CN107512050B - 触控面板及其制作方法、触控显示装置 - Google Patents

Abstract

一种触控面板及其制作方法、触控显示装置。触控面板包括：衬底基板；位于衬底基板上的多个第一触控电极，每个第一触控电极包括多条交叉设置的第一触控电极线，并且，沿垂直于衬底基板的方向，第一触控电极线包括至少两层层叠设置的透明导电层，其包括第一金属氧化物层以及第一金属层，或者第一金属氧化物层以及第一石墨烯层。该触控面板采用至少两层层叠设置的透明导电层代替金属网格而作为触控电极中的网格触控电极线，消除了摩尔纹，从而提高了触控面板的光学品质。

Description

触控面板及其制作方法、触控显示装置

技术领域

本公开至少一个实施例涉及一种触控面板及其制作方法、触控显示装置。

背景技术

金属网格是利用银、铜等金属材料或氧化物，在玻璃/聚对苯二甲酸乙二醇酯(Glass/PET)薄膜上所形成的金属网格图案。金属网格的理论最低面阻值可达0.1欧姆/□，并且因具备电磁遮蔽功能而降低讯号干扰，但其所制得的触控感测器中因图形线幅较粗(线幅超过5μm以上)而导致摩尔干涉波纹非常明显，仅适用于观测距离较远的显示屏。

发明内容

本公开的至少一实施例提供一种触控面板及其制作方法、触控显示装置。该触控面板采用至少两层层叠设置的透明导电层代替金属网格而作为触控电极中的网格触控电极线，消除了摩尔纹，从而提高了触控面板的光学品质。

本公开的至少一实施例提供一种触控面板，包括：衬底基板；位于衬底基板上的多个第一触控电极，每个第一触控电极包括多条交叉设置的第一触控电极线，并且，沿垂直于衬底基板的方向，第一触控电极线包括至少两层层叠设置的透明导电层，至少两层层叠设置的透明导电层包括第一金属氧化物层以及第一金属层，或者第一金属氧化物层以及第一石墨烯层。

例如，第一触控电极线还包括位于第一金属层或者第一石墨烯层远离第一金属氧化物层的一侧的第二金属氧化物层。

例如，第一金属层的材料包括银钯铜合金。

例如，沿垂直于衬底基板的方向，第一金属层的厚度范围为150埃-250埃。

例如，沿垂直于衬底基板的方向，第一触控电极线的厚度范围为750埃-2650埃。

例如，第一触控电极线的方块电阻不大于10Ω/□。

例如，第一金属氧化物层和第二金属氧化物层的至少之一的材料包括氧化铟锡。

例如，触控面板还包括：位于第一触控电极远离衬底基板的一侧的多个第二触控电极，每个第二触控电极包括多条交叉设置的第二触控电极线，第一触控电极与第二触控电极彼此绝缘，其中，第二触控电极线包括至少两层层叠设置的透明导电层，至少两层层叠设置的透明导电层包括第三金属氧化物层以及第二金属层，或者第三金属氧化物层以及第二石墨烯层。

例如，触控面板还包括：消影层，位于第一触控电极与衬底基板之间或者位于第一触控电极远离衬底基板的一侧。

本公开的至少一实施例提供一种触控面板的制作方法，包括：在衬底基板上形成第一触控电极层，形成第一触控电极层包括形成至少两层叠层的透明导电层，形成至少两层叠层的透明导电层包括依次形成第一金属氧化物层以及第一金属层，或者第一金属氧化物层以及第一石墨烯层；对第一触控电极层图案化以形成多个第一触控电极，每个第一触控电极包括多条交叉设置的第一触控电极线。

