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CN105393167A - 具有横向电场驱动型液晶表示元件用液晶取向膜的基板的制造方法 - Google Patents

具有横向电场驱动型液晶表示元件用液晶取向膜的基板的制造方法 Download PDF

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CN105393167A CN201480040018.2A CN201480040018A CN105393167A CN 105393167 A CN105393167 A CN 105393167A CN 201480040018 A CN201480040018 A CN 201480040018A CN 105393167 A CN105393167 A CN 105393167A
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Abstract

本发明提供以高效率被赋予取向控制能力、残影特性优异的横向电场驱动型液晶表示元件。本发明通过具有横向电场驱动型液晶表示元件用液晶取向膜的基板的制造方法而解决上述课题，其通过具备如下工序而得到被赋予了取向控制能力的前述液晶取向膜：[I]将聚合物组合物涂布在具有横向电场驱动用导电膜的基板上而形成涂膜的工序，所述聚合物组合物含有：(A)在特定的温度范围内表现出液晶性的感光性侧链型高分子、以及(B)有机溶剂；[II]对[I]中得到的涂膜照射偏振紫外线的工序；[III]将[II]中得到的涂膜进行加热的工序；以及[IV]将[III]中加热的涂膜冷却至不足该涂膜表面的玻璃化转变温度的温度后，再加热至该玻璃化转变温度以上的温度的工序。

Description

具有横向电场驱动型液晶表示元件用液晶取向膜的基板的制造方法
技术领域
本发明涉及具有横向电场驱动型液晶表示元件用液晶取向膜的基板的制造方法。更详细而言，涉及用于制造残影特性优异的液晶表示元件的新方法。
背景技术
液晶表示元件作为质量轻、截面薄且耗电低的表示装置是已知的，近年来被用于大型电视用途等，实现了显著的发展。液晶表示元件例如是利用具备电极的一对透明基板夹持液晶层而构成的。并且，在液晶表示元件中，包含有机材料的有机膜被用作液晶取向膜使液晶在基板之间呈现期望的取向状态。
即，液晶取向膜是液晶表示元件的构成部件，其形成在夹持液晶的基板的与液晶接触的表面，承担使液晶在该基板之间沿着特定方向取向这一作用。并且，对于液晶取向膜而言，除了使液晶沿着例如平行于基板的方向等特定方向取向这一作用之外，有时还要求对液晶预倾角进行控制这一作用。这种液晶取向膜的控制液晶取向的能力(以下称为取向控制能力。)通过对构成液晶取向膜的有机膜进行取向处理而被赋予。
作为用于赋予取向控制能力的液晶取向膜的取向处理方法，一直以来已知有刷磨法。刷磨法是指如下的方法：针对基板上的聚乙烯醇、聚酰胺、聚酰亚胺等的有机膜，用棉花、尼龙、聚酯等的布沿着恒定方向摩擦(刷磨)其表面，从而使液晶沿着摩擦方向(刷磨方向)取向。该刷磨法能够简便地实现较稳定的液晶取向状态，因此利用于以往的液晶表示元件的制造工艺。并且，作为液晶取向膜中使用的有机膜，主要选择耐热性等可靠性、电特性优异的聚酰亚胺系有机膜。
然而，对包含聚酰亚胺等的液晶取向膜的表面进行摩擦的刷磨法存在产尘、产生静电的问题。另外，由于近年来的液晶表示元件的高清晰化、相应基板上的电极或液晶驱动用切换能动元件所导致的凹凸，因此，无法用布均匀地摩擦液晶取向膜的表面、无法实现均匀的液晶取向。
因而，作为不进行刷磨的液晶取向膜的其它取向处理方法，积极地研究了光取向法。
光取向法有各种方法，通过直线偏振光或经准直的光而在构成液晶取向膜的有机膜内形成各向异性，根据该各向异性而使液晶进行取向。
作为主要的光取向法，已知有分解型的光取向法。该方法中，例如，对聚酰亚胺膜照射偏振紫外线，利用分子结构的紫外线吸收的偏振方向依赖性而发生各向异性的分解。并且，通过未分解而残留的聚酰亚胺使液晶进行取向(例如参照专利文献1)。
另外，作为其它光取向法，还已知有光交联型、光异构化型的光取向法。在光交联型的光取向法中，例如使用聚肉桂酸乙烯酯，照射偏振紫外线，使平行于偏振光的2个侧链的双键部分发生二聚反应(交联反应)。并且，使液晶沿着与偏振方向垂直的方向进行取向(例如参照非专利文献1)。在光异构化型的光取向法中，使用在侧链具有偶氮苯的侧链型高分子时，照射偏振紫外线，使平行于偏振光的侧链的偶氮苯部分发生异构化反应，使液晶沿着与偏振方向垂直的方向进行取向(例如参照非专利文献2)。
如上述例子那样，在利用光取向法对液晶取向膜进行取向处理的方法中，无需进行刷磨，不用担心产尘、产生静电。并且，即使针对表面具有凹凸的液晶表示元件的基板也能够实施取向处理，从而成为适合于工业生产工艺的液晶取向膜的取向处理方法。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特许第3893659号公报
非专利文献
非专利文献1：M.Shadtetal.,Jpn.J.Appl.Phys.31,2155(1992).
非专利文献2：K.Ichimuraetal.,Chem.Rev.100,1847(2000).
发明内容
发明要解决的问题
如上所述，与作为液晶表示元件的取向处理方法而一直以来进行工业利用的刷磨法相比，光取向法无需刷磨工序这一工序，因此具备明显的优点。并且，与刷磨所产生的取向控制能力基本固定的刷磨法相比，光取向法能够变更偏振光的照射量来控制取向控制能力。然而，在光取向法想要实现与利用刷磨法时的程度相同的取向控制能力的情况下，有时需要大量的偏振光照射量或者无法实现稳定的液晶取向。
例如，在上述专利文献1所述的分解型光取向法中，需要对聚酰亚胺膜照射60分钟的由功率500W的高压汞灯发出的紫外光等，需要长时间且大量的紫外线照射。另外，在二聚型、光异构化型光取向法的情况下，有时需要数J(焦耳)～数十J左右的大量紫外线照射。进而，在光交联型、光异构化型光取向法的情况下，液晶取向的热稳定性、光稳定性差，因此制成液晶表示元件时，担心发生取向不良、表示残影。尤其是，横向电场驱动型的液晶表示元件中，将液晶分子在面内进行切换，因此容易发生液晶驱动后的液晶取向偏移、由AC驱动引起的表示残影被视作明显的课题。
因此，对于光取向法而言，要求实现取向处理的高效率化、稳定的液晶取向，要求能够对液晶取向膜高效地赋予高取向控制能力的液晶取向膜、液晶取向剂、以及取向法。
本发明的目的在于，提供以高效率被赋予取向控制能力、残影特性优异的、具有横向电场驱动型液晶表示元件用液晶取向膜的基板以及具有该基板的横向电场驱动型液晶表示元件。本发明的目的还在于，提供可扩大能够实现液晶取向膜中的良好液晶取向性的偏振紫外线照射量的边界范围的具有液晶取向膜的基板的制造方法。
用于解决问题的方案
本发明人等为了实现上述课题而进行了深入研究，结果发现如下发明。
<1>一种具有横向电场驱动型液晶表示元件用液晶取向膜的基板的制造方法，其通过具备如下工序而得到被赋予了取向控制能力的前述液晶取向膜：
[I]将聚合物组合物涂布在具有横向电场驱动用导电膜的基板上而形成涂膜的工序，所述聚合物组合物含有：(A)在特定的温度范围内表现出液晶性的感光性侧链型高分子、以及(B)有机溶剂；
[II]对[I]中得到的涂膜照射偏振紫外线的工序；
[III]将[II]中得到的涂膜进行加热的工序；以及
[IV]将[III]中加热的涂膜冷却至不足该涂膜表面的玻璃化转变温度的温度后，再加热至该玻璃化转变温度以上的温度的工序。
<2>上述<1>中，[IV]工序中的涂膜的冷却温度可以是比作为(A)成分的侧链型高分子的玻璃化转变点温度(Tg)低10℃以上的温度。
<3>上述<1>或<2>中，紫外线照射后的涂膜的加热温度和冷却后的再加热温度可以是涂膜表面的玻璃化转变温度以上且不足涂膜表面的均质相转变温度的温度。
<4>上述<1>～<3>的任一者中，(A)成分可以具有会发生光交联、光异构化或光弗利斯重排的感光性侧链。
<5>上述<1>～<4>的任一者中，(A)成分可以具有选自由下述式(1)～(6)组成的组中的任一种感光性侧链。
式中，A、B、D各自独立地表示单键、-O-、-CH2-、-COO-、-OCO-、-CONH-、-NH-CO-、-CH＝CH-CO-O-或-O-CO-CH＝CH-；
S为碳数1～12的亚烷基，键合于它们的氢原子任选被卤素基团取代；
T为单键或碳数1～12的亚烷基，键合于它们的氢原子任选被卤素基团取代；
Y1表示选自1价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、吡咯环和碳数5～8的脂环式烃中的环，或者是选自这些取代基中的相同或不同的2～6个环借助键合基团B键合而成的基团，键合于它们的氢原子各自独立地任选被-COOR0(式中，R0表示氢原子或碳数1～5的烷基)、-NO2、-CN、-CH＝C(CN)2、-CH＝CH-CN、卤素基团、碳数1～5的烷基、或碳数1～5的烷氧基取代；
Y2为选自由2价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、吡咯环、碳数5～8的脂环式烃和它们的组合组成的组中的基团，键合于它们的氢原子各自独立地任选被-NO2、-CN、-CH＝C(CN)2、-CH＝CH-CN、卤素基团、碳数1～5的烷基、或碳数1～5的烷氧基取代；
R表示羟基、碳数1～6的烷氧基，或者表示与Y1相同的定义；
X表示单键、-COO-、-OCO-、-N＝N-、-CH＝CH-、-C≡C-、-CH＝CH-CO-O-或-O-CO-CH＝CH-，X的数量达到2时，X任选彼此相同或不同；
Cou表示香豆素-6-基或香豆素-7-基，键合于它们的氢原子各自独立地任选被-NO2、-CN、-CH＝C(CN)2、-CH＝CH-CN、卤素基团、碳数1～5的烷基、或碳数1～5的烷氧基取代；
q1和q2中的一者为1，另一者为0；
q3为0或1；
P和Q各自独立地为选自由2价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、吡咯环、碳数5～8的脂环式烃和它们的组合组成的组中的基团；其中，X为-CH＝CH-CO-O-、-O-CO-CH＝CH-时，-CH＝CH-所键合的一侧的P或Q为芳香环，P的数量达到2以上时，P任选彼此相同或不同，Q的数量达到2以上时，Q任选彼此相同或不同；
l1为0或1；
l2为0～2的整数；
l1和l2均为0时，T为单键时A也表示单键；
l1为1时，T为单键时B也表示单键；
H和I各自独立地为选自2价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、吡咯环和它们的组合中的基团。
<6>上述<1>～<4>的任一者中，(A)成分可以具有选自由下述式(7)～(10)组成的组中的任一种感光性侧链。
式中，A、B、D、Y1、X、Y2和R具有与上述相同的定义；
l表示1～12的整数；
m表示0～2的整数，m1、m2表示1～3的整数；
n表示0～12的整数(其中，n＝0时，B为单键)。
<7>上述<1>～<4>的任一者中，(A)成分可以具有选自由下述式(11)～(13)组成的组中的任一种感光性侧链。
式中，A、X、l、m、m1和R具有与上述相同的定义。
<8>上述<1>～<4>的任一者中，(A)成分可以具有下述式(14)或(15)所示的感光性侧链。
式中，A、Y1、l、m1和m2具有与上述相同的定义。
<9>上述<1>～<4>的任一者中，(A)成分可以具有下述式(16)或(17)所示的感光性侧链。
式中，A、X、l和m具有与上述相同的定义。
<10>上述<1>～<4>的任一者中，(A)成分可以具有下述式(18)或(19)所示的感光性侧链。
式中，A、B、Y1、q1、q2、m1和m2具有与上述相同的定义。
R1表示氢原子、-NO2、-CN、-CH＝C(CN)2、-CH＝CH-CN、卤素基团、碳数1～5的烷基、或碳数1～5的烷氧基。
<11>上述<1>～<4>的任一者中，(A)成分可以具有下述式(20)所示的感光性侧链。
