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CN108472558A - 使用高温化学品和超声波装置清洗衬底的方法和装置 - Google Patents

使用高温化学品和超声波装置清洗衬底的方法和装置 Download PDF

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CN108472558A
CN108472558A CN201580085060.0A CN201580085060A CN108472558A CN 108472558 A CN108472558 A CN 108472558A CN 201580085060 A CN201580085060 A CN 201580085060A CN 108472558 A CN108472558 A CN 108472558A
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王晖
王希
贾社娜
王丹颖
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Abstract

本发明公开了一种用来清洗衬底的高温化学溶液供液系统。该系统包括溶液槽、缓冲槽、第一泵和第二泵。溶液槽容纳高温化学溶液。缓冲槽具有槽体、排气管和针阀。槽体容纳高温化学溶液。排气管的一端连接槽体，排气管的另一端连接溶液槽。针阀安装在排气管上，通过调节针阀以达到一流量使高温化学溶液内的气泡通过排气管排出缓冲槽。第一泵的进口连接溶液槽，第一泵的出口连接缓冲槽。第二泵的进口连接缓冲槽，第二泵的出口连接清洗衬底的清洗腔。本发明还提供了一种包括高温化学溶液供液系统和超声波/兆声波装置的衬底清洗装置。本发明还提供了清洗衬底的方法。

Description

使用高温化学品和超声波装置清洗衬底的方法和装置
技术领域
本发明涉及衬底清洗方法和装置，尤其涉及减少高温化学溶液例如SC1中的气泡，以及减少将高温化学溶液供应至具有超声波装置的单片清洗机中清洗衬底过程中产生或聚集的气泡。
背景技术
在半导体器件制造过程中，在进行下一步工艺之前，衬底表面上的颗粒需要去除或清洗干净。例如CMP(化学机械平坦化)后，衬底表面上的研磨液和残留物非常难去除。通常使用高温硫酸(SPM)去除这些颗粒，然而硫酸不仅难以安全作业，而且硫酸的废液处理非常昂贵。热的SC1(包括双氧水、氨水和水)是非常好的选择来取代热的硫酸，但是为了有效去除颗粒，SC1的温度需要加热到80℃以上。
当SC1达到如此高温时，SC1化学品通过低压抽吸、机械搅动和加热，SC1里的双氧水和氨水很容易分解成氧气和氨气。这些混合着气泡的SC1容易造成清洗过程中的泵、加热器、流量计和超声波设备的功能丧失。
因此，在混合、加热、输送和最终清洗过程中，同时将超声波能量作用在衬底上时，需要一种更好的方法控制高温化学溶液内的气泡。
发明内容
本发明提出一种用来清洗衬底的高温化学溶液供液系统。该系统包括溶液槽、缓冲槽、第一泵及第二泵。溶液槽容纳高温化学溶液。缓冲槽具有槽体、排气管和针阀，槽体容纳高温化学溶液，排气管的一端连接槽体，排气管的另一端连接溶液槽，针阀安装在排气管上，其中，通过调节针阀以达到一流量使高温化学溶液内的气泡通过排气管排出缓冲槽。第一泵的进口连接溶液槽，第一泵的出口连接缓冲槽。第二泵的进口连接缓冲槽，第二泵的出口连接清洗衬底的清洗腔。
