CN108545692B - 一种通道内壁涂覆聚对二甲苯的微流控芯片制作方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种通道内壁涂覆聚对二甲苯的微流控芯片制作方法，通过微流控芯片通道层的模具制备、表面处理、通道层制作、通道表面涂覆聚对二甲苯、与无图案封接材料紧密封接。本发明解决了芯片涂覆聚对二甲苯后无法封接的问题。因芯片封接前进行聚对二甲苯涂覆，因此通道内壁涂覆聚对二甲苯膜不再依靠分子扩散，能够适用于具有复杂通道网络的微流控芯片，膜厚度均一且可控，具有涂覆时间短，材料耗费少的特点。可用于微流控芯片中防止溶剂蒸发，分子吸附和溶胀。是一种先涂覆聚对二甲苯后进行芯片封接的微流控芯片制作方法，实现对复杂网络通道内壁进行均匀的聚对二甲苯，具有简单，快速且经济的特点。
Description
技术领域
本发明属于微流控芯片加工领域，涉及一种通道内壁涂覆聚对二甲苯的微流控芯片制作方法。
背景技术
微流控芯片一般采用微机电系统（MEMS）加工技术制作，可以将执行不同功能的单元集成到一起，从而在一张芯片上实现样品制备、反应、分离、检测等一整套的常规化学和生物实验室的功能。微流控芯片具有低样品消耗、高通量、大规模集成、快速传质和高反应效率等特点，使其在研究和应用过程中呈现出很多常规宏观系统无法比拟的独特优势。目前，微流控芯片已经应用于多个领域，如生物医学研究，疾病诊断，食品安全，化学分析，药物筛选等。
聚二甲基硅氧烷（PDMS）因具有易加工，良好的生物相容性，化学惰性，透明和便宜的特点成为微流控芯片制作最常用的材料。PDMS预聚物是一种粘弹性的流体，加热时可快速凝固成固体。凝固后的PDMS是一种多孔性物质，其多孔性给PDMS带来了一些缺点：1.溶剂易蒸发，特别是在加热的情况下，例如在芯片上进行聚合酶链式反应（PCR）；2.吸附小分子物质，特别是疏水性的小分子物质如尼罗红，罗丹明B等；3.吸收有机物质导致PDMS溶胀，通道变形，引起PDMS溶胀的溶液典型的有甲苯、正庚烷、十六烷，硅油等。有文献报道，PDMS表面涂覆聚对二甲苯（Parylene）可有效减少溶剂蒸发，改善小分子物质吸附，阻止PDMS溶胀，还可以降低PDMS对蛋白质和核酸等生物大分子的吸附。通过化学气相沉积（ChemicalVapor Deposition, CVD）形成的聚对二甲苯涂层无孔且透明，对无机和有机介质，强酸，腐蚀性溶液，气体和水蒸气具有良好的阻隔性能。并且具有极好的生物相容性，FDA批准可用于人体植入设备。
聚对二甲苯涂层具有如此多的优点，但目前却并未被广泛使用，主要原因在于通道内壁含有聚对二甲苯涂层芯片的制作方法。目前已报道的制作方法是芯片与基底封接完成后进行聚对二甲苯涂覆。涂覆时，气化的对二甲苯单体由进样孔和出样孔扩散进入通道中，其扩散距离与通道尺寸和涂覆时间有关，通常情况下对二甲苯单体从进样孔或出样孔扩散进入通道的距离不超过10mm，且聚对二甲苯涂层的厚度不均一，其涂层厚度从进出样口处沿扩散方向逐渐变薄至0。微流控芯片因需执行多种功能常常具有复杂且长的通道网络，因此该方法并不适用于大多数的微流控芯片。并且对二甲苯单体的扩散速度非常慢，其通道内壁涂覆的聚对二甲苯厚度与芯片外表面相差100倍，导致涂覆时间成倍的延长和涂覆材料的浪费。之所以先进行芯片封接而后进行聚对二甲苯 涂覆是因为涂覆聚对二甲苯的芯片不能再与其他材料实现紧密的封接。基于以上问题，研究新的内壁涂覆聚对二甲苯的微流控芯片制作方法是实现聚对二甲苯涂层芯片的广泛使用和市场化的唯一途径。
