CN104267453A - 一种高反射率的光学膜及其制造方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种高反射率的光学膜及其制造方法，包括基材，在基材的至少一面上涂有至少一层含有空心粒子的涂层。本发明提供的光学膜及其制造方法，通过在至少一面设置含空心粒子的涂层来增加反射界面及折射率差异，进而提高反射率。同时还可以提高其挺度，提高其抗折伤、刮伤的能力。此种光学膜应用于背光源或照明领域，既可以提高亮度，还可以提高其挺度，进而提高裁切良率；同时避免了现有技术中的弊端。
Description
技术领域
本发明涉及液晶显示器及照明设备等使用的一种光学膜及其制造方法，具体涉及一种高反射率的光学膜及其制造方法。
背景技术
目前，手机、笔记本、电脑、电视等广泛采用液晶显示器作为显示装置。而液晶显示器本身不发光，需要通过背光源来提供照射光。背光源中有多种光学膜，其中一种光学膜，应用于背光源底部和光源侧面，其作用是将光源向侧面和背部射出的光反射回来而从正面出射，从而提高显示器的亮度。此种光学膜也可用于照明设备中，位于光源背部，可极大提高照明亮度。
当前，液晶显示器的应用越来越广泛，消费者对液晶显示的画面质量包括亮度及均匀性、可视角等的要求越来越高；同时从节能环保角度，希望液晶显示器的光的利用率不断提高。这就要求提高反射作用的光学膜的反射率不断提高。
目前，此种光学膜主要是通过添加白色无机微粒或有机粒子，然后采用各种方法使之产生微孔或气泡，利用膜的基体树脂与微孔或气泡的界面实现多重反射。为提高反射率，就需要增加致孔剂的含量或减小致孔剂粒径来提高孔隙率。这种方法的技术难度很高而效果终有极限，同时会极大地增加成本；而且对产品的性能会有不利影响,例如会造成挺度的下降。
发明内容
本发明的目的就是针对现有技术存在的缺陷，提供一种高反射率的光学膜及其制造方法。
其技术方案是：一种高反射率的光学膜，包括基材，其特征在于：在基材的至少一面上涂有至少一层含有空心粒子的涂层。
所述涂层的一面为反射功能面。
所述空心粒子为玻璃微珠，其折射率≥1.650。
所述空心粒子平均直径≤5μm，空心内部平均直径0.3-2μm。
所述涂层表面空心粒子的覆盖率≥9.7%。
进一步地，所述空心粒子直径1-5μm，空心内部直径0.3-2μm。
进一步地，所述表面空心粒子的覆盖率9.7%-92.5%。
一种高反射率的光学膜的制造方法，包括以下步骤:
（1）按照如下组成配制基础涂布液，然后根据配方加入玻璃微珠，搅拌均匀；
基础涂布液的质量组分如下：
丙烯酸水分散体（固含量50%） 50份
去离子水 44份
三聚氰胺 5份
聚乙二醇 0.98份
紫外吸收剂 0.02份
（2）将基材平铺于涂布台上，启动自动涂布机，进行涂覆；
（3）将涂覆的薄膜置于120℃下干燥30min，并逐渐冷却室温，即可得到被本发明所述的光学膜。
所述基材是指承载涂层的薄膜，其制备方法如下：
将聚酯面层层原料、聚酯芯层原料在150℃左右的温度下预结晶－干燥后，分别输送至面层用挤出机和芯层用挤出机。其中，面层原料为100份聚酯和4wt%TiO2（平均粒径0.5μm）；芯层原料为100份聚酯和8wt% BaSO4（平均粒径为1.0μm）、8wt%聚甲基戊烯、1wt%聚乙二醇；
在上述挤出机中，所述原料在275℃左右的温度下熔融挤出，并经过滤器过滤后从多层模头中挤出，得到片状熔体。将上述片状熔体一面通过静电吸附装置贴附在激冷辊上冷却固化，得到厚片；