本发明还提出一种清洗衬底的装置。该装置包括溶液槽、缓冲槽、第一泵、第二泵、衬底卡盘、旋转驱动装置、喷嘴、超声波/兆声波装置以及垂直驱动器。溶液槽容纳高温化学溶液。缓冲槽具有槽体、排气管和针阀，槽体容纳高温化学溶液，排气管的一端连接槽体，排气管的另一端连接溶液槽，针阀安装在排气管上，其中，通过调节针阀以达到一流量使高温化学溶液内的气泡通过排气管排出缓冲槽。第一泵的进口连接溶液槽，第一泵的出口连接缓冲槽。第二泵的进口连接缓冲槽，第二泵的出口连接清洗衬底的清洗腔。衬底卡盘承载衬底。旋转驱动装置连接衬底卡盘并驱动衬底卡盘旋转。喷嘴向衬底表面喷洒高温化学溶液或去离子水。超声波/兆声波装置靠近衬底布置，超声波/兆声波装置和衬底之间具有间隙。垂直驱动器驱动超声波/兆声波装置上升或下降以改变衬底和超声波/兆声波装置之间的间隙。
本发明提出一种清洗衬底的方法，包括：旋转衬底；向衬底表面喷洒去离子水以预湿润衬底表面；向衬底表面喷洒高温化学溶液以清洗衬底表面；将衬底的转速降至低转速，并移动超声波/兆声波装置靠近衬底表面，超声波/兆声波装置与衬底表面之间具有间隙d，高温化学溶液完全填充间隙d；打开超声波/兆声波装置，并在第一清洗周期提供恒定或脉冲工作电源；关闭超声波/兆声波装置，向衬底表面喷洒高温化学溶液或去离子水以释放超声波/兆声波装置产生的气泡，防止气泡聚集在衬底表面；打开超声波/兆声波装置，并在第二清洗周期提供恒定或脉冲工作电源；关闭超声波/兆声波装置，向衬底表面喷洒化学药液或去离子水；干燥衬底。
本发明还提出一种清洗衬底的方法，包括：旋转衬底；向衬底表面喷洒去离子水以预湿润衬底表面；向衬底表面喷洒高温化学溶液以清洗衬底表面；将衬底的转速降至低转速，并移动超声波/兆声波装置靠近衬底表面，超声波/兆声波装置与衬底表面之间具有间隙d，高温化学溶液完全填充间隙d；打开超声波/兆声波装置，并在第一清洗周期提供恒定或脉冲工作电源；关闭超声波/兆声波装置，升起超声波/兆声波装置，使超声波/兆声波装置离开高温化学溶液表面以释放超声波/兆声波装置下方或周围聚集的气泡；将超声波/兆声波装置向下移动，超声波/兆声波装置与衬底表面之间具有间隙d，然后打开超声波/兆声波装置，并在第二清洗周期提供恒定或脉冲工作电源；关闭超声波/兆声波装置，向衬底表面喷洒化学药液或去离子水；干燥衬底。
本发明还提出一种清洗衬底的方法，包括：旋转衬底；向衬底表面喷洒去离子水以预湿润衬底表面；向衬底表面喷洒一种高温化学溶液或去离子水以清洗衬底表面；向衬底表面喷洒一种中温化学溶液或去离子水以清洗衬底表面；将衬底的转速降至低转速，并移动超声波/兆声波装置靠近衬底表面，协同中温化学溶液共同作用，清洗化学溶液完全填充超声波/兆声波装置与衬底表面之间的间隙d；打开超声波/兆声波装置，并在第一清洗周期提供恒定或脉冲工作电源；向衬底表面喷洒中温化学溶液或去离子水以释放中温化学溶液产生的气泡，防止气泡聚集在衬底表面；打开超声波/兆声波装置，并在第二清洗周期提供恒定或脉冲工作电源；关闭超声波/兆声波装置，向衬底表面喷洒化学药液或去离子水；干燥衬底。
附图说明
图1A-1B描述了一示范性实施例的波纹管泵的工作过程；
图2A-2D描述了具有一个缓冲槽及两个泵的系统的实施例；
图3描述了具有两个缓冲槽及三个泵的系统的实施例；
图4描述了高温化学品混合、加热、输送系统的实施例；
图5A-5B描述了具有超声波/兆声波装置的衬底清洗装置的实施例。
具体实施方式
本发明提供了一种用来清洗衬底的高温化学溶液供液系统。系统包括溶液槽、缓冲槽、第一泵及第二泵。溶液槽容纳高温化学溶液。缓冲槽具有槽体、排气管和针阀，槽体容纳高温化学溶液，排气管的一端连接槽体，排气管的另一端连接溶液槽，针阀安装在排气管上，通过调节针阀以达到一流量使高温化学溶液内的气泡通过排气管排出缓冲槽。第一泵的进口连接溶液槽，第一泵的出口连接缓冲槽。第二泵的进口连接缓冲槽，第二泵的出口连接清洗衬底的清洗腔。
