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CN104821334B - N型ldmos器件及工艺方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种N型LDMOS器件，在P型衬底上具有N型埋层，N型埋层之上为N型深阱；所述N型深阱中具有P阱，P阱中包含有重掺杂P型区以及所述LDMOS器件的源区，硅衬底表面具有栅氧化层及多晶硅栅极；所述N型深阱中还具有LDMOS器件的漏区，引线通过接触孔将重掺杂P型区、源区以及漏区引出；所述的P阱中的重掺杂P型区与源区之间以STI场氧隔离，LDMOS器件的漂移区中漏区两侧具有STI场氧，漂移区是以不同注入能量形成的不同深度的分层漂移区。本发明还公开了所述N型LDMOS器件的工艺方法，可以集成在BCD工艺中。

Description

N型LDMOS器件及工艺方法
技术领域
本发明涉及半导体领域，特别是指一种N型LDMOS器件，本发明还涉及所述N型LDMOS器件的工艺方法。
背景技术
DMOS由于具有耐高压，大电流驱动能力和极低功耗等特点，目前在电源管理电路中被广泛采用。在BCD工艺中，DMOS虽然与CMOS集成在同一块芯片中，但由于高耐压和低导通电阻的要求，DMOS在本底区和漂移区的条件与CMOS现有的工艺条件共享的前提下，其导通电阻与击穿电压存在矛盾，往往无法满足开关管应用的要求。在LDMOS器件中，导通电阻是一个重要的指标。因此，为了制作高性能的LDMOS，需要采用各种方法优化器件的导通电阻及击穿电压。
目前常规的N型LDMOS的结构如图1所示，图中包含P型衬底101，N型埋层102，N型深阱103，P阱107，栅氧化层10,8，多晶硅栅极109，重掺杂N型区(源区)111及重掺杂N型区(漏区)115。这种结构没有对器件的电场分布进行优化，表面的电场强度较高，击穿电压不够理想。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种N型LDMOS器件，改善漂移区电势分布，提高器件的击穿电压。
为解决上述问题，本发明提供一种N型LDMOS器件，在P型衬底上具有N型埋层，埋层上为N型深阱；所述N型深阱中具有P阱，P阱中包含有重掺杂P型区以及所述LDMOS器件的源区，硅衬底表面具有栅氧化层及多晶硅栅极；所述N型深阱中还具有LDMOS器件的漏区，引线通过接触孔将重掺杂P型区、源区以及漏区引出；所述的P阱中的重掺杂P型区与源区之间以STI场氧隔离，LDMOS器件的漂移区中漏区两侧具有STI场氧，漂移区是以不同注入能量形成的不同深度的分层漂移区。
进一步地，所述的STI场氧，或者为LOCOS。
进一步地，所述漂移区是以分段分能量注入形成，两段漂移区距离STI场氧靠近沟道一侧的底部边缘或LOCOS沟道侧鸟嘴处的距离范围均为0.1～0.3μm；低能量注入范围为50～150keV，高能量注入范围300～600keV。
为解决上述问题，本发明所述的N型LDMOS器件的工艺方法，包含如下步骤：
第1步，在P型衬底上形成N型埋层；
第2步，在N型埋层之上淀积一层外延层；
第3步，光刻定义形成STI场氧；
第4步，光刻打开阱注入区域，注入形成P阱，并分别注入形成低能量漂移区及高能量漂移区；
第5步，热氧化生成栅氧化层，淀积多晶硅并刻蚀形成多晶硅栅极；制作侧墙；离子注入形成重掺杂P型区及所述LDMOS器件的源区及漏区；
第6步，完成接触孔工艺，制作电极。
进一步地，所述第1步采用的衬底为电阻率范围为0.007～0.013Ω·cm的P型低阻衬底。
进一步地，所述第4步，漂移区第一次注入能量为50～150keV，第二次注入能量为300～600keV。
本发明所述的N型LDMOS器件，采用STI场氧隔离，漂移区采用高低能量的不同注入形成分层的漂移区，避开最容易达到的击穿电场的STI边角区域，从而改善漂移区的电势分布，降低电场强度。本发明所述的N型LDMOS器件的工艺方法，可以继承在BCD工艺中，利用平台中原有的工艺条件，在不额外增加掩膜版并且利用原有注入条件的情况下，仅通过调整器件结构的光刻图形，使得器件保持较好特性的前提下，提高击穿电压。
附图说明
图1是传统N型LDMOS器件的结构示意图。
图2～图7是本发明工艺步骤示意图。
图8是本发明工艺步骤流程图。
附图标记说明
101是P型衬底，102是N型埋层，103是N型深阱，104是STI场氧，105、106是N型漂移区，107是P阱，108是栅氧化层，109是多晶硅栅极，110是侧墙，111是源区，112是重掺杂P型区，113是接触孔，114是电极(引线)，115是漏区，a、b是距离。
具体实施方式
本发明所述的N型LDMOS器件，如图7所示，在P型衬底101上具有N型埋层102，埋层102上为N型深阱103；所述N型深阱103中具有P阱107，P阱107中包含有重掺杂P型区112以及所述LDMOS器件的源区111，硅衬底表面具有栅氧化层108及多晶硅栅极109；所述N型深阱103中还具有LDMOS器件的漏区115，引线114通过接触孔113将重掺杂P型区112、源区111以及漏区115引出；所述的P阱107中的重掺杂P型区112与源区111之间以STI场氧104隔离，LDMOS器件的漂移区中漏区115两侧具有STI场氧104，漂移区是以不同注入能量形成的不同深度的分层漂移区，如较低能量注入形成的漂移区105，以及较高能量注入形成的漂移区106。
所述的STI场氧，也可以替换采用LOCOS。如图7中所示，两段漂移区距离STI场氧靠近沟道一侧的底部边缘或LOCOS沟道侧鸟嘴处的距离a和b范围均为0.1～0.3μm。
本发明所述的N型LDMOS器件的工艺方法，包含如下步骤：
第1步，在电阻率范围为0.007～0.013Ω·cm的P型衬底上形成N型埋层，如图2所示。
第2步，在N型埋层之上淀积一层外延层，如图3所示。
第3步，如图4所示，利用有源区光刻，在N型深阱103打开浅槽区域，刻蚀场氧区；浅槽区填充氧化物；经刻蚀和研磨之后形成STI场氧104。或者采用LOCOS工艺形成隔离。
第4步，光刻打开阱注入区域，注入形成P阱107，并分别注入形成低能量注入的漂移区105及高能量注入的漂移区106。低能量漂移区105离子注入能量范围为50～150keV，高能量漂移区106离子注入能量范围300～600keV，如图5所示。
第5步，如图6所示，热氧化生成栅氧化层108，淀积多晶硅并刻蚀形成多晶硅栅极109；制作侧墙110；离子注入形成重掺杂P型区112及所述LDMOS器件的源区111及漏区115。
第6步，完成接触孔113工艺，制作电极114，最终器件完成如图7所示。
以上仅为本发明的优选实施例，并不用于限定本发明。对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (4)

