CN108531100B - 一种屏用保护贴 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及手机平板屏幕保护领域，特别涉及一种屏用保护贴，为了解决现有手机屏保护贴的贴合性的问题，本发明提供一种新型结构的屏用保护贴。所述保护贴依次包括高耐磨防指纹层、第一基材、光学结构层、第二基材、高粘压敏胶层。该保护贴具备防刮伤，耐磨，抗指纹，以及较好的润湿性，排气性，贴合性，重贴性。
Description
技术领域
本发明涉及手机平板屏幕保护领域，特别涉及一种屏用保护贴，具体是一种用于AF玻璃屏幕的保护贴。
背景技术
随着科学技术的发展，手机屏幕越来越趋于大尺寸和全屏幕化，但是玻璃屏最的大缺点是比较脆，容易碎屏，目前主流市场采用常规结构的PET材料对其进行保护，但是随着市场个性发展及一些高端产品需求，趋向于抗指纹效果，因此会发生手机屏幕难以贴合易脱落问题，同时市场上出现的AF屏专用保护贴，其采用常规结构，单纯通过增强使用层的粘性解决贴合后脱落问题，但是又产生了新的问题，如排气性差，难润湿，重贴性差等缺点，难以满足实际的使用需求。
发明内容
为了解决现有手机屏保护贴的贴合性的问题，本发明提供一种新型结构的屏用保护贴，该保护贴具备防刮伤，耐磨，抗指纹，以及较好的润湿性，排气性，贴合性，重贴性，有效的解决了上述技术问题，综合性能更好，实现更好的使用性。
为了实现上述目的，本发明采取的技术方案如下：
本发明提供一种屏用保护贴，所述保护贴依次包括高耐磨防指纹层、第一基材、光学结构层、第二基材、高粘压敏胶层。
进一步的，所述保护贴用于AF屏(例如，具有抗指纹效果的手机玻璃屏)。所述屏用保护贴也可称为AF屏用保护贴。
本发明提供的屏用保护贴为AF屏专用高粘保护贴。
进一步的，所述保护贴依次包括保护膜、高耐磨防指纹层、第一基材、光学结构层、第二基材、高粘压敏胶层和离型膜。
高耐磨防指纹层也称为高耐磨抗指纹涂层。
进一步的，所述第一基材是透明光学膜，所述第二基材是透明光学膜。
进一步的，所述第一基材上涂覆有高耐磨防指纹涂层，高耐磨防指纹涂层上贴合有保护层，第一基材下表面涂布光学结构层，光学结构层贴合在第二基材上，第二基材下表面涂覆有高粘压敏胶层，所述高粘压敏胶层下表面贴合一层离型膜。
进一步的，所述高粘压敏胶层为有机硅压敏胶涂层。
所述高耐磨防指纹涂层为光固化硬化液固化形成的固化层。进一步的，所述高耐磨防指纹涂层为具有特殊性能光固化硬化液固化形成的固化层。
进一步的，所述高耐磨防指纹涂层采用湿法精密涂布工艺形成，
进一步的，所述的高耐磨防指纹层的厚度为0.5-5μm。
进一步的，所述的高耐磨防指纹层的厚度优选为1.8-3μm。
所述的高耐磨防指纹涂层具有水滴角＞105°，铅笔硬度满足 2H/500g，耐磨性满足1000循环/1000g无划伤。
进一步的，所述第一基材选自光学级聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜 (PET)，聚对苯二甲酸乙二醇酯-1,4-环己烷二甲酯薄膜(PETG)，聚甲基丙烯酸甲酯薄膜(PMMA)或聚碳酸酯薄膜(PC)中的一种。
进一步的，所述第一基材的厚度为23-125μm，优选23-50μm。
进一步的，所述光学结构层的材料选自有机硅树脂、或有机硅树脂与改性硅油的混合物。
光学结构层的作用是将两层基材(基膜)进行粘合，粘合越牢固越好。
进一步的，所述光学结构层和压敏胶层都采用有机硅材料。
进一步的，所述光学结构层采用湿法精密涂布工艺制备而得。
进一步的，所述光学结构层厚度为5-30μm。
进一步的，所述光学结构层厚度优选为12-20μm。
进一步的，所述第二基材选自光学级聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜 (PET)，聚甲基丙烯酸甲酯薄膜(PMMA)或聚碳酸酯薄膜(PC)中的一种。
进一步的，所述第二基材的厚度为23-125μm。
进一步的，所述第二基材的厚度优选为23-50μm。
进一步的，所述高粘压敏胶层为MQ硅树脂，或MQ硅树脂与改性硅油的混合物固化形成的固化层。
进一步的，所述有机硅压敏胶层采用湿法精密涂布工艺制备而得。
进一步的，所述高粘压敏胶层的厚度为10-50μm。
进一步的，所述高粘压敏胶层的厚度优选为15-40μm。
进一步的，所述光学结构层为有机硅树脂与改性硅油的混合物，有机硅树脂与改性硅油的重量比例为100:0～10。进一步的，所述高粘压敏胶层为MQ硅树脂与改性硅油的混合物，其中，MQ硅树脂与改性硅油的重量比例为100：0～20。
