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CN105474095A - 辐射敏感树脂组合物及电子部件 - Google Patents

辐射敏感树脂组合物及电子部件 Download PDF

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CN105474095A
CN105474095A CN201480046646.1A CN201480046646A CN105474095A CN 105474095 A CN105474095 A CN 105474095A CN 201480046646 A CN201480046646 A CN 201480046646A CN 105474095 A CN105474095 A CN 105474095A
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CN
China
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radiation
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sensitive resin
dicyclo
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Application number
CN201480046646.1A
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English (en)
Inventor
阿部聪
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Zeon Corp
Original Assignee
Nippon Zeon Co Ltd
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Publication date
Application filed by Nippon Zeon Co Ltd filed Critical Nippon Zeon Co Ltd
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Abstract

本发明提供一种辐射敏感树脂组合物,其含有具有酸性基团的脂环式烯烃聚合物(A)、下述通式(1)所示的锍盐系光产酸剂(B)及交联剂(C)。(上述通式(1)中,R1、R2、R3各自独立地表示碳原子数6~30的芳基、碳原子数4~30的杂环基、碳原子数1~30的烷基、碳原子数2~30的烯基或碳原子数2~30的炔基,且这些基团任选具有取代基,a为1~5的整数)。

Description

辐射敏感树脂组合物及电子部件
技术领域
本发明涉及辐射敏感树脂组合物、以及具备由该辐射敏感树脂组合物形成的树脂膜的电子部件,更具体而言,涉及能够获得曝光灵敏度高、在氧化性气体氛围中进行烧制之后也具有高透明性、且相对于金属的耐腐蚀性优异的树脂膜的辐射敏感树脂组合物、以及具备由该辐射敏感树脂组合物形成的树脂膜的电子部件。
背景技术
在集成电路元件、液晶显示元件、有机EL元件、固体摄像元件、LED(发光二极管)元件、MEMS镜器件、印刷电路板等电子部件中,作为用于防止部件自身的劣化及损伤的保护膜、用于使元件表面、布线实现平坦化的平坦化膜、用于保持电绝缘性的电绝缘膜等、用于将发光部分离的像素分离膜、用于使光聚光、扩散的光学膜,设置有各种树脂膜。另外,在薄膜晶体管型液晶用显示元件、集成电路元件等元件中,为了使配置成层状的布线之间绝缘,设置有作为层间绝缘膜的树脂膜。而伴随布线、器件的高密度化,对于这些平坦化膜、绝缘膜等树脂膜,要求开发出用以形成这样的树脂膜的电气特性、透明性优异的辐射敏感树脂组合物。此外,最近,在有机EL元件中设置有像素分离膜、用于对元件进行平坦化的树脂膜,而为了延长发光体的寿命,要求开发出绝缘性高、透明性优异、低气体排放性优异的辐射敏感树脂组合物。
以往,作为用于形成这些树脂膜的树脂材料,常用的是环氧树脂等热固性树脂材料。但随着近年来布线、器件的高密度化,对于这些树脂材料,也要求开发出低介电性等电气特性优异的新型的树脂材料。
为了满足这些要求,例如,专利文献1中公开了一种辐射敏感树脂组合物,其含有:具有酸性基团的脂环式烯烃聚合物、具有2个以上与上述酸性基团反应的官能团的化合物、鎓盐、相对于上述聚合物100重量份为3~15重量份的抗氧化剂。需要说明的是,在该专利文献1中,作为具有2个以上与酸性基团反应的官能团的化合物,公开了使用具有2个以上环氧基或氧杂环丁基的化合物的例子。根据该专利文献1的辐射敏感树脂组合物,尽管能够得到在长时间的高温加热条件下膜厚变化也少、可保持透明性的树脂膜,但所得树脂膜相对于布线等所使用的金属材料的耐腐蚀性并不一定充分,因此,期待改善其相对于金属材料的耐腐蚀性。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2006-265322号公报
发明内容
发明要解决的问题
本发明的目的在于提供能够获得曝光灵敏度高、在氧化性气体氛围中进行烧制之后也具有高透明性、并且相对于金属的耐腐蚀性优异的树脂膜的辐射敏感树脂组合物,以及具备由这样的辐射敏感树脂组合物形成的树脂膜的电子部件。
解决问题的方法
本发明人等为达成上述目的而进行了深入研究,结果发现,利用包含具有酸性基团的脂环式烯烃聚合物、特定的锍盐系光产酸剂、及交联剂的辐射敏感树脂组合物,可以达成上述目的,进而完成了本发明。
即,根据本发明,可提供:
[1]一种辐射敏感树脂组合物,其含有:具有酸性基团的脂环式烯烃聚合物(A)、下述通式(1)所示的锍盐系光产酸剂(B)、及交联剂(C);
[化学式1]
(上述通式(1)中,R1、R2、R3各自独立地表示碳原子数6~30的芳基、碳原子数4~30的杂环基、碳原子数1~30的烷基、碳原子数2~30的烯基或碳原子数2~30的炔基,且这些基团任选具有取代基。a为1~5的整数。)
[2]上述[1]所述的辐射敏感树脂组合物,其中,上述通式(1)中,R1、R2、R3为碳原子数6~30的芳基;
[3]上述[2]所述的辐射敏感树脂组合物,其中,上述通式(1)中,R1、R2、R3为苯基;
[4]上述[1]~[3]中任一项所述的辐射敏感树脂组合物,其中,上述通式(1)中,a为3;
[5]上述[1]~[4]中任一项所述的辐射敏感树脂组合物,其还含有抗氧化剂(D);
[6]上述[1]~[5]中任一项所述的辐射敏感树脂组合物,其中,相对于上述具有酸性基团的脂环式烯烃聚合物(A)100重量份,上述锍盐系光产酸剂(B)的含有比例为1~15重量份;
[7]上述[1]~[6]中任一项所述的辐射敏感树脂组合物,其中,上述交联剂(C)为具有2个以上环氧基的化合物;
[8]上述[1]~[7]中任一项所述的辐射敏感树脂组合物,其中,上述交联剂(C)为具有2个以上氧杂环丁基的化合物;
[9]上述[7]或[8]所述的辐射敏感树脂组合物,其中,上述交联剂(C)为具有2个以上环氧基的化合物及具有2个以上氧杂环丁基的化合物;以及
[10]一种电子部件,其具备由上述[1]~[9]中任一项所述的辐射敏感树脂组合物形成的树脂膜。
发明的效果
根据本发明,可提供能够获得曝光灵敏度高、在氧化性气体氛围中进行烧制之后也具有高透明性、且相对于金属的耐腐蚀性优异的树脂膜的辐射敏感树脂组合物,以及具备由该辐射敏感树脂组合物形成的树脂膜的电子部件。
具体实施方式
本发明的辐射敏感树脂组合物含有:具有酸性基团的脂环式烯烃聚合物(A)、后述的通式(1)所示的锍盐系光产酸剂(B)、及交联剂(C)。
(具有酸性基团的脂环式烯烃聚合物(A))
作为具有酸性基团的脂环式烯烃聚合物(A)(以下简称为“脂环式烯烃聚合物(A)”),可列举1种或2种以上环状烯烃单体的聚合物、或1种或2种以上环状烯烃单体和能够与其共聚的单体的共聚物,在本发明中,作为用于形成脂环式烯烃聚合物(A)的单体,优选至少使用具有酸性基团的环状烯烃单体(a)。
作为具有酸性基团的环状烯烃单体(a)(以下,适当称为“单体(a)”)的具体例,可列举:2-羟基羰基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-甲基-2-羟基羰基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-羧基甲基-2-羟基羰基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-羟基羰基-2-甲氧基羰基甲基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-羟基羰基-2-乙氧基羰基甲基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-羟基羰基-2-丙氧基羰基甲基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-羟基羰基-2-丁氧基羰基甲基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-羟基羰基-2-戊氧基羰基甲基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-羟基羰基-2-己氧基羰基甲基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-羟基羰基-2-环己氧基羰基甲基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-羟基羰基-2-苯氧基羰基甲基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-羟基羰基-2-萘氧基羰基甲基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-羟基羰基-2-联苯氧基羰基甲基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-羟基羰基-2-苄氧基羰基甲基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-羟基羰基-2-羟基乙氧基羰基甲基双环[2.2.1]庚-5-烯、2,3-二羟基羰基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-羟基羰基-3-甲氧基羰基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-羟基羰基-3-乙氧基羰基