CN105050626A - 产生用于物体尤其是人的至少一个局部区域的手术、检验或处理的消毒区域的方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种产生用于物体尤其是人的至少一个局部区域(20)的手术、检验或处理的消毒区域(O)的方法，其中，利用至少一个等离子体发生器(5a-5k)将冷的等离子气体发射至该区域(O)中。本发明还涉及用于执行这种方法的装置。

Description

产生用于物体尤其是人的至少一个局部区域的手术、检验或处理的消毒区域的方法

本发明涉及用于产生针对物体且尤其是人的至少一个局部区域的手术、检验或处理的消毒区域的方法和装置。这种装置和方法在本发明意义上被用在例如像医院这样的环境中，在这样的环境中出于卫生或医学考虑而应该产生尽量无菌(即没有活的微生物包含其静态如孢子)的条件。另外，可以想到应用在兽医以及物体的清洁或消毒中。

例如在DE202009000537U1以及DE202008018264U1中提出，在涂覆之前用所谓的常压的冷的等离子体来处理工件表面或基材的孔腔，以从所述表面除去污物并且调整和活性化该表面。

近年来，越来越多地提到将等离子体尤其是冷等离子体用于(人类)医学用途。例如在《科学图画》(2009.1出版,第52页)中提到作为潜在应用可能性的脚部真菌防治或易感染烧伤治疗。

在所设想的治疗及工件表面处理中提出从静态看逐点使用等离子体流。

在等离子体消毒中，除了出现的温度外，在(例如通过紫外射线)产生等离子体时出现臭氧是成问题的，臭氧不仅让人员或患者感到不适，甚至还可能危害健康(刺激性气体)。

因此，本发明基于以下任务，即提供一种用于产生消毒区域(即具有至少平面范围)的方法以及一种用于该方法的装置，该装置通过简单可靠的方式允许物体尤其是人的至少一个局部区域的手术、检验或处理，而无需使人经历危害健康的危险或者使物体损伤。

根据本发明，该任务将通过具有权利要求1的特征的方法和具有权利要求4的特征的装置来完成。

根据本发明，通过采用具有至少一个等离子气体发生器的装置来产生消毒区域且尤其是用于手术、检验或任意处理的消毒场(以下称为手术场)。在本发明意义上，消毒区域且尤其是消毒场是一个超过逐点润湿的区域，其在处理时间段内的任意时刻被静态覆盖或具有浓度足够高的消毒用等离子体。

而已知的逐点使用所谓的等离子体斑(Plasmafackel)本身在以等离子体斑掠过或扫过一条线或小区域时从静态来看基本上只是逐点润湿，此时尚未被掠过的其它区域或已被掠过的其它区域尚未被或不再被等离子体覆盖。因此，无法实现超过基本点状区的区域或场的处理。另外，这种等离子体流太短而无法通过扩大至工件距离来获得处理面的增大(代替尖头或点)。

根据本发明的装置为了产生消毒区域而例如在该区域的边缘具有至少部分包围的壳体，在该壳体中优选如此设置多个等离子体发生器，即它们根据需要以脉冲形式或连续地朝向该区域内部发射等离子气体，从而在处理过程中的任何时刻都存在足够高的消毒用等离子气体浓度。所需浓度此时可以(根据待消毒区域的形状和尺寸，以下称为消毒区域)通过相应预定的至所述区域的等离子体输出(量)来获得。

但当然也可以想到的是利用相应适当的传感器检测充分的或期望的等离子体浓度并且优选达到期望的预定浓度时放开消毒区域用于处理和/或在浓度不足时发出报警信号。还可以想到据此(例如以阈值控制或极限范围控制形式)控制等离子体喷出量以便在处理时保证在高于阈值或在一个范围内的期望浓度。在此情况下，当尤其在消毒区域的紧邻周围环境中因为等离子体场内的涡流所造成的(如由外科医生在消毒区域内猛然运动而引发的)臭氧极限值超出，如超过0.1ppm时，可以规定停止等离子体产生。

该壳体此时可以例如呈U形、多边形或任何曲轨或直轨的形式构成并且至少局部(开口式或环绕地)包围所述区域或场。当然也可以想到的是，可枢转地或可插接地构成该壳体的局部区域，从容也允许壳体的打开和闭合。另外可以想到的是以格栅形式构成该壳体，从而带有等离子体发生器的桥架(Stege)也能位于该区域内。

