CN109809709B - 一种退镀液和2d蓝宝石玻璃退除ncvm的方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种退镀液,包括氟化铵、氟化氢铵、EDTA二钠和JFC,所述氟化铵的质量为所述退镀液的质量的45%~65%,所述氟化氢铵的质量为所述退镀液的质量的3%~8%,所述EDTA二钠的质量为所述退镀液的质量的1%~3%,所述JFC的质量为所述退镀液的质量的0.5%~5%。除此之外,本发明实施例还公开了一种2D蓝宝石玻璃退除NCVM的方法,包括:步骤1,采用如上所述退镀液对产品进行退镀;步骤2,对退镀后的所述产品进行清洗。通过采用包括氟化铵、氟化氢铵、EDTA二钠和JFC的退镀液对NCVM样品进行退除电镀,由于退镀液中的主要起到退镀作用的氟化铵、氟化氢铵为强酸弱碱盐,呈酸性,能够解决强碱性退镀液对丝印的油墨造成的损伤,提高退镀产品的品质。
Description
技术领域
本发明涉及3D贴合技术领域,特别是涉及一种退镀液和2D蓝宝石玻璃退除NCVM的方法。
背景技术
电镀技术作为一种功能精饰技术,其合金镀层具有优异的耐磨性、耐蚀性、镀层厚度均匀性、致密度高等特点,已在电子产品中获得大量应用。随着电子工业的迅猛发展,对电镀技术的要求越来越高,新技术、新产品、新工艺层出不穷。
随着社会的进步,2D蓝宝石玻璃已经应用于电子产品上,而且成为一种时尚,也是一种身份的象征,2D蓝宝石玻璃有轻薄、透明洁净、耐酸碱、耐刮伤、耐候性等优点。产品在清洗、电镀过程中会造成这样那样的问题,比如:脏污、异色等不良,为了提高生产效率,降低生产成本,特对这些不良品进行返工,需要退除电镀层,重新电镀。现有的退镀液呈强碱性,在退镀过程中,会对丝印后的油墨造成伤害。
NCVM又称不连续镀膜技术或不导电电镀技术,是一种起缘普通真空电镀的高新技术,是指金属材料在真空条件下,运用化学、物理等特定手段进行有机转换,使金属转换成粒子,沉积或吸附在塑胶材料的表面形成膜,成为镀膜。真空不导电电镀,又称NCVM,是英文Non conductive vacuum metalization的缩写。它的加工工艺高于普通真空电镀,其加工制程比普通制程要复杂得多。
发明内容
本发明的目的是提供一种退镀液和2D蓝宝石玻璃退除NCVM的方法,结构简单,操作方便,可有效解决现有3D玻璃菲林贴合效率低、成本高、实用性差等问题。
为解决上述技术问题,本发明实施例提供了一种退镀液,包括氟化铵、氟化氢铵、EDTA二钠和JFC,所述氟化铵的质量为所述退镀液的质量的45%~65%,所述氟化氢铵的质量为所述退镀液的质量的3%~8%,所述EDTA二钠的质量为所述退镀液的质量的1%~3%,所述JFC的质量为所述退镀液的质量的0.5%~5%。
除此之外,本发明实施例还提供了一种2D蓝宝石玻璃退除NCVM的方法,包括:
步骤1,采用如上所述退镀液对产品进行退镀;
步骤2,对退镀后的所述产品进行清洗。
其中,所述步骤1包括:
采用所述退镀液对产品进行退镀的时间为10min~20min。
本发明实施例提供的退镀液和2D蓝宝石玻璃退除NCVM的方法,与现有技术相比,具有以下优点:
本发明实施例提供退镀液和2D蓝宝石玻璃退除NCVM的方法,通过采用包括氟化铵、氟化氢铵、EDTA二钠和JFC的退镀液对NCVM样品进行退除电镀,由于退镀液中的主要起到退镀作用的氟化铵、氟化氢铵为强酸弱碱盐,呈酸性,能够解决强碱性退镀液对丝印的油墨造成的损伤,提高退镀产品的品质。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例提供的2D蓝宝石玻璃退除NCVM的方法的一种具体实施方式的步骤流程示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
请参考图1,图1为本发明实施例提供的2D蓝宝石玻璃退除NCVM的方法的一种具体实施方式的步骤流程示意图。
在一种具体实施方式中,所述退镀液,包括氟化铵、氟化氢铵、EDTA二钠和JFC。
本发明的退镀液中,氟化铵是起到主要的退镀作用作为主药,氟化氢铵为辅助用于加强氟化铵的退镀效果,EDTA二钠用于络合用于进行退镀过程的显示,和JFC用于除油和渗透,去除物件表面的污垢。本发明中除了上述的物料之外,剩下的为去离子水。
由于氟化铵为退镀也中主要的退镀成分,含量最高,所述氟化铵的质量一般为所述退镀液的质量的45%~65%。
氟化氢铵的作用是进一步加强氟化铵的退毒作用,即作为加强主退镀剂的辅助剂,所述氟化氢铵的质量一般为所述退镀液的质量的3%~8%。
EDTA二钠用于产生络合,起到指示剂的作用,所述EDTA二钠的质量为所述退镀液的质量的1%~3%。
JFC耐酸碱、耐硬水,水溶性良好,具有高效的渗透、润湿性能,同时也具有乳化、分散及净洗性能,在纺织印染工业中作渗透剂,可用于上浆、退浆、炼漂、羊毛炭化,适用于树脂整理助剂;皮革工业中作渗透剂、脱脂剂;在金属洗涤剂中作润湿剂使油污易于脱离金属表面,并兼有一定的乳化净洗效果,在本发明中需要起到除油和渗透的作用,所述JFC的质量一般为所述退镀液的质量的0.5%~5%,用户可根据产品的实际损坏情况进行适量的增减用量。