本发明还提供了一种清洗衬底的装置。装置包括溶液槽、缓冲槽、第一泵、第二泵、衬底卡盘、旋转驱动装置、喷嘴、超声波/兆声波装置及垂直驱动器。溶液槽容纳高温化学溶液。缓冲槽具有槽体、排气管和针阀，槽体容纳高温化学溶液，排气管的一端连接槽体，排气管的另一端连接溶液槽，针阀安装在排气管上，通过调节针阀以达到一流量使高温化学溶液内的气泡通过排气管排出缓冲槽。第一泵的进口连接溶液槽，第一泵的出口连接缓冲槽。第二泵的进口连接缓冲槽，第二泵的出口连接清洗衬底的清洗腔。衬底卡盘承载衬底。旋转驱动装置连接衬底卡盘并驱动衬底卡盘旋转。喷嘴向衬底表面喷洒高温化学溶液或去离子水。超声波/兆声波装置靠近衬底布置，超声波/兆声波装置和衬底之间具有间隙。垂直驱动器驱动超声波/兆声波装置上升或下降以改变衬底和超声波/兆声波装置之间的间隙。
图1A-1B示意了常用波纹管泵的工作原理。波纹管泵1003包括左波纹管室1033和右波纹管室1035。如图1A所示，当空气排出时，左波纹管室1033吸进液体，当液体是高温化学品，例如温度高于70℃的SC1，在吸进液体的过程中，会产生气泡1037(主要是双氧水和氨水分解的氧气和氨气)。在下一个抽液周期，当空气供入时，左波纹管室1033中的与化学溶液混合的气泡1037将会被推出左波纹管室1033，如图1B所示。气泡1037将被压缩到更小的体积。因此，泵1003出口处的液体压力将会显著减小。此外，混有气泡1037的化学溶液将造成清洗过程中的泵、加热器、流量计和超声波设备的功能丧失。
图2A-2D所示为根据本发明的泵的系统的一种具体实施方式。如图2A所示，系统包括第一泵2019、缓冲槽2021、第二泵2023、针阀2029及排气管2030。从第一泵2019泵出来的化学溶液包括上述气泡。这些与化学溶液混合的气泡将被泵入缓冲槽2021中。在缓冲槽2021中，气泡上升到缓冲槽2021的顶部，然后通过针阀2029和排气管2030排出。针阀2029需要调节到足以排出大部分的气泡，同时又不能释放缓冲槽2021内太多的压力。通过调节第一泵2019的输出压力，缓冲槽2021内的压力范围在5psi-20psi之间，较佳为10psi。然后，缓冲槽2021内带有很少量气泡的化学溶液压入第二泵2023的进口。由于被压入第二泵2023进口的化学溶液具有一定的压力(大约设置为10psi)，在第二泵2023的吸入过程中将产生较少或很少的气泡。因此，第二泵2023出口的压力可以维持在一个高值，第二泵2023出口的压力可以被设置高达20-50psi。通常，第一泵2019可以选择离心式泵或波纹管式泵。第二泵2023优选使用波纹管式泵来获得更高的压力输出。
图2B所示为根据本发明的缓冲槽的一种具体实施方式。该缓冲槽具有槽体2022、进液管2028、针阀2029、排气管2030和出液管2032。进液管2028和出液管2032插入靠近槽体2022底部的位置，排气管2030安装在缓冲槽2021的顶部，化学溶液中的气泡2037上升并通过排气管2030排出缓冲槽2021。
图2C所示为根据本发明的缓冲槽的另一种具体实施方式。该缓冲槽与图2B中的相似，区别在于该缓冲槽2021还包括气泡分隔器2034，气泡分隔器2034的作用在于防止从进液管2028输出的气泡2037进入出液管2032。气泡分隔器2034的高度为缓冲槽高度的50％-80％，较佳为70％。