发明内容
为解决现有方法无法进行复杂通道网络涂覆的问题，并且缩短涂覆时间，减少材料浪费，本发明采用新的芯片封接材料突破了涂覆聚对二甲苯的芯片无法封接的局限，提供一种通道内壁涂覆聚对二甲苯的微流控芯片制作方法，是一种先涂覆聚对二甲苯后进行芯片封接的微流控芯片制作方法，实现对复杂网络通道内壁进行均匀的聚对二甲苯，具有简单，快速且经济的特点。
本发明中提供的通道内壁涂覆聚对二甲苯的微流控芯片制作方法，通过以下步骤实现：
（1）微流控芯片通道层的模具制备；
（2）模具表面处理；
（3）微流控芯片通道层制作；
（4）微流控芯片通道表面涂覆聚对二甲苯；
（5）微流控芯片通道层与无图案封接材料紧密封接。
步骤（1）中所述微流控芯片通道层的模具制备方法并没有特殊限制，本领域技术人员公知的模具基片的制备方法即可。可以是利用软光刻工艺在硅片等基材上制作的微流控芯片光刻胶结构模具，或利用刻蚀工艺或雕刻工艺在硅，玻璃，高分子聚合物等基材上刻出微流控芯片结构的模具，或通过电铸工艺将光刻胶结构转移的金属结构模具，或通过3D打印技术制作的金属，玻璃或高分子聚合物的微流控芯片结构模具。本发明中优选软光刻技术在硅片上制作的光刻胶模具。制作过程简述如下：首先用软件绘制微流控通道网络结构，将设计的图形进行掩膜版加工，制成与设计图形尺寸一致的菲林版或铬版。在干净的硅片上旋涂一定厚度的SU-8光胶。利用菲林掩膜版或铬版进行选择性紫外光刻，将掩膜版上的图形复刻到光胶上。然后显影洗去未曝光的光胶，最后硬烘坚模，得到刻有该图形的模具。
步骤（2）中所述模具表面处理的目的是为了降低模具与芯片制作材料间的粘合力，便于芯片脱模，特别是对于具有复杂结构的微流控芯片，该步处理可以保证芯片中微小结构的完整性。处理方式无特殊限制，只要能够有利于脱模均可。处理方法可以是三甲基氯硅烷等硅烷化试剂浸泡，或NovecTM系列电子涂层剂旋涂，或是涂覆聚对二甲苯涂层。本发明中优选涂覆聚对二甲苯 C（氯代聚对二甲苯）涂层，采用化学气相沉积的方式涂覆，涂层厚度的选择范围为50nm-1μm。按照仪器厂商推荐的参数条件进行涂覆。或者选择，涂膜前，模具先用A-147(γ -甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷,美国特殊涂料公司)处理，增加聚对二甲苯 C涂层与模具的粘附性。
步骤（3）中所述微流控芯片通道层制作方法没有特殊限制，本领域技术人员公知的微流控芯片的制做方法均可。可以是利用热塑性聚合物材料如聚甲基丙烯酰甲酯（PMMA）、聚碳酸酯（PS）、聚苯乙烯（PC）等通过热压法或注塑法制作，可以是固化性聚合物如PDMS、环氧树脂，聚氨酯等或挥发性聚合物聚丙烯酸、橡胶等通过模铸法制作，可以是通过刻蚀工艺、雕刻工艺或3D打印等无模具技术利用硅，玻璃或PMMA等高分子聚合物制作出微流控芯片通道层。本发明中优选利用PDMS通过模铸法制作。将PDMS与固化剂混合均匀后，倾倒在模具上，加热使其凝固。将凝固的PDMS从模具上剥离，用打孔器打孔。
步骤（4）中所述微流控芯片通道表面涂覆聚对二甲苯是采用化学气相沉积的方式，在通道表面涂上均匀的一层聚对二甲苯薄膜，薄膜厚度根据用途和聚对二甲苯的类型而定。本发明中优选涂覆聚对二甲苯 C涂层，厚度选择范围50nm-10μm。
步骤（5）中所述微流控芯片通道层与无图案封接材料紧密封接方法如下：
