CN100397155C - 基板处理装置及处理方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种基板处理装置，包括一利用处理液处理基板的洗净设备、一显影设备及处理液回收系统，该显影设备包括一显影部、一预清洗部、一清洗部及一后清洗部，该处理液回收系统设于洗净设备与显影设备之间，将由洗净设备排出的处理液导入显影设备实现处理液再利用。本发明同时提供使用该基板处理装置处理基板的方法。

Description

基板处理装置及处理方法

【技术领域】

本发明是关于一种基板处理装置，同时也是关于一种用利用该基板处理装置处理基板的方法。

【背景技术】

在液晶显示器制程中玻璃基板的光学制程由基板清洗、光阻涂布、曝光和显影几道工序组成，随着玻璃基板面积的增大，各工序的用水量也随之增大，因此基板处理装置，特别是其中的清洗设备和显影设备开始导入处理液回收系统。

一种现有技术可参阅美国专利申请公开第20030034056号所揭露的基板处理装置。该基板处理装置是一清洗装置，其具有利用处理液处理基板的基板处理部及供从基板处理部排出的处理液通过的处理液循环回路。如图1所示是该基板处理装置所揭露的处理液循环回路示意图。该处理液循环回路165主要包括排水管140、雾气捕捉器142、异物去除部167、处理液循环单元168及回收管166，该异物处理部167及处理液循环单元168设有过滤器，可以去除处理液内残留的杂质。基板处理部70内的处理液由排水管140排出，通过雾气捕捉器142将其内包含的气泡去除，然后进入异物去除部167并经过处理液循环单元168处理后去处杂质，经过回收管166再次进入基板处理部70达到再利用的目的。

但是，现有技术处理液循环回路仅限于在一台设备内基板处理液的循环利用，需在基板处理装置开始工作时导入未经使用的处理液，然而在液晶显示器的制程中基板需经过多台处理装置处理，如进行涂布前的洗净设备和曝光后的显影设备，各处理装置均需导入未经使用的处理液，因此，现有技术在基板处理过程中对处理液的需求量较大。

【发明内容】

为了克服现有技术基板处理过程中基板处理装置对处理液需求大的缺点，本发明提供一种可在多台设备间将基板处理液重复利用的基板处理装置及使用该基板处理装置处理基板的方法。

本发明解决技术问题所采用的技术方案是：提供一种基板处理装置，包括一洗净设备、一显影设备及处理液回收系统，该处理液回收系统设于洗净设备与显影设备之间，将由洗净设备排出的处理液导入显影设备实现处理液再利用。

本发明提供一种基板处理方法，其包括如下步骤：在洗净设备中用处理液洗净基板，将从洗净设备排出的处理液经过处理液回收系统处理后导入显影设备再利用，利用显影设备将基板显影，在显影设备中用处理液清洗基板。

本发明的有益效果是：与现有技术相比，本发明将从洗净设备排出的处理液经过处理液回收系统导入显影设备回收利用，因此，在显影设备对基板进行清洗处理时可有效减少新处理液的导入量，从而降低了整个基板处理过程中对处理液的需求。

【附图说明】

图1是现有技术基板处理装置所揭露的处理液循环回路示意图。

图2是本发明基板处理装置示意图。

图3是本发明基板处理装置的显影设备内部处理液循环回路示意图。

【具体实施方式】

请参阅图2，是本发明基板处理装置的示意图。该处理装置包括一洗净设备20、一显影设备40及一处理液回收系统30。

该洗净设备20用以洗净基板，该显影设备40用以对曝光后的基板进行显影，然后清洗。

该处理液回收系统30的作用是把从洗净设备20排出的处理液导入显影设备40实现处理液的回收利用。该处理液回收系统30包括一接收管路31、一接收容器32及一导出管路33。该接收管路31一端与洗净设备20连接，另一端与接收容器32相连；该导出管路33一端与接收容器32相连，另一端与显影设备40相连。该接收管路31将从洗净设备20排出的处理液输送到接收容器32内，因为从洗净设备20出来的处理液在洗净设备20已经过数道洗净过程的使用，其内可能已融入大量的二氧化碳，为避免其对后继制程的影响，需将其从处理液中抽离，因而该接收管路31上设有一二氧化碳去除装置311。同时为除去处理液中的杂质，该接收管路31上还设有一过滤装置312。该接收容器32用来接收通过接收管路31导入的处理液，同时也将处理液通过导出管路33送到显影设备40进行再利用。因洗净设备20的处理液使用量大，从洗净设备20导入接收容器32的处理液通常会高出显影设备40实际需求量的2～3倍，并且可能会出现排入接收容器32的处理液流量不稳定的情况，为了使流入显影设备40的新、旧处理液比例稳定，保证其制程的稳定，该导出管路33上加设一流量调节装置331。