图2D所示为根据本发明的缓冲槽的又一种具体实施方式。该缓冲槽与图2B中的相似，区别在于该缓冲槽2021还包括颗粒过滤器2036。出液管2032安装在缓冲槽2021的顶部并位于颗粒过滤器2036的出口处。进液管2028插入靠近槽体2022底部的位置并位于颗粒过滤器2036的进口处。排气管2030安装在缓冲槽2021的顶部并位于颗粒过滤器2036的进口处。颗粒过滤器2036的作用在于通过过滤膜阻止气泡2037直接进入出液管2032，被过滤膜挡住的气泡2037通过排气管2030和针阀2029排出。
图3所示为根据本发明的泵的系统的另一种具体实施方式。该系统与图2A所示相似，区别在于该系统还包括第二缓冲槽3035和第四泵3053。该三个泵的系统与两个泵的系统相比，能够使化学品在更高温度下具有更大压力和更大流量。显然，更多的泵和缓冲槽可以结合起来以达到更大的压力和更大的流量。
图4所示为根据本发明的热的化学溶液供液系统的一种具体实施方式。该供液系统包括溶液槽4001、第一泵4019、缓冲槽4021、第二泵4023、第三泵4003、加热器4013、温度计4005和控制器4008。溶液槽4001设有用来进水的第一进口4017、用来进第一种化学液例如双氧水的第二进口4015、用来进第二种化学液例如氨水的第三进口4009。溶液槽4001进一步包括用来将化学溶液排出溶液槽4001的排液管4007。溶液槽4001的外表面包裹有隔热材料如橡胶或泡沫塑料来保温，并且所有连接在溶液槽4001、第一泵4019、缓冲槽4021、第二泵4023、第三泵4003以及加热器4013之间的液体管都包裹有相同的隔热材料。高温化学溶液供液系统的工作步骤如下：
步骤1：向溶液槽4001内注入所需量的水(去离子水)，为了缩短加热时间，如果最终混合化学溶液的温度需要达到60℃以上，则可以注入温度设为60℃的热水；
步骤2：注入所需浓度的第一种化学液，例如双氧水；
步骤3：注入所需浓度的第二种化学液，例如氨水；
步骤4：打开第三泵4003，气压设置在20-60psi，较佳为40psi；
步骤5：打开加热器4013，将温度设置为T0，温度可以设定在35℃-95℃之间；
步骤6：当温度计4005显示溶液槽4001内化学溶液的温度达到设定温度T0时，打开第一泵4019，将输出压力P1设置在5-30psi之间，较佳为15psi；
步骤7：调节针阀4029以达到一流量刚好能够排出气泡，为了节约化学液，排出的与混合化学溶液例如SC1混合的气泡将会通过排气管4030回到溶液槽4001；
步骤8：打开第二泵4023，将输出压力P2设置在10-80psi之间，且P2大于P1；
步骤9：由于第二泵4023打开，压力P1的变化可能会影响排气管4030的流量，因此，重新调节针阀4029以达到一流量刚好能够排出气泡。
图5A-5B所示为具有超声波/兆声波装置的衬底清洗装置的一种具体实施方式。该衬底清洗装置包括衬底5010、由旋转驱动装置5016驱动旋转的衬底卡盘5014，喷洒化学溶液或去离子水5032的喷嘴5012、超声波/兆声波(以MHZ的频率运行的超声波)装置5003。超声波/兆声波装置5003还包括压电式传感器5004及与其配对的声学共振器5008。传感器5004通电后作用如振动，共振器5008会将高频声能量传递到化学溶液或去离子水5032中。由兆声波能量产生的振动使衬底5010上的颗粒松动，进而通过由喷嘴5012提供的流动化学溶液或去离子水5032将其从衬底5010表面移除。
衬底清洗装置还包括支撑梁5007，导螺杆5005和垂直驱动器5006。超声波/兆声波装置5003和衬底5010之间的间隙d在清洗过程中随着衬底卡盘5014转动增大或减小。控制单元5088基于旋转驱动装置5016的速度来控制垂直驱动器006的速度。