将该厚片经一组表面温度为78℃左右的辊预热，然后在温度为85℃左右的温度下纵向拉伸，拉伸倍率为3.2，得到单轴拉伸聚酯膜片。用夹子夹持上述聚酯膜片两边，进入横拉机内，先在90℃左右的温度下预热，接着在100℃左右的温度下横向拉伸3.2倍，然后经在220℃左右的温度下热定型，再在60℃左右的温度下冷却。之后经牵引、切边、收卷后得到双向拉伸膜片即可。
本发明提供的光学膜及其制造方法，通过在至少一面设置含空心粒子的涂层来增加反射界面及折射率差异，进而提高反射率。同时还可以提高其挺度，提高其抗折伤、刮伤的能力。此种光学膜应用于背光源或照明领域，既可以提高亮度，还可以提高其挺度，进而提高裁切良率；同时避免了现有技术中的弊端。
附图说明
图1是本发明一种实施例的结构示意图；
图2是本发明中空心粒子的结构示意图。
具体实施方式
参照图1—图2，一种高反射率的光学膜，包括基材1，其特征在于：在基材1的至少一面上涂有至少一层含有空心粒子3的涂层2。
所述涂层2的一面为反射功能面。
所述空心粒子3为玻璃微珠，其折射率≥1.650。
所述空心粒子3平均直径≤5μm，空心内部平均直径0.3-2μm。
所述涂层2表面空心粒子3的覆盖率≥9.7%。
进一步地，所述空心粒子3直径1-5μm，空心内部直径0.3-2μm。
进一步地，所述表面空心粒子3的覆盖率9.7%-92.5%。
一种高反射率的光学膜的制造方法，包括以下步骤:
（1）按照如下组成配制基础涂布液，然后根据配方加入玻璃微珠，搅拌均匀；
基础涂布液的质量组分如下：
丙烯酸水分散体（固含量50%） 50份
去离子水 44份
三聚氰胺 5份
聚乙二醇 0.98份
紫外吸收剂 0.02份
（2）将基材平铺于涂布台上，启动自动涂布机，进行涂覆；
（3）将涂覆的薄膜置于120℃下干燥30min，并逐渐冷却室温，即可得到被本发明所述的光学膜。
所述基材是指承载涂层的薄膜，其制备方法如下：
将聚酯面层层原料、聚酯芯层原料在150℃左右的温度下预结晶－干燥后，分别输送至面层用挤出机和芯层用挤出机。其中，面层原料为100份聚酯和4wt%TiO2（平均粒径0.5μm）；芯层原料为100份聚酯和8wt% BaSO4（平均粒径为1.0μm）、8wt%聚甲基戊烯、1wt%聚乙二醇；
在上述挤出机中，所述原料在275℃左右的温度下熔融挤出，并经过滤器过滤后从多层模头中挤出，得到片状熔体。将上述片状熔体一面通过静电吸附装置贴附在激冷辊上冷却固化，得到厚片；
将该厚片经一组表面温度为78℃左右的辊预热，然后在温度为85℃左右的温度下纵向拉伸，拉伸倍率为3.2，得到单轴拉伸聚酯膜片。用夹子夹持上述聚酯膜片两边，进入横拉机内，先在90℃左右的温度下预热，接着在100℃左右的温度下横向拉伸3.2倍，然后经在220℃左右的温度下热定型，再在60℃左右的温度下冷却。之后经牵引、切边、收卷后得到双向拉伸膜片即可。
该光学膜在至少一个面上至少有一层含有空心粒子的涂层，以上所述的空心粒子形状优选球形或椭圆形。空心粒子的平均粒径≤5μm，空心内部平均直径0.3-2μm，空心粒子折射率≥1.65。
以上所述的光学膜，涂层一面为反射功能面。
上述方案中，所述空心粒子为玻璃微珠，为二氧化硅、氧化铝、氧化钛、氧化锌、氧化镁、氧化钙、氧化钡、氧化锆、氧化锶、氧化硼、氧化碲中的一种或几种的混合物制备而成，其中优选几种的混合制备。
以上方案中，涂层的主体为丙烯酸、聚氨酯、聚酯、有机硅中的一种或几种的混合物。可以选择溶剂型或水性的，其中从环保角度优选水性涂布树脂。
以上方案中，涂层表面空心粒子的覆盖率9.7%-92.5%。。