例如，形成至少两层叠层的透明导电层还包括：在第一金属层或者第一石墨烯层远离第一金属氧化物层的一侧形成第二金属氧化物层。

例如，对第一触控电极层图案化包括：采用一步图案化工艺对至少两层叠层的透明导电层图案化。

例如，触控电极面板的制作方法还包括：在第一触控电极远离衬底基板的一侧形成第二触控电极层，形成第二触控电极层包括形成至少两层叠层的透明导电层，其中，形成至少两层叠层的透明导电层包括依次形成第三金属氧化物层以及第二金属层，或者第三金属氧化物层以及第二石墨烯层，第二触控电极层与第一触控电极彼此绝缘；对第二触控电极层图案化以形成多个第二触控电极，每个第二触控电极包括多条交叉设置的第二触控电极线。

例如，触控面板的制作方法还包括：在衬底基板上形成第一触控电极层之前，在衬底基板上形成消影层，或者在第一触控电极形成之后，在第一触控电极远离衬底基板的一侧形成消影层。

本公开的至少一实施例提供一种触控显示装置，包括上述任一实施例提供的触控面板。

附图说明

为了更清楚地说明本公开实施例的技术方案，下面将对实施例的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅涉及本公开的一些实施例，而非对本公开的限制。

图1为一种金属网格触控面板中局部层结构示意图；

图2A为本公开一实施例提供的一种触控面板的平面示意图；

图2B为沿图2A中的AB线所截的局部层结构剖视图；

图2C为沿图2A中的AB线所截的局部层结构剖视图；

图3为本公开一实施例提供的触控面板的制作方法的示意性流程图。

具体实施方式

为使本公开实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本公开实施例的附图，对本公开实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本公开的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本公开的实施例，本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本公开保护的范围。

除非另外定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本公开所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。

图1为一种金属网格触控面板中局部层结构示意图，如图1所示，一般的金属网格触控面板中包括衬底基板10，依次设置在衬底基板10上的多个第一触控电极20，第一绝缘层40，多个第二触控电极30，第二绝缘层50。多个第一触控电极20和多个第二触控电极30在交叠的位置可形成电容，当有手指触摸时，影响了触摸点附近电容的耦合，从而改变了触摸点附近电容的电容量，由此，利用这种电容量的变化可判断出触控位置。

图1示出的金属网格触控面板中的第一触控电极20和第二触控电极30为采用金属铜或者银等金属作为金属网格(Metal Mesh)的电极结构，相比于氧化铟锡(ITO)作为触控面板的触控电极材料而言，金属网格的电学性能良好，方阻低，可应用于大尺寸触控显示产品中。

在研究中，本申请的发明人发现：由于金属特有的高反射率和低透过率的特点，采用金属网格的触控电极中的摩尔纹现象明显，且难以从生产工艺上克服。

本公开的实施例提供一种触控面板及其制作方法、触控显示装置。该触控面板包括：衬底基板；位于衬底基板上的多个第一触控电极，每个第一触控电极包括多条交叉设置的第一触控电极线，并且，沿垂直于衬底基板的方向，第一触控电极线包括至少两层层叠设置的透明导电层，至少两层层叠设置的透明导电层包括第一金属氧化物层以及第一金属层，或者第一金属氧化物层以及第一石墨烯层。该触控面板采用至少两层层叠设置的透明导电层代替金属网格而作为触控电极中的网格触控电极线，消除了摩尔纹，从而提高了触控面板的光学品质。

下面结合附图对本公开实施例提供的触控面板及其制作方法、触控显示装置进行描述。

图2A为本公开一实施例提供的一种触控面板的平面示意图，图2B为本实施例的一示例中沿图2A中的AB线所截的局部层结构剖视图，如图2A和图2B所示，本实施例提供的触控面板包括：衬底基板100，位于衬底基板100上的多个第一触控电极200，每个第一触控电极200包括多条交叉设置的第一触控电极线201，沿垂直于衬底基板100的方向，第一触控电极线201包括至少两层层叠设置的透明导电层，该至少两层层叠设置的透明导电层包括第一金属氧化物层210以及第一金属层220，或者第一金属氧化物层210以及第一石墨烯层220。