在本发明的一个实施方式中，该壳体呈环状闭合(例如呈空心环状)，其中，除了圆环外，还可以为此考虑任何环形如多边形、卵形等。

在本发明的其它实施方式中，该壳体的形状和尺寸可以是可变地构成的。为此可以想到的是该壳体以模块形式构成，这些模块根据需要例如借助相互插合可以相互连接。当然也可以想到，该壳体的若干元件可拔出和插入地构成，例如伸缩式构成，并且通过这种方式来改变该壳体的形状和尺寸以产生期望的场。等离子体发生器为此能够以期望的数量被应用在设于壳体内的凹空部中，或者已经固定安装设置在该壳体内。

在本发明的其它实施方式中，该装置可以包括抽吸机构用以产生消毒均匀场或甚至层状流动。例如可以为此在壳体内基本与等离子体发生器喷嘴对置地设置多个吸嘴。

为了手术、检验或任何处理，根据本发明，该装置就近安置在所述物体尤其是人之处或者也直接放置(接触到物体表面尤其是皮肤)，从而所产生的消毒区域的面积整体覆盖住所期望的手术场。手术场此时一般只在要进行处理的和/或要通过开通至体内来完成手术的体表面的局部区域延伸。因为有至少几毫米或厘米的场厚度，故可以由此针对期望的手术保证一个消毒场，或者将该区域消毒。

如果该装置或由此产生的等离子体场优选在平行于当前人体表面区的一个平面内直接接触皮肤设置或利用相对于环境密封的消毒覆盖物，例如薄膜、盖布等覆盖在所述场和皮肤之间的可能有的间隙，则本身在有创性手术过程中可以保持手术创口的无菌性。可以由此通过简单方式阻止脏东西尤其是细菌入侵未受保护的体内。

作为这个或这些等离子体发生器，此时可以采用这样的发生器，其产生等离子体或等离子气体(以下称等离子气体)的等离子体流，其(在产生且从等离子体发生器喷嘴流出后)具有小于或等于40℃的温度(所谓的冷等离子气体)。对于人类处理而言太热的等离子体或等离子体流此时通过适当的冷却措施(冷却盘管、散热片、添加冷气体等)在从喷嘴流出之前被相应冷却。

因为在该区域靠近或甚至直接使用和相应布置等离子体发生器，故可以将这样的标准等离子体发生器用于产生冷等离子体，其优选可以同样具有大气压(大气压等离子体)或较高的压力(高压等离子体)。

优选由空气尤其是环境空气或许在添加惰性气体(如氩气)以增大作用范围情况下产生的等离子体气流或等离子气体流动可以在一个(与消毒场相比小的)区域内产生抗菌状态(优选是最高品级)，在这里，因为所需要的喷出速度低和/或层流(伴随抽吸)，故出现充其量少量的无害健康的臭氧(贫臭氧的等离子气体)。通过这种方式产生的消毒场因此对于人类、动物或物体敏感表面既无危险，也无害(无害健康)。

另外，由于将消毒场限制到比人的身体侧面小许多的区域而也可以采用这样的等离子气体，其可以扩散较开且因而浓度较高地在封闭空间中起到危害健康的作用(臭氧浓度、压力、温度等)。

因此，关于等离子气体发生器的类型，可以考虑所有的等离子体发生形式，尤其是非热等离子体，此时至少在如此空间有限的应用场合中可以避免对人员或患者的健康威胁(过高臭氧浓度、过大热量、过高压力等)。

另外，为了避免健康危害而可以想到的是，减小或甚至避免在等离子体或等离子体流中因使用合适的过滤器如HEPA过滤器(高效颗粒空气过滤器)、ULPA过滤器(超低渗透空气)和SULPA过滤器(超级ULPA)等而引起的不希望有的高臭氧浓度。该过滤器也能被加入至等离子体发生器的气流供应(尤其空气)中(在产生等离子体之前)，以阻止吸入灰尘、颗粒或微生物。

由于使用多个等离子体发生器，也可以有利地采用以下发生器，其只产生一个等离子体流或深度较浅的等离子体区域，因为场直径可以用等于等离子体场深度一半(直径/2)的两个对置发生器来覆盖。