上述方案中，所述反射功能面，即为在背光中与光源或导光板所射出的光直接接触并起直接反射作用的一面。该层添加有紫外线吸收剂，这样保证了光学膜在使用过程中不会因光照时间长而出现发黄。
所述紫外线吸收剂可以是水杨酸酯类、苯酮类、苯并三唑类、取代丙烯腈类、三嗪类与受阻胺类中的一种或几种。优选几种复合的紫外线吸收剂。
本发明提供的光学膜膜的制造方法，包括以下步骤:
（1）按照如下组成配制基础涂布液，然后根据配方加入玻璃微珠，搅拌均匀；
基础涂布液组成如下：
丙烯酸水分散体（固含量50%） 50份
去离子水 44份
三聚氰胺 5份
聚乙二醇 0.98份
紫外吸收剂 0.02
（2）将基材平铺于涂布台上，启动自动涂布机，进行涂覆；
（3）将涂覆的薄膜置于120℃下干燥30min，并逐渐冷却室温，即可得到被本发明所述的光学膜。
以上所述基材制备方法如下：
将聚酯面层层原料、聚酯芯层原料在150℃左右的温度下预结晶－干燥后，分别输送至面层用挤出机和芯层用挤出机。其中，面层原料为100份聚酯和4wt%TiO2（平均粒径0.5μm）；芯层原料为100份聚酯和8wt% BaSO4（平均粒径为1.0μm）、8wt%聚甲基戊烯、1wt%聚乙二醇。
在上述挤出机中，所述原料在275℃左右的温度下熔融挤出，并经过滤器过滤后从多层模头中挤出，得到片状熔体。将上述片状熔体一面通过静电吸附装置贴附在激冷辊上冷却固化，得到厚片。
将该厚片经一组表面温度为78℃左右的辊预热，然后在温度为85℃左右的温度下纵向拉伸，拉伸倍率为3.2，得到单轴拉伸聚酯膜片。用夹子夹持上述聚酯膜片两边，进入横拉机内，先在90℃左右的温度下预热，接着在100℃左右的温度下横向拉伸3.2倍，然后经在220℃左右的温度下热定型，再在60℃左右的温度下冷却。之后经牵引、切边、收卷后得到双向拉伸膜片即可。
实施例中所示的测定值和评价如下所述进行。
（1）反射率
用带积分球的紫外－可见光分光光度计（如Evolution UV-Vis 300）中，以基材为标准反射板（即相对反射率为100%），测试九个点在560nm波长处的相对反射率的平均值R。
（2）挺度
按照GB/T2679.3，用挺度仪进行测试。
（3）折射率
采用V-棱镜测量折射率。
（4）空心粒子的平均粒径及其空心部分平均直径
将空心粒子粘附于导电胶带上，经离子溅射仪喷金处理后，用扫面电镜进行截面拍照。
然后用扫描电镜的专业软件分别标出50颗空心粒子的长边直径和短边直径，其平均值即为单个粒子的平均粒径，根据50颗粒子的平均粒径统计计算出此批空心粒子的平均粒径；再用相同方法计算出此批空心粒子空心部分的平均直径。
（5）空心粒子覆盖率
将涂覆后的光学膜粘附于导电胶带上，经离子溅射仪喷金处理后，用扫描电镜进行截面拍照。
然后用扫描电镜的专业软件分别标出照片的长和宽，计算出其面积S1; 同时用扫描电镜的专业软件分别标出涂层表面的所有空心粒子的长边直径和短边直径，二者平均值即为单个粒子的平均粒径，根据单个粒子的平均粒径，计算出单个粒子的截面积，进而统计计算出所有粒子的总截面积S2。
空心粒子覆盖率=S2/S1×100%。
实施例1
将12.5g折射率为1.650的空心粒子（粒子的平均粒径2.1μm，空心部分平均直径0.8μm）与87.5g上述基础涂布液混合均匀，得到混配涂布液。然后将混配涂布液用涂布机涂在基材（平均厚度188μm）上，将涂覆的薄膜置于120℃下干燥30min，并逐渐冷却室温，即可得到本发明所述的光学膜。
实施例2