例如，本实施例的一示例以第一金属层220或者第一石墨烯层220位于第一金属氧化物层210远离衬底基板100的一侧为例进行描述，但不限于此。例如，还可以是第一金属氧化物层210位于第一金属层220或者第一石墨烯层220远离衬底基板100的一侧。

例如，如图2B所示，第一触控电极线201中的第一石墨烯层220具有90％以上的透光率以及较低的电阻率，因此，本公开的实施例采用至少两层层叠设置的透明导电层(即第一金属氧化物层以及第一石墨烯层)结构代替传统的金属网格而作为触控电极中的网格触控电极线，既保证了触控面板的电性需求，又能够有效消除摩尔纹现象。

例如，如图2B所示，第一触控电极线201中的第一金属层220的材料包括银钯铜合金(APC)，该电学材料中的主要成分是银。

例如，如图2B所示，沿垂直于衬底基板100的方向，第一金属层220的厚度范围为150埃-250埃。例如，银钯铜合金的厚度为150埃-250埃，此时，银钯铜合金的透光率达到70％以上，且具有低于10Ω/□的方块电阻。另外，本实施例的一示例将第一金属层设置在第一金属氧化物层远离衬底基板的一侧可以有效防止第一金属层因厚度过薄而导致断裂。本公开的实施例采用至少两层层叠设置的透明导电层(即第一金属氧化物层以及第一金属层)结构代替传统的金属网格而作为第一触控电极中的网格触控电极线，既保证了触控面板的电性需求，又能够有效消除摩尔纹现象。

例如，如图2B所示，本实施例的一示例提供的触控面板中的第一触控电极线201还包括位于第一金属层220或者第一石墨烯层220远离第一金属氧化物层210的一侧的第二金属氧化物层230。

例如，在沿垂直于衬底基板100的方向，第一触控电极线201的第一金属层220设置在第一金属氧化物层210以及第二金属氧化物层230之间，第一触控电极线中的两个金属氧化物层可以防止第一金属层被氧化和腐蚀，且第一触控电极线包括的三层透明导电层结构在不影响第一触控电极电学性能的同时，还可以有效消除触控电极中产生的摩尔纹现象。

例如，第一金属氧化物层210和第二金属氧化物层230的至少之一的材料包括氧化铟锡(ITO)。本实施例不限于此，例如，两层金属氧化物层的材料还可以包括氧化铟锌(IZO)、氧化锌(ZnO)、氧化铟(In₂O₃)、氧化铟镓(IGO)和氧化铝锌(AZO)中的组合或至少一种。

例如，第一触控电极线201的方块电阻均不大于10Ω/□。例如，第一触控电极线201的方块电阻在4Ω/□-7Ω/□的范围，本实施例包括但不限于此。

例如，如图2B所示，沿垂直于衬底基板100的方向，第一触控电极线201的厚度范围为750埃-2650埃。例如，第一金属氧化物层210的厚度范围为300埃-1200埃。例如，第二金属氧化物层230的厚度范围为300埃-1200埃。在第一触控电极线201的厚度范围为750埃-2650埃的情况下，第一触控电极线201的光学透过率不小于70％，方阻均不大于10Ω/□，在保证第一触控电极具有良好的电学性能的前提下，因第一触控电极具有较高的光学透过率，从而可以有效消除摩尔纹现象。

例如，如图2A和图2B所示，本实施例的一示例提供的触控电极结构还包括：位于第一触控电极200远离衬底基板100的一侧的多个第二触控电极300，每个第二触控电极300包括多条交叉设置的第二触控电极线301，第一触控电极200与第二触控电极300彼此绝缘，并且，第二触控电极线301包括至少两层层叠设置的透明导电层，即，第二触控电极线301包括第三金属氧化物层310以及第二金属层320，或者第三金属氧化物层310以及第二石墨烯层320。