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-羟基羰基-3-丙氧基羰基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-羟基羰基-3-丁氧基羰基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-羟基羰基-3-戊氧基羰基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-羟基羰基-3-己氧基羰基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-羟基羰基-3-环己氧基羰基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-羟基羰基-3-苯氧基羰基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-羟基羰基-3-萘氧基羰基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-羟基羰基-3-联苯氧基羰基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-羟基羰基-3-苄氧基羰基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-羟基羰基-3-羟基乙氧基羰基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-羟基羰基-3-羟基羰基甲基双环[2.2.1]庚-5-烯、3-甲基-2-羟基羰基双环[2.2.1]庚-5-烯、3-羟基甲基-2-羟基羰基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-羟基羰基三环[5.2.1.02,6]癸-3,8-二烯、4-羟基羰基四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-9-烯、4-甲基-4-羟基羰基四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-9-烯、4,5-二羟基羰基四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-9-烯、4-羧基甲基-4-羟基羰基四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-9-烯、N-(羟基羰基甲基)双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(羟基羰基乙基)双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(羟基羰基戊基)双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(二羟基羰基乙基)双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(二羟基羰基丙基)双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(羟基羰基苯乙基)双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(2-(4-羟基苯基)-1-(羟基羰基)乙基)双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(羟基羰基苯基)双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺等含羧基的环状烯烃;2-(4-羟基苯基)双环[2.2.1]庚-5-烯、2-甲基-2-(4-羟基苯基)双环[2.2.1]庚-5-烯、4-(4-羟基苯基)四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-9-烯、4-甲基-4-(4-羟基苯基)四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-9-烯、2-羟基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-羟基甲基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-羟基乙基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-甲基-2-羟基甲基双环[2.2.1]庚-5-烯、2,3-二羟基甲基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-(羟基乙氧基羰基)双环[2.2.1]庚-5-烯、2-甲基-2-(羟基乙氧基羰基)双环[2.2.1]庚-5-烯、2-(1-羟基-1-三氟甲基-2,2,2-三氟乙基)双环[2.2.1]庚-5-烯、2-(2-羟基-2-三氟甲基-3,3,3-三氟丙基)双环[2.2.1]庚-5-烯、3-羟基三环[5.2.1.02,6]癸-4,8-二烯、3-羟基甲基三环[5.2.1.02,6]癸-4,8-二烯、4-羟基四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-9-烯、4-羟基甲基四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-9-烯、4,5-二羟基甲基四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-9-烯、4-(羟基乙氧基羰基)四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-9-烯、4-甲基-4-(羟基乙氧基羰基)四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-9-烯、N-(羟基乙基)双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(羟基苯基)双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺等含羟基的环状烯烃等。这些中,从所得树脂膜的密合性提高的观点出发,优选含羧基的环状烯烃,特别优选4-羟基羰基四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-9-烯。这些单体(a)可以分别单独使用,也可以将2种以上组合使用。
脂环式烯烃聚合物(A)中,相对于全部单体单元,单体(a)的单元的含有比例优选为10~90摩尔%。通过使单体(a)的单元的含有比例在上述范围,能够使本发明的辐射敏感树脂组合物的辐射敏感性、显影时溶解残渣的产生、在极性溶剂中的溶解性以更好的平衡得到改善。
另外,本发明中使用的脂环式烯烃聚合物(A)也可以是使具有酸性基团的环状烯烃单体(a)和能够与其共聚的单体(b)共聚而得到的共聚物。作为这样的能够共聚的单体,可列举:具有酸性基团以外的极性基团的环状烯烃单体(b1)、不具有极性基团的环状烯烃单体(b2)、及环状烯烃以外的单体(b3)(以下,适当称为“单体(b1)”、“单体(b2)”、“单体(b3)”)。
作为具有酸性基团以外的极性基团的环状烯烃单体(b1),可列举例如:具有N-取代酰亚胺基、酯基、氰基、酸酐基或卤原子的环状烯烃。
作为具有N-取代酰亚胺基的环状烯烃,可列举例如:下述通式(2)所示的单体、或下述通式(3)所示的单体。
[化学式2]
(上述通式(2)中,R4表示氢原子或碳原子数1~16的烷基或芳基。n表示整数1或2。)
[化学式3]
(上述通式(3)中,R5表示碳原子数1~3的2价亚烷基,R6表示碳原子数1~10的1价烷基、或碳原子数1~10的1价卤代烷基。)
上述式(2)中,R5为碳原子数1~16的烷基或芳基时,作为烷基的具体例,可列举:甲基、乙基、正丙基、正丁基、正戊基、正己基、正庚基、正辛基、正壬基、正癸基、正十一烷基、正十二烷基、正十三烷基、正十四烷基、正十五烷基、正十六烷基等直链烷基;环丙基、环丁基、环戊基、环己基、环庚基、环辛基、环壬基、环癸基、环十一烷基、环十二烷基、降冰片基、冰片基、异冰片基、十氢萘基、三环癸基、金刚烷基等环状烷基;2-丙基、2-丁基、2-甲基-1-丙基、2-甲基-2-丙基、1-甲基丁基、2-甲基丁基、1-甲基戊基、1-乙基丁基、2-甲基己基、2-乙基己基、4-甲基庚基、1-甲基壬基、1-甲基十三烷基、1-甲基十四烷基等分支状烷基;等等。另外,作为芳基的具体例,可列举苄基等。这些中,从耐热性以及在极性溶剂中的溶解性更为优异的观点出发,优选碳原子数6~14的烷基及芳基,更优选碳原子数6~10的烷基及芳基。碳原子数为4以下时,在极性溶剂中的溶解性不良,碳原子数为17以上时,耐热性不良,在进一步对树脂膜进行图案化的情况下,存在会因热而发生熔融、图案消失的问题。
作为上述通式(2)所示的单体的具体例,可列举:双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-苯基-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-甲基双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-乙基双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-丙基双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-丁基双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-环己基双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-金刚烷基双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(1-甲基丁基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(2-甲基丁基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(1-甲基戊基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(2-甲基戊基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(