CN106292116A - 显示面板及其制造方法、显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种显示面板及其制造方法、显示装置,属于显示技术领域。所述显示面板包括:衬底基板;在所述衬底基板上设置有多个半球状凹槽,所述半球状凹槽内填充有反射材料,所述反射材料的折射率大于所述衬底基板的折射率;在设置有所述反射材料的衬底基板上设置有至少一个电致变色单元;其中,每个所述电致变色单元包括:两个透明电极和设置在所述两个透明电极之间的电致变色材料。本发明解决了反射型的显示面板制造难度大且工艺比较复杂的问题,实现了显示面板制造难度低,工艺比较简单。本发明用于显示面板的制造。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域,特别涉及一种显示面板及其制造方法、显示装置。
背景技术
随着显示技术领域的发展,各种具有显示功能的产品出现在日常生活中,例如手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等,这些产品都无一例外的需要装配显示面板,由于反射型的显示面板具有成本低,反射率高的优点,反射型的显示面板已成为显示领域的研究热点。
相关技术中,反射型的显示面板通常包括承载玻璃,半球形反射膜,上电极,带有黑色带电粒子的墨水,下电极和驱动背板,其中,半球形反射膜和上电极依次形成在玻璃上,上电极和下电极相对设置,两者之间填充有带有黑色带电粒子的墨水。当上电极加负电压,下电极加正电压时,带负电的黑色带电粒子会被吸附到下电极附近,入射光线从承载玻璃侧照射时,从光密介质(半球形反射膜和上电极)进入光疏介质(墨水)时,入射光线会发生全反射,此时显示面板的显示状态为亮态;当上电极加正电压,下电极加负电压时,带负电的黑色带电粒子会被吸附到上电极附近,将半球形反射膜上的上电极包裹,入射光线从承载玻璃侧照射时,会被黑色带电粒子吸收,此时显示面板的显示状态为暗态。
相关技术中的反射型的显示面板,需要在承载玻璃上进行纳米压印工艺形成半球形反射膜,再在半球形反射膜上形成上电极,制造难度大且工艺比较复杂。
发明内容
为了解决相关技术中反射型的显示面板制造难度大且工艺比较复杂的问题,本发明实施例提供了一种显示面板及其制造方法、显示装置。所述技术方案如下:
第一方面,提供了一种显示面板,包括:
衬底基板;
在所述衬底基板上设置有多个半球状凹槽,所述半球状凹槽内填充有反射材料,所述反射材料的折射率大于所述衬底基板的折射率;
在设置有所述反射材料的衬底基板上设置有至少一个电致变色单元;
其中,每个所述电致变色单元包括:
两个透明电极和设置在所述两个透明电极之间的电致变色材料。
可选的,所述至少一个电致变色单元包括多个电致变色单元,所述多个电致变色单元阵列排布在设置有所述反射材料的衬底基板上。
可选的,所述多个电致变色单元中位于电致变色材料一侧的透明电极电连接,位于所述电致变色材料另一侧的透明电极间隔设置。
可选的,所述多个电致变色单元中位于电致变色材料一侧的透明电极为一体结构。
可选的,所述多个电致变色单元中任意两个电致变色单元均间隔设置。
可选的,所述电致变色材料呈非透明状态时,所述电致变色材料的颜色为黑色。
可选的,设置有所述至少一个电致变色单元的衬底基板上还设置有保护层。
可选的,所述反射材料为氧化锌;
或者,所述反射材料为氧化锌与硫的复合材料。
第二方面,提供了一种显示装置,包括第一方面任一所述的显示面板。
可选的,所述显示装置还包括:
前置光源,所述前置光源位于所述显示面板入光侧的至少一端。
第三方面,提供了一种显示面板的制造方法,包括:
在衬底基板上形成多个半球状凹槽;
在所述半球状凹槽内填充反射材料,所述反射材料的折射率大于所述衬底基板的折射率;
在形成有所述反射材料的衬底基板上形成至少一个电致变色单元;
其中,每个所述电致变色单元包括:
两个透明电极和形成在所述两个透明电极之间的电致变色材料。
可选的,所述在衬底基板上形成多个半球状凹槽,包括:
在所述衬底基板上形成掩膜图形,所述掩膜图形包括多个阵列排布的圆形镂空区域;
对形成有所述掩膜图形的衬底基板进行刻蚀,使所述在衬底基板上形成多个半球状凹槽;
剥离所述掩膜图形。
可选的,所述掩膜图形的材质为铬金属;