式中，A、Y1、X、l和m具有与上述相同的定义。
<12>上述<1>～<11>的任一者中，(A)成分可以具有选自由下述式(21)～(31)组成的组中的任一种液晶性侧链。
式中，A、B、q1和q2具有与上述相同的定义；
Y3为选自由1价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、含氮杂环和碳数5～8的脂环式烃、以及它们的组合组成的组中的基团，键合于它们的氢原子各自独立地任选被-NO2、-CN、卤素基团、碳数1～5的烷基、或碳数1～5的烷氧基取代；
R3表示氢原子、-NO2、-CN、-CH＝C(CN)2、-CH＝CH-CN、卤素基团、1价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、含氮杂环、碳数5～8的脂环式烃、碳数1～12的烷基、或碳数1～12的烷氧基；
l表示1～12的整数，m表示0～2的整数，其中，式(23)～(24)中，所有的m的总和为2以上，式(25)～(26)中，所有的m的总和为1以上，m1、m2和m3各自独立地表示1～3的整数；
R2表示氢原子、-NO2、-CN、卤素基团、1价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、含氮杂环、以及碳数5～8的脂环式烃和烷基或烷氧基；
Z1、Z2表示单键、-CO-、-CH2O-、-CH＝N-、-CF2-。
<13>一种具有横向电场驱动型液晶表示元件用液晶取向膜的基板，其是通过上述<1>～<12>中任一项制造的。
<14>一种横向电场驱动型液晶表示元件，其具有上述<13>的基板。
<15>一种横向电场驱动型液晶表示元件的制造方法，其通过具备如下工序而得到该液晶表示元件：
准备上述<13>的基板(第1基板)的工序；
获得具有下述液晶取向膜的第2基板的工序，其通过具备下述工序[I’]、[II’]和[III’]而得到被赋予了取向控制能力的液晶取向膜；以及
[V]以前述第1基板和第2基板的液晶取向膜隔着液晶相对的方式，对向配置前述第1基板和第2基板，从而得到液晶表示元件的工序，
所述工序[I’]、[II’]和[III’]为：
[I’]在第2基板上涂布聚合物组合物而形成涂膜的工序，所述聚合物组合物含有：(A)在特定的温度范围内表现出液晶性的感光性侧链型高分子、以及(B)有机溶剂；
[II’]对[I’]中得到的涂膜照射偏振紫外线的工序；以及
[III’]将[II’]中得到的涂膜进行加热的工序。
<16>上述<15>中，获得前述第2基板的工序还可以具有[IV’]将[III’]中加热的涂膜冷却至不足该涂膜表面的玻璃化转变温度的温度后，再加热至该玻璃化转变温度以上的温度的工序。
<17>一种横向电场驱动型液晶表示元件，其是通过上述<15>或<16>制造的。
另外，作为另一面而发现如下发明。
<P1>一种具有横向电场驱动型液晶表示元件用液晶取向膜的基板的制造方法，其通过具备如下工序而得到被赋予了取向控制能力的前述液晶取向膜
[I]将聚合物组合物涂布在具有横向电场驱动用导电膜的基板上而形成涂膜的工序，所述聚合物组合物含有：(A)在特定的温度范围内表现出液晶性的感光性侧链型高分子、以及(B)有机溶剂；
[II]对[I]中得到的涂膜照射偏振紫外线的工序；
[III]将[II]中得到的涂膜进行加热的工序；以及
[IV]将[III]中加热的涂膜冷却至不足该涂膜表面的玻璃化转变温度的温度后，再加热至该玻璃化转变温度以上的温度的工序。
<P2>上述<P1>中，[IV]工序中的涂膜的冷却温度可以是比作为(A)成分的侧链型高分子的玻璃化转变点温度(Tg)低10℃以上的温度。
<P3>上述<P1>或<P2>中，紫外线照射后的涂膜的加热温度和冷却后的再加热温度可以是涂膜表面的玻璃化转变温度以上且不足涂膜表面的均质相转变温度的温度。
<P4>上述<P1>～<P3>的任一者中，(A)成分可以具有会发生光交联、光异构化或光弗利斯重排的感光性侧链。
<P5>上述<P1>～<P4>的任一者中，(A)成分可以具有选自由下述式(1)～(6)组成的组中的任一种感光性侧链。
式中，A、B、D各自独立地表示单键、-O-、-CH2-、-COO-、-OCO-、-CONH-、-NH-CO-、-CH＝CH-CO-O-或-O-CO-CH＝CH-；
S为碳数1～12的亚烷基，键合于它们的氢原子任选被卤素基团取代；
T为单键或碳数1～12的亚烷基，键合于它们的氢原子任选被卤素基团取代；
Y1表示选自1价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、吡咯环和碳数5～8的脂环式烃中的环，或者是选自这些取代基中的相同或不同的2～6个环借助键合基团B键合而成的基团，键合于它们的氢原子各自独立地任选被-COOR0(式中，R0表示氢原子或碳数1～5的烷基)、-NO2、-CN、-CH＝C(CN)2、-CH＝CH-CN、卤素基团、碳数1～5的烷基、或碳数1～5的烷氧基取代；
Y2为选自由2价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、吡咯环、碳数5～8的脂环式烃和它们的组合组成的组中的基团，键合于它们的氢原子各自独立地任选被-NO2、-CN、-CH＝C(CN)2、-CH＝CH-CN、卤素基团、碳数1～5的烷基、或碳数1～5的烷氧基取代；
R表示羟基、碳数1～6的烷氧基，或者表示与Y1相同的定义；
X表示单键、-COO-、-OCO-、-N＝N-、-CH＝CH-、-C≡C-、-CH＝CH-CO-O-或-O-CO-CH＝CH-；
Cou表示香豆素-6-基或香豆素-7-基，键合于它们的氢原子各自独立地任选被-NO2、-CN、-CH＝C(CN)2、-CH＝CH-CN、卤素基团、碳数1～5的烷基、或碳数1～5的烷氧基取代；
q1和q2中的一者为1，另一者为0；
q3为0或1；
P和Q各自独立地为选自由单键、2价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、吡咯环、碳数5～8的脂环式烃和它们的组合组成的组中的基团。其中，X为-CH＝CH-CO-O-、-O-CO-CH＝CH-时，-CH＝CH-所键合的一侧的P或Q为芳香环；
H和I各自独立地为选自2价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、吡咯环和它们的组合中的基团。
<P6>上述<P1>～<P4>的任一者中，(A)成分可以具有选自由下述式(7)～(10)组成的组中的任一种感光性侧链。
式中，A、B、D、Y1、X、Y2和R具有与上述相同的定义；
l表示1～12的整数；
m表示0～2的整数，m1、m2表示1～3的整数；
n表示0～12的整数(其中，n＝0时，B为单键)。
<P7>上述<P1>～<P4>的任一者中，(A)成分可以具有选自由下述式(11)～(13)组成的组中的任一种感光性侧链。
式中，A、X、l、m和R具有与上述相同的定义。
<P8>上述<P1>～<P4>的任一者中，(A)成分可以具有下述式(14)或(15)所示的感光性侧链。
式中，A、Y1、X、l、m1和m2具有与上述相同的定义。
<P9>上述<P1>～<P4>的任一者中，(A)成分可以具有下述式(16)或(17)所示的感光性侧链。
式中，A、X、l和m具有与上述相同的定义。
<P10>上述<P1>～<P4>的任一者中，(A)成分可以具有下述式(18)或(19)所示的感光性侧链。
式中，A、B、Y1、q1、q2、m1和m2具有与上述相同的定义。
R1表示氢原子、-NO2、-CN、-CH＝C(CN)2、-CH＝CH-CN、卤素基团、碳数1～5的烷基、或碳数1～5的烷氧基。
<P11>上述<P1>～<P4>的任一者中，(A)成分可以具有下述式(20)所示的感光性侧链。
式中，A、Y1、X、l和m具有与上述相同的定义。
<P12>上述<P1>～<P11>的任一者中，(A)成分可以具有选自由下述式(21)～(31)组成的组中的任一种液晶性侧链。
式中，A、B、q1和q2具有与上述相同的定义；
Y3为选自由1价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、含氮杂环和碳数5～8的脂环式烃、以及它们的组合组成的组中的基团，键合于它们的氢原子各自独立地任选被-NO2、-CN、卤素基团、碳数1～5的烷基、或碳数1～5的烷氧基取代；
R3表示氢原子、-NO2、-CN、-CH＝C(CN)2、-CH＝CH-CN、卤素基团、1价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、含氮杂环、碳数5～8的脂环式烃、碳数1～12的烷基、或碳数1～12的烷氧基；
l表示1～12的整数，m表示0～2的整数，其中，式(25)～(26)中，所有的m的总和为2以上，式(27)～(28)中，所有的m的总和为1以上，m1、m2和m3各自独立地表示1～3的整数；
R2表示氢原子、-NO2、-CN、卤素基团、1价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、含氮杂环、以及碳数5～8的脂环式烃和烷基或烷氧基；
Z1、Z2表示单键、-CO-、-CH2O-、-CH＝N-、-CF2-。
<P13>一种具有横向电场驱动型液晶表示元件用液晶取向膜的基板，其是通过上述<P1>～<P12>中任一项制造的。
<P14>一种横向电场驱动型液晶表示元件，其具有上述<P13>的基板。
<P15>一种横向电场驱动型液晶表示元件的制造方法，其通过具备如下工序而得到该液晶表示元件：
准备上述<P13>的基板(第1基板)的工序；
获得具有下述液晶取向膜的第2基板的工序，其通过具备下述工序[I’]、[II’]和[III’]而得到被赋予了取向控制能力的液晶取向膜；以及
[V]以前述第1基板和第2基板的液晶取向膜隔着液晶相对的方式，对向配置前述第1基板和第2基板，从而得到液晶表示元件的工序；
所述工序[I’]、[II’]和[III’]为：
[I’]在第2基板上涂布聚合物组合物而形成涂膜的工序，所述聚合物组合物含有：(A)在特定的温度范围内表现出液晶性的感光性侧链型高分子、以及(B)有机溶剂；
[II’]对[I’]中得到的涂膜照射偏振紫外线的工序；以及
[III’]将[II’]中得到的涂膜进行加热的工序。
<P16>上述<P15>中，
获得前述第2基板的工序还可以具有[IV’]将[III’]中加热的涂膜冷却至不足该涂膜表面的玻璃化转变温度的温度后，再加热至该玻璃化转变温度以上的温度的工序。
<P17>一种横向电场驱动型液晶表示元件，其是通过上述<P15>或<P16>制造的。
发明的效果
通过本发明，能够提供以高效率被赋予取向控制能力、残影特性优异的、具有横向电场驱动型液晶表示元件用液晶取向膜的基板以及具有该基板的横向电场驱动型液晶表示元件。
通过本发明的方法而制造的横向电场驱动型液晶表示元件被高效地赋予了取向控制能力，因此即使长时间连续驱动也不会损害表示特性。
另外，通过本发明，可扩大能够实现液晶取向膜中的良好液晶取向性的偏振光照射量的边界范围，由于照射量的边界范围扩大，因此能够在更宽阔的照射范围中起到期望的效果。
附图说明
图1是示意性地说明本发明所用的液晶取向膜的制造方法中的各向异性导入处理的一个例子的图，是感光性的侧链使用交联性有机基团且所导入的各向异性小时的图。
图2是示意性地说明本发明所用的液晶取向膜的制造方法中的各向异性导入处理的一个例子的图，是感光性的侧链使用交联性有机基团且所导入的各向异性大时的图。
图3是示意性地说明本发明所用的液晶取向膜的制造方法中的各向异性导入处理的一个例子的图，是感光性的侧链使用会发生弗利斯重排或异构化的有机基团且所导入的各向异性小时的图。
图4是示意性地说明本发明所用的液晶取向膜的制造方法中的各向异性导入处理的一个例子的图，是感光性的侧链使用会发生弗利斯重排或异构化的有机基团且所导入的各向异性大时的图。
具体实施方式
本发明人进行了深入研究，结果得到如下见解，从而完成了本发明。