在一种具体实施方式中，通过控制间隙d来释放超声波/兆声波装置5003下方或周围聚集的气泡。超声波/兆声波装置5003和衬底5010表面之间的间隙d足够高，因此超声波/兆声波装置5003的工作表面没有浸没到清洗化学溶液5032中。
随着超声波/兆声波输入到衬底5010和超声波/兆声波装置5003之间的间隙中，温度超过70℃的高温化学溶液例如SC1会产生气泡，将会增大超声波/兆声波装置的反射功率，从而导致超声波/兆声波电源关闭，同时，间隙中的少量超声波/兆声波功率将会降低衬底5010的清洗效果。此外，衬底5010表面的气泡可能阻止化学溶液和超声波/兆声波接触衬底5010，从而使衬底5010上出现没有清洗到的地方以及缺陷。
为了减少超声波/兆声波辅助清洗过程中产生的气泡，清洗过程被分成几个阶段来减少气泡。本发明所提供的具体方法包括以下步骤：
步骤1：衬底卡盘5014带动衬底5010转动，转速设置为300-1200rpm，较佳为500rpm；
步骤2：使用喷嘴5012向衬底5010表面喷洒去离子水以预湿润衬底5010表面；
步骤3：使用喷嘴5012向衬底5010表面喷洒高温(大于70℃)的化学溶液例如SC1以清洗衬底5010表面；
步骤4：将衬底的转速降至低转速(10-200rpm)，将超声波/兆声波装置移动到靠近衬底5010表面的位置并与衬底5010表面之间具有间隙d。化学溶液完全填充衬底5010的表面和超声波/兆声波装置5003之间的间隙d，这样，超声波/兆声波装置5003的工作表面浸没在化学溶液中；
步骤5：打开超声波/兆声波装置5003并在第一清洗周期提供恒定或脉冲工作电源，在此步骤中间隙d由垂直驱动器5006控制；
超声波/兆声波电源的波形是可编程和根据配方预设，间隙d变化的轨迹也是可编程和根据配方预设。
步骤6：关闭超声波/兆声波装置。向衬底5010表面喷洒高温化学溶液或去离子水来释放步骤5中超声波/兆声波装置产生的气泡，以防气泡聚集在衬底表面；
在该气泡释放步骤中，喷洒的化学溶液的种类可以和清洗化学溶液的种类相同或不同。
喷洒的化学溶液完全填充衬底表面和超声波/兆声波装置之间的间隙d，这样，超声波/兆声波装置的工作表面浸没在化学溶液中。
衬底的转速可以设置的更高以便更好的释放气泡。
间隙d可以设置的更大以便更好的释放气泡。
超声波/兆声波装置的供电电源可以设置的更低或完全关闭以便更好的释放气泡。
出于产量的考虑，该气泡释放步骤的时间可以设为几秒。
步骤7：打开超声波/兆声波装置5003并在第二清洗周期提供恒定或脉冲工作电源，在此步骤中间隙d由垂直驱动器5006控制；
超声波/兆声波电源的波形是可编程和根据配方预设，间隙d变化的轨迹也是可编程和根据配方预设。
步骤6和步骤7可以不断重复，以增强清洗效果。
第一清洗周期和第二清洗周期被重复多次，在每两个清洗周期之间设置一步气泡释放步骤。第一清洗周期和第二清洗周期可以相同或不同。
步骤8：关闭超声波/兆声波装置5003，使用喷嘴5012向衬底5010喷洒化学药液或去离子水；
步骤9：干燥衬底5010。
本发明所提供的另一种防止在超声波/兆声波辅助清洗过程中产生气泡的方法包括以下步骤：
步骤1：衬底卡盘5014带动衬底5010转动，转速设置为300-1200rpm，较佳为500rpm。
步骤2：使用喷嘴5012向衬底5010表面喷洒去离子水以预湿润衬底5010表面。
步骤3：使用喷嘴5012向衬底5010表面喷洒高温(大于70℃)化学溶液例如SC1以清洗衬底5010表面；