在本发明的优选实施方式中，该消毒区域通过使用多个(至少2、3、4、5、6个或更多)尤其是等离子体发生器来产生，所述等离子体发生器如此安置在至少部分包围该场或区域的敞开或封闭的壳体中，即等离子体或者说等离子气体被发射入场内，优选基本在同一平面(共平面)内。显然，因为限制所述手术场向下有边界，故可以想到的是，若干个或所有的等离子体发生器或其流出喷嘴略向下倾斜布置或可转动地构成，从而简单快速地遍及到手术场内可能有的深陷处。

通过使用多个等离子体发生器，可以通过简单且廉价的方式来产生一个具有消毒作用且尤其是医用(长期)消毒作用的区域或场。作为等离子体发生器，也可以有利地采用标准等离子体发生器，其产生冷等离子体(气体)射流或流动，优选是在采用空气尤其是环境空气的情况下。

这样的场O例如可以包括具有几厘米直径或分支间距例如10-60cm、尤其是20-30cm、优选至少25cm或至少30cm的区域。为了产生具有较大(根据场形状是中等或最大)的例如基本大于50cm或60cm的直径的场O，例如借助吹送机构添加附加载体气体(尤其是氩气)，以增大等离子体发生器的等离子体流的作用范围。

所述场或区域在其深度或厚度方面可以具有期望的消毒作用和进而在从(1至)几毫米至多个厘米如5-20cm、优选是1-10mm(层流)内的相应强度。

在本发明的特别优选实施方式中，在外科手术过程或治疗过程中，优选从上方或从外面穿过所产生的消毒场地朝向待处理的人体动作，从而也有利地在(再次)穿过该场时对外科手术器械和手或手套进行消毒。

在医学应用场合中，在保护皮肤层的有创性治疗和进而穿破时，该消毒场靠近人员本身地提供了对不希望有的未消毒粒子如活的生物、孢子、细菌、病毒且尤其是多耐性细菌的侵入的可靠防护。在处理且尤其是手术中存在的感染风险可由此被显著减小。

利用本发明的装置，在消毒场内的可繁殖微生物余量可以被减小到10^-7或甚至10^-8菌落形成单位，因此明显低于要求值10^-6。

在本发明的其它实施方式中，该装置具有例如借助铰接部而可活动的臂，该壳体优选可在场平面内绕轴转动地设置在该臂上。利用该臂或该支座，该装置可以在竖向上和/或水平方向上和/或轴向上被置入任意位置，从而可以覆盖截然不同的手术场。

在本发明的其它实施方式中，该场可以具有可变的尺寸和/或形状。为此，例如可以设置相应不同构成的且优选在臂上可更换的壳体，在该壳体中安装或者已经固定装入了相应数量的等离子体发生器。但显然也可以想到的是，壳体本身的尺寸是可变构成的，例如可移动、可插接等等，在此，根据调节出的参数，也可以设置用于等离子体发生器的相应不同数量的承座。

在前述装置的另一种应用中，该装置可以被用于例如在通道中对人员消毒。为此，该装置总体上例如以扫描作业形式逐渐移动到整个身体上，例如从上向下或反之，从而该场逐步消毒人的每个(外表)区域。在此情况下，该场例如可通过该装置的运动或移动(扫描)而垂直于人体轴线地沿人体掠过。

在本发明的有利实施方式中，该壳体能以具有任何形状的环绕环圈的形式构成，尤其呈圆环状，或许带有要打开的或可闭合的局部区域。

由从属权利要求得到本发明的其它有利实施方式。

以下，结合附图所示的实施例来详细描述本发明，附图所示为：

图1是带有用于手术区域消毒的本发明装置的封闭空间的示意侧视图，

图2是呈带有用于消毒位于其间的人的本发明装置的通道形式的封闭空间的示意图(轮廓)，以及

图3是包括根据图1的本发明装置的略有变化的方式的封闭空间的示意侧视图。

如图1所示的装置包括U形壳体或保持部1，其通过优选与保持臂的第一局部区段3的铰接连接9而被布置成可以在该局部区段3的纵轴线上旋转和/或在水平平面和/或竖直平面内枢转。第二局部区段13通过第一铰接部11连接至该局部区段3，而第三局部区段17通过第二铰接部15连接至第二局部区段13。铰接部11和13此时能够被构造成可以在图面内和/或在与图面垂直的平面内进行旋转或枢转。根据需要，该保持臂也可以由更少或更多的局部区段构成以到达所需要的位置。