本发明的制造方法中使用的聚合物组合物具有能够表现出液晶性的感光性侧链型高分子(以下也简称为侧链型高分子)，使用前述聚合物组合物得到的涂膜是具有能够表现出液晶性的感光性侧链型高分子的膜。该涂膜无需进行刷磨处理，通过偏振光照射而进行取向处理。并且，在进行偏振光照射后，经由加热该侧链型高分子膜的工序，从而成为被赋予了取向控制能力的涂膜(以下也称为液晶取向膜)。此时，通过偏振光照射而表现出的微小各向异性成为驱动力，液晶性的侧链型高分子自身因自组装化而有效地再取向。其结果，能够作为液晶取向膜而实现高效的取向处理，得到被赋予了高取向控制能力的液晶取向膜。
本发明人等还预料不到地发现：通过在照射偏振光后，将加热侧链型高分子膜而得的产物进一步冷却并再加热，得到被赋予了取向控制能力的涂膜，从而能够得到在更宽阔的偏振光照射量边界范围中具备良好液晶取向性的液晶取向膜。本发明是基于所述见解而进行的。
以下，针对本发明的实施方式进行详细说明。
<具有液晶取向膜的基板的制造方法>和<液晶表示元件的制造方法>
本发明的具有液晶取向膜的基板的制造方法具备如下工序：
[I]将聚合物组合物涂布在具有横向电场驱动用导电膜的基板上而形成涂膜的工序，所述聚合物组合物含有：(A)在特定的温度范围内表现出液晶性的感光性侧链型高分子、以及(B)有机溶剂；
[II]对[I]中得到的涂膜照射偏振紫外线的工序；
[III]将[II]中得到的涂膜进行加热的工序；以及
[IV]将[III]中加热的涂膜冷却至不足该涂膜表面的玻璃化转变温度的温度后，再加热至该玻璃化转变温度以上的温度的工序。
通过上述工序，能够得到被赋予了取向控制能力的横向电场驱动型液晶表示元件用液晶取向膜，能够得到具有该液晶取向膜的基板。
另外，除了上述得到的基板(第1基板)之外，通过准备第2基板，能够得到横向电场驱动型液晶表示元件。
第2基板除了使用不具有横向电场驱动用导电膜的基板来代替具有横向电场驱动用导电膜的基板之外，通过使用上述工序[I]～[III](由于使用不具有横向电场驱动用导电膜的基板，因此为了方便，在本申请中有时简称为工序[I’]～[III’])，能够获得具有被赋予了取向控制能力的液晶取向膜的第2基板。
横向电场驱动型液晶表示元件的制造方法具备如下工序：
[V]将上述得到的第1基板和第2基板以第1基板和第2基板的液晶取向膜隔着液晶相对的方式进行对向配置，从而得到液晶表示元件的工序。由此，能够得到横向电场驱动型液晶表示元件。
以下，针对本发明的制造方法所具备的[I]～[IV]和[V]的各工序进行说明。
<工序[I]>
工序[I]中，在具有横向电场驱动用导电膜的基板上涂布聚合物组合物而形成涂膜，所述聚合物组合物含有：在特定的温度范围内表现出液晶性的感光性侧链型高分子、以及有机溶剂。
<基板>
针对基板没有特别限定，要制造的液晶表示元件是透过型时，优选使用透明性高的基板。此时没有特别限定，可以使用玻璃基板或丙烯酸类基板、聚碳酸酯基板等塑料基板等。
另外，考虑到在反射型液晶表示元件中的应用，也可以使用硅晶片等不透明的基板。
<横向电场驱动用导电膜>
基板具有横向电场驱动用导电膜。
作为该导电膜，液晶表示元件为透过型时，可列举出ITO(IndiumTinOxide：氧化铟锡)、IZO(IndiumZincOxide：氧化铟锌)等，不限定于这些。
另外，在反射型液晶表示元件的情况下，作为导电膜，可列举出铝等会反射光的材料等，不限定于这些。
在基板上形成导电膜的方法可以使用现有公知的方法。
<聚合物组合物>
在具有横向电场驱动用导电膜的基板上涂布聚合物组合物，尤其是在导电膜上涂布聚合物组合物。
本发明的制造方法中使用的该聚合物组合物含有：(A)在特定的温度范围内表现出液晶性的感光性侧链型高分子；以及(B)有机溶剂。
<<(A)侧链型高分子>>
(A)成分是在特定的温度范围内表现出液晶性的感光性侧链型高分子。
(A)侧链型高分子通过在250nm～400nm的波长范围的光下发生反应、且在100℃～300℃的温度范围内显示液晶性即可。
(A)侧链型高分子优选具有与250nm～400nm的波长范围的光发生反应的感光性侧链。
(A)侧链型高分子在100℃～300℃的温度范围内显示液晶性，因此优选具有液晶原基团。
(A)侧链型高分子的主链键合了具有感光性的侧链，其感应于光而能够发生交联反应、异构化反应或光弗利斯重排。具有感光性的侧链结构没有特别限定，期望是感应于光而发生交联反应或光弗利斯重排的结构，更期望是发生交联反应的结构。此时，即使暴露于热等外部应力也能够长期稳定地保持已实现的取向控制能力。能够表现出液晶性的感光性侧链型高分子膜的结构只要满足这种特性，就没有特别限定，优选在侧链结构具有刚直的液晶原成分。此时，将该侧链型高分子制成液晶取向膜时，能够得到稳定的液晶取向。
该高分子的结构例如可以制成如下结构：具有主链和键合于其的侧链，该侧链具有联苯基、三联苯基、苯基环己基、苯甲酸苯酯基、偶氮苯基等液晶原成分以及键合于前端部的感应光而发生交联反应、异构化反应的感光性基团；具有主链和键合于其的侧链，该侧链具有既为液晶原成分也会发生光弗利斯重排反应的苯甲酸苯酯基。
作为能够表现出液晶性的感光性侧链型高分子膜的结构的更具体例，优选为具有如下主链和如下侧链的结构，所述主链由选自烃、(甲基)丙烯酸酯、衣康酸酯、富马酸酯、马来酸酯、α-亚甲基-γ-丁内酯、苯乙烯、乙烯基、马来酰亚胺、降冰片烯等自由基聚合性基团和硅氧烷所组成的组中的至少1种构成，所述侧链包含下述式(1)～(6)中的至少1种。
式中，A、B、D各自独立地表示单键、-O-、-CH2-、-COO-、-OCO-、-CONH-、-NH-CO-、-CH＝CH-CO-O-或-O-CO-CH＝CH-；
S为碳数1～12的亚烷基，键合于它们的氢原子任选被卤素基团取代；
T为单键或碳数1～12的亚烷基，键合于它们的氢原子任选被卤素基团取代；
Y1表示选自1价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、吡咯环和碳数5～8的脂环式烃中的环，或者是选自这些取代基中的相同或不同的2～6个环借助键合基团B键合而成的基团，键合于它们的氢原子各自独立地任选被-COOR0(式中，R0表示氢原子或碳数1～5的烷基)、-NO2、-CN、-CH＝C(CN)2、-CH＝CH-CN、卤素基团、碳数1～5的烷基、或碳数1～5的烷氧基取代；
Y2为选自由2价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、吡咯环、碳数5～8的脂环式烃和它们的组合组成的组中的基团，键合于它们的氢原子各自独立地任选被-NO2、-CN、-CH＝C(CN)2、-CH＝CH-CN、卤素基团、碳数1～5的烷基、或碳数1～5的烷氧基取代；
R表示羟基、碳数1～6的烷氧基，或者表示与Y1相同的定义；
X表示单键、-COO-、-OCO-、-N＝N-、-CH＝CH-、-C≡C-、-CH＝CH-CO-O-或-O-CO-CH＝CH-，X的数量达到2时，X任选彼此相同或不同；
Cou表示香豆素-6-基或香豆素-7-基，键合于它们的氢原子各自独立地任选被-NO2、-CN、-CH＝C(CN)2、-CH＝CH-CN、卤素基团、碳数1～5的烷基、或碳数1～5的烷氧基取代；
q1和q2中的一者为1，另一者为0；
q3为0或1；
P和Q各自独立地为选自由2价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、吡咯环、碳数5～8的脂环式烃和它们的组合组成的组中的基团；其中，X为-CH＝CH-CO-O-、-O-CO-CH＝CH-时，-CH＝CH-所键合的一侧的P或Q为芳香环，P的数量达到2以上时，P任选彼此相同或不同，Q的数量达到2以上时，Q任选彼此相同或不同；
l1为0或1；
l2为0～2的整数；
l1和l2均为0时，T为单键时A也表示单键；
l1为1时，T为单键时B也表示单键；
H和I各自独立地为选自2价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、吡咯环和它们的组合中的基团。
侧链可以为选自由下述式(7)～(10)组成的组中的任一种感光性侧链。
式中，A、B、D、Y1、X、Y2和R具有与上述相同的定义；
l表示1～12的整数；
m表示0～2的整数，m1、m2表示1～3的整数；
n表示0～12的整数(其中，n＝0时，B为单键)。
侧链可以为选自由下述式(11)～(13)组成的组中的任一种感光性侧链。
式中，A、X、l、m、m1和R具有与上述相同的定义。
侧链可以是下述式(14)或(15)所示的感光性侧链。
式中，A、Y1、l、m1和m2具有与上述相同的定义。
侧链可以为下述式(16)或(17)所示的感光性侧链。
式中，A、X、l和m具有与上述相同的定义。
另外，侧链可以为下述式(18)或(19)所示的感光性侧链。
式中，A、B、Y1、q1、q2、m1和m2具有与上述相同的定义。
R1表示氢原子、-NO2、-CN、-CH＝C(CN)2、-CH＝CH-CN、卤素基团、碳数1～5的烷基、或碳数1～5的烷氧基。
侧链可以为下述式(20)所示的感光性侧链。
式中，A、Y1、X、l和m具有与上述相同的定义。
另外，(A)侧链型高分子可以具有选自由下述式(21)～(31)组成的组中的任一种液晶性侧链。
式中，A、B、q1和q2具有与上述相同的定义；
Y3为选自由1价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、含氮杂环和碳数5～8的脂环式烃、以及它们的组合组成的组中的基团，键合于它们的氢原子各自独立地任选被-NO2、-CN、卤素基团、碳数1～5的烷基、或碳数1～5的烷氧基取代；
R3表示氢原子、-NO2、-CN、-CH＝C(CN)2、-CH＝CH-CN、卤素基团、1价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、含氮杂环、碳数5～8的脂环式烃、碳数1～12的烷基、或碳数1～12的烷氧基；
l表示1～12的整数，m表示0～2的整数，其中，式(23)～(24)中，所有的m的总和为2以上，式(25)～(26)中，所有的m的总和为1以上，m1、m2和m3各自独立地表示1～3的整数；
R2表示氢原子、-NO2、-CN、卤素基团、1价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、含氮杂环、以及碳数5～8的脂环式烃和烷基或烷氧基；
Z1、Z2表示单键、-CO-、-CH2O-、-CH＝N-、-CF2-。
<<感光性侧链型高分子的制法>>
上述能够表现出液晶性的感光性侧链型高分子可通过将具有上述感光性侧链的光反应性侧链单体和液晶性侧链单体进行聚合来获得。
[光反应性侧链单体]
光反应性侧链单体是指：形成高分子时，能够形成在高分子的侧链部位具有感光性侧链的高分子的单体。
作为侧链所具有的光反应性基团，优选为下述结构及其衍生物。
作为光反应性侧链单体的更具体例，优选为具有聚合性基团和感光性侧链的结构，所述聚合性基团由选自由烃、(甲基)丙烯酸酯、衣康酸酯、富马酸酯、马来酸酯、α-亚甲基-γ-丁内酯、苯乙烯、乙烯基、马来酰亚胺、降冰片烯等自由基聚合性基团和硅氧烷组成的组中的至少1种构成，所述感光性侧链是包含上述式(1)～(6)中的至少1种的感光性侧链、优选为例如包含上述式(7)～(10)中的至少1种的感光性侧链、包含上述式(11)～(13)中的至少1种的感光性侧链、上述式(14)或(15)所示的感光性侧链、上述式(16)或(17)所示的感光性侧链、上述式(18)或(19)所示的感光性侧链、上述式(20)所示的感光性侧链。
本申请中，作为光反应性和/或液晶性侧链单体，提供以下的式(1)～(11)所示的新型化合物(1)～(11)；以及以下的式(12)～(17)所示的化合物(12)～(17)。
式中，R表示氢原子或甲基；S表示碳数2～10的亚烷基；R10表示Br或CN；S表示碳数2～10的亚烷基；u表示为0或1；以及Py表示2-吡啶基、3-吡啶基或4-吡啶基。另外，v表示1或2。
[液晶性侧链单体]
液晶性侧链单体是指：源自该单体的高分子表现出液晶性，该高分子在侧链部位能够形成液晶原基团的单体。
