CN107978622B - 一种阵列基板、显示面板和显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种阵列基板、显示面板和显示装置，阵列基板包括衬底基板和像素单元；形成在衬底基板一侧的第一电极走线和第二电极走线，第一电极走线用于向像素单元的阳极层提供第一电源电压信号，第二电极走线用于向像素单元的阴极层提供第二电源电压信号；形成在非显示区域且围绕显示区域的第一金属走线和第二金属走线，第一金属走线与第一电极走线电连接；第二金属走线与第二电极走线电连接。通过第一金属走线与第一电极走线电连接，第二金属走线与第二电极走线电连接，降低传输走线电阻，减小电源信号在传输走线上的电压降。同时，将单独设置的金属走线分成绝缘设置的第一金属走线和第二金属走线，减小第一金属走线和第二金属走线上的应力。
Description
技术领域
本发明实施例涉及半导体技术领域，尤其涉及一种阵列基板、显示面板和显示装置。
背景技术
近年来，有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode，OLED)成为国内外非常热门的新兴平面显示区产品，这是因为OLED显示器具有自发光、广视角、短反应时间、高发光效率、广色域、低工作电压、薄面板、可制作大尺寸与可弯曲的面板及制程简单等特性，而且它还具有低成本的潜力。
OLED按照驱动方式可以分为无源驱动和有源驱动两大类，即直接寻址和薄膜晶体管(Thin-film transistor，TFT)矩阵寻址两类。其中，有源驱动也称为有源矩阵(ActiveMatrix，AM)型，AMOLED中的每个发光单元都有TFT寻址独立控制。发光单元和TFT寻址电路组成的像素机构需要通过电源信号线对其加载直流电源信号进行驱动。
然而，在大尺寸的AMOLED显示装置中，由于背板电源信号线不可避免的存在一定电阻，且所述像素的驱动电流都由电源信号提供，因此在靠近电源信号供电位置区域的电源电压相比离供电位置较远区域的电源电压要高，这种现象称为电源压降(IR Drop)。IRDrop会造成不同区域的电流差异，影响显示装置的显示效果。
发明内容
有鉴于此，本发明实施例提供一种阵列基板、显示面板和显示装置，以解决现有技术中因电源信号线上的电压降造成显示效果不佳的技术问题。
第一方面，本发明实施例提供了一种阵列基板，包括显示区域和围绕所述显示区域的非显示区域；还包括：
衬底基板；
形成在所述衬底基板一侧的多条扫描线和多条数据线，所述多条扫描线和所述多条数据线绝缘交叉限定多个像素单元；所述像素单元包括依次形成在所述衬底基板上的驱动电路层、有机发光器件层，所述有机发光器件层包括阳极层和阴极层；
形成在所述衬底基板一侧的第一电极走线和第二电极走线，所述第一电极走线用于向所述阳极层提供第一电源电压信号，所述第二电极走线用于向所述阴极层提供第二电源电压信号；所述第一电极走线包括位于所述显示区域的第一部分和延伸至所述非显示区域的第二部分；所述第二电极走线形成在所述非显示区域且围绕所述显示区域；
形成在所述非显示区域且围绕所述显示区域的第一金属走线和第二金属走线，所述第一金属走线和所述第二金属走线电绝缘，所述第一金属走线位于所述第二金属走线靠近所述显示区域的一侧；所述第一金属走线与所述第一电极走线的第二部分电连接；所述第二金属走线与所述第二电极走线电连接。
第二方面，本发明实施例还提供了一种显示面板，包括第一方面所述的阵列基板。
第三方面，本发明实施例还提供了一种显示装置，包括第二方面所述的显示面板。
本发明实施例提供的阵列基板、显示面板和显示装置，在衬底基板一侧形成有第一电极走线和第二电极走线，第一电极走线向阳极层提供第一电源电压信号，第二电极走线向阴极层提供的第二电源电压信号，在非显示区域围绕显示区域的部分形成电绝缘设置的第一金属走线和第二金属走线，第一金属走线位于第二金属走线靠近显示区域的一侧；通过第一金属走线与第一电极走线电连接，第二金属走线与第二电极走线电连接，减小电源信号在第一电极走线和第二电极走线上的电压降，提升显示面板的显示效果；同时，将现有技术中单独设置的金属走线分为第一金属走线和第二金属走线，还可以降低第一金属走线和第二金属走线上的应力，提升显示面板的封装效果。
附图说明
为了更加清楚地说明本发明示例性实施例的技术方案，下面对描述实施例中所需要用到的附图做一简单介绍。显然，所介绍的附图只是本发明所要描述的一部分实施例的附图，而不是全部的附图，对于本领域普通技术人员，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图得到其他的附图。
