CN109761507A - 高透反光镀膜玻璃及其制备方法 - Google Patents

Abstract

本发明属于镀膜玻璃技术领域，具体涉及高透反光镀膜玻璃，包括玻璃基底、膜层1、膜系1、膜层1和膜1依照编号顺序依次沉积在玻璃基底的一侧表面上，膜层1为氧化不锈钢打底膜层，膜系1为氧化钛膜系。本发明还提供了上述高透反光镀膜玻璃的制备方法。本发明的高透反光镀膜玻璃既有镜面反光的特性又有高透光的特性，透光率为66％；本发明提供的制备方法降低了高透反光镀膜玻璃的成本，以及提高了其生产效率。

Description

高透反光镀膜玻璃及其制备方法

技术领域

本发明属于镀膜玻璃技术领域，具体涉及高透反光镀膜玻璃及其制备方法。

背景技术

镀膜玻璃也称反射玻璃。镀膜玻璃是在玻璃表面涂镀一层或多层金属、合金或金属化合物薄膜，以改变玻璃的光学性能、导电性能等，以满足相应的特定要求。高透型玻璃具有较高的可见光透射率、较高的太阳能透过率和远红外线发射率，所以采光性极佳、透过玻璃的太阳热辐射多、隔热性能优良，突出自然采光效果，应用较为广泛。现有技术中存在的问题是：正常设备生产的高透型镀膜玻璃无法在保证高透光的特性同时具有镀膜镜面效果；而高透高反镀膜玻璃由于其特殊的性能需要特定设备单一地自备该种玻璃或者类似产品，这种特定设备无法制备生产其他的镀膜玻璃，造成高透高反玻璃成本高，生产效率低。

发明内容

针对上述现有技术中的不足，本发明提供了高透反光镀膜玻璃，所解决的技术问题为现有技术中正常设备生产的高透型镀膜玻璃无法在保证高透光的特性同时具有镀膜镜面效果的问题；本发明提供了高透反光镀膜玻璃的制备方法，所解决的技术问题为需要特定设备制备制造具有高反光性质的高透型镀膜玻璃。

本发明提供的高透反光镀膜玻璃，具体技术方案如下：

高透反光镀膜玻璃，包括玻璃基底、膜层1、膜系1、所述膜层1和所述膜1依照编号顺序依次沉积在玻璃基底的一侧表面上，

所述膜层1为氧化不锈钢打底膜层，所述膜系1为氧化钛膜系。

在某些实施方式中，所述玻璃基底为超白浮法玻璃，厚度为3～10mm。

在某些实施方式中，所述膜层1的厚度为0.5～1μm。

在某些实施方式中，所述膜系1包括膜层2、膜层3和膜层4，所述膜层2的厚度为45-60nm，所述膜层3的厚度为30-50nm，所述膜层4的厚度为50～70nm。

本发明还提供了高透反光镀膜玻璃的制备方法，用于制备上述高透反光镀膜玻璃的方法，包括如下步骤：

S1，预处理：对玻璃进行切割、磨边处理，获得预处理玻璃；

S2，钢化处理：将步骤S1中的预处理玻璃进行钢化处理，获得钢化处理玻璃；

S3，清洁处理：将步骤S2中的钢化处理玻璃进行清洗处理，并进行干燥处理，获得玻璃基底；

S4，磁控溅射镀氧化不锈钢打底膜：将步骤S3中的玻璃基底送入镀膜箱体，开启1号工作电流，向所述镀膜箱体中注入氩气和氧气工作气体，溅射不锈钢靶材，形成膜层1，所述膜层1氧化不锈钢打底膜；

S5，磁控溅射镀多层氧化钛膜：开启2号工作电流，向所述镀膜箱体中注入氩气和氧气工作气体，溅射钛靶材形成膜层2，所述膜层2为氧化钛膜；开启3号工作电流，向所述镀膜箱体中注入氩气和氧气工作气体，溅射钛靶材形成膜层3，所述膜层3为氧化钛膜；开启4号钛靶工作电流，向所述镀膜箱体中注入氩气和氧气工作气体，溅射钛靶材形成膜层4，所述膜层4为氧化钛膜，获得高透反光镀膜玻璃。

