CN105911691A - 阵列基板、反射式显示装置及阵列基板的制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种阵列基板、反射式显示装置及阵列基板的制造方法，以提高反射式显示装置的显示响应速度，提升显示品质，并简化其生产工艺。阵列基板包括阵列排布的多个像素单元，每个像素单元包括具有开关元件的基底、位于基底前侧并与开关元件电连接的MEMS，以及位于MEMS前侧的全反射透镜，其中：全反射透镜的全反射面朝向MEMS设置；MEMS具有第一工作状态和第二工作状态，包括吸光柔性层，当MEMS在第一工作状态时，吸光柔性层包裹于全反射透镜的全反射面，当MEMS在第二工作状态时，吸光柔性层与全反射透镜的全反射面相间隔。

Description

阵列基板、反射式显示装置及阵列基板的制造方法

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种阵列基板、反射式显示装置及阵列基板的制造方法。

背景技术

显示装置根据采用的光源不同，可分为透射式、反射式和半透半反式。其中，反射式显示装置以前置光源或者环境光源作为光源，不但功耗比较低，而且较为护眼。

如图1a所示，现有一种反射式显示装置的阵列基板包括：背板1、位于背板1前侧的全反射透镜薄膜2以及位于背板1和全反射透镜薄膜2之间的墨水粒子层3，其中，全反射透镜薄膜2包括阵列排布的多个半球形全反射透镜4，每个半球形全反射透镜4对应一个像素单元，其半球面为全反射面并且朝向背板1设置。

根据光学原理，当光线从光密介质射入光疏介质时，如果入射角大于全反射角，则光线会在临界面发生全反射。如图1a所示，当背板1和全反射透镜薄膜2之间无电场时，墨水粒子处于自然铺平状态，半球形全反射透镜4的半球面被光疏介质包围，射入半球形全反射透镜4的光线可以按照图示光路反射出，从而使像素单元显示为亮态。如图1b所示，当对背板1和全反射透镜薄膜2施加电场时，半球形全反射透镜4的半球面被墨水粒子包围，全反射条件被破坏，光线可以射出半球形全反射透镜4被墨水粒子吸收，从而使像素单元显示为暗态。通过控制不同像素单元的电场情况，可以使显示装置显示出画面内容。

上述现有技术存在的缺陷在于，墨水粒子易团聚的特性决定其响应速度较慢，因此，反射式显示装置在切换页面时刷新率比较低，显示品质不佳。此外，现有反射式显示装置的制作工艺也比较复杂。

发明内容

本发明实施例的目的是提供一种阵列基板、反射式显示装置及阵列基板的制造方法，以提高反射式显示装置的显示响应速度，提升显示品质，并简化其生产工艺。

本发明实施例提供了一种阵列基板，包括阵列排布的多个像素单元，每个像素单元包括具有开关元件的基底、位于基底前侧并与开关元件电连接的微机电系统(Micro-Electro-Mechanical System，简称MEMS)，以及位于微机电系统前侧的全反射透镜，其中：

全反射透镜的全反射面朝向微机电系统设置；

微机电系统具有第一工作状态和第二工作状态，包括吸光柔性层，当微机电系统在第一工作状态时，吸光柔性层包裹于全反射透镜的全反射面，当微机电系统在第二工作状态时，吸光柔性层与全反射透镜的全反射面相间隔。

采用本发明实施例技术方案，可以通过开关元件控制所述微机电系统的工作状态。当所述微机电系统在第一工作状态时，吸光柔性层包裹于全反射透镜的全反射面，由于吸光柔性层的吸光作用，像素单元显示为暗态；当所述微机电系统在第二工作状态时，吸光柔性层与全反射透镜的全反射面相间隔，从而使全反射透镜满足全反射条件，光线可以从全反射透镜的前侧表面射出，像素单元显示为亮态。通过控制不同像素单元的所述微机电系统的工作状态，可以使显示装置显示出画面内容，这相比现有反射式显示装置采用的墨水粒子技术，可以提高反射式显示装置的显示响应速度，提升显示品质，并简化其生产工艺。