步骤4：将衬底的转速降至低转速(10-200rpm)，将超声波/兆声波装置5003移动到靠近衬底5010表面的位置并与衬底5010表面之间具有间隙d，化学溶液完全填充衬底5010表面和超声波/兆声波装置5003之间的间隙，这样，超声波/兆声波装置5003的工作表面浸没在化学溶液中；
步骤5：打开超声波/兆声波装置5003并在第一清洗周期提供恒定或脉冲工作电源，在此步骤中间隙d由垂直驱动器5006控制；
超声波/兆声波电源的波形是可编程和根据配方预设，间隙d变化的轨迹也是可编程和根据配方预设。
步骤6：关闭超声波/兆声波装置，然后升起超声波/兆声波装置，使超声波/兆声波装置离开高温化学溶液表面以释放超声波/兆声波装置下方或周围聚集的气泡。
在该气泡释放步骤中，喷洒的化学溶液可以和清洗化学溶液相同或不同。
超声波/兆声波装置被升起，超声波/兆声波装置和衬底表面之间的间隙d足够高，因此超声波/兆声波装置的工作表面没有浸没在清洗化学溶液中。
衬底的转速可以设置的更高以便更好的释放气泡。
超声波/兆声波装置的供电电源可以设置的更低或完全关闭以便更好的释放气泡。
出于产量的考虑，该气泡释放步骤的时间可以设为几秒。
步骤7：向下移动超声波/兆声波装置5003使超声波/兆声波装置与衬底5010之间具有间隙d，然后打开超声波/兆声波装置5003并在第二清洗周期提供恒定或脉冲工作电源，在此步骤中，间隙d由垂直驱动器5006控制。
超声波/兆声波电源的波形是可编程和根据配方预设，间隙d变化的轨迹也是可编程和根据配方预设。
步骤6和步骤7可以不断重复，以增强清洗效果。
第一清洗周期和第二清洗周期重复多次，在每两个清洗周期之间设置一步气泡释放步骤。第一清洗周期和第二清洗周期可以相同或不同。
步骤8：关闭超声波/兆声波装置5003，向衬底5010喷洒化学药液或去离子水。
步骤9：干燥衬底5010。
本发明所提供的又一种防止在超声波/兆声波辅助清洗过程中产生气泡的方法包括以下步骤：
步骤1：衬底卡盘5014带动衬底5010转动，转速设置为300-1200rpm，较佳为500rpm。
步骤2：使用喷嘴5012向衬底5010表面喷洒去离子水以预湿润衬底5010表面。
步骤3：使用扫描型喷嘴向衬底5010表面喷洒一种高温化学溶液或去离子水，扫描路径是可编程和根据配方设置。
步骤4：向衬底5010表面喷洒一种中温化学溶液(25℃-70℃)或去离子水以清洗衬底5010表面。
中温化学溶液的种类和高温化学溶液的种类可以相同或不同。
步骤5：将衬底的转速降至低转速(10-500rpm)，将超声波/兆声波装置5003移动到靠近衬底5010表面的位置，协同中温化学溶液共同作用，清洗化学溶液完全填充超声波/兆声波装置与衬底表面之间的间隙d，这样，超声波/兆声波装置的工作表面浸入化学溶液中。
步骤6：打开超声波/兆声波装置并在第一清洗周期提供恒定或脉冲工作电源，在此步骤中，间隙d由垂直驱动器控制。
超声波/兆声波电源的波形是可编程和根据配方预设，间隙d变化的轨迹也是可编程和根据配方预设。
步骤7：向衬底表面喷洒中温化学溶液或去离子水以释放中温化学溶液产生的气泡，从而防止气泡聚集在衬底表面。
在该气泡释放步骤中，喷洒的化学溶液的种类可以和清洗化学溶液的种类相同或不同。
衬底的转速可以设置的更高以便更好的释放气泡。
间隙d可以设置的更大以便更好的释放气泡。
超声波/兆声波装置的供电电源可以设置的更低或完全关闭以便更好的释放气泡。
出于产量的考虑，该气泡释放步骤的时间可以设为几秒。
步骤8：打开超声波/兆声波装置并在第二清洗周期提供恒定或脉冲工作电源，在此步骤中，间隙d由垂直驱动器控制。
超声波/兆声波电源的波形是可编程和根据配方预设，间隙d变化的轨迹也是可编程和根据配方预设。
步骤7和步骤8可以不断重复，以增强清洗效果。