图1是现有技术中一种阵列基板的俯视结构示意图；
图2是图1所示阵列基板沿剖面线A-A’方向的剖面结构示意图；
图3是图1所示阵列基板沿剖面线B-B’方向的剖面结构示意图；
图4是本发明实施例提供的一种阵列基板的俯视结构示意图；
图5是图4所示阵列基板沿剖面线C-C’方向的剖面结构示意图；
图6是图4所示阵列基板沿剖面线D-D’方向的剖面结构示意图；
图7是本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图；
图8是本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，以下将结合本发明实施例中的附图，通过具体实施方式，完整地描述本发明的技术方案。显然，所描述的实施例是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例，基于本发明的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下获得的所有其他实施例，均落入本发明的保护范围之内。
图1是现有技术中一种阵列基板的结构示意图，图2是图1所示阵列基板沿剖面线A-A’方向的剖面结构示意图，图3是图1所示阵列基板沿剖面线B-B’方向的剖面结构示意图，结合图1、图2和图3所示，阵列基板可以包括显示区11和围绕显示区11的非显示区12；
衬底基板13；
形成在衬底基板13一侧的多条扫描线14和多条数据线15，多条扫描线14和多条数据线15绝缘交叉限定多个像素单元16；像素单元16包括阳极层161和阴极层162，图1以阴极层162为整面电极为例进行说明；
形成在衬底基板13一侧的第一电极走线171和第二电极走线172，第一电极走线171和第二电极走线172均与位于非显示区12的柔性电路板(Flexible Printed Circuit，FPC)19电连接，分别接收FPC19提供的第一电源电压信号和第二电源电压信号；第一电极走线171用于向阳极层161提供第一电源电压信号，第二电极走线172用于向阴极层162提供第二电源电压信号；
形成在非显示区12且围绕显示区11设置的金属走线18，金属走线18与阴极层162通过过孔电连接，且金属走线18在阵列基板的下边缘与第二电极走线172打孔电连接，用于将第二电极走线172上的第二电源电压信号传输给阴极层162。
如图1所示，现有技术中，为了降低第一电极走线171造成的IR Drop问题，一般将第一电极走线171采用均匀网状的设计，来增加各个像素间的连接关系，平均分摊电阻和电流，如此，每个像素单元16接入相同或者相近的第一电压信号。继续参考图1，第二电极走线172仅位于非显示区12靠近FPC19的一侧，第二电极走线172在阵列基板的下边缘处与金属走线18打孔电连接，通过金属走线18向阴极层162提供第二电源电压信号。
可以理解的是，由于第一电源电压信号和第二电源电压信号均通过位于非显示区12的FPC19提供，即使第一电极走线171设计成网状结构，仍然会造成显示区11距离FPC19不同位置处的像素单元16接收到的第一电源电压信号之间较大的差异，造成IR Drop，影响显示面板的显示均匀性。同样的，由于金属走线18与第二电极走线172仅在阵列基板下边缘处进行打孔电连接，第二电源电压信号在金属走线18上同样会造成较大的电压降，第二电源电压信号在金属走线18上损失较大，影响显示面板的显示效果。
基于上述技术问题，本发明实施例提供一种阵列基板，包括显示区域和围绕显示区域的非显示区域；还包括：衬底基板；形成在衬底基板一侧的多条扫描线和多条数据线，多条扫描线和多条数据线绝缘交叉限定多个像素单元；像素单元包括依次形成在衬底基板上的驱动电路层、有机发光器件层，有机发光器件层包括阳极层和阴极层；形成在衬底基板一侧的第一电极走线和第二电极走线，第一电极走线用于向阳极层提供第一电源电压信号，第二电极走线用于向阴极层提供第二电源电压信号；第一电极走线包括位于显示区域的第一部分和延伸至非显示区域的第二部分；第二电极走线形成在非显示区域且围绕显示区域；形成在非显示区域且围绕显示区域的第一金属走线和第二金属走线，第一金属走线和第二金属走线电绝缘，第一金属走线位于第二金属走线靠近显示区域的一侧；第一金属走线与第一电极走线的第二部分电连接；第二金属走线与第二电极走线电连接。通过第一金属走线与第一电极走线的第二部分电连接，第二金属走线与第二电极走线电连接，分别降低传输第一电源电压信号和第二电源电压信号的传输走线上的电阻，降低第一电源电压信号和第二电源电压信号在传输走线上的电压降，提升显示面板的显示效果；同时，将现有技术中单独设置的金属走线分为第一金属走线和第二金属走线，还可以降低第一金属走线和第二金属走线上的应力，提升显示面板的封装效果。
