CN106935615B - 显示屏体制备方法、显示屏体和电子显示设备 - Google Patents

Abstract

本发明公开一种显示屏体，包括基板和形成于基板上的显示区域；显示区域包括两个以上具有不同发光因素的像素区块，每个像素区块对应显示区域中的一个预设区域；其中，各个像素区块均包括多个发光单元。采用上述显示屏体可以提高各个像素区块整体显示性能的一致性，还可以消除或者减弱部分区域长时间显示后再显示其他的图像时带来的残影，具有较好的显示效果。本发明还公开一种电子显示设备和显示屏体制备方法。

Description

显示屏体制备方法、显示屏体和电子显示设备

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示屏体制备方法、显示屏体和电子显示设备。

背景技术

传统的AMOLED(Active MatrixOrganic Light Emitting Diode，主动矩阵有机发光二极体面板)屏体应用于固定显示的场合时，屏体的显示频率较高的区域的衰减相对于显示频率较低的区域的衰减要严重。由于整个屏体的发光效率一致，因此显示频率较高的区域的显示质量相对于显示频率较低的区域的显示质量会明显下降。即，显示频率较高的区域的显示效果与显示频率较低的区域的显示效果会出现较为明显的不同，显示性能一致性较差，另外，部分区域还可能因为长时间显示后再显示其他的图像而带来残影，最终导致整个屏体的显示效果降低。

发明内容

基于此，有必要提供一种能够克服显示性能一致性差、屏体部分区域显示残影问题，以提高屏体显示效果的显示屏体制备方法、显示屏体和电子显示设备。

一种显示屏体，包括基板和形成于所述基板上的显示区域；所述显示区域包括两个以上具有不同发光因素的像素区块，每个所述像素区块对应所述显示区域中的一个预设区域；

其中，所述发光因素包括开口率、分辨率、发光材质、像素电路和像素排布方式中的一种以上；各个所述像素区块均包括多个发光单元。

在其中一个实施例中，每个所述发光单元对应一个像素单元，每个所述像素单元包括三个子像素；

所述像素排布方式为每个所述像素单元的三个所述子像素的排布结构。

在其中一个实施例中，每个所述像素区块对应的像素密度不同。

在其中一个实施例中，每个所述发光单元包括依次形成于所述基板上的第一电极层、发光层和第二电极层；

每个所述像素区块对应的所述发光单元的所述发光层的材质均不同。

在其中一个实施例中，所述显示屏体还包括像素电路；每个所述像素区块对应一种所述像素电路，且各个所述像素区块对应的所述像素电路的功能不同。

一种电子显示设备，包括上述任意一种显示屏体。

一种显示屏体制备方法，包括以下步骤：

将基板划分为两个以上的预设区域；

在每个所述预设区域对应的所述基板上形成一个像素区块；各个所述像素区块之间的发光因素不同。

封装，并将各个所述像素区块与外部驱动电路电连接；

其中，所述发光因素包括开口率、分辨率、发光材质、像素电路和像素排布方式中的一种以上。

在其中一个实施例中，每个所述像素区块包括多个发光单元，所述在每个所述预设区域对应的所述基板上形成一个像素区块步骤包括：

在所述基板上沉积金属导电膜，刻蚀所述金属导电膜形成预设图形的第一电极层；

在所述第一电极层上形成所述发光层；

在所述发光层上形成第二电极层；

其中，每个所述预设区域对应的所述第一电极层的预设图形均不相同；每个所述预设图形对应一种所述像素排布方式和一种所述分辨率；和/或

每个所述预设区域对应的所述发光层的材质均不相同。

在其中一个实施例中，所述在每个所述预设区域对应的所述基板上形成一个像素区块步骤还包括：

在所述第一电极层上形成所述像素电路；

其中，每个所述预设区域对应一种所述像素电路，且各个所述预设区域对应的所述像素电路的功能不同。

上述显示屏体制备方法、显示屏体和电子显示设备，可以根据实际需要显示的内容，将基板划分区域，形成两个以上的预设区域。并根据每个预设区域的实际使用情况形成一个像素区块。这样，在使用上述显示屏体显示预设画面时，能够根据预设画面对各个像素区块进行设计，使各个像素区块具有不同的发光因素，以提高各个像素区块整体显示性能的一致性，并能消除或减弱部分区域长时间显示后再显示其他的图像时带来的残影，从而提高显示屏体的整体显示效果。