a：涂覆聚对二甲苯的微流控芯片通道面用等离子体处理；
b：封接材料与微流控芯片通道面贴合；
c：热板加热；步骤5的封接与制作芯片通道层的材料无关。
进一步的，步骤（5）中所述无图案封接材料为透明高聚物胶带，可以是能够用于实时定量PCR（RT-PCR）的透明封板膜中的一种，RT-PCR封板膜选自Excel Scientific公司的ThermalSeal RT™系列，ThermoFiher Scientific公司的Nunc™ 系列封板膜中的232702，235307，ABsolute qPCR 封板膜，MicroAmp®光学粘膜，Bio-red公司的microseal B光学粘膜，Axygen公司的lateMax，HSF-UCP-L，UC-500中的一种，可以是聚烯烃丙烯酸酯胶带，聚乙烯硅胶带，聚酯丙烯酸胶带，聚丙烯胶带，聚乙烯胶带，聚氯乙烯胶带等普通透明胶带中的一种，但不限于上述材料。透明高聚物胶带的粘性面呈疏水性。本发明优选能够用于RT-PCR的光学粘膜如MicroAmp™光学粘膜。其粘性面呈疏水性，表面静态接触角是102°。可选地，若芯片通道区域较小，封接材料可先剪裁成，便于封接。
进一步的，步骤a中所述微流控芯片通道等离子体处理的目的是为增加与PCR封板膜的封接强度，可以是氧气或空气等离子体，处理时间为10s-5min,依据不同处理条件和聚对二甲苯薄膜类型进行调整。聚对二甲苯膜表面经等离子体处理会产生物理和化学变化。等离子体处理会使聚对二甲苯膜表面变得粗糙，产生纳米结构，有利于PCR封板膜的粘附。同时等离子体会触发聚对二甲苯膜表面的化学反应，形成大量的碳氧集团，氧原子会通过与膜上的粘附层形成大量的氢键而增加芯片的封接强度。等离子体的处理时间不宜过长，也不宜过短。时间过短，达不到产生物理和化学变化的效果；时间过长，对增加封接强度没有益处。本发明中优选等离子体处理时间为10s。
进一步的，步骤b中所述透明高聚物胶带与微流控芯片通道面贴合时，先将胶带的一端贴在芯片上，然后用玻璃板从贴有胶带的一端平推至芯片的另一端，使膜与芯片贴合。玻璃板平推进行封接的好处在于膜与芯片能够完全贴合，不会产生气泡。
进一步的，步骤c中所述微流控芯片通道层与无图案封接材料封接时，封接好的芯片放在热板上烘烤使膜与芯片贴合更加紧密。加热会增加分子扩散的速度，透明高聚物上的粘性物质更容易进入聚对二甲苯膜表面的纳米结构的空隙中，并且能够形成更多的氢键。烘烤温度50℃-95℃，烘烤时间30min-5h。可选地，烘烤时可对封接芯片施加压力如机械按压或增加压强，促进贴合。聚对二甲苯涂覆的芯片在等离子体处理后其表面呈亲水性，若需要其表面仍保持亲水性，可选择50℃烘烤30min。若需要其表面恢复疏水性，可选择80℃烘烤5h。
经测试用该方法制作的微流控芯片，其通道能够经受4bar的压力而不破裂。在200μm宽100μm高的通道中液体流速可高达3.8μL/s,与PDMS和玻璃经等离子体处理后的封接强度相当。并且所用的透明高聚物胶带具有很好的化学惰性和生物相容性，不会影响生化反应和细胞生长。利用该方法制作的微流控芯片通道内壁的各个区域都形成了一层均匀的聚对二甲苯薄膜，进行数字PCR（dPCR）反应能够有效的防止溶剂的蒸发。