通过这种方式，该装置不仅可以整体(例如通过轱辘或轮子)地由人移动到空间内的期望位置处，而且壳体1和进而消毒场O的方向可以在所有的自由度上被自由定向。

该保持臂可以是三脚架的一部分，该三脚架被固定锚固在地面上或者例如可通过轱辘来运动。在此情况下，该装置可以固定不动地构成，或者也能以自给自足方式(箱子，在建造时)被构造成具有自给自足式供能装置(蓄电池)。

当然也可以想到将保持臂的一端牢固锚固在壁部上。

通过这种方式，该壳体可以舒适地被安置到期望位置上，在这里，如此构成这些铰接部，即该装置可以类似于可枢转的写字台灯那样被保持或附加固定在例如用手调节的位置上。

用于等离子体发生器5a-5k和可能有的抽吸装置以及等离子体发生器的可选附加的空气/气体或氩气供应装置的管接头可以从外部以附图未详细示出的方式被引导至该等离子体发生器。当然也可以想到的是将相应的供应输送装置或供应输送管路设置在壳体1(空腔结构)中。

图2示出在垂直于图面(例如在手术台上)躺卧的人或者说患者的腹壁19上方的位置上的该装置或壳体1。如图2所示，该壳体直接安放在腹壁19上(直接接触皮肤表面)或者邻近其上方设置。在这里，壳体1在内部具有等离子体场O，该等离子体场也在敞开侧具有以虚线所示的场边缘23。

在此情况下，医生可以从上方穿过等离子体场O来处理腹壁19，或者甚至打开腹壁19，而此时没有病菌到达腹壁19或者经腹壁侵入体内。另外，也(在通常执行的消毒后再次)对进入所述场O的手、手套、仪器等进行消毒，因此，不仅阻止来自环境(空气)的病菌进入，而且阻止由外科医生本身造成的病菌进入。等离子体场O此时在中央(形成鼓肚)有例如为几厘米的一定厚度，该厚度尤其是2-5cm或达到10cm，优选为0.5-2cm，最小厚度(在场侧面)为至少1mm或1cm。

另外，现在可在壳体1上对外遮盖地或甚至密封地设置未详细示出的呈薄膜或织物形式的遮盖物，以遮盖待处理区域尤其是手术区域20以外的区域，或者甚至相对于腹壁19密封该手术区域20或壳体1的外部。在腹部手术情况下，可以由此保持手术区域20和如图2的虚线21、22示意所示的腹腔创口无菌，同时穿过遮盖手术区域20的等离子体场O来进行手术。

如图1和图2所示，多个等离子体发生器5a-5k位于该壳体上，所述等离子体发生器布置在壳体1的凹空部7a-7k中并在箭头方向上向内发射等离子气体至场O中。

在U形壳体1的两个对置分支中，此时与等离子体发生器5k、5i和5h相互对置地设置多个等离子体发生器5a、5b、5c，从而各自等离子体(气体)流束的深度以足够浓度到达场中心，以便产生具有充分消毒作用的或者说尤其足以用于手术(例如腹腔手术)的足够高的等离子体浓度的等离子体场。

在此情况下，等离子体发生器5a-5k在该场O的相同平面(在图2中垂直于图面)内优选发射等离子气体，在此能以简单方式通过相应对准等离子体发生器5a-5k的每个喷嘴的取向来获得如此定向的进流。这些喷嘴此时也能穿过所述凹空部7a-7k或者由凹空部本身构成。为了能更好更快速地掌握所述手术区域或场O内的深陷处，等离子体发生器或其喷嘴也略微向下倾斜或根据需要被枢转(借助枢转装置)。但因为所产生的等离子气体下降，在共平面流入情况下，该场O内的深陷处也被等离子气体快速可靠地润湿。

如图3所示，也可以想到，代替对置的等离子体发生器5a、5b、5c至5k、5i和5h，与等离子体发生器5a、5b、5c对置地设有至少一个带有吸嘴7k’、7i’、7h’、7g’的抽吸机构5k’、5i’、5h’、5g’(例如代替等离子体发生器5k、5i、5h、5g)，或者相反布置。作为壳体形状，图3示出在前侧敞开的矩形壳体1’，在这里，当然也可以实现其它基本形状。图3中的其它零部件对应于已如图1所示的零部件，因而对此采用了相同的附图标记。