所述刻蚀为各向同性的湿法刻蚀。
可选的,所述电致变色材料呈非透明状态时,所述电致变色材料的颜色为黑色。
可选的,在形成有所述反射材料的衬底基板上形成至少一个电致变色单元之后,所述方法还包括:
在形成有所述至少一个电致变色单元的衬底基板上形成保护层。
本发明实施例提供的技术方案带来的有益效果是:
本发明实施例提供的显示面板及其制造方法、显示装置,通过在衬底基板上设置的半球状凹槽内填充反射材料,并在设置有反射材料的衬底基板上设置电致变色单元,该电致变色单元包括两个透明电极以及设置在两个透明电极之间的电致变色材料,相较于现有的显示面板,本发明实施例提供的显示面板无需进行纳米压印工艺,因此,制造难度低,工艺比较简单。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图;
图2是本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图;
图3-1是本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图;
图3-2是本发明实施例提供的一种电致变色单元的排列结构示意图;
图4是本发明实施例提供的一种电致变色材料的化学结构图;
图5-1是本发明实施例提供的一种显示面板的工作原理图;
图5-2是本发明实施例提供的一种显示面板的工作原理图;
图5-3是本发明实施例提供的一种显示面板的显示图案示意图;
图5-4是本发明实施例提供的一种显示面板的显示图案示意图;
图6是本发明实施例提供的一种显示装置的结构原理图;
图7是本发明实施例提供的一种显示面板的制造方法流程图;
图8-1是本发明实施例提供的一种显示面板的制造方法流程图;
图8-2是本发明实施例提供的一种在衬底基板上形成半球状凹槽的工艺流程示意图;
图8-3是本发明实施例提供的一种掩膜图形示意图。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合附图对本发明实施方式作进一步地详细描述。
本发明实施例提供了一种显示面板10,如图1所示,包括:
衬底基板101。
在该衬底基板101上设置有多个半球状凹槽H,该半球状凹槽H内填充有反射材料1011,该反射材料1011的折射率大于该衬底基板101的折射率。
在设置有反射材料1011的衬底基板101上设置有至少一个电致变色单元102。其中,每个所述电致变色单元102包括:
两个透明电极和设置在两个透明电极之间的电致变色材料1021,该两个透明电极可以包括第一透明电极1022和第二透明电极1023。
实际应用中,在该两个透明电极上加载第一电压时,电致变色材料呈透明状态,使入射光线从该电致变色材料透射至反射材料,并由反射材料对入射光线进行全反射,在该两个透明电极上加载第二电压时,电致变色材料呈非透明状态,将入射光线吸收,该入射光线从电致变色单元上远离所述衬底基板的一侧入射。
综上所述,本发明实施例提供的显示面板,通过在衬底基板上设置的半球状凹槽内填充反射材料,并在设置有反射材料的衬底基板上设置电致变色单元,该电致变色单元包括两个透明电极以及设置在两个透明电极之间的电致变色材料,相较于现有的显示面板,本发明实施例提供的显示面板无需进行纳米压印工艺,因此,制造难度低,工艺比较简单。
需要说明的是,该反射材料1011是一种折射率较高的透明无机材料或有机材料,该反射材料1011的折射率通常不低于1.6,可选的,该反射材料1011可以为氧化锌,或者,该反射材料1011可以为氧化锌与硫的复合材料等。而衬底基板101的制作材料可以包括玻璃、石英以及塑料等透明材料,优选为玻璃,在制作该衬底基板101时,可以选择折射率低于1.5的制作材料,也即是保证反射材料1011的折射率大于该衬底基板101。
进一步的,如图1所示,至少一个电致变色单元可以包括多个电致变色单元102,该多个电致变色单元102阵列排布在设置有反射材料1011的衬底基板101上,本发明实施例以在衬底基板101上设置两个电致变色单元102为例进行说明。
阵列排布在设置有反射材料1011的衬底基板101上的多个电致变色单元102可以有多种排布结构,本发明实施例以以下两种排布结构为例进行说明:
第一种排布结构,如图2所示,多个电致变色单元中位于电致变色材料一侧的第一透明电极1022电连接,位于电致变色材料另一侧的第二透明电极1023间隔设置,需要说明的是,该排布结构也可以将第一透明电极1022间隔设置,第二透明电极1023电连接,本发明实施例以图2所示的排布结构为例进行说明,对位于电致变色材料一侧的透明电极电连接,位于电致变色材料另一侧的透明电极间隔设置中的透明电极的位置不做限定,电致变色材料1021间隔设置。可选的,如图2所示,多个电致变色单元102中位于电致变色材料1021一侧的第一透明电极1022电连接,该第一透明电极1022可以为一体结构,即可以是一整块透明电极,或者,该第一透明电极1022也可以是间隔设置的,任意两个第一透明电极1022之间通过连接线电连接。在实际应用中,为了保证显示面板的显示效果,对透明电极以及电致变色材料进行间隔设置时,间距尽可能缩小,保证间隔设置的透明电极以及电致变色材料与相邻电致变色单元中的透明电极以及电致变色材料绝缘即可。
第二种排布结构,如图3-1所示,多个电致变色单元102中任意两个电致变色单元102均间隔设置,即是如图3-2所示,多个电致变色单元102在显示面板上呈矩阵状排布。在实际应用中,为了保证显示面板的显示效果,对电致变色单元进行间隔设置时,间距尽可能缩小,保证间隔设置的电致变色单元与相邻电致变色单元绝缘即可。
具体的,本发明实施例通过改变电致变色单元102中的电致变色材料1021的颜色状态可以实现每个电致变色单元102的亮态和暗态两种显示状态,包括:
可选的,该电致变色材料1021可以为金属氧化物或有机化合物等,本发明实施例以化学结构如图4所示的电致变色材料为例进行说明。
第一种显示状态,如图5-1所示,在两个透明电极上加载第一电压时,该电致变色材料1021呈透明状态,可以使入射光线λ从该电致变色材料1021透射至反射材料1011,由于反射材料1011的折射率大于衬底基板101的折射率,当入射光线λ的入射角θ大于等于临界角(sinθ≥衬底基板的折射率/反射材料的折射率)时,反射材料1011可以对入射光线λ进行全反射,此时,电致变色单元102的显示状态为亮态。需要说明的是,该第一电压可以为0伏,例如,此时,两个透明电极可以全部接地,或者两者加载相等的电压使得压差相等。
第二种显示状态,如图5-2所示,在两个透明电极上加载第二电压时,该电致变色材料1021呈非透明状态,可以将入射光线λ吸收,此时电致变色单元102的显示状态为暗态。可选的,当电致变色材料1021呈非透明状态时,该电致变色材料的颜色可以为黑色,本发明实施例对电致变色材料1021呈非透明状态时的颜色不做限定,优选为黑色。需要说明的是,以当电致变色材料1021呈非透明状态时,该电致变色材料的颜色为黑色为例进行说明,即采用如图4所示的有机化合物作为电致变色材料,在两个透明电极上加载第二电压时,随着第二电压的增大,电致变色材料1021从透明状态逐渐变为黑色,此时入射光线λ被吸收的比例增大,显示面板10的显示状态逐渐从亮态向暗态转换,当第二电压达到3伏时,电致变色材料1021完全变成黑色,此时入射光线λ被完全吸收,电致变色单元102的显示状态为暗态。
在实际应用中,通过控制电致变色单元102的显示状态,可以在如图3-2所示的显示面板上实现如图5-3、如图5-4等图案的显示。
需要说明的是,该入射光线λ从电致变色单元102远离衬底基板101的一侧入射。
具体的,在两个透明电极上加载电压时,一方面可以通过无源矩阵电极驱动控制电压,具体的,在排布两个透明电极时,可以使第一透明电极的阵列排布方向与第二透明电极的阵列排布方向垂直,可以通过行列选址线选择电致变色单元,控制每个电致变色单元的电压。另一方面可以通过有源驱动控制电压,两个透明电极中可以至少有一个透明电极与薄膜晶体管(英文:Thin Film Transistor;简称:TFT)开关电连接,通过TFT开关控制电压。
可选的,如图1所示,显示面板10上设置有至少一个电致变色单元102的衬底基板101上还可以设置有保护层103,该保护层103可以起到保护电致变色单元的目的,使电致变色单元不易被磨损,从而可以增加显示面板的使用寿命。