作为侧链所具有的液晶原基团，可以是联苯、苯甲酸苯酯等单独成为液晶原结构的基团，也可以是苯甲酸等那样地侧链彼此进行氢键合而成为液晶原结构的基团。作为侧链所具有的液晶原基团，优选为下述结构。
作为液晶性侧链单体的更具体例，优选为具有如下聚合性基团和如下侧链的结构，所述聚合性基团由选自由烃、(甲基)丙烯酸酯、衣康酸酯、富马酸酯、马来酸酯、α-亚甲基-γ-丁内酯、苯乙烯、乙烯基、马来酰亚胺、降冰片烯等自由基聚合性基团和硅氧烷组成的组中的至少1种构成，所述侧链包含上述式(21)～(31)中的至少1种。
(A)侧链型高分子可通过上述表现出液晶性的光反应性侧链单体的聚合反应来获得。另外，可以通过不表现液晶性的光反应性侧链单体与液晶性侧链单体的共聚、表现出液晶性的光反应性侧链单体与液晶性侧链单体的共聚来获得。进而，在不损害液晶性表现能力的范围内，可以与其它单体进行共聚。
作为其它单体，可列举出例如可工业获取的能够进行自由基聚合反应的单体。
作为其它单体的具体例，可列举出不饱和羧酸、丙烯酸酯化合物、甲基丙烯酸酯化合物、马来酰亚胺化合物、丙烯腈、马来酸酐、苯乙烯化合物和乙烯基化合物等。
作为不饱和羧酸的具体例，可列举出丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、马来酸、富马酸等。
作为丙烯酸酯化合物，可列举出例如丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸异丙酯、丙烯酸苄酯、丙烯酸萘酯、丙烯酸蒽酯、丙烯酸蒽基甲酯、丙烯酸苯酯、丙烯酸2,2,2-三氟乙酯、丙烯酸叔丁酯、丙烯酸环己酯、丙烯酸异冰片酯、丙烯酸2-甲氧基乙酯、甲氧基三乙二醇丙烯酸酯、丙烯酸2-乙氧基乙酯、丙烯酸四氢糠酯、丙烯酸3-甲氧基丁酯、丙烯酸2-甲基-2-金刚烷基酯、丙烯酸2-丙基-2-金刚烷基酯、丙烯酸8-甲基-8-三环癸酯、以及丙烯酸8-乙基-8-三环癸酯等。
作为甲基丙烯酸酯化合物，可列举出例如甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸异丙酯、甲基丙烯酸苄酯、甲基丙烯酸萘酯、甲基丙烯酸蒽酯、甲基丙烯酸蒽基甲酯、甲基丙烯酸苯酯、甲基丙烯酸2,2,2-三氟乙酯、甲基丙烯酸叔丁酯、甲基丙烯酸环己酯、甲基丙烯酸异冰片酯、甲基丙烯酸2-甲氧基乙酯、甲氧基三乙二醇甲基丙烯酸酯、甲基丙烯酸2-乙氧基乙酯、甲基丙烯酸四氢糠酯、甲基丙烯酸3-甲氧基丁酯、甲基丙烯酸2-甲基-2-金刚烷基酯、甲基丙烯酸2-丙基-2-金刚烷基酯、甲基丙烯酸8-甲基-8-三环癸酯、以及甲基丙烯酸8-乙基-8-三环癸酯等。也可以使用(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、(甲基)丙烯酸(3-甲基-3-氧杂环丁烷基)甲酯和(甲基)丙烯酸(3-乙基-3-氧杂环丁烷基)甲酯等具有环状醚基的(甲基)丙烯酸酯化合物。
作为乙烯基化合物，可列举出例如乙烯醚、甲基乙烯醚、苄基乙烯醚、2-羟基乙基乙烯醚、苯基乙烯醚、以及丙基乙烯醚等。
作为苯乙烯化合物，可列举出例如苯乙烯、甲基苯乙烯、氯苯乙烯、溴苯乙烯等。
作为马来酰亚胺化合物，可列举出例如马来酰亚胺、N-甲基马来酰亚胺、N-苯基马来酰亚胺、以及N-环己基马来酰亚胺等。
针对本实施方式的侧链型高分子的制造方法，没有特别限定，可以利用工业上应用的通用方法。具体而言，可通过利用了液晶性侧链单体、光反应性侧链单体的乙烯基的阳离子聚合、自由基聚合、阴离子聚合来制造。这些之中，从反应控制容易度等观点出发，特别优选为自由基聚合。
作为自由基聚合的聚合引发剂，可以使用自由基聚合引发剂、可逆性加成-开裂型链转移(RAFT)聚合试剂等公知的化合物。
自由基热聚合引发剂是通过加热至分解温度以上而产生自由基的化合物。作为这种自由基热聚合引发剂，可列举出例如过氧化酮类(甲乙酮过氧化物、环己酮过氧化物等)、过氧化二酰基类(过氧化乙酰、过氧化苯甲酰等)、过氧化氢类(过氧化氢、叔丁基过氧化氢、枯烯过氧化氢等)、二烷基过氧化物类(二叔丁基过氧化物、二枯基过氧化物、二月桂酰过氧化物等)、过氧化缩酮类(二丁基过氧化环己烷等)、烷基过氧化酯类(过氧化新癸酸叔丁酯、过氧化特戊酸叔丁酯、过氧化2-乙基环己烷酸叔戊酯等)、过硫酸盐类(过硫酸钾、过硫酸钠、过硫酸铵等)、偶氮系化合物(偶氮双异丁腈、和2,2′-二(2-羟基乙基)偶氮双异丁腈等)。这种自由基热聚合引发剂可以单独使用1种，或者，也可以组合使用2种以上。
自由基光聚合引发剂只要是因光照射而开始自由基聚合的化合物，就没有特别限定。作为这种自由基光聚合引发剂，可列举出二苯甲酮、米蚩酮、4,4’-双(二乙氨基)二苯甲酮、氧杂蒽酮、硫代氧杂蒽酮、异丙基氧杂蒽酮、2,4-二乙基硫代氧杂蒽酮、2-乙基蒽醌、苯乙酮、2-羟基-2-甲基苯丙酮、2-羟基-2-甲基-4’-异丙基苯丙酮、1-羟基环己基苯基酮、异丙基苯偶姻醚、异丁基苯偶姻醚、2,2-二乙氧基苯乙酮、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、樟脑醌、苯并蒽酮、2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-吗啉代丙-1-酮、2-苄基-2-二甲氨基-1-(4-吗啉代苯基)-1-丁酮、4-二甲氨基苯甲酸乙酯、4-二甲氨基苯甲酸异戊酯、4,4’-二(叔丁基过氧基羰基)二苯甲酮、3,4,4’-三(叔丁基过氧基羰基)二苯甲酮、2,4,6-三甲基苯甲酰基二苯基氧化膦、2-(4’-甲氧基苯乙烯基)-4,6-双(三氯甲基)均三嗪、2-(3’,4’-二甲氧基苯乙烯基)-4,6-双(三氯甲基)均三嗪、2-(2’,4’-二甲氧基苯乙烯基)-4,6-双(三氯甲基)均三嗪、2-(2’-甲氧基苯乙烯基)-4,6-双(三氯甲基)均三嗪、2-(4’-戊氧基苯乙烯基)-4,6-双(三氯甲基)均三嗪、4-[对-N,N-二(乙氧基羰基甲基)]-2,6-二(三氯甲基)均三嗪、1,3-双(三氯甲基)-5-(2’-氯苯基)均三嗪、1,3-双(三氯甲基)-5-(4’-甲氧基苯基)均三嗪、2-(对二甲氨基苯乙烯基)苯并噁唑、2-(对二甲氨基苯乙烯基)苯并噻唑、2-巯基苯并噻唑、3,3’-羰基双(7-二乙氨基香豆素)、2-(邻氯苯基)-4,4’,5,5’-四苯基-1,2’-联咪唑、2,2’-双(2-氯苯基)-4,4’,5,5’-四(4-乙氧基羰基苯基)-1,2’-联咪唑、2,2’-双(2,4-二氯苯基)-4,4’,5,5’-四苯基-1,2’-联咪唑、2,2’双(2,4-二溴苯基)-4,4’,5,5’-四苯基-1,2’-联咪唑、2,2’-双(2,4,6-三氯苯基)-4,4’,5,5’-四苯基-1,2’-联咪唑、3-(2-甲基-2-二甲氨基丙酰基)咔唑、3,6-双(2-甲基-2-吗啉代丙酰基)-9-正十二烷基咔唑、1-羟基环己基苯基酮、双(5-2,4-环戊二烯-1-基)-双(2,6-二氟-3-(1H-吡咯-1-基)-苯基)钛、3,3’,4,4’-四(叔丁基过氧基羰基)二苯甲酮、3,3’,4,4’-四(叔己基过氧基羰基)二苯甲酮、3,3’-二(甲氧基羰基)-4,4’-二(叔丁基过氧基羰基)二苯甲酮、3,4’-二(甲氧基羰基)-4,3’-二(叔丁基过氧基羰基)二苯甲酮、4,4’-二(甲氧基羰基)-3,3’-二(叔丁基过氧基羰基)二苯甲酮、2-(3-甲基-3H-苯并噻唑-2-亚基)-1-萘-2-基-乙酮、或者2-(3-甲基-1,3-苯并噻唑-2(3H)-亚基)-1-(2-苯甲酰基)乙酮等。这些化合物可以单独使用，也可以混合两种以上使用。
自由基聚合法没有特别限定，可以使用乳液聚合法、悬浮聚合法、分散聚合法、沉淀聚合法、本体聚合法、溶液聚合法等。
作为能够表现出液晶性的感光性侧链型高分子的聚合反应中使用的有机溶剂，只要是所生成的高分子会溶解的有机溶剂就没有特别限定。以下列举出其具体例。
可列举出：N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、N-甲基-2-吡咯烷酮、N-乙基-2-吡咯烷酮、N-甲基己内酰胺、二甲基亚砜、四甲基脲、吡啶、二甲基砜、六甲基亚砜、γ-丁内酯、异丙醇、甲氧基甲基戊醇、二戊烯、乙基戊基酮、甲基壬基酮、甲乙酮、甲基异戊基酮、甲基异丙基酮、甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、甲基溶纤剂乙酸酯、乙基溶纤剂乙酸酯、丁基卡必醇、乙基卡必醇、乙二醇、乙二醇单乙酸酯、乙二醇单异丙醚、乙二醇单丁醚、丙二醇、丙二醇单乙酸酯、丙二醇单甲醚、丙二醇叔丁醚、二丙二醇单甲醚、二乙二醇、二乙二醇单乙酸酯、二乙二醇二甲醚、二丙二醇单乙酸酯单甲醚、二丙二醇单甲醚、二丙二醇单乙醚、二丙二醇单乙酸酯单乙醚、二丙二醇单丙醚、二丙二醇单乙酸酯单丙醚、3-甲基-3-甲氧基丁基乙酸酯、三丙二醇甲醚、3-甲基-3-甲氧基丁醇、二异丙醚、乙基异丁醚、二异丁烯、乙酸戊酯、丁酸丁酯、丁醚、二异丁酮、甲基环己烯、丙醚、二己醚、二噁烷、正己烷、正戊烷、正辛烷、二乙醚、环己酮、碳酸亚乙酯、碳酸亚丙酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、醋酸甲酯、醋酸乙酯、醋酸正丁酯、醋酸丙二醇单乙醚、丙酮酸甲酯、丙酮酸乙酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸甲基乙酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸、3-甲氧基丙酸、3-甲氧基丙酸丙酯、3-甲氧基丙酸丁酯、二甘醇二甲醚、4-羟基-4-甲基-2-戊酮、3-甲氧基-N,N-二甲基丙酰胺、3-乙氧基-N,N-二甲基丙酰胺、3-丁氧基-N,N-二甲基丙酰胺等。
这些有机溶剂可以单独使用，也可以混合使用。进而，即使是不溶解所生成的高分子的溶剂，只要在所生成的高分子不会析出的范围内，则也可以混合至上述有机溶剂中使用。
另外，在自由基聚合中，有机溶剂中的氧会成为阻碍聚合反应的原因，因此有机溶剂优选尽可能地脱气后使用。
自由基聚合时的聚合温度能够选择30℃～150℃的任意温度，优选为50℃～100℃的范围。另外，反应可以以任意浓度进行，浓度过低时难以得到高分子量的聚合物，浓度过高时，反应液的粘性变得过高而难以均匀地搅拌，因此单体浓度优选为1质量％～50质量％、更优选为5质量％～30质量％。反应初期以高浓度进行，其后可以追加有机溶剂。
在上述自由基聚合反应中，自由基聚合引发剂相对于单体的比率较多时，所得高分子的分子量变小，自由基聚合引发剂相对于单体的比率较少时，所得高分子的分子量变大，因此自由基引发剂相对于聚合单体的比率优选为0.1摩尔％～10摩尔％。另外，聚合时也可以追加各种单体成分、溶剂、引发剂等。
[聚合物的回收]
从利用上述反应得到的、能够表现出液晶性的感光性侧链型高分子的反应溶液中回收所生成的高分子时，将反应溶液投入至不良溶剂，使这些聚合物沉淀即可。作为用于沉淀的不良溶剂，可列举出甲醇、丙酮、己烷、庚烷、丁基溶纤剂、庚烷、甲乙酮、甲基异丁酮、乙醇、甲苯、苯、二乙醚、甲乙醚、水等。投入至不良溶剂中而发生沉淀的聚合物可以在过滤回收后，在常压或减压下进行常温干燥或加热干燥。另外，重复进行2次～10次使沉淀回收的聚合物再溶解于有机溶剂并再沉淀回收的操作时，能够减少聚合物中的杂质。作为此时的不良溶剂，可列举出例如醇类、酮类、烃等，使用选自这些之中的3种以上不良溶剂时，精制效率进一步提高，故而优选。
关于本发明的(A)侧链型高分子的分子量，考虑到所得涂膜的强度、形成涂膜时的作业性、以及涂膜的均匀性时，利用GPC(GelPermeationChromatography，凝胶渗透色谱)法测定的重均分子量优选为2000～1000000、更优选为5000～100000。
[聚合物组合物的制备]
本发明中使用的聚合物组合物优选制备成涂布液的形式，用以适合形成液晶取向膜。即，本发明所使用的聚合物组合物优选以用于形成树脂覆膜的树脂成分溶解于有机溶剂而成的溶液的形式来制备。此处，该树脂成分是指包含上述说明的能够表现出液晶性的感光性侧链型高分子的树脂成分。此时，树脂成分的含量优选为1质量％～20质量％、更优选为3质量％～15质量％、特别优选为3质量％～10质量％。