例如，如图2B所示，第二触控电极线301还包括位于第二金属层320或者第二石墨烯层320远离第三金属氧化物层310一侧的第四金属氧化物层330。

例如，本实施例中以第一触控电极线201与第二触控电极线301仅包括三层透明导电层结构为例进行描述，但不限于此，两者至少之一还可以为两层、四层或者更多层。

例如，本实施例中的第一触控电极线201与第二触控电极线301可以由相同的导电结构以及材料构成。例如，第一触控电极线201与第二触控电极线301中各膜层的厚度也相同。

本实施例中的第二触控电极线具有与第一触控电极线相同的电学以及光学性能，即第二触控电极线的光学透过率不小于70％，方阻均不大于10Ω/□，在保证第二触控电极具有良好的电学性能的前提下，因第二触控电极具有较高的光学透过率，从而可以有效消除摩尔纹现象。

例如，第一触控电极200与第二触控电极300之一为触控驱动电极，另一个为触控感应电极。

需要说明的是，本实施例以第一触控电极和第二触控电极位于不同层为例进行描述，但不限于此。

例如，还可以是触控面板包括一层触控电极层，即，第一触控电极包括两组触控电极，第一触控电极包括触控驱动电极和触控感应电极。

例如，如图2A所示，围绕第一触控电极200与第二触控电极300所在的触控区的周边区域包括黑矩阵500，即，黑矩阵500设置于围绕触控面板的边缘。分别与沿X方向延伸的各列第一触控电极200电连接的多条第一引线202，以及分别与沿Y方向延伸的各行第二触控电极300电连接的多条第二引线302设置在黑矩阵600上。

例如，与多个第一触控电极200电连接的多条第一引线202，以及与多个第二触控电极300电连接的多条第二引线302通过引线端区连接至触控侦测芯片(未示出)，该触控侦测芯片通过第一引线202和第二引线302输入/接收信号，通过分析接收的各个触控电极的信号，从而判断出触控位置。

例如，如图2B所示，本实施例提供的触控面板还包括位于第一触控电极200与第二触控电极300之间的第一绝缘层600以使第一触控电极200与第二触控电极300彼此绝缘。例如，第一绝缘层600的材料包括光学透明树脂或光学透明胶，本实施例包括但不限于此。

为了清楚示意出第一触控电极与第二触控电极，图2A中没有示意出第一绝缘层，并且第一触控电极用虚线表示其与第二触控电极位于不同层。

例如，如图2B所示，第二触控电极300远离第一触控电极200的一侧还设置有第二绝缘层700，第二绝缘层700既可以采用与第一绝缘层600相同的透明绝缘材料，也可以采用与第一绝缘层600不相同的透明绝缘材料，本实施例对此不作限制。

例如，如图2B所示，触控面板还包括位于第二触控电极300远离第一触控电极200的一侧的消影层400。例如，消影层400的材料为氮氧化硅。本实施例设置的消影层能够减少设置第一触控电极线(第二触控电极线)的区域与没有设置第一触控电极线(第二触控电极线)的区域的视觉反差，使各触控电极线的图案变淡，从而提升了触控面板的消影效果。

例如，图2C为本实施例的另一示例中沿图2A中的AB线所截的局部层结构剖视图，如图2C所示，与图2B不同的是本示例中的消影层400设置在第一触控电极200与衬底基板100之间。例如，本示例中的消影层400的材料包括五氧化二铌。本示例中的消影层起到了与上一示例相同的消影作用，从而可以有效提升触控面板的消影效果。

本公开的一实施例提供一种触控面板的制作方法，图3为本公开一实施例提供的触控面板的制作方法的示意性流程图，如图3所示，该制作方法包括：

S201：在衬底基板上形成第一触控电极层，形成第一触控电极层包括形成至少两层叠层的透明导电层，形成至少两层叠层的透明导电层包括依次形成第一金属氧化物层以及第一金属层，或者第一金属氧化物层以及第一石墨烯层。