本发明带来的有益效果有：1.长且复杂的通道网络结构也可进行均匀的聚对二甲苯涂覆,由于采用了新的具有粘性的封接材料,能够与聚对二甲苯涂覆后的芯片实现紧密封接，因此可以先进行聚对二甲苯涂覆然后进行芯片封接，封接前进行聚对二甲苯涂覆使得任何位置的通道内壁均能涂覆上均匀聚对二甲苯涂层；2.缩短涂覆时间，提高涂覆材料利用率，本发明中提供的先涂覆后封接的芯片制作方法，使通道内壁直接暴露在对二甲苯气体中进行涂覆，不再依靠对二甲苯气体从进出样孔的扩散，缩短涂覆时间，减少材料的用量；3.可精确地控制通道内壁的聚对二甲苯涂层厚度；4.使聚对二甲苯涂层对无机和有机溶剂，气体和水蒸气具有良好的阻隔性能和极好的生物相容性得到充分的利用。
附图说明
图1为本发明实施例提供的涂覆聚对二甲苯 C的PDMS微流控芯片制作方法流程图。
图2为本发明实施例中的液滴数字PCR芯片设计图。
图3为本发明实施例中两种方法制作的芯片的溶胀情况对比图。
图4为本发明实施例中两种方法制作的芯片上液滴数字PCR反应效果图。
附图标记说明，相同的附图标记用来表示相同的元件或结构，其中：
1-硅片，2-SU-8通道结构，3-聚对二甲苯 C薄膜，4-PDMS预聚物，5-芯片通道层，6-涂有聚对二甲苯 C的通道层，7-半成品芯片，8-MicroAmp™光学粘膜，9-油进样口，10-PCR反应液进样口，11-液滴生成处，12-缓冲池，13-储液槽,14-出样口。
具体实施方式
为更好地理解本发明提供的涂覆聚对二甲苯的微流控芯片制作方案，同时清楚地展现本发明的优点，现结合本发明的实施例及附图，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
实施例1
利用本发明提供的芯片制作方法制作一种微流控液滴数字PCR芯片，并将该芯片用于数字PCR反应。图1是本发明实施例提供的涂覆聚对二甲苯 C的PDMS微流控芯片制作方法流程图。图2是本发明实施例中的液滴数字PCR芯片设计图。
本实施例中芯片通道层的模具采用多层软光刻的技术在硅片上制作，用以制作芯片的材料为PDMS，涂覆的聚对二甲苯薄膜均为聚对二甲苯 C膜。制作流程如图1所示：首先在干净的硅片1上旋涂100μm的SU-8负性光胶，95℃前烘后，用含有液滴数字PCR芯片通道结构的菲林版作为掩膜，进行选择性紫外曝光30s，将掩膜版上的图形复刻到光胶上。经95℃后烘使曝光的SU-8交联，然后显影洗去未曝光的光胶，最后硬烘坚模，得到含有SU-8通道结构2的模具。
将模具放入PDS 2010化学沉积系统的沉积腔中进行聚对二甲苯 C涂覆。在沉积系统内部，氯代对二甲苯二聚体首先在150℃和1torr气压下气化蒸发，然后在690℃和0.5torr下热裂解以形成氯代对二甲苯单体，氯代对二甲苯单体蒸汽扩散至处于室温的沉积腔中，在沉积腔中氯代对二甲苯冷凝到模具表面上以形成聚对二甲苯 C薄膜3。聚对二甲苯 C薄膜厚度与加入材料的质量存在一定的关系，即聚对二甲苯 C薄膜厚度每增加1μm需1.66g涂覆材料。本例中聚对二甲苯 C模具表面的薄膜厚100nm。
将PDMS预聚物4与固化剂混合均匀后真空脱气，倾倒在模具上，95℃加热1h使其凝固。将凝固的PDMS从模具上剥离，用打孔器打孔，并切除芯片上的空白部分，得到含有通道图形的芯片通道层5。芯片通道层的表面在PDS 2010系统中涂覆一层聚对二甲苯 C薄膜,得到通道内壁涂有聚对二甲苯 C的通道层6。本例中的通道层表面的薄膜厚4μm，涂覆材料用量为6.64g。
涂覆聚对二甲苯 C的微流控芯片通道面用等离子体处理处理将表面活化得到半成品芯片7。本例中用空气等离子体对芯片通道面进行处理，处理时间为10s。然后将剪裁好的MicroAmp™光学粘膜8与微流控芯片通道面贴合，先将封板膜的一端贴在芯片上，然后用玻璃板从贴有封板膜的一端平推至芯片的另一端，使膜与芯片能够完全贴合。封接好的芯片放在热板烘烤使膜与芯片贴合更加紧密。本例中的烘烤温度为80℃，时间为5h。