第一清洗周期和第二清洗周期重复多次，在每两个清洗周期之间设置一步气泡释放步骤，第一清洗周期和第二清洗周期可以相同或不同。
步骤9：关闭超声波/兆声波装置，向衬底喷洒化学药液或去离子水。
步骤10：干燥衬底。

Claims (29)

1.一种用来清洗衬底的高温化学溶液供液系统，包括：
溶液槽，容纳高温化学溶液；
缓冲槽，包括槽体、排气管和针阀，槽体容纳高温化学溶液，排气管的一端连接槽体，排气管的另一端连接溶液槽，针阀安装在排气管上，通过调节针阀以达到一流量使高温化学溶液内的气泡通过排气管排出缓冲槽；
第一泵，第一泵的进口连接溶液槽，第一泵的出口连接缓冲槽；以及
第二泵，第二泵的进口连接缓冲槽，第二泵的出口连接清洗衬底的清洗腔。
2.根据权利要求1所述的供液系统，其特征在于，进一步包括第三泵和加热器，第三泵连接溶液槽和加热器，加热器连接溶液槽。
3.根据权利要求1所述的供液系统，其特征在于，进一步包括温度计和控制器。
4.根据权利要求1所述的供液系统，其特征在于，溶液槽具有用来进去离子水的第一进口、用来进第一种化学液的第二进口以及用来进第二种化学液的第三进口。
5.根据权利要求4所述的供液系统，其特征在于，第一种化学液为双氧水，第二种化学液为氨水。
6.根据权利要求1所述的供液系统，其特征在于，缓冲槽还包括进液管和出液管，进液管和出液管插入靠近槽体底部的位置，排气管安装在缓冲槽的顶端，高温化学溶液内的气泡上升并通过排气管排出缓冲槽。
7.根据权利要求6所述的供液系统，其特征在于，缓冲槽还包括气泡分隔器以防止从进液管输出的气泡进入出液管。
8.根据权利要求1所述的供液系统，其特征在于，缓冲槽还包括进液管、出液管和颗粒过滤器，进液管插入靠近槽体底部的位置并位于颗粒过滤器的进口处，出液管安装在缓冲槽的顶部并位于颗粒过滤器的出口处，排气管安装在缓冲槽的顶部并位于颗粒过滤器的进口处。
9.根据权利要求1所述的供液系统，其特征在于，进一步包括设置在第二泵的出口和清洗腔之间的至少一个第二缓冲槽和至少一个第四泵。
10.根据权利要求1所述的供液系统，其特征在于，溶液槽的外表面包裹有隔热材料。
11.一种衬底清洗装置，包括：
溶液槽，容纳高温化学溶液；
缓冲槽，包括槽体、排气管和针阀，槽体容纳高温化学溶液，排气管的一端连接槽体，排气管的另一端连接溶液槽，针阀安装在排气管上，通过调节针阀以达到一流量使高温化学溶液内的气泡通过排气管排出缓冲槽；
第一泵，第一泵的进口连接溶液槽，第一泵的出口连接缓冲槽；
第二泵，第二泵的进口连接缓冲槽，第二泵的出口连接清洗衬底的清洗腔；
衬底卡盘，承载衬底；
旋转驱动装置，连接衬底卡盘并驱动衬底卡盘旋转；
喷嘴，向衬底表面喷洒高温化学溶液或去离子水；
超声波/兆声波装置，设置在靠近衬底的位置，衬底和超声波/兆声波装置之间具有间隙；
垂直驱动器，驱动超声波/兆声波装置上升或下降以改变衬底和超声波/兆声波装置之间的间隙。
12.一种衬底清洗方法，包括：
旋转衬底；
向衬底表面喷洒去离子水以预湿润衬底表面；
向衬底表面喷洒高温化学溶液以清洗衬底表面；
将衬底的转速降至低转速，将超声波/兆声波装置移动到靠近衬底表面的位置并与衬底表面之间具有间隙d，高温化学溶液完全填充间隙d；
打开超声波/兆声波装置并在第一清洗周期提供恒定或脉冲工作电源；
关闭超声波/兆声波装置，向衬底表面喷洒高温化学溶液或去离子水以释放超声波/兆声波装置产生的气泡，防止气泡聚集在衬底表面；
打开超声波/兆声波装置并在第二清洗周期提供恒定或脉冲工作电源；
关闭超声波/兆声波装置，向衬底表面喷洒化学药液或去离子水；
干燥衬底。
13.根据权利要求12所述的方法，其特征在于，高温化学溶液为高温SC1。
