应包含在本发明所要求保护的范围内。

Claims (30)

1.一种触摸屏，包括：
一第一电极板，该第一电极板包括一第一基体及一第一导电层，该第一导电层设置在该第一基体的下表面；以及
一第二电极板，该第二电极板与第一电极板间隔设置，该第二电极板包括一第二基体及一第二导电层，该第二导电层设置在该第二基体的上表面；其特征在于：上述第一导电层和第二导电层中的至少一个导电层包括一碳纳米管层，该碳纳米管层包括各向同性或沿一固定方向取向或不同方向取向排列的多个碳纳米管。
2.如权利要求1所述的触摸屏，其特征在于，所述碳纳米管平行于碳纳米管层的表面。
3.如权利要求1所述的触摸屏，其特征在于，所述碳纳米管层中的碳纳米管与碳纳米管层的表面成一夹度α，其中，α大于等于零度且小于等于15度(0≤α≤15°)。
4.如权利要求1所述的触摸屏，其特征在于，所述碳纳米管层中的碳纳米管之间通过范德华力相互吸引、紧密结合，形成由多个碳纳米管组成的自支撑结构。
5.如权利要求1所述的触摸屏，其特征在于，所述碳纳米管层的厚度为0.5纳米～100微米。
6.如权利要求1所述的触摸屏，其特征在于，所述碳纳米管层中的碳纳米管为单壁碳纳米管、双壁碳纳米管和多壁碳纳米管中的一种或多种。
7.如权利要求6所述的触摸屏，其特征在于，所述单壁碳纳米管的直径为0.5纳米～50纳米，所述双壁碳纳米管的直径为1.0纳米～50纳米，所述多壁碳纳米管的直径为1.5纳米～50纳米。
8.如权利要求1所述的触摸屏，其特征在于，所述第一电极板进一步包括两个第一电极沿第一方向设置在第一导电层的两端且与第一导电层电连接。
9.如权利要求8所述的触摸屏，其特征在于，所述第二电极板进一步包括两个第二电极沿第二方向设置在第二导电层的两端且与第二导电层电连接。
10.如权利要求9所述的触摸屏，其特征在于，所述第二方向垂直于第一方向。
11.如权利要求1所述的触摸屏，其特征在于，所述触摸屏进一步包括一绝缘层设置在该第二电极板上表面外围，该第一电极板设置在该绝缘层上。
12.如权利要求11所述的触摸屏，其特征在于，所述触摸屏进一步包括多个透明点状隔离物设置在该第一电极板与该第二电极板之间。
13.如权利要求12所述的触摸屏，其特征在于，所述多个透明点状隔离物设置在所述第一导电层和第二导电层之间。
14.如权利要求12所述的触摸屏，其特征在于，所述透明点状隔离物与该绝缘层材料为绝缘透明树脂。
15.如权利要求1所述的触摸屏，其特征在于，所述触摸屏进一步包括一屏蔽层，该屏蔽层设置在该触摸屏第二基体的下表面，该屏蔽层为铟锡氧化物薄膜、锑锡氧化物薄膜、镍金薄膜、银薄膜或碳纳米管薄膜。
16.如权利要求1所述的触摸屏，其特征在于，所述第一基体材料为聚酯膜，所述第二基体材料为玻璃、石英、金刚石或塑料。
17.如权利要求1所述的触摸屏，其特征在于，所述触摸屏进一步包括一透明保护膜，该透明保护膜设置在该第一电极板上表面，该透明保护膜的材料为氮化硅、氧化硅、苯丙环丁烯、聚酯、丙烯酸树脂或聚对苯二甲酸乙二醇酯。
18.一种触摸屏的制备方法，包括以下步骤：
提供一碳纳米管阵列形成于一基底及一第一基体和一第二基体；
通过挤压上述碳纳米管阵列，从而获得一碳纳米管层分别形成在上述第一基体和第二基体表面，形成第一导电层和第二导电层，进而形成第一电极板和第二电极板；
在上述第一电极板上设置两个第一电极，在上述第二电极板上设置两个第二电极，并将上述第一电极板和第二电极板间隔设置，且使上述第一导电层和上述第二导电层相对设置，从而得到一触摸屏。
19.如权利要求18所述的触摸屏的制备方法，其特征在于，所述第一导电层和第二导电层的形成方法包括以下步骤：
提供一施压装置，施加一定的压力于上述碳纳米管阵列，形成由多个碳纳米管组成的具有自支撑结构的碳纳米管薄膜；
将上述碳纳米管薄膜粘结在上述第一基体和第二基体的表面，形成上述第一导电层和第二导电层。
20.如权利要求18所述的触摸屏的制备方法，其特征在于，所述第一导电层和一第二导电层的形成方法包括以下步骤：
分别将所述第一基体和第二基体的一表面直接覆盖在上述碳纳米管阵列上；提供一施压装置，分别施加一定的压力于所述第一基体和第二基体的另一表面，形成由多个碳纳米管组成的具有自支撑结构的碳纳米管薄膜分别粘结在所述第一基体和第二基体上，切除多余的碳纳米管薄膜，从而形成所述第一导电层和第二导电层。
21.如权利要求19或20所述的触摸屏的制备方法，其特征在于，所述施压装置为一平面压头。
22.如权利要求21所述的触摸屏的制备方法，其特征在于，所述挤压碳纳米管阵列的步骤为采用平面压头沿垂直于上述碳纳米管阵列生长的方向挤压。
23.如权利要求19或20所述的触摸屏的制备方法，其特征在于，所述施压装置为一滚轴状压头。
24.如权利要求23所述的触摸屏的制备方法，其特征在于，所述的挤压碳纳米管阵列的步骤为采用滚轴状压头沿某一固定方向碾压或沿不同方向碾压。
25.一种显示装置，包括：
一触摸屏，该触摸屏包括一第一电极板及一第二电极板，该第一电极板包括一第一基体及一第一导电层，该第一导电层设置在该第一基体的下表面，该第二电极板与第一电极板间隔设置，且包括一第二基体及一第二导电层，该第一导电层设置在该第二基体的上表面；及
一显示设备，该显示设备正对且靠近上述触摸屏的第二电极板设置；
其特征在于：上述第一导电层和第二导电层中的至少一个导电层包括一碳纳米管层，该碳纳米管层包括各向同性或沿一固定方向取向或不同方向取向排列的多个碳纳米管。
26.如权利要求25所述的显示装置，其特征在于，所述显示装置进一步包括一触摸屏控制器、一中央处理器及一显示设备控制器，其中，该触摸屏控制器、该中央处理器及该显示设备控制器三者通过电路相互连接，该触摸屏控制器与该触摸屏电连接，该显示设备控制器与该显示设备电连接。
27.如权利要求25所述的显示装置，其特征在于，所述显示设备为液晶显示器、场发射显示器、等离子显示器、电致发光显示器、真空荧光显示器及阴极射线管显示器中的一种。
28.如权利要求25所述的显示装置，其特征在于，所述触摸屏与所述显示设备间隔设置或所述触摸屏集成在所述显示设备上。
29.如权利要求25所述的显示装置，其特征在于，所述显示装置进一步包括一屏蔽层，该屏蔽层设置在该触摸屏第二基体的下表面，该屏蔽层为铟锡氧化物薄膜、锑锡氧化物薄膜、镍金薄膜、银薄膜或碳纳米管薄膜。
30.如权利要求29所述的显示装置，其特征在于，所述显示装置进一步包括一钝化层，该钝化层设置在该屏蔽层远离该触摸屏第二基底的表面上，该钝化层的材料为氮化硅或氧化硅。
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