综上所述,本发明实施例提供的显示面板,通过在衬底基板上设置的半球状凹槽内填充反射材料,并在设置有反射材料的衬底基板上设置电致变色单元,该电致变色单元包括两个透明电极以及设置在两个透明电极之间的电致变色材料,可以通过控制电压改变电致变色单元中的电致变色材料的颜色状态从而实现显示面板的亮态和暗态两种显示状态,相较于现有的显示面板,本发明实施例提供的显示面板无需进行纳米压印工艺,因此,制造难度低,工艺比较简单,将反射材料填充在衬底基板的半球状凹槽内,可以减小显示面板的厚度,并且用电致变色材料取代了黑色粒子,避免了黑色粒子的团聚现象,提高了显示面板的显示性能。
本发明实施例提供了一种显示装置,该显示装置包括本发明实施例提供的显示面板,该显示面板可以为如图1至3-1任一所示的显示面板10。
可选的,如图6所示,该显示装置还可以包括前置光源20,该前置光源20位于显示面板入光侧的至少一端。需要说明的是,入光侧为电致变色单元102远离衬底基板101的一侧。当显示装置处于有光的环境中时,该显示装置可以将环境光作为入射光线,当显示装置处于黑暗的环境中时,可以开启前置光源20,为显示装置提供入射光线。在实际应用中,可以在显示装置中设置光传感器,利用光传感器对环境光的强度进行判断,当环境光的强度大于等于一定的阈值时,显示装置可以将环境光作为入射光线;当环境光的强度小于一定的阈值时,显示装置开启前置光源,利用前置光源为显示装置提供入射光线。
在具体实施时,本发明实施例提供的显示装置可以为手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。
综上所述,本发明实施例提供的显示装置,通过在衬底基板上设置的半球状凹槽内填充反射材料,并在设置有反射材料的衬底基板上设置电致变色单元,该电致变色单元包括两个透明电极以及设置在两个透明电极之间的电致变色材料,相较于现有的显示装置,本发明实施例提供的显示装置无需进行纳米压印工艺,因此,制造难度低,工艺比较简单。
本发明实施例提供了一种显示面板的制造方法,如图7所示,包括:
步骤301、在衬底基板上形成多个半球状凹槽。
步骤302、在该半球状凹槽内填充反射材料,该反射材料的折射率大于衬底基板的折射率。
步骤303、在形成有反射材料的衬底基板上形成至少一个电致变色单元。其中,每个所述电致变色单元包括:两个透明电极和形成在所述两个透明电极之间的电致变色材料。
实际应用中,在该两个透明电极上加载第一电压时,电致变色材料呈透明状态,使入射光线从该电致变色材料透射至反射材料,并由反射材料对入射光线进行全反射,在该两个透明电极上加载第二电压时,电致变色材料呈非透明状态,将入射光线吸收,该入射光线从电致变色单元上远离所述衬底基板的一侧入射。
综上所述,本发明实施例提供的显示面板的制造方法,通过在衬底基板上设置的半球状凹槽内填充反射材料,并在设置有反射材料的衬底基板上设置电致变色单元,该电致变色单元包括两个透明电极以及设置在两个透明电极之间的电致变色材料,相较于现有的显示面板,本发明实施例提供的显示面板无需进行纳米压印工艺,因此,制造难度低,工艺比较简单。
本发明实施例提供了一种显示面板的制造方法,如图8-1所示,包括:
步骤401、提供衬底基板。
可选的,该衬底基板的制作材料包括玻璃、石英以及塑料等透明材料,优选为玻璃。
步骤402、在衬底基板上形成多个半球状凹槽。
具体的,图8-2是在衬底基板上形成多个半球状凹槽的工艺流程示意图,如图8-2所示,工艺流程包括:
S1、在衬底基板101上形成掩膜图形104,该掩膜图形104可以包括多个阵列排布的圆形镂空区域。
具体的,可以在衬底基板101上通过沉积、涂敷、溅射等多种方式中的其中一种形成掩膜层,可选的,该掩膜层的材质可以为铬金属,然后对该掩膜层通过一次构图工艺形成掩膜图形104,该一次构图工艺可以包括:光刻涂覆、曝光、显影、刻蚀和光刻胶剥离。需要说明的是,本发明实施例对掩膜层的材质不做限定。
可选的,如图8-3所示,掩膜图形上多个阵列排布的圆形镂空区域可以是不连续的,本发明实施例对掩膜图形上多个阵列排布的圆形镂空区域是否连续不做限定。
S2、对形成有掩膜图形104的衬底基板101进行刻蚀,使在衬底基板101上形成多个半球状凹槽H。
具体的,对形成有掩膜图形104的衬底基板101进行刻蚀时,可以采用各向同性的湿法刻蚀,在衬底基板101上通过刻蚀形成多个半球状凹槽H,刻蚀液可以为硝酸和氢氟酸的混合液(HNO3-HF-H2O),可选的,也可以采用干法刻蚀工艺对形成有掩膜图形104的衬底基板101进行刻蚀,本发明实施例对刻蚀方法不做限定。