附图说明

图1为本发明显示屏体一个实施例的结构示意图；

图2为本发明显示屏体一个实施例中的具有两个不同像素排布方式的像素区块的结构示意图；

图3为本发明显示屏体一个实施例中的具有两个不同分辨率的像素区块的结构示意图；

图4为本发明显示屏体制备方法一个实施例的流程示意图；

图5为本发明显示屏体制备方法一个实施例中的在每个预设区域对应的基板上形成一个像素区块的流程示意图。

具体实施方式

为使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图对本发明显示屏体制备方法、显示屏体和电子显示设备的具体实施方式进行说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。

以下各个实施例中，显示屏体可以包括基板和形成于基板上的显示区域。显示区域内包括两个以上具有不同发光因素的像素区块。每个像素区块对应显示区域中的一个预设区域。即每个像素区块都是形成在基板的某个预设区域上的。且每个像素区块均可以包括多个发光单元。

其中，可以根据实际需要显示的内容，将基板划分区域，形成两个以上的预设区域。并根据每个预设区域的实际使用情况形成一个像素区块。例如，可以根据显示频率的高低将基板划分成两个预设区域。第一预设区域对应显示频率较高的区域。第二预设区域对应显示频率较低的区域。第一预设区域对应一种发光因素的像素区块，第二预设区域对应另一种发光因素的区块。这样，在使用上述显示屏体显示预设画面时，能够根据预设画面对各个像素区块进行设计，使各个像素区块具有不同的发光因素，以提高各个像素区块整体显示性能的一致性，并能消除或减弱部分区域的显示残影，从而提高显示屏体的整体显示效果。

参见图1，一个实施例中，显示屏体包括基板100和形成于基板100上的显示区域。其中，可以将基板100划分为第一预设区域和第二预设区域两个预设区域。显示区域包括两个具有不同发光因素的像素区块，分别为第一像素区块210和第二像素区块220。第一像素区块210形成于第一预设区域对应的基板100上。第二像素区块220形成于第二预设区域对应的基板100上。

本实施例中，第一像素区块210对应多个发光单元。第二像素区块220对应多个发光单元。其中，每个发光单元可以包括三个子发光单元。每个发光单元对应一个像素单元。每个像素单元包括三个子像素。每个子发光单元与一个子像素对应。每个子像素可以分别发出红、绿和蓝三种颜色中的一种颜色的光。且各个子像素发出的光的颜色不同。

优选的，发光因素可以包括像素排布方式。其中，该像素排布方式为每个像素单元的三个子像素的排布结构。参见图2，具体的，第一像素区块210包括多个第一像素单元211。每个第一像素单元211包括三个子像素。第一像素单元211的三个子像素的排列结构为第一像素排列方式。第二像素区块220包括多个第二像素单元221。每个第二像素单元221包括三个子像素。第二像素区块220的三个子像素的排列结构为第二像素排列方式。

一个实施例中，第一像素排列方式可以为如图2中上方的虚线框中所示的排列方式，即每个像素单元成品字形排布。第二像素排列方式可以为如图2中下方的虚线框中所示的排列方式，即每个像素单元为常规的RGB排布。当然，图2所示的两种像素排布方式只是示例性说明，并非本发明所限定的范围，可以理解的是，同一显示屏的不同像素区块可以是任意不同像素排布方式的组合，只要保证不同像素区块具有不同的像素排布方式即可。本实施例中两种不同的像素排列方式能够使得第一像素区块210和第二像素区块220具有不同的发光性能。第一像素区块210和第二像素区块220分别用于显示预设显示画面的某一部分，能够提高第一像素区块210显示性能和第二像素区块220显示性能的一致性。例如，第一像素区块210可以用于显示画面中常亮的部分。第二像素区块220可以用于显示画面中的其他部分。当显示屏体在长时间显示后，第一像素区块210的显示性能与第二像素区块220的显示性能的一致性比起现有显示屏体整体的一致性要好，而且也消除了第一像素区块210长时间显示带来的显示残影。需要说明的是，第一像素区块210和第二像素区块220可以预先根据预设显示画面进行划分以及制备。