实施例2
利用原有的先封接后涂聚对二甲苯膜的方法制作芯片，芯片的制作过程如下：使用实施例1中的光刻胶模具，以PDMS为材料通过模塑法，制作出芯片通道层5，所用条件与实施例1中的相同。将芯片通道层5与玻璃等离子体处理后封接。封接后的芯片涂覆聚对二甲苯 C薄膜，涂覆材料用量为也是6.64g。此时通道内壁涂覆聚对二甲苯 C依赖氯代对二甲苯单体通过进样口和出样口扩散进入芯片内部，涂覆距离有限，仅靠近进出样口部分的通道涂覆有聚对二甲苯 C。
图2中的液滴数字PCR芯片由液滴生成和液滴储存两部分组成。液滴生成部分包括油进样口9，PCR反应液进样口10以及连接管路形成的十字交叉即液滴生成处11。液滴生成后通过连接管路进入缓冲池12，然后均匀的分成两路进入液滴储存部分即储液槽13，储液槽13末端连接有出样孔14，用来排出多余的油。图2中PCR反应液进样口10与液滴生成处11相距5mm，储液槽13的中心距进样口10的距离是20mm,距出样口14的距离是12mm。
在两种方法制作的芯片中分别通入10cst硅油，放置60min后，观察液滴生成处11的通道溶胀情况。结果如图3所示。左中右三张照片依次是通油前的通道、先封接后涂膜法制作芯片、本发明中的方法制作芯片。可以看出使用本发明中的制作方法，芯片无溶胀，说明芯片通道内壁任何部位都有聚对二甲苯 C膜。先封接后涂膜法制作芯片，芯片通道溶胀明显，说明6.64g的涂覆材料的涂覆时间内，氯代对二甲苯蒸汽无法扩散至液滴生成处11，导致芯片通道内壁无聚对二甲苯 C膜。
实施例3
利用两种方法制作好的芯片分别进行数字PCR反应。10ul的PCR反应液由以下成分组成：5ul 3D Digital PCR Master Mix,0.5ul TaqMan® Gene Expression Assay（18S）,0.5ul 2%Tween-20,2ul 无核酸酶水,2ul质粒模板。用来生成液滴的可凝固的油的组成为：69.2wt%硅油PMX-200-10cSt，12wt%5225C Formulation Aid,12wt%双-19,6wt% RTV615-B,0.8% SM3110 Catalyst。PCR反应液从进样口10进入芯片，流速为100ul/h，油从进样口9进入芯片，流速为280ul/h。PCR反应液与油在液滴生成处11交汇，生成均匀的油包水液滴，液滴生成后进入缓冲池12，液滴在缓冲池中流速减慢，均匀地分两路进入储液池13，形成均匀的单层液滴，多余的油从出样口14排出芯片。将进出样口封闭后，放进平板PCR仪上进行反应。
反应结果如图4所示，左图的芯片是先封接后涂膜法制作，右图的芯片是本发明中的方法制作。后涂膜法制作的芯片因对二甲苯蒸汽无法扩散至储液池13，储液池13内壁无聚对二甲苯 C膜，引起溶剂蒸发，导致PCR扩增失败。本发明中的方法制作的芯片，芯片通道内壁任何部位都涂覆有聚对二甲苯 C膜，聚对二甲苯 C膜有效地阻止试剂蒸发，则成功的实现了PCR扩增。
本实施例可以说明：相较于先封接后涂膜的芯片制作方法，本发明提供的先涂膜后封接的芯片制作方法能够适用于长且复杂的通道网络结构芯片的制作，并且涂覆时间短，材料消耗少，使聚对二甲苯涂层对无机和有机溶剂，气体和水蒸气具有良好的阻隔性能和极好的生物相容性得到充分的利用。
