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CN104694900A - 可加偏压式薄膜样品架 - Google Patents

可加偏压式薄膜样品架 Download PDF

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Publication number
CN104694900A
CN104694900A CN201510138693.5A CN201510138693A CN104694900A CN 104694900 A CN104694900 A CN 104694900A CN 201510138693 A CN201510138693 A CN 201510138693A CN 104694900 A CN104694900 A CN 104694900A
Authority
CN
China
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bracket
sample holder
base
eccentric compression
film sample
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201510138693.5A
Other languages
English (en)
Inventor
刘艳松
何智兵
王涛
许华
陈志梅
李玉红
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Laser Fusion Research Center China Academy of Engineering Physics
Original Assignee
Laser Fusion Research Center China Academy of Engineering Physics
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Filing date
Publication date
Application filed by Laser Fusion Research Center China Academy of Engineering Physics filed Critical Laser Fusion Research Center China Academy of Engineering Physics
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Publication of CN104694900A publication Critical patent/CN104694900A/zh
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/50—Substrate holders
    • C23C14/505—Substrate holders for rotation of the substrates

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

本发明提供了一种可加偏压式薄膜样品架，能够方便磁控溅射镀膜机样品架加载正负偏压又可以转动样品。本发明的可加偏压式薄膜样品架，包括托架、托架底座、金属轴承、连接杆和真空室底座。利用轴承的特性，把金属轴承的内圈固定在托架连接杆上，同时外圈引出电极，通过连接杆将真空室底座与托架底座之间隔开。这样，解决了旋转托架架和电极连接的难题，也实现了电极和机壳的绝缘问题。本发明既能够使托架旋转，同时又能够对托架施加持续偏压，结构简单，使用方便。

Description

可加偏压式薄膜样品架
技术领域
本发明属于薄膜材料的制备技术领域，具体涉及一种可加偏压式薄膜样品架，能够方便磁控溅射镀膜机样品架加载正负偏压。
背景技术
在磁控溅射镀膜过程中，为了提高成膜的均匀性，可以采用使衬底旋转，即衬底放置在旋转盘上，同时，为了改善成膜的质量、提高薄膜沉积速率和增强薄膜与基片的附着力，可以给衬底加偏压。但是若采用电线直接将直流电极与衬底连接，在旋转过程中齿轮会将其绞断，从而不能正常工作。为了解决这一难题，我们可以对原有的样品支架进行改进而能够满足高质量成膜的需要。
发明内容
为了克服现有技术中的样品架不能同时加偏压和旋转的不足，本发明提供一种可加偏压式薄膜样品架，能够方便磁控溅射镀膜机样品架加载正负偏压。
本发明的可加偏压式薄膜样品架，其特点是，所述的样品架包括托架、托架底座、金属轴承、连接杆和真空室底座；其连接关系是，所述托架固定连接在托架底座上，所述的连接杆设置在托架底座的下方，连接杆的一端与托架固定连接，另一端与真空室底座固定连接；所述的金属轴承内圈固定在连接杆上，外圈与电缆线连接。
所述的托架、托架底座、金属轴承、连接杆、真空室底座为同轴心设置。
本发明利用轴承的特性，把金属轴承的内圈固定在托架连接杆上，同时外圈引出电极，连接杆材料为聚四氟乙烯可将真空室底座与托架底座之间隔开。这样，解决了旋转托架和电极连接的难题，也实现了电极和机壳的绝缘问题。
本发明的有益效果是，能够使托架旋转，同时又能够对托架施加持续偏压，结构简单，使用方便。
附图说明
图1为本发明的可加偏压式薄膜样品架结构示意图；
图中. 1.托架    2.托架底座     3.金属轴承     4.连接杆     5.真空室底座。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明进一步说明。
实施例1
图1为本发明的可加偏压式薄膜样品架结构示意图。在图1中，本发明的样品架包括托架1、托架底座2、金属轴承3、连接杆4和真空室底座5；其连接关系是，所述托架1固定连接在托架底座2上，所述的连接杆4设置在托架底座2的下方，连接杆4的一端与托架1固定连接，另一端与真空室底座5固定连接；所述的金属轴承3内圈固定在连接杆4上，外圈与电缆线连接。托架1的材料为聚四氟乙烯。这样，解决了旋转托架1和电极连接的难题，也实现了电极和机壳的绝缘问题。
所述的托架1、托架底座2、金属轴承3、连接杆4、真空室底座5为同轴心设置。

Claims (2)

1.可加偏压式薄膜样品架，其特征在于，所述的样品架包括托架（1）、托架底座（2）、金属轴承（3）、连接杆（4）和真空室底座（5）；其连接关系是，所述托架（1）固定连接在托架底座（2）上，所述的连接杆（4）设置在托架底座（2）的下方，连接杆（4）的一端与托架（1）固定连接，另一端与真空室底座（5）固定连接；所述的金属轴承（3）内圈固定在连接杆（4）上、外圈与电缆线连接。
2.根据权利要求1所述的可加偏压式薄膜样品架，其特征在于，所述的托架（1）、托架底座（2）、金属轴承（3）、连接杆（4）、真空室底座（5）为同轴心设置。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109837520A (zh) * 2018-12-20 2019-06-04 兰州空间技术物理研究所 电压和测温信号同轴传导的旋转工件的转轴及安装方法
CN113237842A (zh) * 2021-04-25 2021-08-10 哈尔滨工业大学 一种傅里叶红外光谱仪样品架及使用方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS619570A (ja) * 1984-06-22 1986-01-17 Tanaka Kikinzoku Kogyo Kk 薄膜製造方法
JPS61233957A (ja) * 1985-04-10 1986-10-18 Nippon Shinku Kogaku Kk 高周波イオン衝撃装置
CN2903094Y (zh) * 2006-01-26 2007-05-23 大连理工大学 用双向离子镀磁控溅射代替电镀设备的炉体
US20100326815A1 (en) * 2002-11-14 2010-12-30 Zond, Inc. High Power Pulse Ionized Physical Vapor Deposition
CN204529970U (zh) * 2015-03-27 2015-08-05 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 可加偏压式薄膜样品架

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS619570A (ja) * 1984-06-22 1986-01-17 Tanaka Kikinzoku Kogyo Kk 薄膜製造方法
JPS61233957A (ja) * 1985-04-10 1986-10-18 Nippon Shinku Kogaku Kk 高周波イオン衝撃装置
US20100326815A1 (en) * 2002-11-14 2010-12-30 Zond, Inc. High Power Pulse Ionized Physical Vapor Deposition
CN2903094Y (zh) * 2006-01-26 2007-05-23 大连理工大学 用双向离子镀磁控溅射代替电镀设备的炉体
CN204529970U (zh) * 2015-03-27 2015-08-05 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 可加偏压式薄膜样品架

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109837520A (zh) * 2018-12-20 2019-06-04 兰州空间技术物理研究所 电压和测温信号同轴传导的旋转工件的转轴及安装方法
CN113237842A (zh) * 2021-04-25 2021-08-10 哈尔滨工业大学 一种傅里叶红外光谱仪样品架及使用方法

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Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20150610