作为一种可实施方式，发光因素也可以包括分辨率。参见图3，第一像素区块210中的第一像素单元211的密度小于第二像素区块220中的第二像素单元221的密度。即，第一像素区块210的分辨率小于第二像素区块220的分辨率。可以理解的是，同一显示屏的不同像素区块分辨率不同，不仅可以采用像素密度不同的方式实现，还可以采用像素大小不同的方式，或任意其他的方式，只要保证不同像素区块具有不同的分辨率即可。本实施例中第二像素区块220可以用于显示预设画面中的常亮部分，第一像素区块210可以用于显示预设画面中的其他部分。而第一像素区块210的分辨率小于第二像素区块220的分辨率，因此显示屏体在长时间显示后，第一像素区块210的显示性能与第二像素区块220的显示性能的一致性比起现有显示屏体整体的一致性要好，而且也消除了第二像素区块220长时间显示带来的显示残影。

作为另一种可实施方式，发光因素也可以包括开口率。例如，第一像素区块210的开口率大于第二像素区块220的开口率。则第一像素区块210显示预设画面中的常亮部分，用第二像素区块220显示预设画面中的其他部分。在显示屏体经过长时间显示后，由于第一像素区块210的开口率较大，因此其亮度的衰减相对较小。这样，第一像素区块210的显示性能与第二像素区块220的显示性能的一致性比起现有显示屏体整体的一致性也相对较好，而且也消除了第一像素区块210长时间显示带来的显示残影。

一个实施例中，每个发光单元可以包括依次形成于基板100上的第一电极层、发光层和第二电极层。发光因素还可以包括发光层的材质。即，第一像素区块210的发光层的材质与第二像素区块220的发光层的材质不同。例如，第一像素区块210设计为显示预设画面中的常亮部分，第二像素区块220设计为像是预设画面中的其他部分。则第一像素区块210的发光层的材质可以选择发光效率高、光衰小的材质。第二像素区块220的发光层的材质可以选择发光效率稍差一些，光衰稍大一些的材质。这样，在显示屏体经过长时间显示后，第一像素区块210的显示性能与第二像素区块220的显示性能的一致性比较好，而且也消除了第一像素区块210长时间显示带来的显示残影。

一个实施例中，上述各个发光层均可以为有机发光层。

进一步的，显示屏体还包括像素电路。发光因素还可以包括像素电路，每个像素区块对应一种像素电路，且各个像素区块对应的像素电路的功能不同。例如，第一像素区块210设计为显示预设画面中的常亮部分，第二像素区块220设计为显示预设画面中的其他部分。第一像素区块210对应第一像素电路。第二像素区块220对应第二像素电路。其中，第一像素电路可以为具有补偿功能的像素电路。第二像素电路可以为不具有补偿功能的像素电路。在显示屏体经过长时间显示后，虽然第一像素区块210长时间进行显示，会具有相对较大的衰减，但在第一像素电路的作用下，第一像素区块210的显示性能与第二像素区块220的显示性能的一致性也会比较好，而且也消除了第一像素区块210长时间显示带来的显示残影。

需要说明的是，上述各个实施例仅以发光因素包括像素排布方式、发光材料、分辨率、开口率和像素电路中的一种进行说明。在其他实施例中，发光因素还可以包括像素排布方式、发光材料、分辨率、开口率和像素电路中的两种以上。

上述显示屏体，可以根据实际需要显示的内容，将基板划分区域，形成两个以上的预设区域。并根据每个预设区域的实际使用情况形成一个像素区块。这样，在使用上述显示屏体显示预设画面时，能够根据预设画面对各个像素区块进行设计，使各个像素区块具有不同的发光因素，以提高各个像素区块显示性能的一致性，从而提高显示屏体的显示效果。另外，上述显示屏体能够根据客户的实际需求，对显示屏体的结构进行专门设计，实现显示屏体功能的最大化，以满足客户的多样化需求。