将12.5g折射率为1.743的空心粒子（粒子的平均粒径2.1μm，空心部分平均直径0.8μm）与87.5g上述基础涂布液混合均匀，得到混配涂布液。然后将混配涂布液用涂布机涂在基材（平均厚度188μm）上，将涂覆的薄膜置于120℃下干燥30min，并逐渐冷却室温，即可得到本发明所述的光学膜。
实施例3
将12.5g折射率为1.862的空心粒子（粒子的平均粒径2.1μm，空心部分平均直径0.8μm）与87.5g上述基础涂布液混合均匀，得到混配涂布液。然后将混配涂布液用涂布机涂在基材（平均厚度188μm）上，将涂覆的薄膜置于120℃下干燥30min，并逐渐冷却室温，即可得到本发明所述的光学膜。
实施例4
将12.5g折射率为1.891的空心粒子（粒子的平均粒径2.1μm，空心部分平均直径0.8μm）与87.5g上述基础涂布液混合均匀，得到混配涂布液。然后将混配涂布液用涂布机涂在基材（平均厚度188μm）上，将涂覆的薄膜置于120℃下干燥30min，并逐渐冷却室温，即可得到本发明所述的光学膜。
实施例5
将12.5g折射率为1.933的空心粒子（粒子的平均粒径2.1μm，空心部分平均直径0.8μm）与87.5g上述基础涂布液混合均匀，得到混配涂布液。然后将混配涂布液用涂布机涂在基材（平均厚度188μm）上，将涂覆的薄膜置于120℃下干燥30min，并逐渐冷却室温，即可得到本发明所述的光学膜。
实施例6
将12.5g折射率为1.951的空心粒子（粒子的平均粒径2.1μm，空心部分平均直径0.8μm）与87.5g上述基础涂布液混合均匀，得到混配涂布液。然后将混配涂布液用涂布机涂在基材（平均厚度188μm）上，将涂覆的薄膜置于120℃下干燥30min，并逐渐冷却室温，即可得到本发明所述的光学膜。
实施例7
将12.5g折射率为1.987的空心粒子（粒子的平均粒径2.1μm，空心部分平均直径0.8μm）与87.5g上述基础涂布液混合均匀，得到混配涂布液。然后将混配涂布液用涂布机涂在基材（平均厚度188μm）上，将涂覆的薄膜置于120℃下干燥30min，并逐渐冷却室温，即可得到本发明所述的光学膜。
实施例8
将12.5g折射率为2.132的空心粒子（粒子的平均粒径2.1μm，空心部分平均直径0.8μm）与87.5g上述基础涂布液混合均匀，得到混配涂布液。然后将混配涂布液用涂布机涂在基材（平均厚度188μm）上，将涂覆的薄膜置于120℃下干燥30min，并逐渐冷却室温，即可得到本发明所述的光学膜。
实施例9
将12.5g折射率为2.225的空心粒子（粒子的平均粒径2.1μm，空心部分平均直径0.8μm）与87.5g上述基础涂布液混合均匀，得到混配涂布液。然后将混配涂布液用涂布机涂在基材（平均厚度188μm）上，将涂覆的薄膜置于120℃下干燥30min，并逐渐冷却室温，即可得到本发明所述的光学膜。
实施例10
将12.5g折射率为2.351的空心粒子（粒子的平均粒径2.1μm，空心部分平均直径0.8μm）与87.5g上述基础涂布液混合均匀，得到混配涂布液。然后将混配涂布液用涂布机涂在基材（平均厚度188μm）上，将涂覆的薄膜置于120℃下干燥30min，并逐渐冷却室温，即可得到本发明所述的光学膜。
实施例1－10的评价结果见表1。
实施例11
将12.5g折射率为2.351的空心粒子（粒子的平均粒径1.0μm，空心部分平均直径0.3μm）与87.5g上述基础涂布液混合均匀，得到混配涂布液。然后将混配涂布液用涂布机涂在基材（平均厚度188μm）上，将涂覆的薄膜置于120℃下干燥30min，并逐渐冷却室温，即可得到本发明所述的光学膜。
实施例12