本实施方式的聚合物组合物中，前述树脂成分可以是全部均为上述能够表现出液晶性的感光性侧链型高分子，在不损害液晶表现能力和感光性能的范围内，也可以混合除此之外的其它聚合物。此时，树脂成分中的其它聚合物的含量为0.5质量％～80质量％、优选为1质量％～50质量％。
这种其它聚合物可列举出例如包含聚(甲基)丙烯酸酯、聚酰胺酸、聚酰亚胺等且不是能够表现出液晶性的感光性侧链型高分子的聚合物等。
<<(B)有机溶剂>>
本发明所使用的聚合物组合物中使用的有机溶剂只要是能够溶解树脂成分的有机溶剂就没有特别限定。以下列举出其具体例。
可列举出：N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、N-甲基-2-吡咯烷酮、N-甲基己内酰胺、2-吡咯烷酮、N-乙基吡咯烷酮、N-乙烯基吡咯烷酮、二甲基亚砜、四甲基脲、吡啶、二甲基砜、六甲基亚砜、γ-丁内酯、3-甲氧基-N,N-二甲基丙酰胺、3-乙氧基-N,N-二甲基丙酰胺、3-丁氧基-N,N-二甲基丙酰胺、1,3-二甲基-咪唑啉酮、乙基戊基酮、甲基壬基酮、甲乙酮、甲基异戊基酮、甲基异丙基酮、环己酮、碳酸亚乙酯、碳酸亚丙酯、二甘醇二甲醚、4-羟基-4-甲基-2-戊酮、丙二醇单乙酸酯、丙二醇单甲醚、丙二醇叔丁醚、二丙二醇单甲醚、二乙二醇、二乙二醇单乙酸酯、二乙二醇二甲醚、二丙二醇单乙酸酯单甲醚、二丙二醇单甲醚、二丙二醇单乙醚、二丙二醇单乙酸酯单乙醚、二丙二醇单丙醚、二丙二醇单乙酸酯单丙醚、3-甲基-3-甲氧基丁基乙酸酯、三丙二醇甲醚等。它们可以单独使用，也可以混合使用。
本发明中使用的聚合物组合物可以含有上述(A)和(B)成分之外的成分。作为其例子，可列举出在涂布聚合物组合物时提高膜厚均匀性、表面平滑性的溶剂或化合物，提高液晶取向膜与基板的密合性的化合物等，但不限定于此。
作为提高膜厚均匀性、表面平滑性的溶剂(不良溶剂)的具体例，可列举出以下溶剂。
可列举出例如异丙醇、甲氧基甲基戊醇、甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、丁基溶纤剂、甲基溶纤剂乙酸酯、乙基溶纤剂乙酸酯、丁基卡必醇、乙基卡必醇、乙基卡必醇乙酸酯、乙二醇、乙二醇单乙酸酯、乙二醇单异丙醚、乙二醇单丁醚、丙二醇、丙二醇单乙酸酯、丙二醇单甲醚、丙二醇单正丁醚、丙二醇叔丁醚、二丙二醇单甲醚、二乙二醇、二乙二醇单乙酸酯、二乙二醇二甲醚、二丙二醇单乙酸酯单甲醚、二丙二醇单甲醚、二丙二醇单乙醚、二丙二醇单乙酸酯单乙醚、二丙二醇单丙醚、二丙二醇单乙酸酯单丙醚、3-甲基-3-甲氧基丁基乙酸酯、三丙二醇甲醚、3-甲基-3-甲氧基丁醇、二异丙醚、乙基异丁醚、二异丁烯、乙酸戊酯、丁酸丁酯、丁醚、二异丁酮、甲基环己烯、丙醚、二己醚、1-己醇、正己烷、正戊烷、正辛烷、二乙醚、乳酸甲酯、乳酸乙酯、醋酸甲酯、醋酸乙酯、醋酸正丁酯、醋酸丙二醇单乙醚、丙酮酸甲酯、丙酮酸乙酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸甲基乙酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸、3-甲氧基丙酸、3-甲氧基丙酸丙酯、3-甲氧基丙酸丁酯、1-甲氧基-2-丙醇、1-乙氧基-2-丙醇、1-丁氧基-2-丙醇、1-苯氧基-2-丙醇、丙二醇单乙酸酯、丙二醇二乙酸酯、丙二醇-1-单甲醚-2-乙酸酯、丙二醇-1-单乙醚-2-乙酸酯、二丙二醇、2-(2-乙氧基丙氧基)丙醇、乳酸甲酯、乳酸乙酯、乳酸正丙酯、乳酸正丁酯、乳酸异戊酯等具有低表面张力的溶剂等。
这些不良溶剂可以使用1种，也可以混合使用多种。使用上述那样的溶剂时，为了不使聚合物组合物中包含的溶剂整体的溶解性显著降低，优选为溶剂整体的5质量％～80质量％、更优选为20质量％～60质量％。
作为提高膜厚均匀性、表面平滑性的化合物，可列举出氟系表面活性剂、有机硅系表面活性剂和非离子系表面活性剂等。
更具体而言，可列举出例如Eftop(注册商标)301、EF303、EF352(TohkemproductsCorporation制)；Megafac(注册商标)F171、F173、R-30(DICCORPORATION制)；FluoradFC430、FC431(Sumitomo3MLimited制)；AsahiGuard(注册商标)AG710(旭硝子株式会社制)；Surflon(注册商标)S-382、SC101、SC102、SC103、SC104、SC105、SC106(AGCSEIMICHEMICALCO.,LTD.制)等。这些表面活性剂的使用比例相对于聚合物组合物中含有的树脂成分100质量份优选为0.01质量份～2质量份、更优选为0.01质量份～1质量份。
作为提高液晶取向膜与基板的密合性的化合物的具体例，可列举出以下示出的含官能性硅烷的化合物等。
可列举出例如3-氨基丙基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、2-氨基丙基三甲氧基硅烷、2-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-(2-氨乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-(2-氨乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、3-脲丙基三甲氧基硅烷、3-脲丙基三乙氧基硅烷、N-乙氧基羰基-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-乙氧基羰基-3-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-三乙氧基甲硅烷基丙基三乙三胺、N-三甲氧基甲硅烷基丙基三乙三胺、10-三甲氧基甲硅烷基-1,4,7-三氮杂癸烷、10-三乙氧基甲硅烷基-1,4,7-三氮杂癸烷、9-三甲氧基甲硅烷基-3,6-二氮杂壬基乙酸酯、9-三乙氧基甲硅烷基-3,6-二氮杂壬基乙酸酯、N-苄基-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-苄基-3-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-苯基-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-苯基-3-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-双(氧亚乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-双(氧亚乙基)-3-氨基丙基三乙氧基硅烷等。
进而，为了提高基板与液晶取向膜的密合性、且防止构成液晶表示元件时由背光导致的电特性降低等，可以在聚合物组合物中含有如下那样的酚醛塑料系、含环氧基的化合物的添加剂。以下示出具体的酚醛塑料系添加剂，但不限定于该结构。
作为具体的含环氧基的化合物，可例示出乙二醇二缩水甘油醚、聚乙二醇二缩水甘油醚、丙二醇二缩水甘油醚、三丙二醇二缩水甘油醚、聚丙二醇二缩水甘油醚、新戊二醇二缩水甘油醚、1,6-己二醇二缩水甘油醚、甘油二缩水甘油醚、2,2-二溴新戊二醇二缩水甘油醚、1,3,5,6-四缩水甘油基-2,4-己二醇、N,N,N’,N’,-四缩水甘油基间苯二甲胺、1,3-双(N,N-二缩水甘油基氨基甲基)环己烷、N,N,N’,N’,-四缩水甘油基-4,4’-二氨基二苯基甲烷等。
使用用于提高液晶取向膜与基板的密合性的化合物时，其用量相对于聚合物组合物中含有的树脂成分100质量份优选为0.1质量份～30质量份、更优选为1质量份～20质量份。用量不足0.1质量份时，无法期待提高密合性的效果，多于30质量份时，液晶的取向性有时变差。
作为添加剂，也可以使用光敏剂。优选为无色增敏剂和三重态增敏剂。
作为光敏剂，有芳香族硝基化合物、香豆素(7-二乙氨基-4-甲基香豆素、7-羟基4-甲基香豆素)、香豆素酮、羰基双香豆素、芳香族2-羟基酮、以及被氨基取代的芳香族2-羟基酮(2-羟基二苯甲酮、单对(二甲氨基)-2-羟基二苯甲酮或二对(二甲氨基)-2-羟基二苯甲酮)、苯乙酮、蒽醌、氧杂蒽酮、硫代氧杂蒽酮、苯并蒽酮、噻唑啉(2-苯甲酰基亚甲基-3-甲基-β-萘并噻唑啉、2-(β-萘酰基亚甲基)-3-甲基苯并噻唑啉、2-(α-萘酰基亚甲基)-3-甲基苯并噻唑啉、2-(4-联苯酰基亚甲基)-3-甲基苯并噻唑啉、2-(β-萘酰基亚甲基)-3-甲基-β-萘并噻唑啉、2-(4-联苯酰基亚甲基)-3-甲基-β-萘并噻唑啉、2-(对氟苯甲酰基亚甲基)-3-甲基-β-萘并噻唑啉)、噁唑啉(2-苯甲酰基亚甲基-3-甲基-β-萘并噁唑啉、2-(β-萘酰基亚甲基)-3-甲基苯并噁唑啉、2-(α-萘酰基亚甲基)-3-甲基苯并噁唑啉、2-(4-联苯酰基亚甲基)-3-甲基苯并噁唑啉、2-(β-萘酰基亚甲基)-3-甲基-β-萘并噁唑啉、2-(4-联苯酰基亚甲基)-3-甲基-β-萘并噁唑啉、2-(对氟苯甲酰基亚甲基)-3-甲基-β-萘并噁唑啉)、苯并噻唑、硝基苯胺(间硝基苯胺或对硝基苯胺、2,4,6-三硝基苯胺)或硝基苊(5-硝基苊)、(2-[(间羟基对甲氧基)苯乙烯基]苯并噻唑、苯偶姻烷基醚、N-烷基化酞酮、苯乙酮缩酮(2,2-二甲氧基苯基乙酮)、萘、蒽(2-萘甲醇、2-萘羧酸、9-蒽甲醇和9-蒽羧酸)、苯并吡喃、偶氮中氮茚、梅洛香豆素等。
优选为芳香族2-羟基酮(二苯甲酮)、香豆素、香豆素酮、羰基双香豆素、苯乙酮、蒽醌、氧杂蒽酮、硫代氧杂蒽酮和苯乙酮缩酮。
聚合物组合物中除了上述物质之外，只要在不损害本发明效果的范围内，出于改变液晶取向膜的介电常数、导电性等电特性的目的，可以添加介电体、导电物质，进而出于在制成液晶取向膜时提高膜的硬度、致密度的目的，可以添加交联性化合物。
将上述聚合物组合物涂布在具有横向电场驱动用导电膜的基板上的方法没有特别限定。
关于涂布方法，工业上通常是利用丝网印刷、胶版印刷、柔性印刷或喷墨法等进行的方法。作为其它涂布方法，有浸渍法、辊涂法、狭缝涂布法、旋涂法(旋转涂布法)或喷涂法等，可根据目的使用它们。
在具有横向电场驱动用导电膜的基板上涂布聚合物组合物后，利用热板、热循环型烘箱或IR(红外线)型烘箱等加热手段以50～200℃、优选以50～150℃使溶剂蒸发，从而能够得到涂膜。此时的干燥温度优选低于侧链型高分子的液晶相表现温度。
涂膜的厚度过厚时，在液晶表示元件的耗电方面是不利的，涂膜的厚度过薄时，液晶表示元件的可靠性有时会降低，因此优选为5nm～300nm、更优选为10nm～150nm。
另外，在[I]工序之后且下一[II]工序之前，还可以设置将形成有涂膜的基板冷却至室温的工序。
<工序[II]>
在工序[II]中，对工序[I]中得到的涂膜照射偏振紫外线。对涂膜的膜面照射偏振紫外线时，从特定方向隔着偏振板对基板照射偏振的紫外线。作为要使用的紫外线，可以使用波长为100nm～400nm范围的紫外线。优选的是，根据要使用的涂膜种类，借助滤波器等选择最佳的波长。并且，例如可以选择使用波长为290nm～400nm范围的紫外线，以便能够选择性地诱发光交联反应。作为紫外线，可以使用例如由高压汞灯发出的光。
针对偏振紫外线的照射量，取决于要使用的涂膜。关于照射量，优选设为实现ΔA的最大值(以下也称为ΔAmax)的偏振紫外线的量的1％～70％的范围内、更优选设为1％～50％的范围内，所述ΔA是该涂膜的、平行于偏振紫外线的偏振方向的方向的紫外线吸光度与垂直于偏振紫外线的偏振方向的方向的紫外线吸光度之差。
<工序[III]>
工序[III]中，加热在工序[II]中照射了偏振紫外线的涂膜。通过加热而能够对涂膜赋予取向控制能力。
加热可以使用热板、热循环型烘箱或IR(红外线)型烘箱等加热手段。加热温度可以考虑使所用涂膜表现出液晶性的温度来确定。