如图3所示是本发明显影设备40的处理液循环示意图。显影设备40包括一显影部(图未示)、一预清洗部41、一清洗部42、一后清洗部43。该清洗部42与后清洗部43之间设有一第一回收路44，该清洗部42与预清洗部41之间设有一第二回收路45。该第一回收路44用来将后清洗部43的处理液导入清洗部42循环利用，其包括一排出管路441、一导入管路442及一第一容器443，该第一容器443设有一入口端(未标示)及一出口端(未标示)，该排出管路441设于后清洗部43与第一容器443的入口端之间，该导入管路442设于清洗部42与第一容器443的出口端之间。该第一容器443的入口端可与排出管路441及处理液回收系统30的导出管路33相连，且该排出管路441与导出管路33之间是并联的关系，为使显影设备40在洗净设备20不提供处理液时也能正常工作，该第一容器443的入口端与导出管路33、排出管路441并联一处理液供应装置46。同时该第一容器443出口端设有一第一过滤装置444及第二过滤装置445，该第二过滤装置445临近其第一容器443出口端设置且其过滤孔径的规格比第一过滤装置444大。该第二回收路45是用来将清洗部42的处理液导入预清洗部41再利用，其包括一排出管路451、一导入管路452及一第二容器453，该第二容器453设有一入口端(未标示)及一出口端(未标示)，该排出管路451设于清洗部42与第二容器453的入口端之间，该导入管路452设于预清洗部41与第二容器453的出口端之间，该出口端设有一过滤装置455。该后清洗部43设有一处理液供应管路431，该处理液供应管路431与处理液供装置46相连。该预清洗部41设有一供处理液排出的排出管路411，将处理液排出基板处理装置。

下面将通过图2与图3具体讲述从洗净设备20导出的处理液的循环过程。从洗净装置20导出的处理液经过接收管路31进入接收容器32，并在通过二氧化碳去除装置311及过滤装置312时依次除去其内融入的二氧化碳和杂质；随后该处理液由导出管路33导入第一容器443中，在此过程中通过流量调节装置331调节流量。进入第一容器443的处理液从第一容器443出口端流出，经过第二过滤装置445和第一过滤装置444进一步将其内杂质过滤掉后进入清洗部42进行清洗动作。清洗部42用过的处理液经过排出管路451进入第二容器453并在经过过滤装置455时去除杂质后由导入管路452进入预清洗部41进行预清洗动作。从预清洗部41排出的清洗液通过排出管路411排出显影设备。处理液供应装置46中的处理液与后洗净部43相连，可以将从预清洗部41出来的处理液或未使用过的处理液导入后清洗部43进行后清洗动作，从后清洗部43导出的处理液又经过排出管路441进入第一容器443中进入下一道循环利用。

当处理液回收系统30出现故障或在清洗设备20未运行的情况下运行显影设备40时，只需打开处理液供应装置46让其向显影设备40提供处理液，便不会影响显影设备40正常的工作。

另外，本发明中各元件的位置并不是唯一的，其可合理安装于不同的位置，例如二氧化碳去除装置311及过滤器装置312也可以安装在导出管路33上。本发明中的处理液回收系统不局限于洗净设备20及显影设备40之间，其可以用于同一台设备内的处理液循环使用，也可用于任何前段制程中具单纯清洗功能及后段制程对处理液纯净度要求不高的设备之间作处理液循环使用，降低后段制程对新处理液的需求。

利用本发明基板处理装置时，基板处理方法如下所述：用洗净设备20将基板洗净；将由洗净设备20排出的处理液经处理液回收系统30循环处理后导入显影设备40再利用；基板经过光阻涂布、曝光后用显影设备40将基板显影，然后进行清洗。

将洗净设备20排出的处理液循环再利用时，把其内包含的二氧化碳及杂质去除。

用显影设备40清洗基板时，需经过预清洗、清洗及后清洗步骤。从洗净设备20排出的处理液循环处理后进入显影设备40的清洗部42进行基板清洗。同时从后清洗部43排出的处理液经第一次回收处理，去除其内的杂质后也进入清洗部42对基板进行清洗。从清洗部42排出的处理液经第二次回收处理，去除其内的杂质后进入预清洗部41对基板进行预清洗。从预清洗部41排出的处理液排出显影设备40。