1-乙基丁基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(2-乙基丁基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(1-甲基己基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(2-甲基己基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(3-甲基己基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(1-丁基戊基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(2-丁基戊基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(1-甲基庚基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(2-甲基庚基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(3-甲基庚基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(4-甲基庚基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(1-乙基己基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(2-乙基己基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(3-乙基己基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(1-丙基戊基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(2-丙基戊基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(1-甲基辛基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(2-甲基辛基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(3-甲基辛基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(4-甲基辛基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(1-乙基庚基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(2-乙基庚基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(3-乙基庚基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(4-乙基庚基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(1-丙基己基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(2-丙基己基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(3-丙基己基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(1-甲基壬基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(2-甲基壬基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(3-甲基壬基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(4-甲基壬基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(5-甲基壬基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(1-乙基辛基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(2-乙基辛基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(3-乙基辛基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(4-乙基辛基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(1-甲基癸基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(1-甲基十二烷基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(1-甲基十一烷基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(1-甲基十二烷基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(1-甲基十三烷基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(1-甲基十四烷基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(1-甲基十五烷基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-苯基-四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-9-烯-4,5-二羧酰亚胺、N-(2,4-二甲氧基苯基)-四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-9-烯-4,5-二羧酰亚胺等。需要说明的是,这些单体可以分别单独使用,也可以将2种以上组合使用。
另一方面,在上述通式(3)中,R5为碳原子数1~3的2价亚烷基,作为碳原子数1~3的2价亚烷基,可列举:亚甲基、亚乙基、亚丙基及亚异丙基。这些中,由于聚合活性良好,因此优选亚甲基及亚乙基。
另外,在上述通式(3)中,R6为碳原子数1~10的1价烷基、或碳原子数1~10的1价卤代烷基。作为碳原子数1~10的1价烷基,可列举例如:甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、仲丁基、叔丁基、己基及环己基等。作为碳原子数1~10的1价卤代烷基,可列举例如:氟甲基、氯甲基、溴甲基、二氟甲基、二氯甲基、二氟甲基、三氟甲基、三氯甲基、2,2,2-三氟乙基、五氟乙基、七氟丙基、全氟丁基及全氟戊基等。这些中,由于在极性溶剂中的溶解性优异,因此,作为R3,优选甲基或乙基。
需要说明的是,上述通式(2)、(3)所示的单体可以通过例如使对应的胺和5-降冰片烯-2,3-二羧酸酐进行酰亚胺化反应而得到。另外,对于所得单体,可以通过利用公知的方法对酰亚胺化反应的反应液进行分离、纯化而进行有效地分离。
作为具有酯基的环状烯烃,可列举例如:2-乙酰氧基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-乙酰氧基甲基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-甲氧基羰基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-乙氧基羰基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-丙氧基羰基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-丁氧基羰基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-环己氧基羰基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-甲基-2-甲氧基羰基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-甲基-2-乙氧基羰基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-甲基-2-丙氧基羰基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-甲基-2-丁氧基羰基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-甲基-2-环己氧基羰基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-(2,2,2-三氟乙氧基羰基)双环[2.2.1]庚-5-烯、2-甲基-2-(2,2,2-三氟乙氧基羰基)双环[2.2.1]庚-5-烯、2-甲氧基羰基三环[5.2.1.02,6]癸-8-烯、2-乙氧基羰基三环[5.2.1.02,6]癸-8-烯、2-丙氧基羰基三环[5.2.1.02,6]癸-8-烯、4-乙酰氧基四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-9-烯、4-甲氧基羰基四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-9-烯、4-乙氧基羰基四环[6.2.1.13 ,6.02,7]十二碳-9-烯、4-丙氧基羰基四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-9-烯、4-丁氧基羰基四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-9-烯、4-甲基-4-甲氧基羰基四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-9-烯、4-甲基-4-乙氧基羰基四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-9-烯、4-甲基-4-丙氧基羰基四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-9-烯、4-甲基-4-丁氧基羰基四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-9-烯、4-(2,2,2-三氟乙氧基羰基)四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-9-烯、4-甲基-4-(2,2,2-三氟乙氧基羰基)四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-9-烯等。