在本发明的一个实施例中,所述退镀液包括50%质量的氟化铵的、5%质量的氟化氢铵、1%质量的EDTA二钠、1%质量的JFC和去离子水。
除此之外,本发明实施例还提供了一种2D蓝宝石玻璃退除NCVM的方法,包括:
步骤1,采用如上所述退镀液对产品进行退镀;
步骤2,对退镀后的所述产品进行清洗。
通过采用包括氟化铵、氟化氢铵、EDTA二钠和JFC的退镀液对NCVM样品进行退除电镀,由于退镀液中的主要起到退镀作用的氟化铵、氟化氢铵为强酸弱碱盐,呈酸性,能够解决强碱性退镀液对丝印的油墨造成的损伤,提高退镀产品的品质。
本发明对于退镀液的退镀时间不作限定,一般所述步骤1包括:
采用所述退镀液对产品进行退镀的时间为10min~20min。
需要指出的是,本发明对于具体的清洗过程不做限定,可以是将采用退镀也喷淋产品的方法进行清洗,也可以是采用将产品放置在上述的退镀液中进行退镀处理,或者是其它的方式进行退镀本发明不做限定,对退镀温度不做限定,使用室温退镀即可。
本发明中的退镀液的退镀的目的是为了将镀层清除,而在退镀之后一般还会进行产品的重新镀膜,在重新镀膜前,一般会对其进行清洗,在本发明的一个实施例中,所述步骤2包括:
对退镀后的所述产品采用碱性清洗剂进行清洗。
本发明中采用的碱性清洗剂不会丝印油墨产生破坏作用,该丝印油墨为耐碱性油墨,采用低浓度的碱,在60℃~70℃的温度环境中 10min以内不影响其性能。
由于只是对产品进行清洗,而不是退镀,因此不会对产品造成损伤,本发明对于具体的碱性清洗剂不做限定。
本发明中的2D蓝宝石玻璃退除NCVM的方法主要适用的退镀的镀膜为五氧化二铌、氧化钛、氧化硅、氧化铟。
在使用上述的方式完成退镀以及清洗之后,需要进行外观检验,如果发现没有损坏,可以进行下一步的重新镀膜。
综上所述,本发明实施例提供退镀液和2D蓝宝石玻璃退除NCVM的方法,通过采用包括氟化铵、氟化氢铵、EDTA二钠和JFC的退镀液对NCVM样品进行退除电镀,由于退镀液中的主要起到退镀作用的氟化铵、氟化氢铵为强酸弱碱盐,呈酸性,能够解决强碱性退镀液对丝印的油墨造成的损伤,提高退镀产品的品质。
以上对本发明所提供的退镀液和2D蓝宝石玻璃退除NCVM的方法进行了详细介绍。本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述,以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想。应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明原理的前提下,还可以对本发明进行若干改进和修饰,这些改进和修饰也落入本发明权利要求的保护范围内。
Claims (3)
1.一种退镀液,其特征在于,包括氟化铵、氟化氢铵、EDTA二钠和JFC,所述氟化铵的质量为所述退镀液的质量的45%~65%,所述氟化氢铵的质量为所述退镀液的质量的3%~8%,所述EDTA二钠的质量为所述退镀液的质量的1%~3%,所述JFC的质量为所述退镀液的质量的0.5%~5%,其余为去离子水。
2.一种2D蓝宝石玻璃退除NCVM的方法,其特征在于,包括:
步骤1,采用如权利要求1所述退镀液对产品进行退镀;
步骤2,对退镀后的所述产品进行清洗。
3.如权利要求2所述2D蓝宝石玻璃退除NCVM的方法,其特征在于,所述步骤1包括:
采用所述退镀液对产品进行退镀的时间为10min~20min。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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CN201711173806.0A CN109809709B (zh) | 2017-11-22 | 2017-11-22 | 一种退镀液和2d蓝宝石玻璃退除ncvm的方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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Publications (2)
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---|---|
CN109809709A CN109809709A (zh) | 2019-05-28 |
CN109809709B true CN109809709B (zh) | 2021-11-23 |
Family
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201711173806.0A Active CN109809709B (zh) | 2017-11-22 | 2017-11-22 | 一种退镀液和2d蓝宝石玻璃退除ncvm的方法 |
Country Status (1)
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CN (1) | CN109809709B (zh) |
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