Claims (29)

1.一种基板处理装置，包括一洗净设备及一显影设备，其特征在于：该洗净设备与显影设备之间设有一处理液回收系统，将由洗净设备排出的处理液导入显影设备再利用。

2.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于：该处理液回收系统设有供处理液通过的接收管路、导出管路及一接收容器，该接受容器连接接收管路及导出管路，该接收管路及导出管路分别与洗净设备及显影设备相连。

3.如权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于：该处理液回收系统在接收管路或导出管路上设有一二氧化碳去除装置。

4.如权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于：该处理液回收系统在导出管路设有一流量调节装置。

5.如权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于：该处理液回收系统在接收管路或导出管路设有一过滤装置。

6.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于：该显影设备包括一显影部、一预清洗部、一清洗部及一后清洗部。

7.如权利要求6所述的基板处理装置，其特征在于：该后清洗部与清洗部之间设有第一回收路，其包括一排出管路、一导入管路及一第一容器，该第一容器设有一入口端及一出口端，该排出管路设于后清洗部与第一容器的入口端之间，该导出管路设于清洗部与第一容器的出口端之间。

8.如权利要求7所述的基板处理装置，其特征在于：该处理液回收系统的导出管路与第一容器的入口端相连。

9.如权利要求8所述的基板处理装置，该处理液回收系统的导出管路与第一回收路的排出管路之间是并联的关系。

10.如权利要求7所述的基板处理装置，其特征在于：该第一容器的出口端设有一第一过滤装置。

11.如权利要求10所述的基板处理装置，其特征在于：在第一容器的出口端与该第一过滤装置之间进一步设置一第二过滤装置，且该第二过滤装置的过滤孔径比第一过滤装置的过滤孔径大。

12.如权利要求7所述的基板处理装置，其特征在于：该显影设备进一步设置一处理液供应装置与第一容器的入口端相通。

13.如权利要求12所述的基板处理装置，其特征在于：该第一回收路的排出管路与处理液供应装置之间是并联的关系。

14.如权利要求12所述的基板处理装置，其特征在于：该后清洗部设有一处理液供应管路，该处理液供应管路与处理液供装置相连。

15.如权利要求6所述的基板处理装置，其特征在于：该清洗部与预清洗部之间设有第二回收路，其包括一排出管路、一导入管路及一第二容器，该第二容器设有一入口端及一出口端，该排出管路设于清洗部与第二容器的入口端之间，该导入管路设于预清洗部与第二容器的出口端之间。

16.如权利要求15所述的基板处理装置，其特征在于：该第二容器的出口端设有一过滤装置。

17.如权利要求6所述的基板处理装置，其特征在于：该预清洗部设有一供处理液排出的排出管路。

18.一种基板处理方法，包括如下步骤：

在洗净设备中用处理液洗净基板；

利用显影设备将基板显影；

在显影设备中用处理液清洗基板；

其特征在于：从洗净设备排出的处理液经过处理液回收系统处理后导入显影设备再利用。

19.如权利要求18所述的基板处理方法，其特征在于：洗净基板所用设备是洗净设备，基板显影及用处理液清洗基板所用设备是显影设备。

20.如权利要求18所述的基板处理方法，其特征在于：该处理液循环再利用是将从洗净设备排出的处理液导入显影设备清洗基板。

21.如权利要求18所述的基板处理方法，其特征在于：该处理液循环再利用包括去除处理液内二氧化碳气体的步骤。

22.如权利要求18所述的基板处理方法，其特征在于：该处理液循环再利用包括去除处理液内杂质的步骤。

23.如权利要求18所述的基板处理方法，其特征在于：用处理液清洗基板时需对基板进行预清洗、清洗及后清洗步骤。

24.如权利要求23所述的基板处理方法，其特征在于：该处理液循环再利用是将从洗净设备排出的处理液导入清洗步骤再利用。

25.如权利要求23所述的基板处理方法，其特征在于：从后清洗步骤排出的处理液经过第一次回收处理后进入清洗步骤再利用。

26.如权利要求25所述的基板处理方法，其特征在于：处理液第一次回收处理包括去除处理液内杂质的步骤。

27.如权利要求23所述的基板处理方法，其特征在于：从清洗步骤排出的处理液经过第二次回收处理后进入预清洗步骤。

28.如权利要求23所述的基板处理方法，其特征在于：处理液第二次回收处理包括去除处理液内杂质的步骤。

29.如权利要求23所述的基板处理方法，其特征在于：预清洗步骤排出的处理液直接排出显影设备。

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