例如，衬底基板可以由玻璃、聚酰亚胺、聚碳酸酯、聚丙烯酸酯、聚醚酰亚胺、聚醚砜、聚对苯二甲酸乙二醇酯和聚萘二甲酸乙二醇酯中的一种或多种材料制成。

例如，在形成第一触控电极层之前，在衬底基板上制作黑矩阵层，并对黑矩阵层图案化以形成位于非触控区(围绕触控面板的边缘)的黑矩阵图案。

例如，形成至少两层透明导电层包括：在衬底基板上制作整面的第一金属氧化物层，然后在第一金属氧化物层上制作整面第一金属层或者第一石墨烯层。例如，第一金属层或者第一石墨烯层在衬底基板上的正投影与第一金属氧化物层在衬底基板上的正投影完全重合。

本实施例不限于此，例如，形成至少两层透明导电层还可以包括：在衬底基板上制作整面的第一金属层或者第一石墨烯层，然后在第一金属层或者第一石墨烯层上制作整面第一金属氧化物层。

例如，第一金属氧化物层的材料可以包括氧化铟锡等透明导电材料，本实施例包括但不限于此。例如，还可以包括氧化铟锌、氧化锌、氧化铟、氧化铟镓和氧化铝锌中的组合或至少一种。

例如，沿垂直于衬底基板的方向，第一金属氧化物层的厚度范围为300埃-1200埃。

例如，第一金属层的材料可以包括银钯铜合金。

例如，沿垂直于衬底基板的方向，银钯铜合金的厚度范围为150埃-250埃，此时，银钯铜合金的透光率达到70％以上，且具有低于10Ω/□的方块电阻。另外，本实施例将第一金属层设置在第一金属氧化物层远离衬底基板的一侧可以有效防止第一金属层因厚度过薄而导致断裂。本公开的实施例采用至少两层层叠设置的透明导电层(即第一金属氧化物层以及第一金属层)结构代替传统的金属网格而作为第一触控电极中的网格触控电极线，既保证了触控面板的电性需求，又能够有效消除摩尔纹现象。

例如，第一石墨烯层具有90％以上的透光率以及较低的电阻率，因此，第一石墨烯层可以起到与透明的第一金属层相同的保证触控面板的电性需求，以及有效消除摩尔纹现象的效果。

例如，本实施例以第一金属层或者第一石墨烯层形成于第一金属氧化物层远离衬底基板的一侧为例进行描述，则形成至少两层叠层的透明导电层还包括：在第一金属层或者第一石墨烯层远离第一金属氧化物层的一侧形成第二金属氧化物层。本实施例的一示例中的第一金属层位于两层透明金属氧化物层之间可以有效降低金属层被氧化和腐蚀的几率。

例如，第二金属氧化物层可以与第一金属氧化物层采用相同的透明导电材料，本实施例包括但不限于此。

例如，沿垂直于衬底基板的方向，第二金属氧化物层的厚度范围为300埃-1200埃。

例如，沿垂直于衬底基板的方向，第一触控电极层的厚度范围为750埃-2650埃，此时，第一触控电极层的光学透过率不小于70％，方阻不大于10Ω/□，例如，第一触控电极层的方块电阻在4Ω/□-7Ω/□的范围，本实施例包括但不限于此。因此，本实施例中的第一触控电极层既具有良好的电学特性，也具有较高的光学透过率。

例如，本实施例以第一触控电极层包括三层透明导电层结构为例进行描述，但不限于此，还可以为四层或者更多层。

S202：对第一触控电极层图案化以形成多个第一触控电极，每个第一触控电极包括多条交叉设置的第一触控电极线。

例如，对第一触控电极层图案化包括采用一步图案化工艺对至少两层叠层的透明导电层图案化，即，在第一触控电极层上涂敷光刻胶层，对光刻胶层进行曝光显影以形成网格状模板，然后可以采用王水对第一触控电极层中的至少两层透明导电层同时刻蚀120s以形成具有多条交叉设置的第一触控电极线的第一触控电极。本实施例中采用一步图案化工艺可以简化工艺步骤，节省成本。