也可以根据场O的形状在不同的实施方式中省掉就像例如在图3中结合位置5e-5f所示出的若干等离子体发生器，这是因为等离子气体已经可以通过在一条或两条优选笔直的分支侧上的等离子体发生器5a-5d(和或许5k、5i、5h、5g)来充分产生。抽吸此时也可通过唯一的附图未示出的抽吸机构来实现，其给所有吸嘴7g’、7h’、7i’、7k’供应相应的负压。用于此的管接头(例如软管)可以在壳体1以外朝向共同的抽吸机构延伸。但显然也可以想到，作为吸嘴7g’、7h’、7i’、7k’和抽吸机构之间的连接机构，可以在壳体1内设置空腔引导机构，例如呈空心管状的分支形式。显然在所有实施方式中也可以想到，等离子气体通过空腔引导机构，如通过呈空心管状的分支被输送给吸嘴。在此情况下，至少一个等离子体发生器也可设置在不同于如图所示的其它位置上。

在本发明的所有实施方式中，可以有利地形成稳定而均匀的场或甚至层状流动。在此情况下，等离子气体的几米/秒、优选是2-10米/秒、尤其是4-5米/秒的流速可以由等离子体发生器5a、5b、5c的流出喷嘴因层流而基本在整个场O范围内来保持。由此有利地出现很均匀的场O(避免形成涡流)，不会由此干扰到外科医生或明显烘干该手术区域。为了产生层流，等离子体发生器5a、5b、5c或其喷嘴优选将相互平行的(尤其是与待处理表面共平面或沿其切向)等离子气体喷射入该场O。当然也可为此在一个分支上设置4、5、6、7、8个或更多个发生器，其优选根据需要来接通。

按照与之互补的方式，多个对置(平行)的吸嘴7g’、7h’、7i’、7k’布置在另一分支(尤其是与待处理表面共平面或沿其切向)上，它们按照未详细示出的方式送出等离子气体(远离该场O地喷出、去离子化、过滤且尤其利用活性炭过滤器或重整过滤器，临时存储，喷出非离子化状态的气体或空气)。尤其在包含层状等离子气体流动的场O内，该场O内的深陷处也被触及或被(下降)等离子气体润湿。同时，所述流动触及升高处。所述层流此时顺随所述场O内的高低不平。

在本发明的任何实施方式中，等离子体场O可以根据要求具有平均直径(尤其是分支距离)在10cm-60cm、优选是达到30cm或40cm的场大小。

为了实现不同的尺寸和/或形状，还可以想到的是，该装置且尤其是壳体1本身是可改变地构成的，例如可抽出、可插接等。例如可以想到的是，该壳体1的如图1所示的笔直的分支区段是可伸缩抽出和推入入地构成的，其中在伸长状态下，与推入(缩短)状态相比，可以设置附加凹空部，在所述凹空部中可根据需要装入其它的等离子体发生器，用于在增大的场O中产生具有足以用于消毒的浓度的等离子体。

在本发明的任何实施方式中，可以根据微生物数量在几秒钟或者许多分钟后，例如20秒至15分钟之后获得在消毒场O内的、10^-6且优选小于10^-7或甚至小于10^-8的菌落形成单位的期望的无菌性(存活微生物的余量)。

在这种情况下，臭氧本身是紧邻该场O且以小于0.1ppm的、优选是小于0.5ppm或小于0.3ppm的且尤其是以0.028ppm的浓度少量形成的。在本发明的不同实施方式中，在该场O内存在着10⁹-10¹²的带正电电子浓度。

在本发明的特殊实施方式中，只采用环境空气用于产生等离子气体，因而可以放弃供应附加气体(载气)，尤其是氩气。

该场O按照其规定尺寸(例如至少400cm²、600cm²、700cm²、1000cm²或1500cm²的面积)总体由几厘米厚(平均厚度)的、尤其是至少几毫米、1厘米、2厘米、3厘米或更大厚度的等离子体或者等离子气体填充。在具有优选是层状流动的场O内，也可以产生一个连续场，其在30厘米见方的面积下具有至少1mm的侧向小厚度到最大10-25mm的中央区域(在层流时在中央形成鼓起或者说在朝着喷嘴方向缩小)，而流动没有中断并且不会在该场内出现消毒区域。