可选的，所述全反射透镜包括半球体形全反射透镜、球冠体形全反射透镜、棱锥体形全反射透镜或圆锥体形全反射透镜。

可选的，所述全反射透镜为柱状体形全反射透镜，所述柱状体形全反射透镜的横截面形状包括半圆形、弓形或三角形。

优选的，所述开关元件为薄膜晶体管开关元件。

具体的，像素单元还包括位于基底和吸光柔性层之间并从后至前依次设置的第一电极和绝缘层；吸光柔性层为用作第二电极的导电吸光柔性层，包括固定部和形变部，固定部通过粘接层固定于绝缘层前侧。

当所述微机电系统在第一工作状态时，第一电极和第二电极之间形成相斥电场，导电吸光柔性层的形变部包裹于全反射透镜的全反射面，由于导电吸光柔性层的吸光作用，像素单元显示为暗态。当所述微机电系统在第二工作状态时，第一电极和第二电极之间无电场，导电吸光柔性层的形变部展开平贴在绝缘层表面，导电吸光柔性层与全反射透镜的全反射面相间隔，从而使全反射透镜满足全反射条件，光线可以从全反射透镜的前侧表面射出，像素单元显示为亮态。

具体的，吸光柔性层具有至少两个驱动端，所述微机电系统还包括针对每个驱动端设置的驱动机构，驱动机构包括：用作第一电极的驱动梁、与驱动梁间隔设置并用作第二电极的负载梁，以及与吸光柔性层的驱动端和负载梁分别连接的悬梁臂，驱动梁和负载梁分别通过锚固件固定于基底；当所述微机电系统在第一工作状态时，负载梁产生形变并驱动悬梁臂向远离驱动梁的方向移动。

当所述微机电系统在第一工作状态时，驱动梁和负载梁之间形成相斥电场，负载梁产生形变并驱动悬梁臂向远离驱动梁的方向移动，吸光柔性层在各个驱动机构的驱动下拱起并继续形变直至包裹于全反射透镜的全反射面；由于吸光柔性层的吸光作用，像素单元显示为暗态。当所述微机电系统在第二工作状态时，驱动梁和负载梁之间无电场作用，负载梁复位，进而通过悬梁臂拉动吸光柔性层复位，使吸光柔性层展开平贴在基底表面，与全反射透镜的全反射面相间隔；全反射透镜满足全反射条件，光线可以从全反射透镜的前侧表面射出，像素单元显示为亮态。

优选的，所述吸光柔性层材质包括黑色聚酰亚胺。

本发明实施例还提供一种反射式显示装置，包括根据前述任一技术方案所述的阵列基板。该反射式显示装置的显示响应速度较快，显示品质较高，并且生产工艺较为简化。

本发明实施例还提供一种制作前述阵列基板的方法，包括以下步骤：

形成具有开关元件阵列的基底；

在具有开关元件阵列的基底前侧形成对应开关元件阵列设置并对应电连接的微机电系统阵列；

在微机电系统阵列前侧间隔设置全反射透镜薄膜，全反射透镜薄膜包括与微机电系统阵列对应设置的全反射透镜阵列，每个全反射透镜的全反射面朝向对应的微机电系统设置；

其中，所述微机电系统具有第一工作状态和第二工作状态，所述微机电系统包括吸光柔性层，当所述微机电系统在第一工作状态时，吸光柔性层包裹于全反射透镜的全反射面，当所述微机电系统在第二工作状态时，吸光柔性层与全反射透镜的全反射面相间隔。

在一种可能的实现方式中，阵列基板的像素单元还包括位于基底和吸光柔性层之间并从后至前依次设置的第一电极和绝缘层；吸光柔性层为用作第二电极的导电吸光柔性层，包括固定部和形变部，固定部通过粘接层固定于绝缘层前侧；所述制作方法具体包括：

在具有开关元件阵列的基底前侧形成第一电极；

在第一电极前侧形成绝缘层；

在绝缘层前侧形成粘接层阵列；

在粘接层阵列前侧形成导电吸光柔性层阵列，每个导电吸光柔性层的固定部通过粘接层与绝缘层连接；

在导电吸光柔性层阵列前侧间隔设置全反射透镜薄膜，全反射透镜薄膜包括与导电吸光柔性层阵列对应设置的全反射透镜阵列，每个全反射透镜的全反射面朝向导电吸光柔性层。

在另一种可能的实现方式中，吸光柔性层具有至少两个驱动端，所述微机电系统还包括针对每个驱动端设置的驱动机构，驱动机构包括：用作第一电极的驱动梁、与驱动梁间隔设置并用作第二电极的负载梁，以及与吸光柔性层的驱动端和负载梁分别连接的悬梁臂，驱动梁和负载梁分别通过锚固件固定于基底；当所述微机电系统在第一工作状态时，负载梁产生形变并驱动悬梁臂向远离驱动梁的方向移动；所述制作方法具体包括：

