CN105370920B - 流体处理装置 - Google Patents
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Abstract
本发明公开流体处理装置,包括机架(16),固定在机架上的下阀体(5),装置中心设置有空心主轴(1),主轴上安装有回转分配器(7,8),主轴上端安装有上阀体(2),上下阀体之间设置有1对环形密封板(3,4),环形密封板以中心轴线为中心,沿环形位置均匀分布有内外两圈通孔,这些通孔与上下阀体分别对应,装置机架周围布置有化学反应容器(17),化学反应容器、阀体密封板及回转分配器之间通过管路(12,11,15,10,9)连接,装置还设置有驱动机构(13),用于驱动上阀体、主轴及回转分配器上端做分度旋转,从而实现将工艺进出料口的流体,按要求分别分配到不同的化学容器中。
Description
技术领域
本发明涉及一种用于流体进行化学或者物理处理的装置。
背景技术
该类似功能装置通常在现有技术中已公知(例如,可以参见CN201080023936.6),其公开做法是将流体处理柱2(化学反应容器)置于一围绕中心阀芯旋转的转台上,通过驱动转台或阀芯转动来实现工艺管路的切换连接,根据具体应用的场合不同,该流体处理柱子2的总重量通常在一百多吨到三百多吨的范围,这导致需要一套足够强大的支撑及驱动系统来带动这些容器同步运行,另一个工艺要求是驱动过程要求尽量快速和精确,为满足支撑及精度要求,通常需要装置配套有高精度转台和控制检测系统以及高强度的基础支撑,实现这些功能需要用户支付高昂的成本费用,由于巨大转动惯量的存在,实现快速转动通常是非常困难的,如前面所述,要支撑这样重的负载,装置需要配备数量众多的支撑轮组及轴承,这些轮组及轴承在今后的使用维护过程中也会给用户带来额外的成本。
发明内容
本发明的目的在于提供一种改进结构的流体处理装置,以解决现有技术中存在的上述问题。
本发明提供的技术方案如下:
一种流体处理装置,其特征在于:包括中心轴体(1),中心轴体(1)外分别套接上下叠加的上阀体(2)和下阀体(5),其中下阀体(5)固定在一机架(16)上,中心轴体(1)可相对于下阀体(5)旋转,且上阀体(2)和下阀体(5)两者之间也可相对旋转;上阀体(2)和下阀体(5)之间设有互相配合的管路(11/14);
中心轴体(1)的下端安装有回转分配器,它包括上回转分配器(7)和下回转分配器(8),其中,下回转分配器(8)固定在机架(16)上,上回转分配器(7)和中心轴体(1)构成同步旋转关系,上回转分配器(7)可相对于下回转分配器(8)旋转;
回转分配器内设有管路(9/10),其通过连接管(15)和上阀体(2)的管路(14)连通配合,化学反应容器(17)设于地面或机架(16)上,其通过连接管(12)和下阀体(5)连通配合。
在本发明的较佳实施例中,还包括驱动上阀体(2)和中心轴体(1)旋转的驱动机构(13)。
在本发明的较佳实施例中,上阀体(2)沿环形位置均匀分布有内外两圈管路(14),下阀体(5)沿环形位置均匀分布有内外两圈管路(11)。
在本发明的较佳实施例中,上阀体(2)的下表面和下阀体(5)的上表面之间设上环形密封板(3)和下环形密封板(4)。
在本发明的较佳实施例中,上环形密封板(3)和下环形密封板(4)沿环形位置分别均匀分布有内外两圈通孔,上阀体(2)的管路(14)和下阀体的管路(11)通过上下环形密封板的通孔连通。
在本发明的较佳实施例中,上回转分配器(7)和下回转分配器(8)分别设有多组相对切换配合的管路(9)和(10),所述回转分配器上下两个部分能够在任意相对旋转角度保持对应管路的连通。
由上述描述可知,本发明通过回转分配器同密封阀体的组合设计,摒弃了转台的使用,使得化学反应容器只需要简单的固定在地面上或机架上即可,承载化学容器的转台及配套装置不再需要,由转台带来的以上弊端(例如需要驱动上百吨的化学反应容器运动)得以消除。
本发明的另外一个优点是回转分配器同阀体之间的连接管(15)可以进行自由组合连接,从而实现不同工艺要求。
附图说明
图1为本发明的流体处理装置的结构示意图。
中心轴体1上阀体2上环形密封板3下环形密封板4下阀体5轴承6上回转分配器7下回转分配器8管路9/10/11/14连接管12/15驱动机构13机架16化学反应容器17A为中轴线B为进料/出料口
具体实施方式
附图1示意的展示了本发明装置,本发明专利所描述的装置对于专业技术人员来说很容易得到启发,任何对本发明专利的改进及补充都应落入本专利的权利要求范围内。