14.根据权利要求12所述的方法，其特征在于，在打开超声波/兆声波装置并在第一清洗周期提供恒定或脉冲工作电源这一步骤中，间隙d由垂直驱动器控制，超声波/兆声波电源的波形是可编程和预设，间隙d变化的轨迹也是可编程和预设。
15.根据权利要求12所述的方法，其特征在于，在气泡释放步骤中，喷洒的化学溶液的种类和清洗化学溶液的种类一样，也可以和清洗化学溶液的种类不一样。
16.根据权利要求12所述的方法，其特征在于，第一清洗周期和第二清洗周期重复多次，在每两个清洗周期之间设置一步气泡释放步骤。
17.根据权利要求16所述的方法，其特征在于，第一清洗周期和第二清洗周期相同。
18.根据权利要求16所述的方法，其特征在于，第一清洗周期和第二清洗周期不同。
19.一种衬底清洗方法，包括：
旋转衬底；
向衬底表面喷洒去离子水以预湿润衬底表面；
向衬底表面喷洒高温化学溶液以清洗衬底表面；
将衬底的转速降至低转速，将超声波/兆声波装置移动到靠近衬底表面的位置并与衬底表面之间具有间隙d，高温化学溶液完全填充间隙d；
打开超声波/兆声波装置并在第一清洗周期提供恒定或脉冲工作电源；
关闭超声波/兆声波装置，升起超声波/兆声波装置，使超声波/兆声波装置离开高温化学溶液表面以释放超声波/兆声波装置下方和周围聚集的气泡；
向下移动超声波/兆声波装置使超声波/兆声波装置与衬底表面之间具有间隙d，然后打开超声波/兆声波装置并在第二清洗周期提供恒定或脉冲工作电源；
关闭超声波/兆声波装置，向衬底表面喷洒化学药液或去离子水；
干燥衬底。
20.根据权利要求19所述的方法，其特征在于，升起超声波/兆声波装置并控制超声波/兆声波装置和衬底表面之间的间隙d，使超声波/兆声波装置的工作表面不浸入化学溶液中。
21.根据权利要求19所述的方法，其特征在于，第一清洗周期和第二清洗周期重复多次，在每两个清洗周期之间设置一步气泡释放步骤。
22.根据权利要求21所述的方法，其特征在于，第一清洗周期和第二清洗周期相同。
23.根据权利要求21所述的方法，其特征在于，第一清洗周期和第二清洗周期不同。
24.一种衬底清洗方法，包括：
旋转衬底；
向衬底表面喷洒去离子水以预湿润衬底表面；
向衬底表面喷洒高温化学溶液或去离子水以清洗衬底表面；
向衬底表面喷洒中温化学溶液或去离子水以清洗衬底表面；
将衬底的转速降至低转速，将超声波/兆声波装置移动到靠近衬底表面的位置，协同中温化学溶液共同作用，清洗化学溶液完全填充超声波/兆声波装置与衬底表面之间的间隙d；
打开超声波/兆声波装置并在第一清洗周期提供恒定或脉冲工作电源；
向衬底表面喷洒中温化学溶液或去离子水以释放中温化学溶液产生的气泡，防止气泡聚集在衬底表面；
打开超声波/兆声波装置并在第二清洗周期提供恒定或脉冲工作电源；
关闭超声波/兆声波装置，向衬底表面喷洒化学药液或去离子水；
干燥衬底。
25.根据权利要求24所述的方法，其特征在于，中温化学溶液的种类和高温化学溶液的种类一样，或者和高温化学溶液的种类不一样。
26.根据权利要求24所述的方法，其特征在于，在气泡释放步骤中，喷洒的化学溶液的种类和清洗化学溶液一样，也可以和清洗化学溶液不一样。
27.根据权利要求24所述的方法，其特征在于，第一清洗周期和第二清洗周期重复多次，在每两个清洗周期之间设置一步气泡释放步骤。
28.根据权利要求27所述的方法，其特征在于，第一清洗周期和第二清洗周期相同。
29.根据权利要求27所述的方法，其特征在于，第一清洗周期和第二清洗周期不同。
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