一个实施例中，电子显示设备可以包括上述任意一种显示屏体，且具有上述显示屏体所具有的优点。

基于同一发明构思，本发明还提出一种显示屏体制备方法，用于制备前述显示屏体。参见图4，一个实施例中，显示屏体制备方法可以包括以下步骤：

S100，将基板划分为两个以上的预设区域。

其中，可以根据显示屏体实际需要显示的内容将基板划分为N个区域。N为大于等于2的整数。一个实施例中，N等于2。根据实际需要显示的内容将基板划分为两个区域，分别为第一预设区域和第二预设区域。第一预设区域对应实际需要显示的内容中常亮部分。第二区域对应实际需要显示的内容中其他部分。其中，两个预设区域可以为规则的形状，也可以为不规则的形状。具体根据实际需要显示的内容而定。

S200，在每个预设区域对应的基板上形成一个像素区块。

其中，每个像素区块可以包括多个发光单元。各个像素区块的发光因素不同。一个实施例中，发光因素可以包括像素排布方式、发光材料、分辨率、开口率和像素电路中的一种以上。

参见图5，一个实施例中，步骤S200具体可以通过以下步骤完成：

S210，在基板上沉积金属导电膜，刻蚀金属导电膜形成预设图形的第一电极层。

其中，每个像素区块对应一种预设图形的第一电极层。且每个像素区块对应的第一电极层的预设图形均不同。每个发光单元可以包括三个子发光单元。每个发光单元对应一个像素单元。每个像素单元包括三个子像素。每个子发光单元与一个子像素对应。每个子像素可以分别发出红、绿和蓝三种颜色中的一种颜色的光。且各个子像素发出的光的颜色不同。

一个实施例中，第一电极层的预设图形对应像素排布方式。其中，该像素排布方式为每个像素单元的三个子像素的排布结构。即每个像素区块的像素排布方式不同。每个像素单元的三个子像素可以按常规的像素排布方式排布，也可以按照其他像素排布方式排布。这样，可以根据各种像素排布方式的特点并结合实际需要现实的内容，对各个像素区块的像素排布方式进行设计，以提高各个像素区块显示性能的一致性。需要说明的时，各个像素区块可以根据步骤S100所述的内容进行划分。

另外，第一电极层的预设图形还可以对应分辨率。每个像素区块的分辨率均不相同。分辨率较大的像素区块可以设计为显示实际需要显示的内容中常亮部分，分辨率较小的像素区块可以设计为显示实际需要显示的内容中的其他部分。这样，在长时间使用显示屏体时，能够提高各个像素区块整体显示性能的一致性，并能消除或减弱常亮区域的显示残影，从而提高了显示屏体的整体显示效果。

S220，在第一电极层上形成发光层。

其中，每个像素区块对应的发光层的材质可以各不相同。每个像素区块对应的发光层的材质可以按照发光效率和光衰分类。根据实际需要显示的内容，对每个像素区块选择相应的发光层的材质。例如，对于在使用过程中显示频率较高的像素区块，其对应的发光层的材质可以为发光效率高且光衰小的材质。对于在使用过程中显示频率较低的像素区块，其对应的发光层的材质可以为发光效率略低且光衰稍大的材质。将各个像素区块对应的发光层设计为不同的材质，长时间使用显示屏体时，能够提高各个像素区块整体显示性能的一致性，并能消除或减弱常亮区域的显示残影，从而提高了显示屏体的整体显示效果。

优选的，还可以在第一电极层上形成像素电路。其中，每个像素区块对应一种像素电路，且各个像素区块对应的像素电路的功能不同。例如，像素区块可以包括第一像素区块和第二像素区块。像素电路包括第一像素电路和第二像素电路。第一像素电路与第一像素区块对应，第二像素电路与第二像素区块对应。第一像素区块可以设计为显示预设画面中的常亮部分，第二像素区块可以设计为显示预设画面中的其他部分。第一像素电路可以为具有补偿功能的像素电路。第二像素电路可以为不具有补偿功能的像素电路。当然第一像素电路和第二像素电路也可以是具有不同补偿功能的像素电路。

可以理解的，在显示屏体经过长时间显示后，虽然第一像素区块210长时间进行显示，会具有相对较大的衰减，但在第一像素电路的作用下，第一像素区块的显示性能与第二像素区块的显示性能的一致性也会比较好，并减弱了第一像素区块的显示残影，从而提高了显示屏体的整体显示效果。。