作为具有氰基的环状烯烃,可列举例如:4-氰基四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-9-烯、4-甲基-4-氰基四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-9-烯、4,5-二氰基四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-9-烯、2-氰基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-甲基-2-氰基双环[2.2.1]庚-5-烯、2,3-二氰基双环[2.2.1]庚-5-烯等。
作为具有酸酐基的环状烯烃,可列举例如:四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-9-烯-4,5-二羧酸酐、双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酸酐、2-羧基甲基-2-羟基羰基双环[2.2.1]庚-5-烯酐等。
作为具有卤原子的环状烯烃,可列举例如:2-氯双环[2.2.1]庚-5-烯、2-氯甲基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-(氯苯基)双环[2.2.1]庚-5-烯、4-氯四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-9-烯、4-甲基-4-氯四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-9-烯等。
这些单体(b1)可以分别单独使用,也可以将2种以上组合使用。
作为不具有极性基团的环状烯烃单体(b2),可列举:双环[2.2.1]庚-2-烯(也称为“降冰片烯”)、5-乙基-双环[2.2.1]庚-2-烯、5-丁基-双环[2.2.1]庚-2-烯、5-乙叉-双环[2.2.1]庚-2-烯、5-甲叉-双环[2.2.1]庚-2-烯、5-乙烯基-双环[2.2.1]庚-2-烯、三环[5.2.1.02,6]癸-3,8-二烯(惯用名:双环戊二烯)、四环[10.2.1.02,11.04,9]十五碳-4,6,8,13-四烯、四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-4-烯(也称为“四环十二碳烯”)、9-甲基-四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-4-烯、9-乙基-四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-4-烯、9-甲叉-四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-4-烯、9-乙叉-四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-4-烯、9-乙烯基-四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-4-烯、9-丙烯基-四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-4-烯、五环[9.2.1.13,9.02,10.04,8]十五碳-5,12-二烯、环丁烯、环戊烯、环戊二烯、环己烯、环庚烯、环辛烯、环辛二烯、茚、3a,5,6,7a-四氢-4,7-桥亚甲基-1H-茚、9-苯基-四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-4-烯、四环[9.2.1.02,10.03,8]十四碳-3,5,7,12-四烯、五环[9.2.1.13,9.02,10.04,8]十五碳-12-烯等。这些单体(b2)可以分别单独使用,也可以将2种以上组合使用。
作为环状烯烃以外的单体(b3)的具体例,可列举:乙烯;丙烯、1-丁烯、1-戊烯、1-己烯、3-甲基-1-丁烯、3-甲基-1-戊烯、3-乙基-1-戊烯、4-甲基-1-戊烯、4-甲基-1-己烯、4,4-二甲基-1-己烯、4,4-二甲基-1-戊烯、4-乙基-1-己烯、3-乙基-1-己烯、1-辛烯、1-癸烯、1-十二碳烯、1-十四碳烯、1-十六碳烯、1-十八碳烯、1-二十碳烯等碳原子数2~20的α-烯烃;1,4-己二烯、1,5-己二烯、4-甲基-1,4-己二烯、5-甲基-1,4-己二烯、1,7-辛二烯等非共轭二烯、及它们的衍生物;等等。这些中,优选α-烯烃。这些单体(b3)可以分别单独使用,也可以将2种以上组合使用。
这些单体(b1)~(b3)中,从使本发明的效果更显著的观点出发,优选具有酸性基团以外的极性基团的环状烯烃单体(b1),特别优选具有N-取代酰亚胺基的环状烯烃。
脂环式烯烃聚合物(A)中的能够共聚的单体(b)的单元的含有比例相对于全部单体单元优选为10~90摩尔%。如果能够共聚的单体(b)的单元的含有比例过少,则可能导致脂环式烯烃聚合物(A)在极性溶剂中的溶解性变得不充分,如果过多,则存在下述隐患:本发明的辐射敏感树脂组合物的辐射敏感性变得不充分、或在显影时产生溶解残渣。
需要说明的是,在本发明中,也可以通过利用公知的改性剂在不具有酸性基团的环状烯烃类聚合物中导入酸性基团,来得到脂环式烯烃聚合物(A)。不具有酸性基团的环状烯烃类聚合物可以通过任意地组合上述的单体(b1)及(b2)中的至少一种和根据需要的单体(b3)并使它们聚合而得到。
需要说明的是,本发明中使用的脂环式烯烃聚合物(A)可以是使上述单体进行开环聚合而得到的开环聚合物,或者,也可以是使上述单体进行加聚而得到的加聚物,但从本发明的效果更为显著的方面考虑,优选为开环聚合物。
开环聚合物可以通过使具有酸性基团的环状烯烃单体(a)及根据需要而使用的能够共聚的单体(b)在易位反应催化剂的存在下进行开环易位聚合来制造。作为制造方法,可采用例如在国际公开第2010/110323号的[0039]~[0079]记载的方法等。另一方面,加聚物可以通过使用公知的加聚催化剂、例如由钛、锆或钒化合物和有机铝化合物构成的催化剂使具有酸性极性基团的环状烯烃单体(a)及根据需要而使用的能够共聚的单体(b)进行聚合而得到。
另外,在本发明中使用的脂环式烯烃聚合物(A)为开环聚合物的情况下,优选进一步进行加氢反应,得到主链中所含的碳-碳双键经过了加氢的加氢物。脂环式烯烃聚合物(A)为加氢物的情况下,发生了氢化的碳-碳双键的比例(加氢率)通常为50%以上,从耐热性的观点出发,优选为70%以上、更优选为90%以上、进一步优选为95%以上。
另外,本发明中使用的脂环式烯烃聚合物(A)的酸值没有特殊限定,但优选为50~250mgKOH/g、更优选为70~200mgKOH/g。
本发明中使用的脂环式烯烃聚合物(A)的重均分子量(Mw)通常为1,000~1,000,000、优选为1,500~100,000、更优选为2,000~10,000的范围。
另外,脂环式烯烃聚合物(A)的分子量分布以重均分子量/数均分子量(Mw/Mn)比计,通常为4以下、优选为3以下、更优选为2.5以下。
脂环式烯烃聚合物(A)的重均分子量(Mw)、分子量分布(Mw/Mn)是利用以四氢呋喃等溶剂为洗脱液的凝胶渗透色谱法(GPC)、作为聚苯乙烯换算值而求出的值。
(锍盐系光产酸剂(B))
本发明的辐射敏感树脂组合物含有下述通式(1)所示的锍盐系光产酸剂(B)。下述通式(1)所示的锍盐系光产酸剂(B)(以下简称为“锍盐系光产酸剂(B)”)是响应于光而生成布朗斯台德酸或路易斯酸的锍盐系的化合物,其作为感光剂,具体而言,作为负型的感光剂而发挥作用。因此,本发明的辐射敏感树脂组合物通常作为负型的辐射敏感树脂组合物而发挥作用。
[化学式4]
上述通式(1)中,R1、R2、R3各自独立地表示碳原子数6~30的芳基、碳原子数4~30的杂环基、碳原子数1~30的烷基、碳原子数2~30的烯基或碳原子数2~30的炔基,且这些基团也可以具有取代基。需要说明的是,作为取代基,可列举例如:烷基、羟基、烷氧基、烷基羰基、芳基羰基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、芳硫基羰基、酰氧基、芳硫基、烷硫基、芳基、杂环、芳氧基、烷基亚磺酰基、芳基亚磺酰基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、烯氧基、氨基、氰基、硝基、卤原子等。
作为碳原子数6~30的芳基,可列举:苯基等单环式芳基;萘基、蒽基、菲基、芘基、基、并四苯基、苯并蒽基、蒽喹啉基、芴基、萘喹啉基等稠合多环式芳基。
作为碳原子数4~30的杂环基,可列举:包含氧、氮、硫等杂原子1~3个的环状的杂环基。作为具体例,可列举:噻吩基、呋喃基、吡喃基、吡咯基、噁唑基、噻唑基、吡啶基、嘧啶基、吡嗪基等单环式杂环基;吲哚基、苯并呋喃基、异苯并呋喃基、苯并噻吩基、异苯并噻吩基、喹啉基、异喹啉基、喹喔啉基、喹唑啉基、咔唑基、吖啶基、吩噻嗪基、吩嗪基、呫吨基、噻蒽基、吩噁嗪基、吩噻嗪基、苯并二氢吡喃基、异苯并二氢吡喃基、二苯并噻吩基、呫吨酮基、噻吨酮基、二苯并呋喃基等稠合多环式杂环基;等等。
作为碳原子数1~30的烷基,可列举:甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、辛基、癸基、十二烷基、十四烷基、十六烷基、十八烷基等直链烷基;异丙基、异丁基、仲丁基、叔丁基、异戊基、新戊基、叔戊基、异己基等支链烷基;环丙基、环丁基、环戊基、环己基等环烷基;等等。
作为碳原子数2~30的烯基,可列举:乙烯基、烯丙基、1-丙烯基、异丙烯基、1-丁烯基、2-丁烯基、3-丁烯基、1-甲基-1-丙烯基、1-甲基-2-丙烯基、2-甲基-1-丙烯基、2-甲基-2-丙烯基、1-戊烯基、2-戊烯基、3-戊烯基、4-戊烯基、1-甲基-1-丁烯基、2-甲基-2-丁烯基、3-甲基-2-丁烯基、1,2-二甲基-1-丙烯基、1-癸烯基、2-癸烯基、8-癸烯基、1-十二碳烯基、2-十二碳烯基、10-十二碳烯基等。