例如，本实施例的一示例中还可以分别采用王水和草酸刻蚀至少两层透明导电层。例如，可以采用王水刻蚀第一金属氧化物层以及第二金属氧化物层，采用草酸刻蚀金属层。

例如，在第一触控电极上形成第一透明绝缘层以使第一触控电极与后续形成的第二触控电极层彼此绝缘。

例如，第一绝缘层的材料包括光学透明树脂或光学透明胶，本实施例包括但不限于此。例如，在第一触控电极上涂敷一层光学透明树脂或光学透明胶并在230℃固化。

例如，在第一触控电极远离衬底基板的一侧形成第二触控电极层，形成第二触控电极层包括形成至少两层叠层的透明导电层，形成至少两层叠层的透明导电层包括依次形成第三金属氧化物层以及第二金属层，或者第三金属氧化物层以及第二石墨烯层。

本实施例中形成第二触控电极层可以参考形成第一触控电极层的步骤，在此不再赘述。

例如，对第二触控电极层图案化以形成多个第二触控电极，每个第二触控电极包括多条交叉设置的第二触控电极线。

例如，对第二触控电极层图案化包括：采用一步图案化工艺对至少两层叠层的透明导电层图案化，从而节省工艺步骤，本实施例包括但不限于此。

例如，在第二触控电极上形成整面的第二透明绝缘层以保护交叉设置的第二触控电极线。

例如，第二透明绝缘层可以采用与第一透明绝缘层相同的材料以及工艺步骤形成，本实施例包括但不限于此。

例如，在第二触控电极远离第一触控电极的一侧形成消影层，即，可以在第二透明绝缘层上形成一层消影层，从而提升了触控面板的消影效果。

例如，消影层的材料可以为氮氧化硅。

例如，对位于绑定区的消影层进行网印刻蚀以去除位于绑定区的消影层材料。

例如，本实施例的另一示例中，在形成第一触控电极层之前在衬底基板上形成消影层，然后在消影层上形成整面的第一触控电极层，本示例中的消影层可以有效提升触控面板的消影效果。

例如，本示例的消影层的材料包括五氧化二铌。

本公开的一实施例提供一种触控显示装置，该触控显示装置中的触控电极包括的触控电极线既具有良好的电学性能，又具有不低于70％的光学透过率，因此可以起到有效消除摩尔纹现象的效果。

例如，本实施例的一示例提供的触控显示装置中还包括消影层，因此，该触控显示面板还具有较好的消影效果。

例如，该触控显示装置可以为液晶显示装置、有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode，OLED)显示装置等显示器件以及包括该显示装置的电视、数码相机、手机、手表、平板电脑、笔记本电脑、导航仪等任何具有显示功能的产品或者部件，本实施例不限于此。

有以下几点需要说明：

(1)除非另作定义，本公开实施例以及附图中，同一标号代表同一含义。

(2)本公开实施例附图中，只涉及到与本公开实施例涉及到的结构，其他结构可参考通常设计。

(3)为了清晰起见，在用于描述本公开的实施例的附图中，层或区域被放大。可以理解，当诸如层、膜、区域或基板之类的元件被称作位于另一元件“上”或“下”时，该元件可以“直接”位于另一元件“上”或“下”，或者可以存在中间元件。

以上所述，仅为本公开的具体实施方式，但本公开的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本公开揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本公开的保护范围之内。因此，本公开的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (13)

1.一种触控面板，包括：

衬底基板；

位于所述衬底基板上的多个第一触控电极，每个所述第一触控电极包括多条交叉设置的第一触控电极线，

其中，沿垂直于所述衬底基板的方向，所述第一触控电极线包括至少两层层叠设置的透明导电层，所述至少两层层叠设置的透明导电层包括第一金属氧化物层以及第一金属层，或者第一金属氧化物层以及第一石墨烯层，