S3、剥离该掩膜图形104。
步骤403、在半球状凹槽内填充反射材料,该反射材料的折射率大于衬底基板的折射率。
需要说明的是,在半球状凹槽内填充的反射材料是一种折射率较高的透明无机材料或有机材料,该反射材料的折射率通常不低于1.6,可选的,该反射材料可以为氧化锌,或者,该反射材料可以为氧化锌与硫的复合材料等。而衬底基板的制作材料可以包括玻璃、石英以及塑料等透明材料,优选为玻璃,在制作该衬底基板时,可以选择折射率低于1.5的制作材料,也即是保证反射材料的折射率大于该衬底基板。
步骤404、在形成有反射材料的衬底基板上形成至少一个电致变色单元,其中,每个电致变色单元包括:两个透明电极和形成在所述两个透明电极之间的电致变色材料。
具体的,本发明实施例通过改变电致变色单元中的电致变色材料的颜色状态可以实现每个电致变色单元的亮态和暗态两种显示状态,包括:
第一种显示状态,如图5-1所示,在两个透明电极上加载第一电压时,该电致变色材料1021呈透明状态,可以使入射光线λ从该电致变色材料1021透射至反射材料1011,由于反射材料1011的折射率大于衬底基板101的折射率,当入射光线λ的入射角θ大于等于临界角(sinθ≥衬底基板的折射率/反射材料的折射率)时,反射材料1011可以对入射光线λ进行全反射,此时,电致变色单元102的显示状态为亮态。需要说明的是,该第一电压的大小可以为0伏,例如,此时,两个透明电极可以全部接地,或者两者加载相等的电压使得压差相等。
第二种显示状态,如图5-2所示,在两个透明电极上加载第二电压时,该电致变色材料1021呈非透明状态,可以将入射光线λ吸收,此时电致变色单元102的显示状态为暗态。可选的,当电致变色材料1021呈非透明状态时,该电致变色材料的颜色可以为黑色,本发明发实施例对电致变色材料1021呈非透明状态时的颜色不做限定,优选为黑色。需要说明的是,以当电致变色材料1021呈非透明状态时,该电致变色材料的颜色为黑色为例进行说明,即采用如图4所示的有机化合物作为电致变色材料,在两个透明电极上加载第二电压时,随着第二电压的增大,电致变色材料1021从透明状态逐渐变为黑色,此时入射光线λ被吸收的比例增大,显示面板10的显示状态逐渐从亮态向暗态转换,当第二电压达到3伏时,电致变色材料1021完全变成黑色,此时入射光线λ被完全吸收,电致变色单元102的显示状态为暗态。
在实际应用中,通过控制电致变色单元102的显示状态,可以实现黑底白字或者白底黑字等黑白图像的显示,例如可以在显示面板上实现如图5-3、图5-4等图案的显示。这种显示方式可以应用在电子书中,产生良好的视觉效果。
需要说明的是,该入射光线λ从电致变色单元远离衬底基板的一侧入射。
具体的,在两个透明电极上加载电压时,一方面可以通过无源矩阵电极驱动控制电压,具体的,在排布两个透明电极时,可以使第一透明电极的阵列排布方向与第二透明电极的阵列排布方向垂直,可以通过行列选址线选择电致变色单元,控制每个电致变色单元的电压。另一方面可以通过有源驱动控制电压,两个透明电极中可以至少有一个透明电极与薄膜晶体管(英文:Thin Film Transistor;简称:TFT)开关电连接,通过TFT开关控制电压。
需要说明的是,在制造至少一个电致变色单元的过程中,多个电致变色单元的同一层级可以通过一次工艺形成,例如,通过一次工艺(例如构图工艺)在衬底基板上形成多个电致变色单元的第一透明电极,再通过一次工艺(如涂覆工艺)形成多个电致变色单元的电致变色材料,然后再通过一次工艺(例如构图工艺)在电致变色材料上形成多个电致变色单元的第二透明电极。上述制造方法只是示意性说明,凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。其中,一次构图工艺包括光刻胶涂覆、曝光、显影、刻蚀和光刻胶剥离等工艺。
步骤405、在形成有至少一个电致变色单元的衬底基板上形成保护层。
需要说明的是,如图1所示,在形成有至少一个电致变色单元102的衬底基板101上形成保护层103,可以保护电致变色单元,使电致变色单元不易被磨损,从而可以增加显示面板的使用寿命。