当然，像素电路还可以为具有其他功能的电路，而不仅限于补偿功能。

S230，在发光层上形成第二电极层。

另外，发光因素还可以包括开口率。同样以两个像素区块为例进行说明。例如，第一像素区块的开口率大于第二像素区块的开口率。则将第一像素区块设计为显示预设画面中的常亮部分，将第二像素区块设计为显示预设画面中的其他部分。在显示屏体经过长时间显示后，由于第一像素区块的开口率较大，因此其亮度的衰减相对较小。这样，第一像素区块的显示性能与第二像素区块的显示性能的一致性比起现有显示屏体整体显示性能的一致性也相对较好。

一个实施例中，上述发光层可以为有机发光层。

S300，封装，并将各个像素区块与外部驱动电路电连接。

本实施例中，将显示屏体的各个像素区块进行封装，并将各个像素区块与驱动电路电连接。驱动电路驱动各个像素区块工作，以显示预设画面。

上述显示屏体制备方法，可以根据实际需要显示的内容，将基板划分区域，形成两个以上的预设区域。并根据每个预设区域的实际使用情况形成一个像素区块。这样，在使用上述显示屏体显示预设画面时，能够根据预设画面对各个像素区块进行设计，使各个像素区块具有不同的发光因素，以提高各个像素区块整体显示性能的一致性，并能消除或减弱部分区域的显示残影，从而提高显示屏体的整体显示效果。另外，上述显示屏体制备方法能够根据客户的实际需求，对显示屏体的结构进行专门设计并制备，实现显示屏体功能的最大化，以满足客户的多样化需求。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (9)

1.一种显示屏体，其特征在于，包括基板和形成于所述基板上的显示区域；所述显示区域包括两个以上具有不同发光因素的像素区块，每个所述像素区块对应所述显示区域中的一个预设区域；

其中，所述发光因素至少包括基于不同的发光效率和光衰而选择出来的发光材质，所述发光因素还包括开口率、分辨率、像素电路和像素排布方式中的一种或多种；各个所述像素区块均包括多个发光单元。

2.根据权利要求1所述的显示屏体，其特征在于，每个所述发光单元对应一个像素单元，每个所述像素单元包括三个子像素；

所述像素排布方式为每个所述像素单元的三个所述子像素的排布结构。

3.根据权利要求1所述的显示屏体，其特征在于，每个所述像素区块对应的像素密度不同。

4.根据权利要求1所述的显示屏体，其特征在于，每个所述发光单元包括依次形成于所述基板上的第一电极层、发光层和第二电极层；

每个所述像素区块对应的所述发光单元的所述发光层的发光效率和光衰均不同。

5.根据权利要求1所述的显示屏体，其特征在于，所述显示屏体还包括所述像素电路；每个所述像素区块对应一种所述像素电路，且各个所述像素区块对应的所述像素电路的功能不同。

6.一种电子显示设备，其特征在于，包括权利要求1至5任意一项所述的显示屏体。

7.一种显示屏体制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

将基板划分为两个以上的预设区域；

在每个所述预设区域对应的所述基板上形成一个像素区块；各个所述像素区块之间的发光因素不同；

封装，并将各个所述像素区块与外部驱动电路电连接；

其中，所述发光因素至少包括基于不同的发光效率和光衰而选择出来的发光材质，所述发光因素还包括开口率、分辨率、像素电路和像素排布方式中的一种或多种。

8.根据权利要求7所述的显示屏体制备方法，其特征在于，每个所述像素区块包括多个发光单元，所述在每个所述预设区域对应的所述基板上形成一个像素区块步骤包括：

在所述基板上沉积金属导电膜，刻蚀所述金属导电膜形成预设图形的第一电极层；

在所述第一电极层上形成所述发光层；

在所述发光层上形成第二电极层；

其中，每个所述预设区域对应的所述第一电极层的预设图形均不相同；每个所述预设图形对应一种所述像素排布方式和一种所述分辨率；和/或

每个所述预设区域对应的所述发光层的发光效率和光衰均不相同。

9.根据权利要求8所述的显示屏体制备方法，其特征在于，所述在每个所述预设区域对应的所述基板上形成一个像素区块步骤还包括：

在所述第一电极层上形成所述像素电路；

其中，每个所述预设区域对应一种所述像素电路，且各个所述预设区域对应的所述像素电路的功能不同。