以上是本发明的核心思想，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下，所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
图4是本发明实施例提供的一种阵列基板的俯视结构示意图，图5是图4所示阵列基板沿剖面线C-C’方向的剖面结构示意图，图6是图4所示阵列基板沿剖面线D-D’方向的剖面结构示意图,结合图4、图5和图6所示，本发明实施例提供的阵列基板可以包括显示区域21和围绕显示区域21的非显示区域22；
还包括：
衬底基板23；
形成在衬底基板23一侧的多条扫描线24和多条数据线25，多条扫描线24和多条数据线25绝缘交叉限定多个像素单元26；像素单元26包括依次形成在衬底基板23上的驱动电路层261、有机发光器件层262，有机发光器件层262包括阳极层2621和阴极层2622以及位于阳极层2621和阴极层2622的有机发光层2623；
形成在衬底基板23一侧的第一电极走线271和第二电极走线272，所述第一电极走线271用于向阳极层2621提供第一电源电压信号，第二电极走线272用于向阴极层2622提供第二电源电压信号；第一电极走线271包括位于显示区域21的第一部分2711和延伸至非显示区域22的第二部分2712；第二电极走线272形成在非显示区域22且围绕显示区域21；
形成在非显示区域22且围绕显示区域21的第一金属走线281和第二金属走线282，第一金属走线281和第二金属走线282电绝缘，第一金属走线281位于第二金属走线282靠近显示区域21的一侧；第一金属走线281与第一电极走线271的第二部分2712电连接；第二金属走线282与第二电极走线272电连接。
可选的，阵列基板还可以包括位于非显示区域的FPC 29，第一电极走线271和第二电极走线272分别与FPC 29电连接，分别用于接收FPC 29提供的第一电源电压信号和第二电源电压信号，可选的，第一电源电压信号可以为阳极电压信号PVDD，第二电源电压信号可以为阴极电压信号PVEE。
继续参考图4，第一电极走线271包括位于显示区域21的第一部分2711和延伸至非显示区域22的第二部分2712，形成在非显示区域22且围绕显示区域21的第一金属走线281与第一电极走线271的第二部分2712电连接。通过设置第一金属走线281与第一电极走线271电连接，增加了传输第一电源电压信号的传输走线的面积，可以降低传输第一电源电压信号的传输走线的电阻，降低第一电源电压信号在传输走线上的电压降。并且，第一金属走线281设置于非显示区域22，不会占用显示区域21的面积，不影响显示面板的显示开口率。
继续参考图4，第二电极走线272形成在非显示区域22且围绕显示区域21，第二金属走线282同样形成在非显示区域22且围绕显示区域21，且第二金属走线282与第二电极走线272电连接，增加了传输第二电源电压信号的传输走线的面积，可以降低传输第二电源电压信号的传输走线的电阻，降低第二电源电压信号在传输走线上的电压降。并且，第二电极走线272和第二金属走线282均设置于非显示区域22，不会占用显示区域21的面积，不影响显示面板的显示开口率。
可以理解的是，相比于现有技术中仅在非显示区域22设置一根金属走线，本发明实施例中通过设置第一金属走线281和第二金属走线282，且第一金属走线281和第二金属走线282绝缘设置，不仅可以分别用来减少PVDD信号和PVEE信号在信号传输线上的电压降，还可以通过绝缘设置的第一金属走线281和第二金属走线282来减小第一金属走线281和第二金属走线282上承受的应力，保证第一金属走线281和第二金属走线281不会发生断裂，提升阵列基板的整体封装效果。
可选的，继续参考图5，第一金属走线281和第二金属走线282同层设置，且第一金属走线281和第二金属走线282可以与阳极层2621同层设置，在制备第一金属走线281和第二金属走线282时，可以与阳极层2621同一工艺制备，不需要使额外的制备工艺或者掩模工艺，保证第一金属走线281和第二金属走线282制备工艺简单。