所述第一金属氧化物层在所述衬底基板上的正投影与所述第一金属层在所述衬底基板上的正投影重合，或者所述第一金属氧化物层在所述衬底基板上的正投影与所述第一石墨烯层在所述衬底基板上的正投影重合，所述透明导电层还包括位于所述第一金属层或者所述第一石墨烯层远离所述第一金属氧化物层的一侧的第二金属氧化物层，且所述第一金属氧化物层与所述第二金属氧化物层的材料相同。

2.根据权利要求1所述的触控面板，其中，所述第一金属层的材料包括银钯铜合金。

3.根据权利要求1所述的触控面板，其中，沿垂直于所述衬底基板的方向，所述第一金属层的厚度范围为150埃-250埃。

4.根据权利要求3所述的触控面板，其中，沿垂直于所述衬底基板的方向，所述第一触控电极线的厚度范围为750埃-2650埃。

5.根据权利要求1所述的触控面板，其中，所述第一触控电极线的方块电阻不大于10Ω/□。

6.根据权利要求1所述的触控面板，其中，所述第一金属氧化物层和所述第二金属氧化物层的材料包括氧化铟锡、氧化铟锌、氧化锌、氧化铟、氧化铟镓和氧化铝锌中的组合或至少一种。

7.根据权利要求1-6任一项所述的触控面板，还包括：

位于所述第一触控电极远离所述衬底基板的一侧的多个第二触控电极，每个所述第二触控电极包括多条交叉设置的第二触控电极线，所述第一触控电极与所述第二触控电极彼此绝缘，

其中，所述第二触控电极线包括至少两层层叠设置的透明导电层，所述至少两层层叠设置的透明导电层包括第三金属氧化物层以及第二金属层，或者第三金属氧化物层以及第二石墨烯层。

8.根据权利要求1-6任一项所述的触控面板，还包括：

消影层，位于所述第一触控电极与所述衬底基板之间或者位于所述第一触控电极远离所述衬底基板的一侧。

9.一种触控面板的制作方法，包括：

在衬底基板上形成第一触控电极层，形成所述第一触控电极层包括形成至少两层叠层的透明导电层，其中，形成所述至少两层叠层的透明导电层包括依次形成第一金属氧化物层以及第一金属层，或者第一金属氧化物层以及第一石墨烯层，所述第一金属氧化物层在所述衬底基板上的正投影与所述第一金属层在所述衬底基板上的正投影重合，或者所述第一金属氧化物层在所述衬底基板上的正投影与所述第一石墨烯层在所述衬底基板上的正投影重合；

对所述第一触控电极层图案化以形成多个第一触控电极，每个所述第一触控电极包括多条交叉设置的第一触控电极线，

其中，形成所述至少两层叠层的透明导电层还包括：

在所述第一金属层或者所述第一石墨烯层远离所述第一金属氧化物层的一侧形成第二金属氧化物层，且所述第一金属氧化物层与所述第二金属氧化物层的材料相同。

10.根据权利要求9所述的触控面板的制作方法，其中，对所述第一触控电极层图案化包括：

采用一步图案化工艺对所述至少两层叠层的透明导电层图案化。

11.根据权利要求9或10所述的触控电极面板的制作方法，还包括：

在所述第一触控电极远离所述衬底基板的一侧形成第二触控电极层，形成所述第二触控电极层包括形成至少两层叠层的透明导电层，其中，形成所述至少两层叠层的透明导电层包括依次形成第三金属氧化物层以及第二金属层，或者第三金属氧化物层以及第二石墨烯层，所述第二触控电极层与所述第一触控电极彼此绝缘；

对所述第二触控电极层图案化以形成多个第二触控电极，每个所述第二触控电极包括多条交叉设置的第二触控电极线。

12.根据权利要求9或10所述的触控面板的制作方法，还包括：

在所述衬底基板上形成所述第一触控电极层之前，在所述衬底基板上形成消影层，或者在所述第一触控电极形成之后，在所述第一触控电极远离所述衬底基板的一侧形成消影层。

13.一种触控显示装置，包括权利要求1-8任一项所述的触控面板。