作为碳原子数2~30的炔基,可列举:乙炔基、1-丙炔基、2-丙炔基、1-丁炔基、2-丁炔基、3-丁炔基、1-甲基-1-丙炔基、1-甲基-2-丙炔基、2-甲基-1-丙炔基、2-甲基-2-丙炔基、1-戊炔基、2-戊炔基、3-戊炔基、4-戊炔基、1-甲基-1-丁炔基、2-甲基-2-丁炔基、3-甲基-2-丁炔基、1,2-二甲基-1-丙炔基、1-癸炔基、2-癸炔基、8-癸炔基、1-十二碳炔基、2-十二碳炔基、10-十二碳炔基等。
在本发明中,从能够使本发明的作用效果(特别是提高曝光灵敏度的作用效果)更为显著的观点出发,R1、R2、R3优选为碳原子数6~30的芳基、特别优选为苯基。
另外,上述通式(1)中,a为1~5的整数、优选为2~4、更优选为2或3、进一步优选为3。通过使a在上述范围内,可以平衡良好地改善曝光灵敏度及相对于金属的耐腐蚀性。
本发明的辐射敏感树脂组合物中的锍盐系光产酸剂(B)的含量相对于脂环式烯烃聚合物(A)100重量份,优选为1~15重量份、更优选为1.5~10重量份、进一步优选为2~7重量份、最优选为3~6重量份。通过使锍盐系光产酸剂(B)的含量在该范围,可以使使用本发明的辐射敏感树脂组合物而得到的树脂膜的曝光灵敏度、在氧化性气体氛围中进行烧制之后的透明性、及相对于金属的耐腐蚀性变得更为良好。
(交联剂(C))
本发明的辐射敏感树脂组合物中除了上述的脂环式烯烃聚合物(A)及锍盐系光产酸剂(B)以外,还含有交联剂(C)。本发明中使用的交联剂(C)是通过加热而在交联剂分子间形成交联结构的物质、或与脂环式烯烃聚合物(A)反应而在树脂分子间形成交联结构的物质,具体而言,可列举具有2个以上反应性基团的化合物。作为这样的反应性基团,可列举例如:氨基、羧基、羟基、环氧基、氧杂环丁基、异氰酸酯基,更优选为氨基、环氧基、氧杂环丁基或异氰酸酯基,更优选为环氧基或氧杂环丁基,特别优选为环氧基。即,作为交联剂(C),特别优选使用具有2个以上环氧基的化合物、或具有2个以上氧杂环丁基的化合物,尤其优选使用具有2个以上环氧基的化合物。进一步,通过在具有2个以上环氧基的化合物以外还组合使用具有2个以上氧杂环丁基的化合物,可以进一步提高曝光灵敏度,因此还优选将它们组合使用。
交联剂(C)的分子量没有特殊限定,通常为100~100,000、优选为100~50,000、更优选为200~10,000。交联剂(C)可以分别单独使用,或组合使用2种以上,特别是,通过组合使用2种以上,可以使使用本发明的辐射敏感树脂组合物而得到的树脂膜的曝光灵敏度、烧制后的形状保持性、及透明性更为良好。
作为交联剂(C)的具体例,可以列举:六亚甲基二胺等脂肪族多胺类;4,4’-二氨基二苯基醚、二氨基二苯基砜等芳香族多胺类;2,6-双(4’-叠氮苯亚甲基)环己酮、4,4’-二叠氮二苯基砜等叠氮类;尼龙、聚六亚甲基二胺对苯二甲酰胺、聚六亚甲基间苯二甲酰胺等聚酰胺类;N,N,N’,N’,N”,N”-(六烷氧基烷基)三聚氰胺等任选具有羟甲基、亚氨基等的三聚氰胺类(商品名“CYMEL303、CYMEL325、CYMEL370、CYMEL232、CYMEL235、CYMEL272、CYMEL212、MYCOAT506”{以上由CytecIndustries公司制}等CYMEL系列、MYCOAT系列);N,N’,N”,N”’-(四烷氧基烷基)甘脲等任选具有羟甲基、亚氨基等的甘脲类(商品名“CYMEL1170”{以上由CytecIndustries公司制}等CYMEL系列);乙二醇二(甲基)丙烯酸酯等丙烯酸酯化合物;六亚甲基二异氰酸酯类多异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯类多异氰酸酯、甲苯二异氰酸酯类多异氰酸酯、氢化二苯基甲烷二异氰酸酯等异氰酸酯类化合物;1,4-二(羟基甲基)环己烷、1,4-二(羟基甲基)降冰片烷;3-乙基-3{[(3-乙基氧杂环丁烷-3-基)甲氧基]甲基}氧杂环丁烷等双氧杂环丁烷类(商品名“OXT-121、OXT-221、RSOX、4,4’-BPOX”{以上由东亚合成公司制}、三氧杂环丁烷类、酚醛清漆型氧杂环丁烷类(商品名“PNOX-1009”、东亚合成公司制)、杯芳烃型氧杂环丁烷卡多型氧杂环丁烷类、聚羟基苯乙烯型氧杂环丁烷类等氧杂环丁烷化合物;1,3,4-三羟基环己烷;双酚A型环氧树脂、双酚F型环氧树脂、苯酚酚醛清漆型环氧树脂、甲酚酚醛清漆型环氧树脂、多酚型环氧树脂、环状脂肪族环氧树脂、脂肪族缩水甘油基醚、环氧丙烯酸酯聚合物等环氧化合物。
作为环氧化合物的具体例,可列举:以双环戊二烯为骨架的3官能性的环氧化合物(商品名“XD-1000”、日本化药公司制)、2,2-双(羟基甲基)-1-丁醇的1,2-环氧-4-(2-环氧乙烷基)环己烷加成物(具有环己烷骨架及末端环氧基的15官能性的脂环式环氧树脂、商品名“EHPE3150”、大赛璐化学工业公司制)、环氧化3-环己烯-1,2-二羧酸双(3-环己烯基甲基)酯修饰ε-己内酯(脂肪族环状3官能性的环氧树脂、商品名“EPOLEADGT301”、大赛璐化学工业公司制)、环氧化丁烷四羧酸四(3-环己烯基甲基)酯修饰ε-己内酯(脂肪族环状4官能性的环氧树脂、商品名“EPOLEADGT401”、大赛璐化学工业公司制)、3,4-环氧环己烯基甲基-3’,4’-环氧环己烯羧酸酯(商品名“Celloxide2021”、“Celloxide2021P”、大赛璐化学工业公司制)、1,2:8,9-二环氧基柠檬烯(商品名“Celloxide3000”、大赛璐化学工业公司制)、2-(3,4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷(商品名“Z-6043”、DowCorningToray公司制)等具有脂环结构的环氧化合物;
芳香族胺型多官能环氧化合物(商品名“H-434”、东都化成工业公司制)、三聚异氰酸三(2,3-环氧基丙基)酯(具有三嗪骨架的多官能环氧化合物、商品名“TEPIC”、日产化学工业公司制)、甲酚酚醛清漆型多官能环氧化合物(商品名“EOCN-1020”、日本化药公司制)、苯酚酚醛清漆型多官能环氧化合物(EPIKOTE152、154、日本环氧树脂公司制)、具有萘骨架的多官能环氧化合物(商品名EXA-4700、DIC株式会社制)、链状烷基多官能环氧化合物(商品名“SR-TMP”、阪本药品工业株式会社制)、多官能环氧基聚丁二烯(商品名“EPOLEADPB3600”、大赛璐化学工业公司制)、甘油的缩水甘油基聚醚化合物(商品名“SR-GLG”、阪本药品工业株式会社制)、二甘油聚缩水甘油基醚化合物(商品名“SR-DGE”、阪本药品工业株式会社制、聚甘油聚缩水甘油基醚化合物(商品名“SR-4GL”、阪本药品工业株式会社制)、环氧丙氧基丙基三甲基硅烷(商品名“Z-6040”、DowCorningToray公司制)等不具有脂环结构的环氧化合物。
本发明的辐射敏感性树脂组合物中的交联剂(C)的含量没有特殊限定,可以在考虑使用本发明的辐射敏感性树脂组合物而得到的树脂膜所要求的耐热性程度的情况下任意地设定,相对于脂环式烯烃聚合物(A)100重量份,通常为5~150重量份、优选为20~120重量份、更优选为30~100重量份。无论交联剂(C)过多还是过少,均存在导致耐热性降低的倾向。需要说明的是,作为交联剂(C)而使用多种交联剂的情况下,上述交联剂(C)的含量是各交联剂的含量的合计值。
(抗氧化剂(D))
另外,本发明的辐射敏感树脂组合物中除了上述的脂环式烯烃聚合物(A)、锍盐系光产酸剂(B)及交联剂(C)以外,还优选进一步含有抗氧化剂(D)。作为抗氧化剂(D),没有特殊限定,可使用酚系抗氧化剂、磷系抗氧化剂、硫系抗氧化剂、胺系抗氧化剂、内酯系抗氧化剂等。通过含有抗氧化剂,能够进一步改善所得树脂膜的耐光性、耐热性。
作为酚系抗氧化剂,可使用现有公知的酚系抗氧化剂,可使用例如:2-叔丁基-6-(3-叔丁基-2-羟基-5-甲基苄基)-4-甲基苯基丙烯酸酯、2,4-二叔戊基-6-[1-(3,5-二叔戊基-2-羟基苯基)乙基]苯基丙烯酸酯等日本特开昭63-179953号公报、日本特开平1-168643号公报中记载的丙烯酸酯类化合物;2,6-二叔丁基-4-甲基苯酚、2,6-二叔丁基-4-乙基苯酚、3-(3,5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酸十八烷基酯、2,2’-亚甲基-双(4-甲基-6-叔丁基苯酚)、4,4’-丁叉双(6-叔丁基-间甲苯酚)、4,4’-硫代双(3-甲基-6-叔丁基苯酚)、双(3-环己基-2-羟基-5-甲基苯基)甲烷、3,9-双[2-[3-(3-叔丁基-4-羟基-5-甲基苯基)丙酰氧基]-1,1-二甲基乙基]-2,4,8,10-四氧杂螺[5,5]十一碳烷、1,1,3-三(2-甲基-4-羟基-5-叔丁基苯基)丁烷、季戊四醇四[3-(3,5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酸酯]、三乙二醇双[3-(3-叔丁基-4-羟基-5-甲基苯基)丙酸酯]、生育酚等烷基取代酚类化合物;6-(4-羟基-3,5-二叔丁基苯胺基)-2,4-双-辛硫基-1,3,5-三嗪、6-(4-羟基-3,5-二甲基苯胺基)-2,4-双-辛硫基-1,3,5-三嗪、6-(4-羟基-3-甲基-5-叔丁基苯胺基)-2,4-双-辛硫基-1,3,5-三嗪、2-辛硫基-4,6-双(3,5-二叔丁基-4-羟基苯胺基)-1,3,5-三嗪等含三嗪基的酚类化合物;等等。
作为磷系抗氧化剂,只要是常规的在树脂工业中通常使用的磷系抗氧化剂则没有特殊限制,可使用例如:亚磷酸三苯酯、亚磷酸二苯基异癸酯、亚磷酸苯基二异癸酯、亚磷酸三(壬基苯基)酯、亚磷酸三(二壬基苯基)酯、亚磷酸三(2,4-二叔丁基苯基)酯、亚磷酸三(2-叔丁基-4-甲基苯基)酯、亚磷酸三(环己基苯基)酯、亚磷酸2,2’-亚甲基双(4,6-二叔丁基苯基)辛基酯、9,10-二氢-9-氧杂-10-磷杂菲-10-氧化物、10-(3,5-二叔丁基-4-羟基苄基)-9,10-二氢-9-氧杂-10-磷杂菲-10-氧化物、10-癸氧基-9,10-二氢-9-氧杂-10-磷杂菲等单亚磷酸酯类化合物;4,4’-丁叉-双(3-甲基-6-叔丁基苯基-二-十三烷基亚磷酸酯)、4,4’-异丙叉-双[苯基-二-烷基(C12~C15)亚磷酸酯]、4,4’-异丙叉-双[二苯基单烷基(C12~C15)亚磷酸酯]、1,1,3-三(2-甲基-4-二-十三烷基亚磷酸酯-5-叔丁基苯基)丁烷、四(2,4-二叔丁基苯基)-4,4’-亚联苯基二亚磷酸酯、环新戊烷四基双(十八烷基亚磷酸酯)、环新戊烷四基双(异癸基亚磷酸酯)、环新戊烷四基双(壬基苯基亚磷酸酯)、环新戊烷四基双(2,4-二叔丁基苯基亚磷酸酯)、环新戊烷四基双(2,4-二甲基苯基亚磷酸酯)、环新戊烷四基双(2,6-二叔丁基苯基亚磷酸酯)等二亚磷酸酯类化合物等。这些中,优选单亚磷酸酯类化合物,特别优选亚磷酸三(壬基苯基)酯、亚磷酸三(二壬基苯基)酯、亚磷酸三(2,4-二叔丁基苯基)酯等。