可选的，为了降低第一电极走线271造成的IR Drop问题，第一电极走线271采用均匀网状的设计来增加各个像素间的连接关系，平均分摊电阻和电流，继续参考图4，第一电极走线271包括沿扫描线24延伸方向设置的多条第一子电极走线2713和多条沿数据线25延伸方向设置的多条第二子电极2714，第一子电极走线2713与第二子电极走线2714交叉设置，且第一子电极走线2713与第二子电极走线2714电连接。可选的，第一金属走线281可以与第一子电极走线2713电连接，和/或，第一金属走线281可以与第二子电极走线2714电连接，图4仅以第一金属走线281分别与第一子电极走线2713以及第二子电极走线2714电连接为例进行说明，如图4所示，在靠近阵列基板的两侧边缘处，第一金属走线281与第一子电极走线2713电连接；在靠近阵列基板的下边缘处，第一金属走线281与第二子电极走线2714电连接。
继续参考图4，在垂直于衬底基板21的方向上，第一金属走线281与第一电极走线271的第二部分2712存在第一交叠区域S1，第一交叠区域S1上形成有多个第一过孔301，第一金属走线281与第一电极走线271通过多个第一过孔301电连接；在垂直于衬底基板21的方向上，第二金属走线282与第二电极走线272存在第一交叠区域S2，第二交叠区域S2上形成有多个第二过孔302，第二金属轴线282与第二电极走线272通过多个第二过孔302电连接。
示例性的，第一金属走线281与第一电极走线271通过多个第一过孔301电连接，保证第一金属走线281与第一电极走线271保持较大的接触面积，不仅可以降低传输第一电源电压信号的传输走线的电阻，还可以保证距离驱动IC不同位置处第一电源电压信号的电压降相同或者相近，降低第一电源电压信号的IR Drop，提高显示均一性；同理，第二金属走线282与第二电极走线272通过多个第二过孔302电连接，保证第二金属走线282与第二电极走线272保持较大的接触面积，不仅可以降低传输第二电源电压信号的传输走线的电阻，还可以保证距离FPC29不同位置处第二电源电压信号的电压降相同或者相近，降低第二电源电压信号的IR Drop，提高显示均一性。
具体的，继续参考图4，多个第一过孔301可以包括沿扫描线24方向设置的多个第一类过孔3011和沿数据线25延伸方向设置的多个第二类过孔3012；第一金属走线281与第一子电极走线2713通过第二类过孔3012电连接，第一金属走线281与第二子电极走线2714通过第一类过孔3011电连接；同时，第二过孔302可以包括沿扫描线24方向设置的多个第三类过孔3021和沿数据线25延伸方向设置的多个第四类过孔3022，第二金属走线282与第二电极走线272通过第三类过孔3021和第四类过孔3022电连接。
可选的，由于第一子电极走线2713沿扫描线24延伸方向设置，因此，在实际阵列基板的设计过程中，可以设计每条第一子电极走线2713与每条扫描线24对应设置，如此，设置多条第一子电极走线2713不会影响显示面板的开口率。如此，每条第一子电极走线2713与每条扫描线24对应设置，每条扫描线24对应一行像素单元26，并且由于第一金属走线281与第一子电极走线2713通过第二类过孔3012电连接，因此，在实际设计过程中，可以设置每个第二类过孔3012可以与每一行像素单元26。
可选的，继续参考图5所示，本发明实施例提供的驱动电路层261还可以包括存储电容263，存储电容263包括第一电容基板2631和第二电容基板2632；其中，第一子电极走线2713可以与扫描线24同层设置，或者第一子电极走线2713可以与第一电容基板2631或者第二电容基板2632同层设置；第二子电极走线2714可以与数据线25同层设置，图5仅以第一电极走线2713与第二电容基板2632同层设置为例进行示例性说明。设置第一子电极走线2713与扫描线24、或者第一电容基板2631、或者第二电容基板2632同层设置，第二子电极走线2714可以与数据线25同层设置，保证第一子电极走线2713在制备过程中可以与扫描线24、或者第一电容基板2631、或者第二电容基板2631在同一步制备工艺中制备，第二子电极走线2714在制备过程中可以与数据线25在同一步制备工艺中制备，与现有阵列基板的制备工艺匹配，保证制备工艺简单。需要说明的是，由于扫描线24与驱动电路层261中的栅极同层设置且相互连接，因此图5以栅极代表扫描线24，同理，由于数据线25与驱动电路层261中的源极同层设置且相互连接，因此图5以源极代表数据线25。