进一步的，光学结构层为有机硅树脂与改性硅油按照100:3-5(重量比例)的混合物，高粘压敏胶层为MQ硅树脂与改性硅油按照100: 5-15(重量比例)的混合物。前述技术方案包括实施例3、实施例4、实施例7和实施例8。
进一步的，所述的高耐磨防指纹层的厚度为1.8-3μm，所述第一基材的厚度为23-50μm，所述光学结构层厚度为12-20μm，所述第二基材的厚度为23-50μm，所述高粘压敏胶层的厚度为15-40μm。前述技术方案包括实施例3、实施例4、实施例7和实施例8。
本发明提供的屏用保护贴具有以下有益效果：
耐磨防指纹层可以对玻璃屏幕起到有效的保护作用，防止其被刮伤，同时赋予的防指纹性能也达到易清除的作用。
所用光学结构层的材料为具有硅氧烷主链的有机聚合物，具有较佳的柔韧性，同时高粘压敏胶层本身柔软度合适，光学结构层和压敏胶层都采用有机硅材料，采用这种双硅结构设计，使得保护贴整体结构柔软，贴合性好低音噪；
压敏胶层钢板剥离力较低，胶层柔软对AF屏的润湿性好，贴合排泡性好；胶层柔韧易恢复，因此重贴时胶面的形变能够在极短时间内恢复，重贴性优良。
本发明产品采用湿法精密涂布的方式，可以大批量的生产，生产效率高。
本发明提供一种用于AF(抗指纹)屏的保护贴，用于高耐污玻璃屏面的保护，所述保护贴包括多层结构，表面为涂有UV固化型硬化涂层的PET基膜，PET基膜背涂一种光学特性的有机硅胶粘剂(光学结构层)，光学结构层上再贴合一层基膜，该基膜的另一侧涂覆具有AF 屏高剥离力的有机硅压敏胶，该压敏胶通过离型膜进行胶面保护。
与现有保护贴相比，本发明提供的屏用保护贴具有以下优势：防刮伤，耐磨；抗指纹，易清洁；优良的润湿效果，排气性佳；良好的重贴性。
附图说明
图1为本发明提供的屏用保护贴的结构示意图。
具体实施方式
如图1所示，1：离型膜；2：高粘压敏胶层；3：第二基材；4：光学结构层；5：第一基材；6：高耐磨防指纹涂层；7：保护膜。
最终贴于AF屏保护贴仅仅为第二层2、第三层3、第四层4、第五层5和第六层6；其中，第三层3和第五层5为光学级聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(PET)；第二层2和第四层4为胶黏剂功能层；第六层 6为高耐磨防指纹层；所述第六层6在所述第五层5之上，所述第五层5在第四层4之上，所述第四层4在第三层3之上，所述第三层3 在第二层2之上，所述第二层2用于粘贴在AF屏幕上；所述保护膜还包括第一层1和第七层7，所述第一层1为离型层，用于保护第二层2的粘着性，在使用时需要揭去；所述第七层7为保护膜，用于保护第六层6的洁净性和完整性，在最后使用时同样需要除去。
本发明实施例提供的屏用保护贴的主要性能采用表1中所示的方法或标准检测。
表1保护贴的检测项目、检测工具及方法
实施例1：
本发明提供一种AF玻璃屏用保护贴，其结构依次为保护膜、高耐磨防指纹层、第一基材、光学结构层、第二基材、高粘压敏胶层和离型膜。其中保护膜和离型膜为透明PET薄膜，厚度50um；高耐磨防指纹层厚度为1.8μm，采用湿法精密涂布工艺形成；第一基材和第二基材均为光学级聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)，厚度为38μm；光学结构层的材料为有机硅树脂与改性硅油100/8混合物，厚度为15μm，采用湿法精密涂布工艺形成；高粘压敏胶层的材料为MQ硅树脂与改性硅油100/15混合物，厚度为25μm，采用湿法精密涂布工艺形成。
实施例2
如实施例1提供的屏用保护贴，其中，保护膜和离型膜为透明PET 薄膜，厚度38um；高耐磨防指纹层厚度为2.3μm，采用湿法精密涂布工艺形成；透明基材为光学级聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)，厚度为50μm；光学结构层为有机硅树脂，厚度为17μm，采用湿法精密涂布工艺形成；高粘压敏胶层为MQ硅树脂余改性硅油100/3的混合物，厚度为30μm，采用湿法精密涂布工艺形成。
实施例3
如实施例1提供的屏用保护贴，其中，保护膜和离型膜为透明PET 薄膜，厚度50um；高耐磨防指纹层厚度为1.8μm，采用湿法精密涂布工艺形成；透明基材为光学级聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)，厚度为38μm；光学结构层为有机硅树脂与改性硅油100/4混合物，厚度为15μm，采用湿法精密涂布工艺形成；高粘压敏胶层为MQ硅树脂与改性硅油100/8的混合物，厚度为22μm，采用湿法精密涂布工艺形成。