在具有开关元件阵列的基底前侧形成第一牺牲层，第一牺牲层在锚固件设置位置具有第一孔洞；

在第一牺牲层前侧形成第二牺牲层，第二牺牲层具有与第一孔洞叠置的第二孔洞和对应驱动机构设置的通孔槽，通孔槽包括第一侧壁和与第一侧壁相间隔的第二侧壁；

在第一侧壁内侧形成驱动梁，在第二侧壁内侧形成负载梁，以及在第二牺牲层前侧形成与负载梁连接的悬梁臂和通过第一孔洞和第二孔洞与基底连接的锚固件，驱动梁和负载梁分别通过锚固件固定于基底；

在第二牺牲层前侧形成与悬梁臂连接的吸光柔性层；

移除第一牺牲层和第二牺牲层；

在吸光柔性层的前侧间隔设置全反射透镜薄膜，全反射透镜薄膜包括对应吸光柔性层设置并且全反射面朝向吸光柔性层的全反射透镜。

采用上述方法制作的阵列基板应用于反射式显示装置，可以提高反射式显示装置的显示响应速度，提升显示品质，阵列基板的制作由于不涉及墨水粒子技术，因此工艺较为简化。

附图说明

图1a为现有反射式显示装置的阵列基板截面示意图(亮态)；

图1b为现有反射式显示装置的阵列基板截面示意图(暗态)；

图2a为本发明一实施例反射式显示装置的阵列基板截面示意图(暗态)；

图2b为本发明一实施例反射式显示装置的阵列基板截面示意图(亮态)；

图3a为本发明另一实施例反射式显示装置的阵列基板截面示意图(亮态)；

图3b为本发明另一实施例反射式显示装置的吸光柔性层变形中示意图；

图3c为本发明另一实施例反射式显示装置的阵列基板截面示意图(暗态)；

图4为本发明另一实施例反射式显示装置的MEMS结构俯视图；

图5为图2b所示阵列基板的制作方法流程图；

图6为图3a所示阵列基板的制作方法流程图；

图7a为图6中完成步骤201后示意图；

图7b为图6中完成步骤202后示意图；

图7c为图6中完成步骤203后示意图；

图7d为图6中完成步骤204后示意图；

图7e为图6中完成步骤206后示意图。

附图标记：

现有技术部分：

1-背板；2-全反射透镜薄膜；3-墨水粒子层；4-半球形全反射透镜。

本发明实施例部分：

11-基底；12-MEMS；13-全反射透镜；14-吸光柔性层；15-第一电极；

16-绝缘层；17-固定部；18-形变部；19-粘接层；20-驱动梁；21-负载梁；

22-悬梁臂；23-锚固件；24-第一牺牲层；25-第一孔洞；26-第二牺牲层；

27-第二孔洞；28-通孔槽；29-第一侧壁；30-第二侧壁。

具体实施方式

为提高反射式显示装置的显示响应速度，提升显示品质，并简化其生产工艺，本发明实施例提供了一种阵列基板、反射式显示装置及阵列基板的制造方法。为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，以下举实施例对本发明作进一步详细说明。

如图2a和图2b所示，本发明一实施例提供的阵列基板，包括阵列排布的多个像素单元，每个像素单元包括具有开关元件(图中未示出)的基底11、位于基底11前侧并与开关元件电连接的MEMS 12，以及位于MEMS 12前侧的全反射透镜13，其中：全反射透镜13的全反射面朝向MEMS 12设置；MEMS12具有第一工作状态和第二工作状态，包括吸光柔性层14，当MEMS 12在第一工作状态时，吸光柔性层14包裹于全反射透镜13的全反射面，当MEMS 12在第二工作状态时，吸光柔性层14与全反射透镜13的全反射面相间隔。