加热温度优选为侧链型高分子会表现出液晶性的温度(以下称为液晶表现温度)的温度范围内。可预测到：在涂膜之类的薄膜表面的情况下，涂膜表面的液晶表现温度低于整体观察可表现出液晶性的感光性侧链型高分子时的液晶表现温度。因此，加热温度更优选为涂膜表面的液晶表现温度的温度范围内。即，照射偏振紫外线后的加热温度的温度范围优选是将比所用侧链型高分子的液晶表现温度的温度范围的下限低10℃的温度作为下限、且将比该液晶温度范围的上限低10℃的温度作为上限的范围的温度。加热温度低于上述温度范围时，存在涂膜中的由热带来的各向异性增幅效果不充分的倾向，另外，加热温度与上述温度范围相比过高时，存在涂膜状态接近于各向同性的液体状态(各向同性相)的倾向，此时，有时难以因自组装化而向一个方向再取向。
需要说明的是，液晶表现温度是指：侧链型高分子或涂膜表面从固体相向液晶相发生相转变的玻璃化转变温度(Tg)以上、且从液晶相向均质相(各向同性相)发生相转变的均质相转变温度(Tiso)以下的温度。
从与工序[I]中记载的相同理由出发，加热后形成的涂膜厚度可以优选为5nm～300nm、更优选为50nm～150nm。
<工序[IV]>
工序[IV]中，将工序[III]中加热的涂膜冷却至不足该涂膜表面的玻璃化转变温度的温度后，再加热至该玻璃化转变温度以上的温度。
即，将工序[III]中加热而得到的涂膜暂时冷却至不足涂膜表面的玻璃化转变温度的温度。换言之，通过将工序[III]中加热而得到的涂膜冷却至比涂膜表面的液晶表现温度的下限低的温度，从而使涂膜表面的液晶性状态相转变(玻璃化转变)至固体状。此处，由于存在涂膜表面的液晶表现温度比整体观察侧链型高分子时的液晶表现温度低的倾向，因此涂膜的冷却温度优选比作为(A)成分的侧链型高分子的玻璃化转变点温度(Tg)低10℃以上的温度。作为所述冷却温度的优选例，为室温(例如25℃)。
在工序[III]中加热而得到的涂膜的冷却可以使用冷却室、冷却材料等积极地冷却至目标的冷却温度，也可以通过从加热手段中取出并放置来缓慢地冷却。
进而，在工序[IV]中，将已冷却的涂膜再加热至涂膜表面的玻璃化转变温度以上的温度。具体而言，将已冷却的涂膜再加热至涂膜表面的液晶表现温度。如上所述，涂膜表面的液晶表现温度是指：涂膜表面的玻璃化转变温度以上且不足涂膜表面的均质相转变温度的温度。照射偏振紫外线后的涂膜的加热温度(工序[III]的加热温度)和冷却后的再加热时的加热温度可以不同也可以相同，再加热时的加热温度优选达到照射偏振紫外线后的涂膜的加热温度以下的温度。
通过具有如上工序，在本发明的制造方法中，能够实现对涂膜高效地导入各向异性。并且，能够高效地制造带液晶取向膜的基板。
<工序[V]>
[V]工序是将在[IV]中得到的横向电场驱动用导电膜上具有液晶取向膜的基板(第1基板)与同样地在上述[I’]～[III’]或[I’]～[IV’]中得到的不具有导电膜的带液晶取向膜的基板(第2基板)隔着液晶以两者的液晶取向膜相对的方式进行对向配置，利用公知的方法制作液晶单元，从而制作横向电场驱动型液晶表示元件的工序。需要说明的是，工序[I’]～[III’]]或工序[I’]～[IV’]中，除了在工序[I]中使用不具有横向电场驱动用导电膜的基板来代替具有该横向电场驱动用导电膜的基板之外，可与工序[I]～[III]或工序[I’]～[IV’]同样地进行。工序[I]～[IV]与工序[I’]～[IV’]的不同点仅在于有无上述导电膜，因此省略工序[I’]～[IV’]的说明。
若列举出液晶单元或液晶表示元件的一个制作例，则可例示出如下方法：准备上述的第1基板和第2基板，在一个基板的液晶取向膜上散布间隔物，以液晶取向膜面成为内侧的方式粘贴于另一个基板，减压注入液晶并密封的方法；或者，向散布有间隔物的液晶取向膜面滴加液晶后，粘贴基板并进行密封的方法等。此时，一侧的基板优选使用具有横向电场驱动用梳齿状结构的电极的基板。此时的间隔物直径优选为1μm～30μm、更优选为2μm～10μm。该间隔物直径决定用于夹持液晶层的一对基板的间距、即液晶层的厚度。
本发明的带涂膜的基板的制造方法中，将聚合物组合物涂布在基板上而形成涂膜后，照射偏振紫外线。接着，通过进行加热而实现向侧链型高分子膜中高效地导入各向异性，从而制造具备液晶取向控制能力的带液晶取向膜的基板。
本发明所用的涂膜中，利用侧链的光反应和基于液晶性的自组装化所诱发的分子再取向的原理，实现对涂膜高效地导入各向异性。本发明的制造方法中，侧链型高分子具有光交联性基团作为光反应性基团的结构时，使用侧链型高分子在基板上形成涂膜后，照射偏振紫外线，接着进行加热后，制作液晶表示元件。
以下，将使用了具有光交联性基团作为光反应性基团的结构的侧链型高分子的实施方式称为第1方式，将使用了具有光弗利斯重排基团或进行异构化的基团作为光反应性基团的结构的侧链型高分子的实施方式称为第2方式，并进行说明。
图1是示意性地说明在本发明的第1方式中使用了具有光交联性基团作为光反应性基团的结构的侧链型高分子而成的、液晶取向膜的制造方法中的各向异性导入处理的一例的图。图1的(a)是示意性地说明偏振光照射前的侧链型高分子膜的状态的图，图1的(b)是示意性地说明偏振光照射后的侧链型高分子膜的状态的图，图1的(c)是示意性地说明加热后的侧链型高分子膜的状态的图，尤其是所导入的各向异性小时，即在本发明的第1方式中，[II]工序的紫外线照射量在使ΔA到达最大的紫外线照射量的1％～15％的范围内时的示意图。
图2是示意性地说明在本发明的第1方式中使用了具有光交联性基团作为光反应性基团的结构的侧链型高分子而成的、液晶取向膜的制造方法中的各向异性导入处理的一例的图。图2的(a)是示意性地说明偏振光照射前的侧链型高分子膜的状态的图，图2的(b)是示意性地说明偏振光照射后的侧链型高分子膜的状态的图，图2的(c)是示意性地说明加热后的侧链型高分子膜的状态的图，尤其是所导入的各向异性大时，即在本发明的第1方式中，[II]工序的紫外线照射量在使ΔA达到最大的紫外线照射量的15％～70％的范围内时的示意图。
图3是示意性地说明在本发明的第2方式中使用了具有光异构化性基团或上述式(18)所示的光弗利斯重排基团作为光反应性基团的结构的侧链型高分子而成的、液晶取向膜的制造方法中的各向异性导入处理的一例的图。图3的(a)是示意性地说明偏振光照射前的侧链型高分子膜的状态的图，图3的(b)是示意性地说明偏振光照射后的侧链型高分子膜的状态的图，图3的(c)是示意性地说明加热后的侧链型高分子膜的状态的图，尤其是所导入的各向异性小时，即在本发明的第2方式中，[II]工序的紫外线照射量在使ΔA达到最大的紫外线照射量的1％～70％的范围内时的示意图。
图4是示意性地说明在本发明的第2方式中使用了具有上述式(19)所示的光弗利斯重排基团作为光反应性基团的结构的侧链型高分子而成的、液晶取向膜的制造方法中的各向异性导入处理的一例的图。图4的(a)是示意性地说明偏振光照射前的侧链型高分子膜的状态的图，图4的(b)是示意性地说明偏振光照射后的侧链型高分子膜的状态的图，图4的(c)是示意性地说明加热后的侧链型高分子膜的状态的图，尤其是所导入的各向异性大时，即在本发明的第2方式中，[II]工序的紫外线照射量在使ΔA达到最大的紫外线照射量的1％～70％的范围内时的示意图。
本发明的第1方式中，通过对涂膜导入各向异性的处理，[II]工序的紫外线照射量是使ΔA达到最大的紫外线照射量的1％～15％的范围内时，首先，在基板上形成涂膜1。如图1的(a)所示那样，基板上形成的涂膜1中，具有侧链2随机排列的结构。根据涂膜1的侧链2的随机排列，侧链2的液晶原成分和感光性基团也随机地取向，该涂膜1是各向同性的。
本发明的第1方式中，通过对涂膜导入各向异性的处理，[II]工序的紫外线照射量是使ΔA达到最大的紫外线照射量的15％～70％的范围内时，首先，在基板上形成涂膜3。如图2的(a)所示那样，基板上形成的涂膜3中，具有侧链4随机排列的结构。根据涂膜3的侧链4的随机排列，侧链4的液晶原成分和感光性基团也随机地取向，该涂膜2是各向同性的。
本发明的第2方式中，通过对涂膜导入各向异性的处理，应用使用了具有光异构化性基团或上述式(18)所示的光弗利斯重排基团的结构的侧链型高分子的液晶取向膜时，[II]工序的紫外线照射量是使ΔA达到最大的紫外线照射量的1％～70％的范围内时，首先，在基板上形成涂膜5。如图3的(a)所示那样，基板上形成的涂膜5中，具有侧链6随机排列的结构。根据涂膜5的侧链6的随机排列，侧链6的液晶原成分和感光性基团也随机地取向，该侧链型高分子膜5是各向同性的。
本发明的第2方式中，通过对涂膜导入各向异性的处理，应用使用了具有上述式(19)所示的光弗利斯重排基团的结构的侧链型高分子的液晶取向膜时，[II]工序的紫外线照射量是使ΔA达到最大的紫外线照射量的1％～70％的范围内时，首先，在基板上形成涂膜7。如图4的(a)所示那样，基板上形成的涂膜7中，具有侧链8随机排列的结构。根据涂膜7的侧链8的随机排列，侧链8的液晶原成分和感光性基团也随机地取向，该涂膜7是各向同性的。
本实施的第1方式中，[II]工序的紫外线照射量是使ΔA达到最大的紫外线照射量的1％～15％的范围内时，对该各向同性的涂膜1照射偏振紫外线。由此，如图1的(b)所示那样，沿着与紫外线的偏振方向平行的方向排列的侧链2之中的、具有感光性基团的侧链2a的感光性基团优先地发生二聚反应等光反应。其结果，发生了光反应的侧链2a的密度在照射紫外线的偏振方向上略微变高，其结果，对涂膜1赋予非常小的各向异性。
本实施的第1方式中，[II]工序的紫外线照射量是使ΔA达到最大的紫外线照射量的15％～70％的范围内时，对该各向同性的涂膜3照射偏振紫外线。由此，如图2的(b)所示那样，沿着与紫外线的偏振方向平行的方向排列的侧链4之中的、具有感光性基团的侧链4a的感光性基团优先地发生二聚反应等光反应。其结果，发生了光反应的侧链4a的密度在照射紫外线的偏振方向上变高，其结果，对涂膜3赋予小的各向异性。
在本实施的第2方式中，应用使用了具有光异构化性基团或上述式(18)所示的光弗利斯重排基团的结构的侧链型高分子的液晶取向膜，[II]工序的紫外线照射量是使ΔA达到最大的紫外线照射量的1％～70％的范围内时，对该各向同性的涂膜5照射偏振紫外线。由此，如图3的(b)所示那样，沿着与紫外线的偏振方向平行的方向排列的侧链6之中的、具有感光性基团的侧链6a的感光性基团优先地发生光弗利斯重排等光反应。其结果，发生了光反应的侧链6a的密度在照射紫外线的偏振方向上略微变高，其结果，对涂膜5赋予非常小的各向异性。
在本实施的第2方式中，应用使用了具有上述式(19)所示的光弗利斯重排基团的结构的侧链型高分子的涂膜，[II]工序的紫外线照射量是使ΔA达到最大的紫外线照射量的1％～70％的范围内时，对该各向同性的涂膜7照射偏振紫外线。由此，如图4的(b)所示那样，沿着与紫外线的偏振方向平行的方向排列的侧链8之中的、具有感光性基团的侧链8a的感光性基团优先地发生光弗利斯重排等光反应。其结果，发生了光反应的侧链8a的密度在照射紫外线的偏振方向上变高，其结果，对涂膜7赋予小的各向异性。
接着，本实施的第1方式中，[II]工序的紫外线照射量是使ΔA达到最大的紫外线照射量的1％～15％的范围内时，将照射偏振光后的涂膜1加热而制成液晶状态。由此，如图1的(c)所示那样，涂膜1中，在平行于照射紫外线的偏振方向的方向与垂直于照射紫外线的偏振方向的方向之间，产生的交联反应的量不同。此时，平行于照射紫外线的偏振方向的方向产生的交联反应的量非常小，因此该交联反应部位作为增塑剂而起作用。因此，垂直于照射紫外线的偏振方向的方向的液晶性高于平行于照射紫外线的偏振方向的方向的液晶性，平行于照射紫外线的偏振方向的方向发生自组装化，包含液晶原成分的侧链2进行再取向。其结果，因光交联反应而诱发的涂膜1的非常小的各向异性因热而放大，对涂膜1赋予更大的各向异性。
同样地，本实施的第1方式中，[II]工序的紫外线照射量是使ΔA达到最大的紫外线照射量的15％～70％的范围内时，将偏振光照射后的涂膜3加热而制成液晶状态。由此，如图2的(c)所示那样，侧链型高分子膜3中，在平行于照射紫外线的偏振方向的方向与垂直于照射紫外线的偏振方向的方向之间，产生的交联反应的量不同。因此，平行于照射紫外线的偏振方向的方向发生自组装化，包含液晶原成分的侧链4进行再取向。其结果，因光交联反应而诱发的涂膜3的较小的各向异性因热而放大，对涂膜3赋予更大的各向异性。