在某些实施方式中，步骤S3中的清洗处理的步骤如下：将所述钢化处理的玻璃依次进行第一次毛刷刷洗、一级纯水冲洗、第二次毛刷刷洗、二级纯水冲洗和三级离子水冲洗。

在某些实施方式中，步骤S3中的干燥处理的方式为风刀干燥处理。

在某些实施方式中，步骤S4中，溅射形成所述膜层1中，所述1号工作电流为40～90mA，所述氩气和氧气的比例为5:1；

步骤S5中，溅射形成所述膜层2中，所述2号工作电流为60～75mA，所述氩气和氧气的比例为2:1；

溅射形成所述膜层3中，所述3号工作电流为60～90mA，所述氩气和氧气的比例为2:1；

溅射形成所述膜层4中，所述4号工作电流为60～100mA，所述氩气和氧气的比例为2:1。

本发明具有以下有益效果：本发明提供的高透反光镀膜玻璃具有四个膜层，膜层1为氧化不锈钢打底膜层，膜层2、膜层3和膜层2都为氧化钛膜层，四个膜层通过磁控溅射的方法沉积在玻璃基底的表面，从而使最终成品玻璃既有镜面反光的特性又有高透光的特性，本发明提供的高透反光镀膜玻璃透光率为66％。

附图说明

图1是本发明的高透反光镀膜玻璃的制备方法的流程图。

具体实施方式

为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚明白，以下结合具体实施例，并参照附图1，对本发明进一步详细说明。

本发明提供的高透反光镀膜玻璃，具体技术方案如下：

高透反光镀膜玻璃，包括玻璃基底、膜层1、膜系1、膜层1和膜1依照编号顺序依次沉积在玻璃基底的一侧表面上，膜层1为氧化不锈钢打底膜层，膜系1为氧化钛膜系。进一步地，玻璃基底为超白浮法玻璃，厚度为3～10mm。在本实施例中，超白浮法玻璃的厚度为5mm。

进一步地，膜层1的厚度为0.5～1μm。本实施例中，膜层1的厚度为0.6μm。

进一步地，膜系1包括膜层2、膜层3和膜层4，膜层2的厚度为45-60nm，膜层3的厚度为30-50nm，膜层4的厚度为50～70nm。本实施例中，膜层2的厚度为50nm、膜层3的厚度为40nm、膜层4的厚度为65nm。

本发明还提供了高透反光镀膜玻璃的制备方法，用于制备上述高透反光镀膜玻璃的方法，具体步骤如下：

S1，预处理：将玻璃切割成所需大小后进行磨边处理，获得预处理玻璃；

S2，钢化处理：将步骤S1中的预处理玻璃进行钢化处理，获得钢化处理玻璃；

S3，清洁处理：将步骤S2中的钢化处理玻璃进行清洗处理，清洗处理的步骤为：将钢化处理的玻璃依次进行第一次毛刷刷洗、一级纯水冲洗、第二次毛刷刷洗、二级纯水冲洗和三级离子水冲洗；清洗处理去除钢化玻璃表面的灰尘盒污渍；之后对清洗处理的玻璃采用风刀进行干燥处理去除水渍，从而保证玻璃基底表面干净平整；

S4，磁控溅射镀氧化不锈钢打底膜：将步骤S3中的玻璃基底送入镀膜箱体，开启1号工作电流(控制电流为40～90mA)，向镀膜箱体中注入氩气和氧气(氩气和氧气的比例为5:1)工作气体，溅射不锈钢靶材，形成膜层1，膜层1为氧化不锈钢保护膜层；氧化不锈钢打底膜可以使玻璃基板产生见面效果；

S5，磁控溅射镀多层氧化钛膜：开启2号工作电流(控制电流60～75mA)，向镀膜箱体中注入氩气和氧气工作气体(氩气和氧气的比例为2:1)，溅射钛靶材形成膜层2；开启3号工作电流(控制电流60～90mA)，向镀膜箱体中注入氩气和氧气工作气体(氩气和氧气的比例为2:1)，溅射钛靶材形成膜层3；开启4号钛靶工作电流(控制电流60～100mA)，向镀膜箱体中注入氩气和氧气工作气体(氩气和氧气的比例为2:1)，溅射钛靶材形成膜层4，获得高透反光镀膜玻璃。多层氧化钛膜层形成致密的镀膜层，有效使最终玻璃成品具有透光性。