作为硫系抗氧化剂,可使用例如:3,3’-硫代二丙酸二月桂酯、3,3’-硫代二丙酸二肉豆蔻酯、3,3’-硫代二丙酸二硬脂酯、3,3’-硫代二丙酸月桂基硬脂基酯、季戊四醇四(β-月桂基-硫代丙酸酯)、3,9-双(2-十二烷硫基乙基)-2,4,8,10-四氧杂螺[5,5]十一碳烷等。
这些中,优选酚系抗氧化剂,其中更优选季戊四醇四[3-(3,5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酸酯]。
这些抗氧化剂可以分别单独使用或将2种以上组合使用。
本发明的辐射敏感树脂组合物中的抗氧化剂(D)的含量相对于脂环式烯烃聚合物(A)100重量份,优选为0.1~15重量份、更优选为1~8重量份。抗氧化剂的含量在上述范围时,可使所得树脂膜的耐光性及耐热性更为良好。
(其它配合剂)
另外,本发明的辐射敏感树脂组合物中也可以进一步含有溶剂。作为溶剂,没有特殊限定,可列举作为树脂组合物的溶剂而公知的溶剂,可列举例如:丙酮、甲乙酮、环戊酮、2-己酮、3-己酮、2-庚酮、3-庚酮、4-庚酮、2-辛酮、3-辛酮、4-辛酮等直链的酮类;正丙醇、异丙醇、正丁醇、环己醇等醇类;乙二醇二甲基醚、乙二醇二乙基醚、二氧杂环己烷等醚类;乙二醇单甲基醚、乙二醇单乙基醚等醇醚类;甲酸丙酯、甲酸丁酯、乙酸丙酯、乙酸丁酯、丙酸甲酯、丙酸乙酯、丁酸甲酯、丁酸乙酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯等酯类;溶纤剂乙酸酯、甲基溶纤剂乙酸酯、乙基溶纤剂乙酸酯、丙基溶纤剂乙酸酯、丁基溶纤剂乙酸酯等溶纤剂酯类;丙二醇、丙二醇单甲基醚、丙二醇单甲基醚乙酸酯、丙二醇单乙基醚乙酸酯、丙二醇单丁基醚等丙二醇类;二乙二醇单甲基醚、二乙二醇单乙基醚、二乙二醇二甲基醚、二乙二醇二乙基醚、二乙二醇甲基乙基醚等二乙二醇类;γ-丁内酯、γ-戊内酯、γ-己内酯、γ-辛内酯等饱和γ-内酯类;三氯乙烯等卤代烃类;甲苯、二甲苯等芳香族烃类;二甲基乙酰胺、二甲基甲酰胺、N-甲基乙酰胺等极性溶剂等。这些溶剂可以单独使用,也可以组合使用2种以上。溶剂的含量相对于脂环式烯烃聚合物(A)100重量份,优选为10~10000重量份、更优选为50~5000重量份、进一步优选为100~1000重量份的范围。需要说明的是,在使辐射敏感树脂组合物中含有溶剂的情况下,溶剂通常在树脂膜形成后被除去。
另外,只要在不破坏本发明的效果的范围内,本发明的辐射敏感树脂组合物中还可以根据需要而含有表面活性剂、具有酸性基团或热潜在性酸性基团的化合物、偶联剂或其衍生物、增敏剂、碱性化合物、光稳定剂、消泡剂、颜料、染料、填料等其它配合剂;等等。这些中,例如偶联剂或其衍生物、增敏剂、光稳定剂,可使用在日本特开2011-75609号公报中记载的那些等。
表面活性剂是出于防止条纹(涂布条痕)等的目的而使用的。作为表面活性剂,可列举例如:有机硅系表面活性剂、氟系表面活性剂、聚氧化烯系表面活性剂、甲基丙烯酸共聚物系表面活性剂、丙烯酸共聚物系表面活性剂等。
作为有机硅系表面活性剂,可列举例如:“SH28PA”、“SH29PA”、“SH30PA”、“ST80PA”、“ST83PA”、“ST86PA”、“SF8416”、“SH203”、“SH230”、“SF8419”、“SF8422”、“FS1265”、“SH510”、“SH550”、“SH710”、“SH8400”、“SF8410”、“SH8700”、“SF8427”(以上由TorayDowCorning株式会社制)、商品名“KP-321”、“KP-323”、“KP-324”、“KP-340”、“KP-341”(以上由信越化学工业株式会社制)、商品名“TSF400”、“TSF401”、“TSF410”、“TSF4440”、“TSF4445”、“TSF4450”、“TSF4446”、“TSF4452”、“TSF4460”(以上由MomentivePerformanceMaterials公司制)、商品名“BYK300”、“BYK301”、“BYK302”、“BYK306”、“BYK307”、“BYK310”、“BYK315”、“BYK320”、“BYK322”、“BYK323”、“BYK331”、“BYK333”、“BYK370”“BYK375”、“BYK377”、“BYK378”(以上由BYKJapan公司制)等。
作为氟系表面活性剂,可列举例如:Fluorinert“FC-430”、“FC-431”(以上由Sumitomo3M株式会社制)、Surflon“S-141”、“S-145”、“S-381”、“S-393”(以上由旭硝子株式会社制)、EFTOP(注册商标)“EF301”、“EF303”、“EF351”、“EF352”(以上由株式会社Jemco制)、Megafac(注册商标)“F171”、“F172”、“F173”、“R-30”(以上由DIC株式会社制)等。
作为聚氧化烯系表面活性剂,可列举例如:聚氧乙烯月桂基醚、聚氧乙烯硬脂基醚、聚氧乙烯油基醚、聚氧乙烯辛基苯基醚、聚氧乙烯壬基苯基醚等聚氧乙烯烷基醚类、聚乙二醇二月桂酸酯、聚乙二醇二硬脂酸酯等聚氧乙烯二烷基酯类等。
这些表面活性剂可以分别单独使用或将2种以上组合使用。
本发明的辐射敏感树脂组合物中的表面活性剂的含量相对于脂环式烯烃聚合物(A)100重量份,优选为0.01~0.5重量份、更优选为0.02~0.2重量份。表面活性剂的含量在上述范围时,可进一步提高条纹(涂布条痕)的防止效果。
具有酸性基团或热潜在性酸性基团的化合物只要是具有酸性基团或通过加热而产生酸性基团的热潜在性酸性基团的化合物即可,没有特殊限定,但优选为脂肪族化合物、芳香族化合物、杂环化合物,进一步优选为芳香族化合物、杂环化合物。
这些具有酸性基团或热潜在性酸性基团的化合物可以分别单独使用或将2种以上组合使用。通过配合具有酸性基团或热潜在性酸性基团的化合物,可以进一步提高使用本发明的辐射敏感树脂组合物而得到的树脂膜在烧制后的形状保持性。
具有酸性基团的化合物的酸性基团的个数没有特殊限定,但优选具有2个以上酸性基团。酸性基团相互可以相同也可以不同。
作为酸性基团,只要为酸性的官能团即可,作为其具体例,可列举磺酸基、磷酸基等强酸性基团;羧基、硫羟基及羧基亚甲基硫基等弱酸性基团。其中,优选羧基、硫羟基或羧基亚甲基硫基,特别优选羧基。另外,在这些酸性基团中,优选酸解离常数pKa为3.5以上且5.0以下范围的酸性基团。需要说明的是,酸性基团为2个以上的情况下,将第一解离常数pKa1作为酸解离常数,优选第一解离常数pKa1在上述范围。另外,pKa是在稀薄水溶液条件下测定酸解离常数Ka=[H3O+][B-]/[BH]、并按照pKa=-logKa求出的。这里,BH表示有机酸,B-表示有机酸的共轭碱。需要说明的是,就pKa的测定方法而言,例如可以使用pH计测定氢离子浓度、由该物质的浓度和氢离子浓度算出。
另外,具有酸性基团的化合物也可以具有酸性基团以外的取代基。
作为这样的取代基,除烷基、芳基等烃基之外,可列举:卤原子;烷氧基、芳氧基、酰氧基、杂环氧基;被烷基或芳基或杂环基取代的氨基、酰氨基、脲基、氨磺酰基氨基、烷氧基羰基氨基、芳氧基羰基氨基;烷硫基、芳硫基、杂环硫基;等等不具有质子的极性基团、被这些不具有质子的极性基团取代的烃基等。
作为这样的具有酸性基团的化合物的具体例,可列举:甲酸、乙酸、丙酸、丁酸、戊酸、己酸、庚酸、辛酸、壬酸、癸酸、羟基乙酸、甘油酸、乙二酸(也称为“草酸”)、丙二酸(也称为“甜菜酸”)、丁二酸(也称为“琥珀酸”)、戊二酸、己二酸(也称为“肥酸”)、1,2-环己烷二羧酸、2-氧代丙酸、2-羟基丁二酸、2-羟基丙烷三羧酸、巯基琥珀酸、二巯基琥珀酸、2,3-二巯基-1-丙醇、1,2,3-三巯基丙烷、2,3,4-三巯基-1-丁醇、2,4-二巯基-1,3-丁二醇、1,3,4-三巯基-2-丁醇、3,4-二巯基-1,2-丁二醇、1,5-二巯基-3-硫杂戊烷等脂肪族化合物;
苯甲酸、对羟基苯羧酸、邻羟基苯羧酸、2-萘羧酸、甲基苯甲酸、二甲基苯甲酸、三甲基苯甲酸、3-苯基丙酸、二羟基苯甲酸、二甲氧基苯甲酸、苯-1,2-二羧酸(也称为“邻苯二甲酸”)、苯-1,3-二羧酸(也称为“间苯二甲酸”)、苯-1,4-二羧酸(也称为“对苯二甲酸”)、苯-1,2,3-三羧酸、苯-1,2,4-三羧酸、苯-1,3,5-三羧酸、苯六羧酸、联苯-2,2’-二羧酸、2-(羧基甲基)苯甲酸、3-(羧基甲基)苯甲酸、4-(羧基甲基)苯甲酸、2-(羧基羰基)苯甲酸、3-(羧基羰基)苯甲酸、4-(羧基羰基)苯甲酸、2-巯基苯甲酸、4-巯基苯甲酸、双酚酸、2-巯基-6-萘羧酸、2-巯基-7-萘羧酸、1,2-二巯基苯、1,3-二巯基苯、1,4-二巯基苯、1,4-萘二硫醇、1,5-萘二硫醇、2,6-萘二硫醇、2,7-萘二硫醇、1,2,3-三巯基苯、1,2,4-三巯基苯、1,3,5-三巯基苯、1,2,3-三(巯基甲基)苯、1,2,4-三(巯基甲基)苯、1,3,5-三(巯基甲基)苯、1,2,3-三(巯基乙基)苯、1,2,4-三(巯基乙基)苯、1,3,5-三(巯基乙基)苯等芳香族化合物;
烟酸、异烟酸、2-糠酸、吡咯-2,3-二羧酸、吡咯-2,4-二羧酸、吡咯-2,5-二羧酸、吡咯-3,4-二羧酸、咪唑-2,4-二羧酸、咪唑-2,5-二羧酸、咪唑-4,5-二羧酸、吡唑-3,4-二羧酸、吡唑-3,5-二羧酸等包含氮原子的五元杂环化合物;噻吩-2,3-二羧酸、噻吩-2,4-二羧酸、噻吩-2,5-二羧酸、噻吩-3,4-二羧酸、噻唑-2,4-二羧酸、噻唑-2,5-二羧酸、噻唑-4,5-二羧酸、异噻唑-3,4-二羧酸、异噻唑-3,5-二羧酸、1,2,4-噻二唑-2,5-二羧酸、1,3,4-噻二唑-2,5-二羧酸、3-氨基-5-巯基-1,2,4-噻二唑、2-氨基-5-巯基-1,3,4-噻二唑、3,5-二巯基-1,2,4-噻二唑、2,5-二巯基-1,3,4-噻二唑、3-(5-巯基-1,2,4-噻二唑-3-基硫基)琥珀酸、2-(5-巯基-1,3,4-噻二唑-2-基硫基)琥珀酸、(5-巯基-1,2,4-噻二唑-3-基硫基)乙酸、(5-巯基-1,3,4-噻二唑-2-基硫基)乙酸、3-(5-巯基-1,2,4-噻二唑-3-基硫基)丙酸、2-(5-巯基-1,3,4-噻二唑-2-基硫基)丙酸、3-(5-巯基-1,2,4-噻二唑-3-基硫基)琥珀酸、2-(5-巯基-1,3,4-噻二唑-2-基硫基)琥珀酸、4-(3-巯基-1,2,4-噻二唑-5-基)硫代丁烷磺酸、4-(2-巯基-1,3,4-噻二唑-5-基)硫代丁烷磺酸等包含氮原子和硫原子的五元杂环化合物;
吡啶-2,3-二羧酸、吡啶-2,4-二羧酸、吡啶-2,5-二羧酸、吡啶-2,6-二羧酸、吡啶-3,4-二羧酸、吡啶-3,5-二羧酸、哒嗪-3,4-二羧酸、哒嗪-3,5-二羧酸、哒嗪-3,6-二羧酸、哒嗪-4,5-二羧酸、嘧啶-2,4-二羧酸、嘧啶-2,5-二羧酸、嘧啶-4,5-二羧酸、嘧啶-4,6-二羧酸、吡嗪-2,3-二羧酸、吡嗪-2,5-二羧酸、吡啶-2,6-二羧酸、三嗪-2,4-二羧酸、2-二乙基氨基-4,6-二巯基均三嗪、2-二丙基氨基-4,6-二巯基均三嗪、2-二丁基氨基-4,6-二巯基均三嗪、2-苯胺基-4,6-二巯基均三嗪、2,4,6-三巯基均三嗪等包含氮原子的六元杂环化合物。