可选的，第二电极走线272可以与数据线25同层设置(图中未示出)，第二电极走线272在制备过程中可以与数据线25在同一步制备工艺中制备，与现有阵列基板的制备工艺匹配，保证制备工艺简单。
可选的，继续参考图5所示，本发明实施例提供的阵列基板还可以包括位于驱动电路层261与有机发光器件层262之间的平坦化层31，平坦化层31可以用于保护并平坦化在其下方的驱动电路层261。可选的，平坦化层31的材料可以包括苯并环丁烯或丙烯酸的有机材料或者包括氮化硅的无机材料形成，而且，平坦化层31可以形成为单层、双层或多层。可选的，由于第一金属走线281和第二金属走线282可以与阳极层2621同层设置，因此，连接第一金属层281与第一电极走线271的第一过孔301可以形成在平坦化层31；同样的，连接第为金属层282与第二电极走线272的第二过孔302同样可以形成在平坦化层31。设置第一过孔301与第二过孔302形成在平坦化层31，保证第一过孔301和第二过孔302形成方式简单，与现有阵列基板的制备工艺相匹配。
可选的，继续参考图5所示，本发明实施例提供的阵列基板还可以包括位于阳极层2621与阴极层2622之间的像素定义层32，像素定义层32位于相邻的两个像素单元16之间，可以防止或降低像素间的颜色混合。可选的，像素定义层32的材料可以包括聚酰亚胺、聚酰胺、丙烯酸树脂、并环丁烯和酚醛树脂等有机绝缘材料中的至少一种；像素定义层32的材料还可以包括SiO2、SiNX、Al2O3、CuOX、Tb4O7、Y2O3、Nb2O5和Pr2O3等无机绝缘材料中的至少一种；而且，像素定义层32还可以具有有机绝缘材料和无机绝缘材料交替形成的多层结构。像素定义层32上形成有阴极接触孔303，阴极层2622与第二金属走线282通过阴极接触孔303形成电连接。设置像素定义层32上形成阴极接触孔303，阴极层2622与第二金属走线282通过阴极接触孔303电连接，保证阴极接触孔303形成方式简单，与现有阵列基板的制备工艺相匹配。
图7是本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图，参考图7，本发明实施例提供的显示面板包括上述实施例所述的阵列基板1，还可以包括与阵列基板1相对设置的对向基板2，对向基板2可以为盖板或者其他封装层。
图8是本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图，参考图8，显示装置100可以包括本发明任意实施例所述的显示面板101。显示装置100可以为图8所示的手机，也可以为电脑、电视机、智能穿戴显示装置等，本发明实施例对此不作特殊限定。
注意，上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本发明不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整、相互结合和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明，但是本发明不仅仅限于以上实施例，在不脱离本发明构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。
Claims (10)
1.一种阵列基板，其特征在于，包括显示区域和围绕所述显示区域的非显示区域；还包括：
衬底基板；
形成在所述衬底基板一侧的多条扫描线和多条数据线，所述多条扫描线和所述多条数据线绝缘交叉限定多个像素单元；所述像素单元包括依次形成在所述衬底基板上的驱动电路层、有机发光器件层，所述有机发光器件层包括阳极层和阴极层；
形成在所述衬底基板一侧的第一电极走线和第二电极走线，所述第一电极走线用于向所述阳极层提供第一电源电压信号，所述第二电极走线用于向所述阴极层提供第二电源电压信号；所述第一电极走线包括位于所述显示区域的第一部分和延伸至所述非显示区域的第二部分；所述第二电极走线形成在所述非显示区域且围绕所述显示区域；
形成在所述非显示区域且围绕所述显示区域的第一金属走线和第二金属走线，所述第一金属走线和所述第二金属走线电绝缘，所述第一金属走线位于所述第二金属走线靠近所述显示区域的一侧；所述第一金属走线与所述第一电极走线的第二部分电连接；所述第二金属走线与所述第二电极走线电连接；
所述第一电极走线包括沿所述扫描线延伸方向设置的多条第一子电极走线和沿所述数据线延伸方向设置的多条第二子电极走线，所述第一子电极走线与所述第二子电极走线交叉设置；