同样地，本实施的第2方式中，应用使用了具有光异构化性基团或上述式(18)所示的光弗利斯重排基团的结构的侧链型高分子的涂膜，[II]工序的紫外线照射量是使ΔA达到最大的紫外线照射量的1％～70％的范围内时，将偏振光照射后的涂膜5进行加热而制成液晶状态。由此，如图3的(c)所示那样，涂膜5中，在平行于照射紫外线的偏振方向的方向与垂直于照射紫外线的偏振方向的方向之间，产生的光弗利斯重排反应的量不同。此时，垂直于照射紫外线的偏振方向的方向产生的光弗利斯重排体的液晶取向力比反应前的侧链的液晶取向力强，因此垂直于照射紫外线的偏振方向的方向发生自组装化，包含液晶原成分的侧链6进行再取向。其结果，因光弗利斯重排反应而诱发的涂膜5的非常小的各向异性因热而放大，对涂膜5赋予更大的各向异性。
同样地，本实施的第2方式中，应用使用了具有上述式(19)所示的光弗利斯重排基团的结构的侧链型高分子的涂膜，[II]工序的紫外线照射量是使ΔA达到最大的紫外线照射量的1％～70％的范围内时，将偏振光照射后的涂膜7进行加热而制成液晶状态。由此，如图4的(c)所示那样，侧链型高分子膜7中，在平行于照射紫外线的偏振方向的方向与垂直于照射紫外线的偏振方向的方向之间，产生的光弗利斯重排反应的量不同。光弗利斯重排体8(a)的锚固力比重排前的侧链8强，因此产生某一定量以上的光弗利斯重排体时，平行于照射紫外线的偏振方向的方向发生自组装化，包含液晶原成分的侧链8进行再取向。其结果，因光弗利斯重排反应而诱发的涂膜7的较小的各向异性因热而放大，对涂膜7赋予更大的各向异性。
因此，本发明的方法中使用的涂膜通过依次进行对涂膜照射偏振紫外线和加热处理，从而被高效地导入各向异性，能够制成取向控制能力优异的液晶取向膜。
并且，对于本发明的方法中使用的涂膜而言，优化对涂膜照射的偏振紫外线的照射量和加热处理的加热温度。由此能够实现对涂膜高效地导入各向异性。
对于向本发明中使用的涂膜高效地导入各向异性而言最佳的偏振紫外线的照射量对应于使该涂膜中的感光性基团发生光交联反应、光异构化反应或光弗利斯重排反应的量达到最佳的偏振紫外线照射量。对本发明中使用的涂膜照射偏振紫外线的结果，进行光交联反应、光异构化反应或光弗利斯重排反应的侧链的感光性基团少时，达不到充分的光反应量。此时，即使在其后进行加热也不会进行充分的自组装化。另一方面，对于本发明中使用的涂膜而言，对具有光交联性基团的结构照射偏振紫外线的结果，进行交联反应的侧链的感光性基团过量时，侧链间的交联反应会过度推进。此时，所得膜变得刚直，有时妨碍其后的通过加热的自组装化的推进。另外，对于本发明中使用的涂膜而言，对具有光弗利斯重排基团的结构照射偏振紫外线的结果，进行光弗利斯重排反应的侧链的感光性基团变得过量时，涂膜的液晶性会过分降低。此时，所得膜的液晶性也降低，有时妨碍其后的通过加热的自组装化的推进。进而，对具有光弗利斯重排基团的结构照射偏振紫外线时，若紫外线的照射量过多，则侧链型高分子发生光分解，有时妨碍其后的通过加热的自组装化的推进。
因此，在本发明所使用的涂膜中，侧链的感光性基团因偏振紫外线的照射而发生光交联反应、光异构化反应或光弗利斯重排反应的最佳量优选设为该侧链型高分子膜所具有的感光性基团的0.1摩尔％～40摩尔％、更优选设为0.1摩尔％～20摩尔％。通过使进行光反应的侧链的感光性基团的量为这种范围，其后的加热处理中的自组装化会高效推进，能够形成膜中的高效各向异性。
本发明的方法所使用的涂膜中，通过偏振紫外线的照射量的优化，从而优化侧链型高分子膜的侧链中的感光性基团的光交联反应、光异构化反应或光弗利斯重排反应的量。并且，与其后的加热处理一并实现向本发明所使用的涂膜中高效地导入各向异性。此时，针对适合的偏振紫外线量，能够基于本发明所使用的涂膜的紫外吸收的评价来进行。
即，针对本发明中使用的涂膜，分别测定在偏振紫外线照射后的、平行于偏振紫外线的偏振方向的方向的紫外线吸收和垂直于偏振紫外线的偏振方向的方向的紫外线吸收。由紫外吸收的测定结果评价ΔA，所述ΔA是该涂膜中的平行于偏振紫外线的偏振方向的方向的紫外线吸光度与垂直于偏振紫外线的偏振方向的方向的紫外线吸光度之差。并且，求出本发明所使用的涂膜中实现的ΔA的最大值(ΔAmax)和实现其的偏振紫外线的照射量。本发明的制造方法中，将该实现ΔAmax的偏振紫外线照射量作为基准，能够确定在液晶取向膜的制造中照射的优选量的偏振紫外线量。
本发明的制造方法中，优选将对本发明所使用的涂膜照射的偏振紫外线的照射量设为会实现ΔAmax的偏振紫外线的量的1％～70％的范围内、更优选设为1％～50％的范围内。在本发明所使用的涂膜中，会实现ΔAmax的偏振紫外线的量的1％～50％的范围内的偏振紫外线的照射量相当于使该侧链型高分子膜所具有的感光性基团整体的0.1摩尔％～20摩尔％发生光交联反应的偏振紫外线的量。
如上所述，在本发明的制造方法中，为了实现对涂膜高效地导入各向异性，以该侧链型高分子的液晶温度范围作为基准，确定上述那样的适合加热温度即可。因此，例如本发明所使用的侧链型高分子的液晶温度范围为100℃～200℃时，期望使偏振紫外线照射后的加热温度为90℃～190℃。通过这样设定，对本发明所使用的涂膜赋予更大的各向异性。
通过这样操作，通过本发明而提供的液晶表示元件对光、热等外部应力显示高可靠性。
如上那样操作，通过本发明方法而制造的横向电场驱动型液晶表示元件用基板或者具有该基板的横向电场驱动型液晶表示元件的可靠性优异，可适合地用于大画面且高清晰的液晶电视等。
实施例
如下示出实施例中使用的简称。
(甲基丙烯酸类单体)
MA1通过专利文献(WO2011-084546)所述的合成方法来合成。
MA2通过专利文献(日本特开平9-118717)所述的合成方法来合成。
(有机溶剂)
THF：四氢呋喃
NMP：N-甲基-2-吡咯烷酮
BC：丁基溶纤剂
(聚合引发剂)
AIBN：2,2’-偶氮双异丁腈
[相转变温度的测定]
通过实施例得到的聚合物的液晶相转变温度使用差示扫描量热测定(DSC)DSC3100SR(マック·サイエンス公司制)来测定。
<合成例1>
将MA1(15.29g、46mmol)、MA2(56.37g、184mmol)溶解在THF(655.1g)中，用隔膜泵进行脱气后，添加AIBN(1.13g、6.9mmol)并再次进行脱气。此后，以60℃反应20小时而得到甲基丙烯酸酯的聚合物溶液。将该聚合物溶液滴加至二乙醚(7000ml)，过滤所得沉淀物。将该沉淀物用二乙醚清洗，在40℃的烘箱中进行减压干燥，从而得到甲基丙烯酸酯聚合物粉末。该聚合物的数均分子量为15000、重均分子量为40500。
所得甲基丙烯酸酯聚合物的液晶相转变温度为120℃～185℃。
向所得甲基丙烯酸酯聚合物粉末(6.0g)中添加NMP(54.0g)，以室温搅拌5小时而使其溶解。向该溶液中添加BC(40.0g)并搅拌，从而得到液晶取向剂(A)。
<实施例1>
(液晶单元的制作)
使用合成例1中得到的液晶取向剂(A)，按照下述示出的步骤进行液晶单元的制作。
基板是尺寸为30mm×40mm、厚度为0.7mm的玻璃基板，使用配置有将ITO膜图案化而形成的梳齿状像素电极的基板。像素电极具有中央部分发生弯曲的“＜”字形电极要素经多个排列而构成的梳齿状形状。各电极要素的宽度方向的宽度是10μm，电极要素间的间隔为20μm。形成各像素的像素电极由中央部分发生弯曲的“＜”字形的电极要素经多个排列而构成，因此各像素的形状不是长方形状，而是具备与电极要素同样地在中央部分发生弯曲的、类似于粗体的“＜”字的形状。并且，各像素以该中央的弯曲部分为界被上下分割，具有弯曲部分的上侧的第1区域和下侧的第2区域。对比各像素的第1区域和第2区域时，构成它们的像素电极的电极要素的形成方向不同。即，将后述液晶取向膜的取向处理方向作为基准时，在像素的第1区域中，以呈现+15°的角度(顺时针)的方式形成像素电极的电极要素，在像素的第2区域中，以呈现-15°的角度(顺时针)的方式形成像素电极的电极要素。即，各像素的第1区域与第2区域如下构成：通过在像素电极与对向电极之间施加电压而诱发的液晶的、基板面内的旋转动作(平面切换)的方向互为相反方向。
将合成例1中得到的液晶取向剂(A)旋涂在所准备的上述带电极的基板上。接着，用70℃的热板干燥90秒钟，形成膜厚为100nm的液晶取向膜。接着，隔着偏振板以10mJ/cm2对涂膜面照射313nm的紫外线后，用150℃的热板加热10分钟(1次烧成)，将缓慢冷却(冷却)至室温的基板再次用150℃的热板加热10分钟(2次烧成)，从而得到带液晶取向膜的基板。同样操作，关于紫外线的照射量，在10mJ/cm2～100mJ/cm2中以10mJ/cm2的间隔、在100mJ/cm2以上以50mJ/cm2的间隔，分别制作不同的基板。
另外，作为对向基板，对未形成电极且具有高度4μm的柱状间隔物的玻璃基板也同样地形成涂膜，实施取向处理。在一个基板的液晶取向膜上印刷密封剂(协立化学株式会社制、XN-1500T)。接着，以液晶取向膜面相对且取向方向达到0°的方式粘贴另一个基板后，使密封剂热固化而制作空单元。通过减压注入法向该空单元中注入液晶MLC-2041(MERCKCORPORATION制)，密封注入口，得到具备IPS(In-PlanesSwitching，平面切换)模式的液晶表示元件构成的液晶单元。
(取向性观察)
利用上述方法制作液晶单元。其后，在120℃的烘箱中进行60分钟的再取向处理。其后，通过将偏振板制成交叉棱镜状态的偏振光显微镜进行观察。旋转液晶单元而呈现表示黑色的状态时，不存在亮点、取向不良的状态视作良好。关于紫外线的照射量，如上所述，针对各不相同的基板观察取向性的结果，取向性良好的照射量边界如表1所示那样。
<实施例2>
除了将2次烧成处理的温度设为130℃之外，利用与实施例1相同的方法制作液晶单元。使用所得液晶单元，利用与实施例1相同的方法，评价取向性。
结果如表1所示那样。
<比较例1～2>
除了有无缓慢冷却工序和不含二次烧成处理之外，利用与实施例1相同的方法制作液晶单元。使用所得液晶单元，利用与实施例1相同的方法，评价取向性。
将评价结果总结示于表1。
结果如表1所示那样。
[表1]
根据结果，在经由缓慢冷却工序并进行2次烧成的条件下，显示良好液晶取向性的UV照射量的边界扩大。
推测这是因为：通过1次烧成而确定了主要的聚合物骨架的取向方位，但其后通过冷却至不足玻璃化转变温度，在1次烧成的温度下为透明点以上或透明点附近的寡聚物成分、低分子量成分在维持杂乱取向状态的情况下呈现玻璃状态(比较例1、2)。此处认为：可能是再次以玻璃化转变温度以上且液晶透明点以下的温度再次进行加热时，仅寡聚物成分、低分子量成分沿着由1次烧成确定的主要聚合物骨架的取向方位的形式进行重排，从而取向膜整体的取向性得以提高。(需要说明的是，这些是理论推测，并不限定本发明)。
附图标记说明
图1
1侧链型高分子膜
2、2a侧链
图2
3侧链型高分子膜
4、4a侧链
图3
5侧链型高分子膜
6、6a侧链
图4
7侧链型高分子膜
8、8a侧链

Claims (17)

1.一种具有横向电场驱动型液晶表示元件用液晶取向膜的基板的制造方法，其通过具备如下工序而得到被赋予了取向控制能力的所述液晶取向膜：
[I]将聚合物组合物涂布在具有横向电场驱动用导电膜的基板上而形成涂膜的工序，所述聚合物组合物含有：(A)在特定的温度范围内表现出液晶性的感光性侧链型高分子、以及(B)有机溶剂；
[II]对[I]中得到的涂膜照射偏振紫外线的工序；
[III]将[II]中得到的涂膜进行加热的工序；以及
[IV]将[III]中加热的涂膜冷却至不足该涂膜表面的玻璃化转变温度的温度后，再加热至该玻璃化转变温度以上的温度的工序。
2.根据权利要求1所述的方法，其中，[IV]工序中的涂膜的冷却温度是比作为(A)成分的侧链型高分子的玻璃化转变点温度(Tg)低10℃以上的温度。
3.根据权利要求1或2所述的方法，其中，紫外线照射后的涂膜的加热温度和冷却后的再加热温度为涂膜表面的玻璃化转变温度以上且不足涂膜表面的均质相转变温度的温度。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的方法，其中，(A)成分具有会发生光交联、光异构化或光弗利斯重排的感光性侧链。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的方法，其中，(A)成分具有选自由下述式(1)～(6)组成的组中的任一种感光性侧链，