上述阵列基板应用于反射式显示装置。其中，“前”指反射式显示装置在通常使用时，部件靠近观看者的一侧，“后”则指反射式显示装置在通常使用时，部件远离观看者的一侧。

采用上述实施例技术方案，可以通过开关元件控制MEMS 12的工作状态，从而控制像素单元的显示状态。具体如下：

当MEMS 12在第一工作状态时，吸光柔性层14包裹于全反射透镜13的全反射面，由于吸光柔性层14的吸光作用，像素单元显示为暗态，如图2a所示；

当MEMS 12在第二工作状态时，吸光柔性层14与全反射透镜13的全反射面相间隔，从而使全反射透镜13满足全反射条件，光线可以从全反射透镜13的前侧表面射出，像素单元显示为亮态，如图2b所示。

通过控制不同像素单元的MEMS 12的工作状态，可以使显示装置显示出所需要的画面内容，这相比现有反射式显示装置采用的墨水粒子技术，可以提高反射式显示装置的显示响应速度，提升显示品质，并简化其生产工艺。

值得一提的是，在本发明实施例中，MEMS的具体结构形式不限，全反射透镜的具体类型也不限，例如，可以为半球体形全反射透镜、球冠体形全反射透镜、棱锥体形全反射透镜或圆锥体形全反射透镜；此外，全反射透镜也可以为柱状体形全反射透镜，柱状体形全反射透镜的横截面形状可以为半圆形、弓形或三角形等等。无论采用何种形状的全反射透镜，其朝向MEMS的一侧表面应为全反射面，当光线从光密介质(全反射透镜)射入光疏介质(空气或真空)时，如果入射角大于全反射角，则光线会在临界面发生全反射。

在本发明实施例中，开关元件的具体类型不限，优选采用薄膜晶体管开关元件。

如图2a和图2b所示，在本发明的该具体实施例中，像素单元还包括位于基底11和吸光柔性层14之间并从后至前依次设置的第一电极15和绝缘层16；吸光柔性层14为用作第二电极的导电吸光柔性层，包括固定部17和形变部18，固定部17通过粘接层19固定于绝缘层16前侧。

该实施例中，全反射透镜13为柱状体形全反射透镜，横截面为弓形。如图2a所示，当MEMS 12在第一工作状态时，第一电极15和第二电极(吸光柔性层14)之间形成相斥电场，导电吸光柔性层的形变部18包裹于全反射透镜13的全反射面，由于导电吸光柔性层的吸光作用，像素单元显示为暗态。如图2b所示，当MEMS 12在第二工作状态时，第一电极15和第二电极(吸光柔性层14)之间无电场，导电吸光柔性层的形变部18展开平贴在绝缘层16表面，导电吸光柔性层与全反射透镜13的全反射面相间隔，从而使全反射透镜13满足全反射条件，光线可以从全反射透镜13的前侧表面射出，像素单元显示为亮态。

如图3a、图3b、图3c和图4所示，在本发明另一个具体实施例中，吸光柔性层14具有至少两个驱动端，MEMS 12还包括针对每个驱动端设置的驱动机构，驱动机构包括：用作第一电极的驱动梁20、与驱动梁20间隔设置并用作第二电极的负载梁21，以及与吸光柔性层14的驱动端和负载梁21分别连接的悬梁臂22，驱动梁20和负载梁21分别通过锚固件23固定于基底11；当MEMS 12在第一工作状态时，负载梁21产生形变并驱动悬梁臂22向远离驱动梁20的方向移动。

该实施例中，全反射透镜13为柱状体形全反射透镜，横截面为弓形，吸光柔性层14具有两个相对的驱动端。当MEMS 12在第一工作状态时，驱动梁20和负载梁21之间形成相斥电场，负载梁21产生形变并驱动悬梁臂22向远离驱动梁20的方向移动，吸光柔性层14在各个驱动机构的驱动下拱起(如图3b所示)，并继续形变直至包裹于全反射透镜13的全反射面(如图3c所示)；由于吸光柔性层14的吸光作用，像素单元显示为暗态。当MEMS 12在第二工作状态时，驱动梁20和负载梁21之间无电场作用，负载梁21复位，进而通过悬梁臂22拉动吸光柔性层14复位，使吸光柔性层14展开平贴在基底11表面，与全反射透镜13的全反射面相间隔；全反射透镜13满足全反射条件，光线可以从全反射透镜13的前侧表面射出，像素单元显示为亮态(如图3a所示)。