综上所述，本发明提供的高透反光镀膜玻璃具有四个膜层，膜层1为氧化不锈钢打底膜层，膜层2、膜层3和膜层2都为氧化钛膜层，四个膜层通过磁控溅射的方法沉积在玻璃基底的表面，从而使最终成品玻璃既有镜面反光的特性又有高透光的特性，本发明提供的高透反光镀膜玻璃透光率为66％；本发明提供的高透反光镀膜玻璃制备方法无需特定设备生产制造，从而降低了高透反光镀膜玻璃的生产成本，提高了其生产效率。

上述仅本发明较佳可行实施例，并非是对本发明的限制，本发明也并不限于上述举例，本技术领域的技术人员，在本发明的实质范围内，所作出的变化、改型、添加或替换，也应属于本发明的保护范围。

Claims (8)

1.高透反光镀膜玻璃，其特征在于，包括玻璃基底、膜层1、膜系1、所述膜层1和所述膜1依照编号顺序依次沉积在玻璃基底的一侧表面上，

所述膜层1为氧化不锈钢打底膜层，所述膜系1为氧化钛膜系。

2.根据权利要求1所述的高透反光镀膜玻璃，其特征在于，所述玻璃基底为超白浮法玻璃，厚度为3～10mm。

3.根据权利要求1所述的高透反光镀膜玻璃，其特征在于，所述膜层1的厚度为0.5～1μm。

4.根据权利要求1所述的高透反光镀膜玻璃，其特征在于，所述膜系包括膜层2、膜层3和膜层4，所述膜层2的厚度为45-60nm，所述膜层3的厚度为30-50nm，所述膜层4的厚度为50～70nm。

5.高透反光镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，用于制备权利要求1-4任意一项所述的高透反光镀膜玻璃的方法，包括如下步骤：

S1，预处理：对玻璃进行切割、磨边处理，获得预处理玻璃；

S2，钢化处理：将步骤S1中的预处理玻璃进行钢化处理，获得钢化处理玻璃；

S3，清洁处理：将步骤S2中的钢化处理玻璃进行清洗处理，并进行干燥处理，获得玻璃基底；

S4，磁控溅射镀氧化不锈钢打底膜：将步骤S3中的玻璃基底送入镀膜箱体，开启1号工作电流，向所述镀膜箱体中注入氩气和氧气工作气体，溅射不锈钢靶材，形成膜层1，所述膜层1氧化不锈钢打底膜；

S5，磁控溅射镀多层氧化钛膜：开启2号工作电流，向所述镀膜箱体中注入氩气和氧气工作气体，溅射钛靶材形成膜层2，所述膜层2为氧化钛膜；开启3号工作电流，向所述镀膜箱体中注入氩气和氧气工作气体，溅射钛靶材形成膜层3，所述膜层3为氧化钛膜；开启4号钛靶工作电流，向所述镀膜箱体中注入氩气和氧气工作气体，溅射钛靶材形成膜层4，所述膜层4为氧化钛膜，获得高透反光镀膜玻璃。

6.根据权利要求5所述的高透反光镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，步骤S3中的清洗处理的步骤如下：将所述钢化处理的玻璃依次进行第一次毛刷刷洗、一级纯水冲洗、第二次毛刷刷洗、二级纯水冲洗和三级离子水冲洗。

7.根据权利要求5所述的高透反光镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，步骤S3中的干燥处理的方式为风刀干燥处理。

8.根据权利要求5所述的高透反光镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，步骤S4中，溅射形成所述膜层1中，所述1号工作电流为40～90mA，所述氩气和氧气的比例为5:1；

溅射形成所述膜层2中，所述2号工作电流为60～75mA，所述氩气和氧气的比例为2:1；

步骤S5中，溅射形成所述膜层3中，所述3号工作电流为60～90mA，所述氩气和氧气的比例为2:1；

溅射形成所述膜层4中，所述4号工作电流为60～100mA，所述氩气和氧气的比例为2:1。