1.一种N型LDMOS器件，在P型衬底上具有N型埋层，埋层上为N型深阱；所述N型深阱中具有P阱，P阱中包含有重掺杂P型区以及所述LDMOS器件的源区，硅衬底表面具有栅氧化层及多晶硅栅极；所述N型深阱中还具有LDMOS器件的漏区，引线通过接触孔将重掺杂P型区、源区以及漏区引出；其特征在于：
所述的P阱中的重掺杂P型区与源区之间以STI场氧或者LOCOS隔离，LDMOS器件的漂移区中漏区两侧具有STI场氧或者LOCOS隔离，漂移区是以不同注入能量形成的不同深度的分层漂移区；所述漂移区还是以分段分能量注入形成，两段漂移区距离STI场氧靠近沟道一侧的底部边缘或LOCOS沟道侧鸟嘴处的距离范围均为0.1～0.3µm；低能量注入范围为50～150keV，高能量注入范围300～600keV。
2.制造如权利要求1所述的N型LDMOS器件的工艺方法，其特征在于：包含如下步骤：
第1步，在P型衬底上形成N型埋层；
第2步，在N型埋层之上淀积一层外延层；
第3步，光刻定义形成STI场氧；
第4步，光刻打开阱注入区域，注入形成P阱，并分别注入形成低能量漂移区及高能量漂移区；
第5步，热氧化生成栅氧化层，淀积多晶硅并刻蚀形成多晶硅栅极；制作侧墙；离子注入形成重掺杂P型区及所述LDMOS器件的源区及漏区；
第6步，完成接触孔工艺，制作电极。
3.如权利要求2所述的N型LDMOS器件的工艺方法，其特征在于：所述第1步，所述衬底为电阻率范围为0.007～0.013Ω•cm的P型低阻衬底。
4.如权利要求2所述的N型LDMOS器件的工艺方法，其特征在于：所述第4步，漂移区第一次注入能量为50～150keV，第二次注入能量为300～600keV。
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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106298935B (zh) * 2016-08-16 2019-08-13 上海华虹宏力半导体制造有限公司 Ldmos器件及其制造方法
CN106449412A (zh) * 2016-09-30 2017-02-22 上海华虹宏力半导体制造有限公司 开关n型ldmos器件的工艺方法
CN112117332B (zh) * 2020-11-02 2023-08-22 上海华虹宏力半导体制造有限公司 Ldmos器件及工艺方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102130164A (zh) * 2010-01-18 2011-07-20 上海华虹Nec电子有限公司 Ldmos的埋层
CN103632974A (zh) * 2012-08-24 2014-03-12 上海华虹宏力半导体制造有限公司 P型ldmos表面沟道器件提高面内均匀性的制造方法
CN103681791A (zh) * 2012-09-05 2014-03-26 上海华虹宏力半导体制造有限公司 Nldmos器件及制造方法

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101530579B1 (ko) * 2008-12-11 2015-06-29 주식회사 동부하이텍 반도체 소자 및 이의 제조 방법
US8822291B2 (en) * 2012-01-17 2014-09-02 Globalfoundries Singapore Pte. Ltd. High voltage device

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102130164A (zh) * 2010-01-18 2011-07-20 上海华虹Nec电子有限公司 Ldmos的埋层
CN103632974A (zh) * 2012-08-24 2014-03-12 上海华虹宏力半导体制造有限公司 P型ldmos表面沟道器件提高面内均匀性的制造方法
CN103681791A (zh) * 2012-09-05 2014-03-26 上海华虹宏力半导体制造有限公司 Nldmos器件及制造方法

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