所述第一金属走线与所述第一子电极走线电连接；和/或，所述第一金属走线与所述第二子电极走线电连接；
在垂直于所述衬底基板的方向上，所述第一金属走线与所述第一电极走线的第二部分存在第一交叠区域，所述第二金属走线与所述第二电极走线存在第二交叠区域；
所述第一金属走线与所述第一电极走线通过位于所述第一交叠区域的多个第一过孔电连接；所述第二金属走线与所述第二电极走线通过位于所述第二交叠区域的多个第二过孔电连接。
2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述第一金属走线以及所述第二金属走线与所述阳极层同层设置。
3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述多个第一过孔包括沿所述扫描线延伸方向设置的多个第一类过孔和沿所述数据线延伸方向设置的多个第二类过孔；所述第一金属走线与所述第一子电极走线通过所述第二类过孔电连接，所述第一金属走线与所述第二子电极走线通过所述第一类过孔电连接；
所述多个第二过孔包括沿所述扫描线延伸方向设置的多个第三类过孔和沿所述数据线延伸方向设置的多个第四类过孔，所述第二金属走线与所述第二电极走线通过所述第三类过孔和所述第四类过孔电连接。
4.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，每个所述第二类过孔与每一行像素单元对应设置。
5.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述驱动电路层还包括存储电容，所述存储电容包括第一电容基板和第二电容基板；
所述第一子电极走线与所述扫描线同层设置，或者与所述第一电容基板或者所述第二电容基板同层设置；
所述第二子电极走线与所述数据线同层设置。
6.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述第二电极走线与所述数据线同层设置。
7.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，还包括位于所述驱动电路层与所述有机发光器件层之间的平坦化层，所述第一过孔和所述第二过孔形成在所述平坦化层。
8.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，还包括位于所述阳极层与所述阴极层之间的像素定义层，所述像素定义层上形成有阴极接触孔，所述阴极层与所述第二金属走线通过所述阴极接触孔电连接。
9.一种显示面板，其特征在于，包括权利要求1-8任一项所述的阵列基板。
10.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求9所述的显示面板。
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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| GR01 | Patent grant | ||
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| TR01 | Transfer of patent right |
Effective date of registration: 20211029 Address after: No.8, liufangyuan Henglu, Donghu New Technology Development Zone, Wuhan City, Hubei Province Patentee after: WUHAN TIANMA MICROELECTRONICS Co.,Ltd. Patentee after: Wuhan Tianma Microelectronics Co.,Ltd. Shanghai Branch Address before: Room 509, building 1, No. 6111, Longdong Avenue, Pudong New Area, Shanghai, 200120 Patentee before: SHANGHAI TIANMA AM-OLED Co.,Ltd. |
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| TR01 | Transfer of patent right |