这些化合物中,从可以进一步提高所得固化膜的密合性的观点出发,优选酸性基团的个数为2个以上。
热潜在性酸性基团只要是通过加热而产生酸性官能团的基团即可,作为其具体例,可列举:锍盐基、苯并噻唑鎓盐基、铵盐基、鏻盐基、封端羧酸基等,这些中,优选锍盐基,例如,可使用六氟化磷系、六氟化锑系的锍盐基。作为具有这样的锍盐基的化合物,可使用例如SANEIDSI系列(100L、110L、150、180L,三新化学工业公司制)等。
本发明的辐射敏感树脂组合物中的具有酸性基团或热潜在性酸性基团的化合物的含量相对于脂环式烯烃聚合物(A)100重量份,优选为0.1~50重量份、更优选为1~45重量份、进一步优选为2~40重量份、进一步优选为3~30重量份的范围。通过使具有酸性基团或热潜在性酸性基团的化合物的使用量在上述范围,可以更为恰当地提高所得树脂膜的烧制后的形状保持性。
碱性化合物可以从在化学放大型抗蚀剂中被使用的化合物中任意选择使用。可列举例如:脂肪族胺、芳香族胺、杂环式胺、及氢氧化季铵等。
作为脂肪族胺,可列举例如:三甲基胺、二乙基胺、三乙基胺、二正丙基胺、三正丙基胺、二正戊基胺、三正戊基胺、二乙醇胺、三乙醇胺、二环己基胺、二环己基甲基胺等。
作为芳香族胺,可列举例如:苯胺、苄基胺、N,N-二甲基苯胺、二苯基胺等。
作为杂环式胺,可列举例如:吡啶、2-甲基吡啶、4-甲基吡啶、2-乙基吡啶、4-乙基吡啶、2-苯基吡啶、4-苯基吡啶、N-甲基-4-苯基吡啶、4-二甲基氨基吡啶、咪唑、苯并咪唑、4-甲基咪唑、2-苯基苯并咪唑、2,4,5-三苯基咪唑、烟碱、烟酸、烟酰胺、喹啉、8-羟基喹啉、吡嗪、吡唑、哒嗪、嘌呤、吡咯烷、哌啶、哌嗪、吗啉、4-甲基吗啉、1,5-二氮杂双环[4.3.0]-5-壬烯、1,8-二氮杂双环[5.3.0]-7-十一碳烯等。
作为氢氧化季铵,可列举例如:四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、四正丁基氢氧化铵、四正己基氢氧化铵等。
这些碱性化合物可以分别单独使用或将2种以上组合使用。
本发明的辐射敏感树脂组合物中的碱性化合物的含量相对于脂环式烯烃聚合物(A)100重量份,优选为0.001~1重量份、更优选为0.003~0.3重量份。碱性化合物的含量在上述范围时,可以进一步提高辐射敏感树脂组合物的保存稳定性。
本发明的辐射敏感树脂组合物的制备方法没有特殊限定,利用公知的方法将构成辐射敏感树脂组合物的各成分混合即可。
混合的方法没有特殊限定,优选将在溶剂中溶解或分散构成辐射敏感树脂组合物的各成分而得到的溶液或分散液进行混合。由此,以溶液或分散液的形式得到辐射敏感树脂组合物。
在溶剂中溶解或分散构成辐射敏感树脂组合物的各成分的方法按照常规方法即可。具体而言,可采用:使用搅拌子和磁力搅拌器进行搅拌的方法;使用高速均质机、分散器、行星搅拌机、双螺杆搅拌机、球磨机、三辊研磨机等进行的方法。另外,在溶剂中溶解或分散各成分之后,例如,可使用孔径为0.5μm左右的过滤器等进行过滤。
(电子部件)
接着,针对本发明的电子部件进行说明。本发明的电子部件具有由上述本发明的辐射敏感树脂组合物形成的树脂膜。
作为本发明的电子部件,可列举例如:具有在基板上安装有各种元件的构成的电子部件、或通过MEMS技术而形成的各种器件等,具体可列举:有源矩阵基板、有机EL元件基板、集成电路元件基板、固体摄像元件基板、LED(发光二极管)元件、MEMS镜器件等,从形成由上述本发明的辐射敏感树脂组合物形成的树脂膜所带来的特性提高效果特别显著的观点出发,优选在其表面形成金属布线图案后使用。具体而言,由本发明的辐射敏感树脂组合物形成的树脂膜可适宜用于LED(发光二极管)元件的层间绝缘膜用途、或MEMS镜器件的保护膜用途、触摸传感器用绝缘膜用途、芯片尺寸封装用保护膜用途、多层布线印刷电路板的再布线层用绝缘膜用途、MEMS结构体用途,因此可适宜用作上述各电子部件。
在本发明的电子部件中,作为形成由本发明的辐射敏感树脂组合物形成的树脂膜的方法,没有特殊限定,可以采用例如涂布法、膜叠层法等方法。
涂布法例如是在涂布辐射敏感树脂组合物之后进行加热干燥而除去溶剂的方法。作为涂布辐射敏感树脂组合物的方法,可以采用例如:喷雾法、旋涂法、辊涂法、模涂法、刮涂法、旋转涂布法、棒涂法、丝网印刷法等各种方法。加热干燥条件根据各成分的种类、配合比例而不同,但通常在30~150℃、优选60~120℃下进行通常0.5~90分钟、优选1~60分钟、更优选1~30分钟即可。
膜叠层法是在树脂膜、金属膜等B阶膜形成用基材上涂布辐射敏感树脂组合物之后通过加热干燥除去溶剂而得到B阶膜,接着将该B阶膜叠层的方法。加热干燥条件可以根据各成分的种类、配合比例而适当选择,加热温度通常为30~150℃,加热时间通常为0.5~90分钟。膜叠层可以使用加压层压机、压机、真空层压机、真空压机、辊层压机等压合机进行。
作为树脂膜的厚度,没有特殊限定,根据用途适当设定即可,但优选为0.1~100μm、更优选为0.5~50μm、进一步优选为0.5~30μm。
接着,对于这样形成的树脂膜,以给定的图案进行图案化。作为对树脂膜进行图案化的方法,可列举例如下述方法等:使用本发明的辐射敏感树脂组合物形成图案化前的树脂膜,对图案化前的树脂膜照射活性放射线而形成潜像图案,然后使显影液与具有潜像图案的树脂膜接触,由此将图案显现化。
作为活性放射线,只要是能够使辐射敏感树脂组合物中含有的锍盐系光产酸剂(B)活化、使包含锍盐系光产酸剂(B)的辐射敏感树脂组合物的碱可溶性发生变化即可,没有特别限定。具体而言,可以使用紫外线、g射线、i射线等单一波长的紫外线、KrF准分子激光、ArF准分子激光等光线;电子束这样的粒子束等。作为将这些活性放射线选择性地以图案状进行照射从而形成潜像图案的方法,按照常规方法即可,可以使用例如:利用缩小投影曝光装置等隔着所希望的掩模图案照射紫外线、g射线、i射线、KrF准分子激光、ArF准分子激光等光线的方法,或利用电子束等粒子束进行描绘的方法等。使用光线作为活性放射线的情况下,可以为单一波长光,也可以为混合波长光。照射条件可根据使用的活性放射线适当选择,例如,使用波长200~450nm的光线的情况下,照射量通常为10~1,000mJ/cm2、优选为50~500mJ/cm2的范围,根据照射时间和照度而确定。在这样地照射活性放射线之后,根据需要对树脂膜在60~140℃左右的温度下加热处理1~10分钟左右。
接着,对形成于图案化前的树脂膜的潜像图案进行显影而使其表观化。作为显影液,通常使用碱性化合物的水性溶液。作为碱性化合物,可以使用例如:碱金属盐、胺、铵盐。碱性化合物可以为无机化合物,也可以为有机化合物。作为这些化合物的具体例,可列举:氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、硅酸钠、偏硅酸钠等碱金属盐;氨水;乙基胺、正丙基胺等伯胺;二乙基胺、二正丙基胺等仲胺;三乙胺、甲基二乙基胺等叔胺;四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵、胆碱等季铵盐;二甲基乙醇胺、三乙醇胺等醇胺;吡咯、哌啶、1,8-二氮杂双环[5.4.0]十一碳-7-烯、1,5-二氮杂双环[4.3.0]壬-5-烯、N-甲基吡咯烷酮等环状胺类;等等。这些碱性化合物可以分别单独使用、或将2种以上组合使用。
作为碱性化合物的水性溶液中使用的水性介质,可使用:水;甲醇、乙醇等水溶性有机溶剂。碱水性溶液可以为添加了适当量的表面活性剂等的溶液。
作为使显影液与具有潜像图案的树脂膜接触的方法,可使用例如:搅炼法、喷雾法、浸渍法等方法。显影在通常0~100℃、优选5~55℃、更优选10~30℃的范围、在通常30~180秒钟的范围内适当选择。
对于这样地形成了目标图案的树脂膜,根据需要,为了除去显影残渣,可以用冲洗液进行冲洗。冲洗处理之后,利用压缩空气、压缩氮气将残存的冲洗液除去。
进一步,根据需要,也可以在显影后对树脂膜进行加热。作为加热方法,可列举例如在热板、烘箱内对电子部件进行加热的方法。温度通常为100~300℃、优选为120~200℃的范围。
对于这样形成的树脂膜,可以在进行了图案化之后进行交联反应。这样的交联根据辐射敏感树脂组合物中含有的交联剂(C)的种类选择适当方法即可,通常通过加热进行。加热方法可以使用例如热板、烘箱等进行。加热温度通常为180~250℃,加热时间根据树脂膜的面积、厚度、使用设备等而适当选择,例如在使用热板的情况下,通常为5~60分钟,在使用烘箱的情况下,通常为30~90分钟的范围。加热可以根据需要在不活泼气体氛围中进行。作为不活泼气体,只要是不含有氧、且不会使树脂膜氧化的气体即可,可列举例如氮、氩、氦、氖、氙、氪等。这些中,优选氮和氩,特别优选氮。特别是,适宜采用氧含量为0.1体积%以下、优选0.01体积%以下的不活泼气体、特别适宜采用氮。这些不活泼气体可以分别单独使用、或将2种以上组合使用。
这样,可以制造出具备经过了图案化的树脂膜的电子部件。
需要说明的是,在本发明的电子部件中,根据电子部件的种类不同,在这样地形成经过了图案化的树脂膜之后,为了进一步进行其它构成元件(例如,金属布线图案、ITO电极、取向膜等)的烧结,可进行在大气中等氧化气体氛围中的烧制。此时的烧制温度通常为150~350℃、优选为180~300℃,更优选为200~250℃。需要说明的是,此时,使用本发明的辐射敏感树脂组合物得到的经过了图案化的树脂膜也同样会在氧化气体氛围中被烧制。但另一方面,由于这样地形成的树脂膜是使用上述本发明的辐射敏感树脂组合物而得到的膜,因此在这样地经过在氧化性气体氛围中进行烧制之后也能够实现高透明性,因此,可适用于其后需要形成其它构成元件(例如,金属布线图案、ITO电极、取向膜等)的电子部件用途,具体包括LED(发光二极管)元件、MEMS镜器件、有源矩阵基板、有机EL元件基板等各种电子部件用途。除此之外,使用本发明的辐射敏感树脂组合物而得到的树脂膜还是曝光灵敏度高的膜,因此能够降低在制造时放射线的照射量,由此可使生产性提高。此外,由于使用本发明的辐射敏感树脂组合物而得到的树脂膜相对于金属的耐腐蚀性优异,因此能够高精度且高可靠性地形成微细的金属布线图案,由此还可以有助于电子部件的小型/高性能化。
实施例
以下,结合实施例及比较例对本发明更具体地进行说明。只要没有特殊说明,各例中的“份”为重量基准。
需要说明的是,各特性的定义及评价方法如下所述。
<曝光灵敏度>