本发明的具体实施例,参照图1,一种流体处理装置,它包括中心轴体1,所述的中心轴体1为圆筒形,外面分别套接上阀体2和下阀体5,其中上阀体2和下阀体5分别可相对于中心轴体1旋转,且上阀体2和下阀体5两者之间也可相对旋转,两者的旋转面之间设上环形密封板3和下环形密封板4。在本实施例中,上环形密封板3和上阀体2之间为固定连接,下环形密封板4和下阀体5之间也为固定连接。在其它实施例中,上环形密封板3和上阀体2可以一体成型,下环形密封板4和下阀体5之间也可以为一体成型;或是其中一组一体成型。
下阀体5固定在机架16上,上阀体2被驱动机构13驱动。在本实施例中,该驱动机构为液压缸。
上阀体2设有内外两圈均匀分布的、分别连通上下表面的管路14,下阀体5设有内外两圈均匀分布的、分别连通上表面和侧面的管路11。上环形密封板3和下环形密封板4分别对应均匀分布有内外两圈通孔,通孔分别和管路11和管路14连通。这样,上阀体2的管路14和下阀体的管路11通过上下环形密封板的通孔能够连通。
中心轴体1的下端安装有回转分配器,它包括上回转分配器7和下回转分配器8两个部分,其中,下回转分配器8固定在机架16上,上回转分配器7的上端和中心轴体1的下端套接形成同步旋转关系,下表面可相对于下回转分配器8旋转。上回转分配器7和下回转分配器8分别设有多组相对切换配合的管路9和10,所述回转分配器上下两个部分能够在任意相对旋转角度保持对应接管对的联通。管路9和/或10上端用连接管15和上阀体的管路14的上端连通,管路9和/或10下端为进料或出料口B。其中管路15可根据用户需要进行不同的组合连接。
化学反应容器17设在机架16周围的地面上,其通过至少两个连接管12分别和下阀体的内外环的管路11连通。
本发明的使用举例如下:待处理流体从下回转分配器8的位于内圈的管路9(进料口)进入(在其它实施例中,也可以是位于外圈的管),然后从上回转分配器7位于内圈的管路10向上,经过连接管15进入上阀体2的管路14,再流向下阀体5的管路11,经过连接管12进入化学反应容器17处理。再从化学反应容器的出口分别进入下阀体、上阀体、上回转分配器7和下回转分配器8的另外管路(内圈或外圈),从下回转分配器8的位于外圈的管路9(出料口)出。在此过程中,上下阀体之间根据设定时间相对旋转,上下回转分配器之间也同步相对旋转。
上述仅为本发明的一个具体实施例,但本发明的设计构思并不局限于此,凡利用此构思对本发明进行非实质性的改动,均应属于侵犯本发明保护范围的行为。
Claims (6)
1.一种流体处理装置,其特征在于:包括中心轴体(1),中心轴体(1)外分别套接上下叠加的上阀体(2)和下阀体(5),其中下阀体(5)固定在一机架(16)上,中心轴体(1)可相对于下阀体(5)旋转,且上阀体(2)和下阀体(5)两者之间也可相对旋转;上阀体(2)和下阀体(5)之间设有互相配合的管路(14/11);
中心轴体(1)的下端安装有回转分配器,它包括上回转分配器(7)和下回转分配器(8),其中,下回转分配器(8)固定在机架(16)上,上回转分配器(7)和中心轴体(1)构成同步旋转关系,上回转分配器(7)可相对于下回转分配器(8)旋转;
回转分配器内设有管路,其通过连接管和上阀体(2)的管路(14)连通配合,
化学反应容器(17)设于地面或机架(16)上,其通过连接管和下阀体(5)的管路(11)连通配合。
2.如权利要求1所述的一种流体处理装置,其特征在于:还包括驱动上阀体(2)和中心轴体(1)旋转的驱动机构(13)。
3.如权利要求1所述的一种流体处理装置,其特征在于:上阀体(2)沿环形位置均匀分布有内外两圈管路(14),下阀体(5)沿环形位置均匀分布有内外两圈管路(11)。
4.如权利要求1或2或3所述的一种流体处理装置,其特征在于:上阀体(2)的下表面和下阀体(5)的上表面之间设上环形密封板(3)和下环形密封板(4)。
5.如权利要求4所述的一种流体处理装置,其特征在于:上环形密封板(3)和下环形密封板(4)沿环形位置分别均匀分布有内外两圈通孔,上阀体(2)的管路(14)和下阀体的管路(11)通过上下环形密封板的通孔连通。
6.如权利要求1所述的一种流体处理装置,其特征在于:上回转分配器(7)和下回转分配器(8)分别设有多组相对切换配合的管路,所述回转分配器上下两个部分能够在任意相对旋转角度保持对应管路的连通。
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