吸光柔性层14的具体材质不限，优选采用黑色聚酰亚胺，这种材质具有优越的机械性能、电绝缘性能和热塑性。

本发明实施例还提供一种反射式显示装置，包括根据前述任一实施例的阵列基板。与现有技术相比，该反射式显示装置的显示响应速度较快，显示品质较高，并且生产工艺较为简化。

本发明实施例还提供一种阵列基板的制作方法，包括以下步骤：

形成具有开关元件阵列的基底；

在具有开关元件阵列的基底前侧形成对应开关元件阵列设置并对应电连接的微机电系统阵列；

在微机电系统阵列前侧形成间隔设置的全反射透镜薄膜，全反射透镜薄膜包括与微机电系统阵列对应设置的全反射透镜阵列，每个全反射透镜的全反射面朝向对应的微机电系统设置；

其中，微机电系统具有第一工作状态和第二工作状态，微机电系统包括吸光柔性层，当微机电系统在第一工作状态时，吸光柔性层包裹于全反射透镜的全反射面，当微机电系统在第二工作状态时，吸光柔性层与全反射透镜的全反射面相间隔。

如图5所示，当阵列基板采用图2b所示的结构形式时，其制作方法具体可包括以下步骤：

步骤101、在具有开关元件阵列的基底前侧形成第一电极；

步骤102、在第一电极前侧形成绝缘层；

步骤103、在绝缘层前侧形成粘接层阵列；

步骤104、在粘接层阵列前侧形成导电吸光柔性层阵列，每个导电吸光柔性层的固定部通过粘接层与绝缘层连接；

步骤105、在导电吸光柔性层阵列前侧间隔设置全反射透镜薄膜，全反射透镜薄膜包括与导电吸光柔性层阵列对应设置的全反射透镜阵列，每个全反射透镜的全反射面朝向导电吸光柔性层。

采用上述方法制作的阵列基板应用于反射式显示装置，可以提高反射式显示装置的显示响应速度，提升显示品质，阵列基板的制作由于不涉及墨水粒子技术，因此工艺较为简化。

如图6所示，当阵列基板采用图3a所示的结构形式时，其制作方法具体可包括以下步骤：

步骤201、在具有开关元件阵列的基底11前侧形成第一牺牲层24，第一牺牲层24在锚固件设置位置具有第一孔洞25，如图7a所示；

步骤202、在第一牺牲层24前侧形成第二牺牲层26，第二牺牲层26具有与第一孔洞叠置的第二孔洞27和对应驱动机构设置的通孔槽28，通孔槽28包括第一侧壁29和与第一侧壁29相间隔的第二侧壁30，如图7b所示；

步骤203、在第一侧壁内侧形成驱动梁20，在第二侧壁内侧形成负载梁21，以及在第二牺牲层26前侧形成与负载梁21连接的悬梁臂22和通过第一孔洞和第二孔洞与基底11连接的锚固件23，驱动梁20和负载梁21分别通过锚固件23固定于基底11，如图7c所示；

步骤204、在第二牺牲层26前侧形成与悬梁臂22连接的吸光柔性层14，如图7d所示；

步骤205、移除第一牺牲层和第二牺牲层，完成MEMS制作，如图7e所示；

步骤206、在吸光柔性层14的前侧间隔设置全反射透镜薄膜，全反射透镜薄膜包括对应吸光柔性层14设置并且全反射面朝向吸光柔性层14的全反射透镜13，如图3a所示。

采用上述方法制作的阵列基板应用于反射式显示装置，可以提高反射式显示装置的显示响应速度，提升显示品质，阵列基板的制作由于不涉及墨水粒子技术，因此工艺较为简化。

显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (11)

1.一种阵列基板，其特征在于，包括阵列排布的多个像素单元，每个像素单元包括具有开关元件的基底、位于基底前侧并与开关元件电连接的微机电系统，以及位于所述微机电系统前侧的全反射透镜，其中：

所述全反射透镜的全反射面朝向所述微机电系统设置；

所述微机电系统具有第一工作状态和第二工作状态，所述微机电系统包括吸光柔性层，当所述微机电系统在第一工作状态时，吸光柔性层包裹于全反射透镜的全反射面，当所述微机电系统在第二工作状态时，吸光柔性层与全反射透镜的全反射面相间隔。

2.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述全反射透镜包括半球体形全反射透镜、球冠体形全反射透镜、棱锥体形全反射透镜或圆锥体形全反射透镜。

3.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述全反射透镜为柱状体形全反射透镜，所述柱状体形全反射透镜的横截面形状包括半圆形、弓形或三角形。