利用旋涂法在硅晶片基板上涂布辐射敏感性树脂组合物,使用热板于90℃进行2分钟加热干燥(预烘烤),形成了膜厚2μm的树脂膜。接着,为了对树脂膜进行图案化,经由梯级板掩模(steptabletmask)、使用PLA501F(Canon公司制)、从0mJ/cm2至500mJ/cm2以10mJ/cm2幅度改变曝光量,由此进行了曝光工序。接着,使用热板于130℃进行1分钟加热,使用0.4重量%四甲基氢氧化铵水溶液于25℃进行100秒钟显影处理之后,利用超纯水冲洗30秒钟,由此得到了由具有曝光量不同的曝光图案的树脂膜和硅晶片基板构成的叠层体。
然后,计算出使显影后的膜厚达到涂布后的膜厚的95%以上的曝光量,并求出其作为曝光灵敏度。该曝光量越低,越能够以低能量或短时间形成图案,因此越优选。
<耐热透明性>
利用旋涂法在玻璃基板(Corning公司、制品名Corning1737)上涂布辐射敏感性树脂组合物,使用热板于90℃进行2分钟加热干燥(预烘烤),形成了膜厚2μm的树脂膜。接着,针对该树脂膜,以在上述曝光灵敏度的评价中求出的曝光量在空气中进行了曝光工序。接着,使用热板于130℃进行1分钟加热,使用0.4重量%四甲基氢氧化铵水溶液于25℃进行100秒钟浸渍处理之后,利用超纯水进行了30秒钟洗涤。接着,进行了使用烘箱在大气氛围中于230℃加热30分钟的氧化性气体氛围中的后烘烤,由此得到了由形成有树脂膜的玻璃基板构成的试验用试样。接着,针对这样得到的进行了氧化性气体氛围中的烘烤后的试验用试样,使用分光光度计V-560(日本分光公司制)在400nm~700nm的波长下进行测定,并利用400nm波长下的测定结果求出了树脂膜的透光率。需要说明的是,树脂膜的透光率是以未附着树脂膜的玻璃基板为空白、以将树脂膜的厚度设为2μm的情况下的换算值而算出的。
<耐金属腐蚀性>
使用溅射装置在玻璃基板(Corning公司、制品名Corning1737)上形成了膜厚100nm的铝薄膜。接着,使用光致抗蚀剂进行铝薄膜的图案化,制作了Al布线宽度10μm、布线间距离10μm的梳型电极基板。利用旋涂法在梳型电极基板上涂布辐射敏感性树脂组合物,使用热板于90℃进行2分钟加热干燥(预烘烤),形成了膜厚2μm的树脂膜。接着,以在上述曝光灵敏度的评价中求出的曝光量在空气中进行了曝光工序。接着,使用热板于130℃进行了1分钟加热。然后,针对该树脂膜,使用0.4重量%四甲基氢氧化铵水溶液于25℃进行100秒钟浸渍处理之后,利用超纯水进行了30秒钟洗涤。接着,进行了使用烘箱在大气氛围中于230℃加热30分钟的后烘烤,由此得到了形成有树脂膜的耐金属腐蚀性试验用试样。然后,将所得耐金属腐蚀性试验用试样在施加15V电压的状态下加入温度60℃、湿度90%的恒温恒湿槽中,在100小时后、200小时后分别取出试样并利用光学显微镜对试样进行观察,并利用以下基准进行了耐金属腐蚀性的评价。
A:直到投入恒温恒湿槽200小时后,铝布线未发生变化。
B:直到投入恒温恒湿槽100小时后,铝布线未发生变化,但在200小时后,确认到了铝布线的腐蚀。
C:在投入恒温恒湿槽100小时后,确认到了铝布线的腐蚀。
《合成例1》
<具有酸性基团的脂环式烯烃聚合物(A-1)的制备>
在经过了氮气置换的玻璃制耐压反应器中进料由N-苯基双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺(NBPI)40摩尔%及4-羟基羰基四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-9-烯(TCDC)60摩尔%构成的单体混合物100份、1,5-己二烯2.8份、苯亚甲基(1,3-二基咪唑啉-2-亚基)(三环己基膦)二氯合钌(利用在Org.Lett.,第1卷,953页,1999年中记载的方法合成得到)0.02份、及二乙二醇乙基甲基醚200份,进行搅拌的同时于80℃进行4小时反应,得到了聚合反应液。
然后,将得到的聚合反应液放入高压釜中,在150℃、氢压4MPa下搅拌5小时以进行氢化反应,得到了包含脂环式烯烃聚合物(A-1)的聚合物溶液。所得脂环式烯烃聚合物(A-1)的聚合转化率为99.8%、聚苯乙烯换算重均分子量为5,098、数均分子量为3,227、分子量分布为1.58、加氢率为99.9%。另外,所得脂环式烯烃聚合物(A-1)的聚合物溶液的固体成分浓度为34.4重量%。
《实施例1》
将合成例1中得到的脂环式烯烃聚合物(A-1)的聚合物溶液290.7份(以脂环式烯烃聚合物(A-1)计100份)、作为锍盐系光产酸剂(B)的4-(苯硫基)苯基二苯基锍三(五氟乙基)三氟磷酸盐(商品名“CPI-210S”、SANAPRO公司制、下述式(4)所示的化合物)1份、作为交联剂(C)的3,4-环氧环己烯基甲基-3’,4’-环氧环己烯羧酸酯(商品名“CELLOXIDE2021P”、大赛璐化学工业公司制)80份、作为抗氧化剂(D)的季戊四醇四[3-(3,5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酸酯](商品名“Irganox1010”、BASF公司制)6份、及作为溶剂的乙二醇二甲基醚200份混合并使它们溶解之后,利用孔径0.45μm的聚四氟乙烯制过滤器进行过滤,制备了辐射敏感树脂组合物。
[化学式5]
然后,使用上述得到的辐射敏感树脂组合物进行了曝光灵敏度、耐热透明性及耐金属耐腐蚀性的各评价。结果如表1所示。
《实施例2》
除了将作为锍盐系光产酸剂(B)的4-(苯硫基)苯基二苯基锍三(五氟乙基)三氟磷酸盐的配合量由1份变更为5份以外,与实施例1同样地得到了辐射敏感树脂组合物,并进行了同样的评价。结果如表1所示。
《实施例3》
除了将作为锍盐系光产酸剂(B)的4-(苯硫基)苯基二苯基锍三(五氟乙基)三氟磷酸盐的配合量由1份变更为10份以外,与实施例1同样地得到了辐射敏感树脂组合物,并进行了同样的评价。结果如表1所示。
《实施例4》
除了未配合作为抗氧化剂(D)的季戊四醇四[3-(3,5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酸酯]以外,与实施例2同样地得到了辐射敏感树脂组合物,并进行了同样的评价。结果如表1所示。
《实施例5》
作为交联剂(C),代替3,4-环氧环己烯基甲基-3’,4’-环氧环己烯羧酸酯80份而使用了环氧化丁烷四羧酸四(3-环己烯基甲基)酯修饰ε-己内酯(脂肪族环状四官能性的环氧树脂、商品名“EPOLEADGT401”、大赛璐化学工业公司制)80份,除此以外,与实施例2同样地得到了辐射敏感树脂组合物,并进行了同样的评价。结果如表1所示。
《实施例6》
作为交联剂(C),代替3,4-环氧环己烯基甲基-3’,4’-环氧环己烯羧酸酯80份而使用了3-乙基-3{[(3-乙基氧杂环丁烷-3-基)甲氧基]甲基}氧杂环丁烷(商品名“ARONOxetanOXT-221”、东亚合成公司制)80份,除此以外,与实施例2同样地得到了辐射敏感树脂组合物,并进行了同样的评价。结果如表1所示。
《实施例7》
将作为交联剂(C)的3,4-环氧环己烯基甲基-3’,4’-环氧环己烯羧酸酯的配合量由80份变更为10份,并且,作为交联剂(C),进一步配合了3-乙基-3{[(3-乙基氧杂环丁烷-3-基)甲氧基]甲基}氧杂环丁烷(商品名“ARONOxetanOXT-221”、东亚合成公司制)70份,除此以外,与实施例2同样地得到了辐射敏感树脂组合物,并进行了同样的评价。结果如表1所示。
《比较例1》
作为锍盐系光产酸剂(B),代替4-(苯硫基)苯基二苯基锍三(五氟乙基)三氟磷酸盐5份而使用了4-(苯硫基)苯基二苯基锍六氟磷酸盐(商品名“CPI-100P”、SANAPRO公司制)5份,除此以外,与实施例2同样地得到了辐射敏感树脂组合物,并进行了同样的评价。结果如表1所示。
《比较例2》
作为锍盐系光产酸剂(B),代替4-(苯硫基)苯基二苯基锍三(五氟乙基)三氟磷酸盐5份而使用了甲苯基异丙苯基碘鎓四(五氟苯基)硼酸盐(商品名“RHODORSILPHOTOINITIATOR2074”、Rhodia公司制)5份,除此以外,与实施例2同样地得到了辐射敏感树脂组合物,并进行了同样的评价。结果如表1所示。
《比较例3》
作为锍盐系光产酸剂(B),代替4-(苯硫基)苯基二苯基锍三(五氟乙基)三氟磷酸盐5份而使用了4-(2-氯-4-苯甲酰基苯硫基)苯基双(4-氟苯基)锍六氟锑酸盐)(商品名“AdekaoptomerSP-172”、ADEKA公司制)5份,除此以外,与实施例2同样地得到了辐射敏感树脂组合物,并进行了同样的评价。结果如表1所示。
如表1所示,使用含有具有酸性基团的脂环式烯烃聚合物(A)、上述通式(1)所示的锍盐系光产酸剂(B)及交联剂(C)的辐射敏感树脂组合物而得到的树脂膜,曝光灵敏度高、耐热透明性(在氧化性气体氛围中进行烧制之后的透明性)及耐金属腐蚀性优异(实施例1~7)。
另一方面,代替上述通式(1)所示的锍盐系光产酸剂(B)而使用阴离子结构不同的锍盐的情况下、或使用具有不同化学结构的锍盐类化合物的情况下,所得树脂膜的耐金属性不良(比较例1、3)。
另外,在使用芳香族碘鎓络盐系的化合物作为光产酸剂的情况下,所得树脂膜的耐热透明性不良(比较例2)。

Claims (10)

1.一种辐射敏感树脂组合物,其含有:
具有酸性基团的脂环式烯烃聚合物(A)、
下述通式(1)所示的锍盐系光产酸剂(B)、以及
交联剂(C),
所述通式(1)中,
R1、R2、R3各自独立地表示碳原子数6~30的芳基、碳原子数4~30的杂环基、碳原子数1~30的烷基、碳原子数2~30的烯基或碳原子数2~30的炔基,且这些基团任选具有取代基,
a为1~5的整数。
2.根据权利要求1所述的辐射敏感树脂组合物,其中,所述通式(1)中,R1、R2、R3为碳原子数6~30的芳基。
3.根据权利要求2所述的辐射敏感树脂组合物,其中,所述通式(1)中,R1、R2、R3为苯基。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的辐射敏感树脂组合物,其中,所述通式(1)中,a为3。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的辐射敏感树脂组合物,其还含有抗氧化剂(D)。
6.根据权利要求1~5中任一项所述的辐射敏感树脂组合物,其中,相对于所述具有酸性基团的脂环式烯烃聚合物(A)100重量份,所述锍盐系光产酸剂(B)的含有比例为1~15重量份。
7.根据权利要求1~6中任一项所述的辐射敏感树脂组合物,其中,所述交联剂(C)为具有2个以上环氧基的化合物。
8.根据权利要求1~7中任一项所述的辐射敏感树脂组合物,其中,所述交联剂(C)为具有2个以上氧杂环丁基的化合物。
9.根据权利要求7或8所述的辐射敏感树脂组合物,其中,所述交联剂(C)为具有2个以上环氧基的化合物及具有2个以上氧杂环丁基的化合物。
10.一种电子部件,其具备由权利要求1~9中任一项所述的辐射敏感树脂组合物形成的树脂膜。
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