实施例4
如实施例1提供的屏用保护贴，其中，保护膜和离型膜为透明PET 薄膜，厚度50um；高耐磨防指纹层厚度为2.3μm，采用湿法精密涂布工艺形成；透明基材为光学级聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)，厚度为50μm；光学结构层为有机硅树脂与改性硅油100/3混合物，厚度为17μm，采用湿法精密涂布工艺形成；高粘压敏胶层为MQ硅树脂与改性硅油100/15的混合物，厚度为27μm，采用湿法精密涂布工艺形成。
实施例5
如实施例1提供的屏用保护贴，其中，所述的高耐磨防指纹层的厚度为0.5μm，所述第一基材5的厚度为23μm，所述光学结构层为有机硅树脂，厚度为5μm，所述第二基材3的厚度为23μm，所述高粘压敏胶层MQ硅树脂，厚度为10μm。
实施例6
如实施例2提供的屏用保护贴，其中，所述的高耐磨防指纹层的厚度为5μm，所述第一基材5的厚度为125μm，所述光学结构层为有机硅树脂与改性硅油100/10混合物，厚度为30μm，所述第二基材3的厚度为125μm，所述高粘压敏胶层为MQ硅树脂与改性硅油100/20 的混合物，厚度为50μm。
实施例7
如实施例3提供的屏用保护贴，其中，所述的高耐磨防指纹层的厚度为1.8μm，所述第一基材5的厚度为23μm，所述光学结构层为有机硅树脂改性硅油100/5混合物，厚度为12μm，所述第二基材3的厚度为23μm，所述高粘压敏胶层为MQ硅树脂与改性硅油100/5的混合物，厚度为15μm。
实施例8
如实施例4提供的屏用保护贴，其中，所述的高耐磨防指纹层的厚度为3μm，所述第一基材5的厚度50μm，所述光学结构层为有机硅树脂与改性硅油100/3混合物，厚度为20μm，所述第二基材3的厚度为50μm1，所述高粘压敏胶层为MQ硅树脂与改性硅油100/10的混合物，厚度为40μm。
表2实施例1至实施例8提供的屏用保护贴的各层的厚度
表3实施例1至实施例4提供的保护贴的主要性能的检测数据
表4实施例5至实施例8提供的保护贴的主要性能的检测数据
由表3和表4中的数据可以得出，本发明提供的保护贴具有良好的综合性能。其中，实施例3和实施例4、实施例7和实施例8提供的保护贴的综合性能更好。特别的，实施例4和实施例8提供的保护贴的综合性能最好。
以上所述，仅为本发明的较佳实施例而已，并非用于限定本发明的保护范围。凡是根据本发明内容所做的均等变化与修饰，均涵盖在本发明的专利范围内。
Claims (5)
1.一种屏用保护贴，其特征在于，所述保护贴依次包括高耐磨防指纹层、第一基材、光学结构层、第二基材、高粘压敏胶层；所述的光学结构层为有机硅树脂与改性硅油按照重量比例100:3-5的混合物；高粘压敏胶层为MQ硅树脂与改性硅油按照重量比例100:5-15的混合物；
所述的高耐磨防指纹层的厚度为1.8-3μm，所述第一基材的厚度为23-50μm，所述光学结构层厚度为12-20μm，所述第二基材的厚度为23-50μm，所述高粘压敏胶层的厚度为15-40μm。
2.根据权利要求1所述的屏用保护贴，其特征在于，所述保护贴依次包括保护膜、高耐磨防指纹层、第一基材、光学结构层、第二基材、高粘压敏胶层和离型膜。
3.根据权利要求2所述的屏用保护贴，其特征在于，所述第一基材上涂覆有高耐磨防指纹层，高耐磨防指纹层上贴合有保护膜，第一基材下表面涂布光学结构层，光学结构层贴合在第二基材上，第二基材下表面涂覆有高粘压敏胶层，所述高粘压敏胶层下表面贴合一层离型膜。
4.根据权利要求1所述的屏用保护贴，其特征在于，所述第一基材选自光学级聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜，聚对苯二甲酸乙二醇酯-1,4-环己烷二甲酯薄膜，聚甲基丙烯酸甲酯薄膜或聚碳酸酯薄膜中的一种。
5.根据权利要求1所述的屏用保护贴，其特征在于，所述第二基材选自光学级聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜，聚甲基丙烯酸甲酯薄膜或聚碳酸酯薄膜中的一种。
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