上述实施例中，各步骤中的参数仅用于示例，本发明的方案中并不限于上述具体的数值，只要在权利要求书所述的范围内，均属于本发明的保护范围。
本领域的技术人员容易理解，以上所述仅为本发明的一个实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (4)
1.一种通道内壁涂覆聚对二甲苯的微流控芯片制作方法，其特征在于，通过以下步骤实现：
（1）微流控芯片通道层的模具制备，利用软光刻工艺在基材上制作的微流控芯片光刻胶结构模具，或利用刻蚀工艺或雕刻工艺在硅，玻璃，高分子聚合物的基材上刻出微流控芯片结构的模具，或通过电铸工艺将光刻胶结构转移的金属结构模具，或通过3D打印技术制作的金属，玻璃或高分子聚合物的微流控芯片结构模具；
（2）模具表面处理，选用硅烷化试剂三甲基氯硅烷浸泡，或NovecTM系列电子涂层剂旋涂，或是涂覆聚对二甲苯涂层；
（3）微流控芯片通道层制作，利用热塑性聚合物材料如聚甲基丙烯酰甲酯、聚碳酸酯、聚苯乙烯通过热压法或注塑法制作；或是利用固化性聚合物如聚二甲基硅氧烷、环氧树脂，聚氨酯或挥发性聚合物聚丙烯酸、橡胶通过模铸法制作；
（4）微流控芯片通道表面涂覆聚对二甲苯，采用化学气相沉积的方式，在通道表面涂上均匀的一层Parylene薄膜，薄膜厚度根据用途和聚对二甲苯的类型而定；
（5）微流控芯片通道层与无图案封接材料紧密封接：
a：涂覆聚对二甲苯的微流控芯片通道面用等离子体处理，选用氧气或空气等离子体，处理时间为10s-5min，依据不同处理条件和聚对二甲苯薄膜类型进行调整；
b：封接材料与微流控芯片通道面贴合：先将胶带的一端贴在芯片上，然后用玻璃板从贴有胶带的一端平推至芯片的另一端，使胶带与芯片贴合；
c：热板加热；封接与制作芯片通道层的材料无关，封接好的芯片放在热板上烘烤使膜与芯片贴合更加紧密，烘烤温度50℃-95℃，烘烤时间30min-5h。
2.根据权利要求1所述的一种通道内壁涂覆聚对二甲苯的微流控芯片制作方法，其特征在于，步骤（2）中所述模具表面处理方法选用涂覆聚对二甲苯 C涂层，采用化学气相沉积的方式涂覆，涂层厚度的选择范围为50nm-1μm，或者，涂膜前，模具先用A-147处理，增加聚对二甲苯e C涂层与模具的粘附性。
3.根据权利要求1所述的一种通道内壁涂覆聚对二甲苯的微流控芯片制作方法，其特征在于，步骤（3）中所述微流控芯片通道层制作方法或是通过刻蚀工艺、雕刻工艺或3D打印无模具技术利用硅，玻璃或聚甲基丙烯酰甲酯高分子聚合物制作出微流控芯片通道层。
4.根据权利要求1所述的一种通道内壁涂覆聚对二甲苯的微流控芯片制作方法，其特征在于，步骤（5）中所述无图案封接材料为透明高聚物胶带，是能够用于实时定量PCR或RT-PCR的透明封板膜中的一种，RT-PCR封板膜选自Excel Scientific公司的ThermalSeal RT™系列，ThermoFiher Scientific公司的Nunc™ 系列封板膜中的232702，235307，ABsolute qPCR 封板膜，MicroAmp®光学粘膜，Bio-red公司的microseal B光学粘膜，Axygen公司的lateMax，HSF-UCP-L，UC-500中的一种，或者选自聚烯烃丙烯酸酯胶带，聚酯丙烯酸胶带，聚丙烯胶带，聚乙烯胶带，聚氯乙烯胶带中的一种。
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