式中，A、B、D各自独立地表示单键、-O-、-CH2-、-COO-、-OCO-、-CONH-、-NH-CO-、-CH＝CH-CO-O-或-O-CO-CH＝CH-；
S为碳数1～12的亚烷基，键合于它们的氢原子任选被卤素基团取代；
T为单键或碳数1～12的亚烷基，键合于它们的氢原子任选被卤素基团取代；
Y1表示选自1价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、吡咯环和碳数5～8的脂环式烃中的环，或者是选自这些取代基中的相同或不同的2～6个环借助键合基团B键合而成的基团，键合于它们的氢原子各自独立地任选被-COOR0、-NO2、-CN、-CH＝C(CN)2、-CH＝CH-CN、卤素基团、碳数1～5的烷基、或碳数1～5的烷氧基取代，式中，R0表示氢原子或碳数1～5的烷基；
Y2为选自由2价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、吡咯环、碳数5～8的脂环式烃和它们的组合组成的组中的基团，键合于它们的氢原子各自独立地任选被-NO2、-CN、-CH＝C(CN)2、-CH＝CH-CN、卤素基团、碳数1～5的烷基、或碳数1～5的烷氧基取代；
R表示羟基、碳数1～6的烷氧基，或者表示与Y1相同的定义；
X表示单键、-COO-、-OCO-、-N＝N-、-CH＝CH-、-C≡C-、-CH＝CH-CO-O-或-O-CO-CH＝CH-，X的数量达到2时，X任选彼此相同或不同；
Cou表示香豆素-6-基或香豆素-7-基，键合于它们的氢原子各自独立地任选被-NO2、-CN、-CH＝C(CN)2、-CH＝CH-CN、卤素基团、碳数1～5的烷基、或碳数1～5的烷氧基取代；
q1和q2中的一者为1，另一者为0；
q3为0或1；
P和Q各自独立地为选自由2价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、吡咯环、碳数5～8的脂环式烃和它们的组合组成的组中的基团；其中，X为-CH＝CH-CO-O-、-O-CO-CH＝CH-时，-CH＝CH-所键合的一侧的P或Q为芳香环，P的数量达到2以上时，P任选彼此相同或不同，Q的数量达到2以上时，Q任选彼此相同或不同；
l1为0或1；
l2为0～2的整数；
l1和l2均为0时，T为单键时A也表示单键；
l1为1时，T为单键时B也表示单键；
H和I各自独立地为选自2价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、吡咯环和它们的组合中的基团。
6.根据权利要求1～4中任一项所述的方法，其中，(A)成分具有选自由下述式(7)～(10)组成的组中的任一种感光性侧链，
式中，A、B、D各自独立地表示单键、-O-、-CH2-、-COO-、-OCO-、-CONH-、-NH-CO-、-CH＝CH-CO-O-或-O-CO-CH＝CH-；
Y1表示选自1价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、吡咯环和碳数5～8的脂环式烃中的环，或者是选自这些取代基中的相同或不同的2～6个环借助键合基团B键合而成的基团，键合于它们的氢原子各自独立地任选被-COOR0、-NO2、-CN、-CH＝C(CN)2、-CH＝CH-CN、卤素基团、碳数1～5的烷基、或碳数1～5的烷氧基取代，式中，R0表示氢原子或碳数1～5的烷基；
X表示单键、-COO-、-OCO-、-N＝N-、-CH＝CH-、-C≡C-、-CH＝CH-CO-O-或-O-CO-CH＝CH-，X的数量达到2时，X任选彼此相同或不同；
l表示1～12的整数；
m表示0～2的整数，m1、m2表示1～3的整数；
n表示0～12的整数，其中，n＝0时，B为单键；
Y2为选自由2价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、吡咯环、碳数5～8的脂环式烃和它们的组合组成的组中的基团，键合于它们的氢原子各自独立地任选被-NO2、-CN、-CH＝C(CN)2、-CH＝CH-CN、卤素基团、碳数1～5的烷基、或碳数1～5的烷氧基取代；
R表示羟基、碳数1～6的烷氧基，或者表示与Y1相同的定义。
7.根据权利要求1～4中任一项所述的方法，其中，(A)成分具有选自由下述式(11)～(13)组成的组中的任一种感光性侧链，
式中，A各自独立地表示单键、-O-、-CH2-、-COO-、-OCO-、-CONH-、-NH-CO-、-CH＝CH-CO-O-或-O-CO-CH＝CH-；
X表示单键、-COO-、-OCO-、-N＝N-、-CH＝CH-、-C≡C-、-CH＝CH-CO-O-或-O-CO-CH＝CH-，X的数量达到2时，X任选彼此相同或不同；
l表示1～12的整数，m表示0～2的整数，m1表示1～3的整数；
R表示选自1价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、吡咯环和碳数5～8的脂环式烃中的环，或者是选自这些取代基中的相同或不同的2～6个环借助键合基团B键合而成的基团，键合于它们的氢原子各自独立地任选被-COOR0、-NO2、-CN、-CH＝C(CN)2、-CH＝CH-CN、卤素基团、碳数1～5的烷基、或碳数1～5的烷氧基取代，式中，R0表示氢原子或碳数1～5的烷基，或者R表示羟基或碳数1～6的烷氧基。
8.根据权利要求1～4中任一项所述的方法，其中，(A)成分具有下述式(14)或(15)所示的感光性侧链，
式中，A各自独立地表示单键、-O-、-CH2-、-COO-、-OCO-、-CONH-、-NH-CO-、-CH＝CH-CO-O-或-O-CO-CH＝CH-；
Y1表示选自1价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、吡咯环和碳数5～8的脂环式烃中的环，或者是选自这些取代基中的相同或不同的2～6个环借助键合基团B键合而成的基团，键合于它们的氢原子各自独立地任选被-COOR0、-NO2、-CN、-CH＝C(CN)2、-CH＝CH-CN、卤素基团、碳数1～5的烷基、或碳数1～5的烷氧基取代，式中，R0表示氢原子或碳数1～5的烷基；
l表示1～12的整数，m1、m2表示1～3的整数。
9.根据权利要求1～4中任一项所述的方法，其中，(A)成分如下述式(16)或(17)所示，
式中，A表示单键、-O-、-CH2-、-COO-、-OCO-、-CONH-、-NH-CO-、-CH＝CH-CO-O-或-O-CO-CH＝CH-；
X表示单键、-COO-、-OCO-、-N＝N-、-CH＝CH-、-C≡C-、-CH＝CH-CO-O-或-O-CO-CH＝CH-，X的数量达到2时，X任选彼此相同或不同；
l表示1～12的整数，m表示0～2的整数。
10.根据权利要求1～4中任一项所述的方法，其中，(A)成分具有选自由下述式(18)或(19)组成的组中的任一种感光性侧链，
式中，A、B各自独立地表示单键、-O-、-CH2-、-COO-、-OCO-、-CONH-、-NH-CO-、-CH＝CH-CO-O-或-O-CO-CH＝CH-；
Y1表示选自1价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、吡咯环和碳数5～8的脂环式烃中的环，或者是选自这些取代基中的相同或不同的2～6个环借助键合基团B键合而成的基团，键合于它们的氢原子各自独立地任选被-COOR0、-NO2、-CN、-CH＝C(CN)2、-CH＝CH-CN、卤素基团、碳数1～5的烷基、或碳数1～5的烷氧基取代，式中，R0表示氢原子或碳数1～5的烷基；
q1和q2中的一者为1，另一者为0；
l表示1～12的整数，m1、m2表示1～3的整数；
R1表示氢原子、-NO2、-CN、-CH＝C(CN)2、-CH＝CH-CN、卤素基团、碳数1～5的烷基、或碳数1～5的烷氧基。
11.根据权利要求1～4中任一项所述的方法，其中，(A)成分具有下述式(20)所示的感光性侧链，
式中，A表示单键、-O-、-CH2-、-COO-、-OCO-、-CONH-、-NH-CO-、-CH＝CH-CO-O-或-O-CO-CH＝CH-；
Y1表示选自1价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、吡咯环和碳数5～8的脂环式烃中的环，或者是选自这些取代基中的相同或不同的2～6个环借助键合基团B键合而成的基团，键合于它们的氢原子各自独立地任选被-COOR0、-NO2、-CN、-CH＝C(CN)2、-CH＝CH-CN、卤素基团、碳数1～5的烷基、或碳数1～5的烷氧基取代，式中，R0表示氢原子或碳数1～5的烷基；
X表示单键、-COO-、-OCO-、-N＝N-、-CH＝CH-、-C≡C-、-CH＝CH-CO-O-或-O-CO-CH＝CH-，X的数量达到2时，X任选彼此相同或不同；
l表示1～12的整数，m表示0～2的整数。
12.根据权利要求1～11中任一项所述的方法，其中，(A)成分具有选自由下述式(21)～(31)组成的组中的任一种液晶性侧链，
式中，A和B具有与上述相同的定义；
Y3为选自由1价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、含氮杂环和碳数5～8的脂环式烃、以及它们的组合组成的组中的基团，键合于它们的氢原子各自独立地任选被-NO2、-CN、卤素基团、碳数1～5的烷基、或碳数1～5的烷氧基取代；
R3表示氢原子、-NO2、-CN、-CH＝C(CN)2、-CH＝CH-CN、卤素基团、1价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、含氮杂环、碳数5～8的脂环式烃、碳数1～12的烷基、或碳数1～12的烷氧基；
q1和q2中的一者为1，另一者为0；
l表示1～12的整数，m表示0～2的整数，其中，式(23)～(24)中，所有的m的总和为2以上，式(25)～(26)中，所有的m的总和为1以上，m1、m2和m3各自独立地表示1～3的整数；
R2表示氢原子、-NO2、-CN、卤素基团、1价的苯环、萘环、联苯环、呋喃环、含氮杂环、以及碳数5～8的脂环式烃和烷基或烷氧基；
Z1、Z2表示单键、-CO-、-CH2O-、-CH＝N-、-CF2-。
13.一种具有横向电场驱动型液晶表示元件用液晶取向膜的基板，其是通过权利要求1～12中任一项所述的方法制造的。
14.一种横向电场驱动型液晶表示元件，其具有权利要求13所述的基板。
15.一种横向电场驱动型液晶表示元件的制造方法，其通过具备如下工序而得到该液晶表示元件：
准备权利要求13所述的基板即第1基板的工序；
获得具有下述液晶取向膜的第2基板的工序，其通过具备下述工序[I’]、[II’]和[III’]而得到被赋予了取向控制能力的液晶取向膜；以及
[V]以所述第1液晶取向膜和第2液晶取向膜隔着液晶相对的方式，对向配置所述第1基板和第2基板，从而得到液晶表示元件的工序，
所述工序[I’]、[II’]和[III’]为：
[I’]在第2基板上涂布聚合物组合物而形成涂膜的工序，所述聚合物组合物含有：(A)在特定的温度范围内表现出液晶性的感光性侧链型高分子、以及(B)有机溶剂；
[II’]对[I’]中得到的涂膜照射偏振紫外线的工序；以及
[III’]将[II’]中得到的涂膜进行加热的工序。
16.根据权利要求15所述的方法，其中，获得所述第2基板的工序还具有[IV’]将[III’]中加热的涂膜冷却至不足该涂膜表面的玻璃化转变温度的温度后，再加热至该玻璃化转变温度以上的温度的工序。
17.一种横向电场驱动型液晶表示元件，其是通过权利要求15或16所述的方法制造的。
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