4.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述开关元件为薄膜晶体管开关元件。

5.如权利要求1～4任一项所述的阵列基板，其特征在于，

像素单元还包括位于基底和吸光柔性层之间并从后至前依次设置的第一电极和绝缘层；

吸光柔性层为用作第二电极的导电吸光柔性层，包括固定部和形变部，固定部通过粘接层固定于绝缘层前侧。

6.如权利要求1～4任一项所述的阵列基板，其特征在于，吸光柔性层具有至少两个驱动端，所述微机电系统还包括针对每个驱动端设置的驱动机构，驱动机构包括：

用作第一电极的驱动梁、与驱动梁间隔设置并用作第二电极的负载梁，以及与吸光柔性层的驱动端和负载梁分别连接的悬梁臂，驱动梁和负载梁分别通过锚固件固定于基底；当所述微机电系统在第一工作状态时，负载梁产生形变并驱动悬梁臂向远离驱动梁的方向移动。

7.如权利要求6所述的阵列基板，其特征在于，所述吸光柔性层材质包括黑色聚酰亚胺。

8.一种反射式显示装置，其特征在于，包括根据权利要求1～7任一项所述的阵列基板。

9.一种如权利要求1所述阵列基板的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：

形成具有开关元件阵列的基底；

在具有开关元件阵列的基底前侧形成对应开关元件阵列设置并对应电连接的微机电系统阵列；

在微机电系统阵列前侧形成间隔设置的全反射透镜薄膜，全反射透镜薄膜包括与微机电系统阵列对应设置的全反射透镜阵列，每个全反射透镜的全反射面朝向对应的微机电系统设置；

其中，所述微机电系统具有第一工作状态和第二工作状态，所述微机电系统包括吸光柔性层，当所述微机电系统在第一工作状态时，吸光柔性层包裹于全反射透镜的全反射面，当所述微机电系统在第二工作状态时，吸光柔性层与全反射透镜的全反射面相间隔。

10.如权利要求9所述的制作方法，其特征在于，阵列基板的像素单元还包括位于基底和吸光柔性层之间并从后至前依次设置的第一电极和绝缘层；吸光柔性层为用作第二电极的导电吸光柔性层，包括固定部和形变部，固定部通过粘接层固定于绝缘层前侧；所述制作方法具体包括：

在具有开关元件阵列的基底前侧形成第一电极；

在第一电极前侧形成绝缘层；

在绝缘层前侧形成粘接层阵列；

在粘接层阵列前侧形成导电吸光柔性层阵列，每个导电吸光柔性层的固定部通过粘接层与绝缘层连接；

在导电吸光柔性层阵列前侧间隔设置全反射透镜薄膜，全反射透镜薄膜包括与导电吸光柔性层阵列对应设置的全反射透镜阵列，每个全反射透镜的全反射面朝向导电吸光柔性层。

11.如权利要求9所述的制作方法，其特征在于，吸光柔性层具有至少两个驱动端，所述微机电系统还包括针对每个驱动端设置的驱动机构，驱动机构包括：用作第一电极的驱动梁、与驱动梁间隔设置并用作第二电极的负载梁，以及与吸光柔性层的驱动端和负载梁分别连接的悬梁臂，驱动梁和负载梁分别通过锚固件固定于基底；当所述微机电系统在第一工作状态时，负载梁产生形变并驱动悬梁臂向远离驱动梁的方向移动；所述制作方法具体包括：

在具有开关元件阵列的基底前侧形成第一牺牲层，第一牺牲层在锚固件设置位置具有第一孔洞；

在第一牺牲层前侧形成第二牺牲层，第二牺牲层具有与第一孔洞叠置的第二孔洞和对应驱动机构设置的通孔槽，通孔槽包括第一侧壁和与第一侧壁相间隔的第二侧壁；

在第一侧壁内侧形成驱动梁，在第二侧壁内侧形成负载梁，以及在第二牺牲层前侧形成与负载梁连接的悬梁臂和通过第一孔洞和第二孔洞与基底连接的锚固件，驱动梁和负载梁分别通过锚固件固定于基底；

在第二牺牲层前侧形成与悬梁臂连接的吸光柔性层；

移除第一牺牲层和第二牺牲层；

在吸光柔性层的前侧间隔设置全反射透镜薄膜，全反射透镜薄膜包括对应吸光柔性层设置并且全反射面朝向吸光柔性层的全反射透镜。