综上所述,本发明实施例提供的显示面板的制造方法,通过在衬底基板上设置的半球状凹槽内填充反射材料,并在设置有反射材料的衬底基板上设置电致变色单元,该电致变色单元包括两个透明电极以及设置在两个透明电极之间的电致变色材料,可以通过控制电压改变电致变色单元中的电致变色材料的颜色状态从而实现显示面板的亮态和暗态两种显示状态,相较于现有的显示面板的制造方法,本发明实施例提供的显示面板无需进行纳米压印工艺,因此,制造难度低,工艺比较简单,将反射材料填充在衬底基板的半球状凹槽内,可以减小显示面板的厚度,并且用电致变色材料取代了黑色粒子,避免了黑色粒子的团聚现象,提高了显示面板的显示性能。
所属领域的技术人员可以清楚地了解到,为描述的方便和简洁,上述描述的显示面板的制造方法的具体工作过程,可以参考前述装置实施例中的对应过程,在此不再赘述。
以上所述仅为本发明的较佳实施例,并不用以限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (15)
1.一种显示面板,其特征在于,包括:
衬底基板;
在所述衬底基板上设置有多个半球状凹槽,所述半球状凹槽内填充有反射材料,所述反射材料的折射率大于所述衬底基板的折射率;
在设置有所述反射材料的衬底基板上设置有至少一个电致变色单元;
其中,每个所述电致变色单元包括:
两个透明电极和设置在所述两个透明电极之间的电致变色材料。
2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,
所述至少一个电致变色单元包括多个电致变色单元,所述多个电致变色单元阵列排布在设置有所述反射材料的衬底基板上。
3.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,
所述多个电致变色单元中位于电致变色材料一侧的透明电极电连接,位于所述电致变色材料另一侧的透明电极间隔设置。
4.根据权利要求3所述的显示面板,其特征在于,
所述多个电致变色单元中位于电致变色材料一侧的透明电极为一体结构。
5.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,
所述多个电致变色单元中任意两个电致变色单元均间隔设置。
6.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述电致变色材料呈非透明状态时,所述电致变色材料的颜色为黑色。
7.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,
设置有所述至少一个电致变色单元的衬底基板上还设置有保护层。
8.根据权利要求1至7任一所述的显示面板,其特征在于,
所述反射材料为氧化锌;
或者,所述反射材料为氧化锌与硫的复合材料。
9.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求1至8任一所述的显示面板。
10.根据权利要求9所述的显示装置,其特征在于,所述显示装置还包括:
前置光源,所述前置光源位于所述显示面板入光侧的至少一端。
11.一种显示面板的制造方法,其特征在于,包括:
在衬底基板上形成多个半球状凹槽;
在所述半球状凹槽内填充反射材料,所述反射材料的折射率大于所述衬底基板的折射率;
在形成有所述反射材料的衬底基板上形成至少一个电致变色单元;
其中,每个所述电致变色单元包括:
两个透明电极和形成在所述两个透明电极之间的电致变色材料。
12.根据权利要求11所述的方法,其特征在于,
所述在衬底基板上形成多个半球状凹槽,包括:
在所述衬底基板上形成掩膜图形,所述掩膜图形包括多个阵列排布的圆形镂空区域;
对形成有所述掩膜图形的衬底基板进行刻蚀,使所述在衬底基板上形成多个半球状凹槽;
剥离所述掩膜图形。
13.根据权利要求12所述的方法,其特征在于,
所述掩膜图形的材质为铬金属;
所述刻蚀为各向同性的湿法刻蚀。
14.根据权利要求11所述的方法,其特征在于,所述电致变色材料呈非透明状态时,所述电致变色材料的颜色为黑色。
15.根据权利要求11所述的方法,其特征在于,在形成有所述反射材料的衬底基板上形成至少一个电致变色单元之后,所述方法还包括:
在形成有所述至少一个电致变色单元的衬底基板上形成保护层。
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