如上所述，可以通过多个等离子体发生器5a-5k根据需要来产生消毒用等离子体场O。在此情况下，等离子体(气体)射入所述场O或消毒区域可以由所述等离子体发生器以脉冲形式实现或连续地实现。在该场内的足够高的等离子体浓度例如可以附加地借助传感器来监测并且或许针对随后目的被记录下来。这样的传感器例如可以直接设置在壳体上或通过支臂以能够枢转至场O中的方式设置。此时，可以在已知等离子体在场O内分布的情况下将传感器布置在场O内的任何位置上，从而在已知分布情况下能在传感器设置地点预先调节出要获得的最小阈值，以在该场O的任何位置上检测达到足够高的等离子体浓度或甚至保证浓度监测。

通过根据本发明的装置，也有利地实现了手套和器械的再次消毒，所述手套和器械与所述场O接触、伸入所述场或穿过所述场。由此一来，可以阻止微生物、细菌、真菌、孢子进入处理区域且尤其进入手术创口。另外，许多器械(全部，本身在安放侧)可以被搁置在所述场O的对手术而言不需要的区域中并在那里保持消毒无菌状态。为此，可以设置桥架、壳套、网等等，其优选可以根据需要例如铰接在保持部上地转动进所述场O或设置到其中(套装，插装等)。

当然，本发明不局限于所示的实施例。例如，本发明也可以被用于实现具有等离子体消毒功能的人用(进出)通道。为此，优选可以使围绕的环形壳体从上方和/或从下方以等离子体场O垂直于主体轴线的方式沿人或物体移动，以消毒所述人或物体。这样的通道例如可以应用在房间(手术室)或建筑(医院)的入口前面，在所述房间或建筑中已经存在至少基本无菌的环境或者应该防止被外来病菌进一步污染。因而也可以想到将这样的通道用在访问量大且因而感染风险高的公众建筑(车站、政府部门、商店等)前面或者也用于私家房屋住所，以避免外来污染和由此引起的感染风险。

附图标记列表

O等离子体场

1,1’U形壳体/支座

3第一区段的保持臂

5a-5k等离子体发生器

7a-7k凹空部/通孔

5g’-5k’抽吸机构

7g’-7k’吸嘴

9支座1和臂3之间的连接

11第一铰接部

13第二区段的保持臂

15第二铰接部

17第三区段的保持臂

19腹壁

20腹壁19的待处理/手术的局部区域

21消毒区域/手术区域(深入保护以免病菌/细菌入侵)的边界(不一定是直的)

22消毒区域/手术区域(深入保护以免病菌/细菌入侵)的边界(不一定是直的)

23等离子体场O的前边界

Claims (10)

1.一种产生用于物体尤其是人的至少一个局部区域(20)的手术、检验或处理的消毒区域(O)的方法，其中，利用至少一个等离子体发生器(5a-5k)将冷的等离子气体发射至该消毒区域(O)中。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，作为该区域(O)产生基本平面状的消毒场，该消毒场基本平行于或垂直于物体的所述局部区域(20)布置。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述消毒区域(O)借助多个等离子体发生器(5a-5k)来产生，并且所述等离子气体基本共平面地被发射至消毒场中。

4.一种用于执行根据前述权利要求中的任一项所述的方法的装置，其中所述装置具有至少一个等离子体发生器(5a-5k)，借助该至少一个等离子体发生器根据需要将冷的等离子气体发射至所述消毒区域(O)中。

5.根据权利要求4所述的装置，其特征在于，所述装置在所述消毒区域(O)的边缘处具有至少局部包围的壳体(1)，在所述壳体内如此布置多个等离子体发生器(5a-5k)，即这些等离子体发生器根据需要将等离子气体朝向所述消毒区域(O)的内部发射。

6.根据权利要求5所述的装置，其特征在于，所述多个等离子体发生器(5a-5k)如此布置，即它们根据需要产生平面状的消毒场。

7.根据权利要求4至6中的任一项所述的装置，其特征在于，所述壳体(1)呈U形构成。

8.根据权利要求4至6中的任一项所述的装置，其特征在于，所述壳体(1)呈环形闭合地构成。

9.根据权利要求4至8中的任一项所述的装置，其特征在于，所述装置具有能够改变形状和尺寸的壳体(1)。

10.根据权利要求4至9中的任一项所述的装置，其特征在于，所述装置包括抽吸机构，用以产生稳定均匀的场。