将12.5g折射率为2.351的空心粒子（粒子的平均粒径2.5μm，空心部分平均直径1.1μm）与87.5g上述基础涂布液混合均匀，得到混配涂布液。然后将混配涂布液用涂布机涂在基材（平均厚度188μm）上，将涂覆的薄膜置于120℃下干燥30min，并逐渐冷却室温，即可得到本发明所述的光学膜。
实施例13
将12.5g折射率为2.351的空心粒子（粒子的平均粒径2.9μm，空心部分平均直径1.3μm）与87.5g上述基础涂布液混合均匀，得到混配涂布液。然后将混配涂布液用涂布机涂在基材（平均厚度188μm）上，将涂覆的薄膜置于120℃下干燥30min，并逐渐冷却室温，即可得到本发明所述的光学膜。
实施例14
将12.5g折射率为2.351的空心粒子（粒子的平均粒径4.1μm，空心部分平均直径1.5μm）与87.5g上述基础涂布液混合均匀，得到混配涂布液。然后将混配涂布液用涂布机涂在基材（平均厚度188μm）上，将涂覆的薄膜置于120℃下干燥30min，并逐渐冷却室温，即可得到本发明所述的光学膜。
实施例15
将12.5g折射率为2.351的空心粒子（粒子的平均粒径5.0μm，空心部分平均直径2.0μm）与87.5g上述基础涂布液混合均匀，得到混配涂布液。然后将混配涂布液用涂布机涂在基材（平均厚度188μm）上，将涂覆的薄膜置于120℃下干燥30min，并逐渐冷却室温，即可得到本发明所述的光学膜。
实施例11－15的评价结果见表2。
实施例16
将2.5g折射率为2.351的空心粒子（粒子的平均粒径1.0μm，空心部分平均直径0.3μm）与97.5g上述基础涂布液混合均匀，得到混配涂布液。然后将混配涂布液用涂布机涂在基材（平均厚度188μm）上，将涂覆的薄膜置于120℃下干燥30min，并逐渐冷却室温，即可得到本发明所述的光学膜。
实施例17
将7.5g折射率为2.351的空心粒子（粒子的平均粒径1.0μm，空心部分平均直径0.3μm）与92.5g上述基础涂布液混合均匀，得到混配涂布液。然后将混配涂布液用涂布机涂在基材（平均厚度188μm）上，将涂覆的薄膜置于120℃下干燥30min，并逐渐冷却室温，即可得到本发明所述的光学膜。
实施例18
将18.8g折射率为2.351的空心粒子（粒子的平均粒径1.0μm，空心部分平均直径0.3μm）与81.2g上述基础涂布液混合均匀，得到混配涂布液。然后将混配涂布液用涂布机涂在基材（平均厚度188μm）上，将涂覆的薄膜置于120℃下干燥30min，并逐渐冷却室温，即可得到本发明所述的光学膜。
实施例19
将22g折射率为2.351的空心粒子（粒子的平均粒径1.0μm，空心部分平均直径0.3μm）与78g上述基础涂布液混合均匀，得到混配涂布液。然后将混配涂布液用涂布机涂在基材（平均厚度188μm）上，将涂覆的薄膜置于120℃下干燥30min，并逐渐冷却室温，即可得到本发明所述的光学膜。
实施例20
将22.7g折射率为2.351的空心粒子（粒子的平均粒径1.0μm，空心部分平均直径0.3μm）与77.3g上述基础涂布液混合均匀，得到混配涂布液。然后将混配涂布液用涂布机涂在基材（平均厚度188μm）上，将涂覆的薄膜置于120℃下干燥30min，并逐渐冷却室温，即可得到本发明所述的光学膜。
实施例21
将23.5g折射率为2.351的空心粒子（粒子的平均粒径1.0μm，空心部分平均直径0.3μm）与76.5g上述基础涂布液混合均匀，得到混配涂布液。然后将混配涂布液用涂布机涂在基材（平均厚度188μm）上，将涂覆的薄膜置于120℃下干燥30min，并逐渐冷却室温，即可得到本发明所述的光学膜。
实施例22
将24g折射率为2.351的空心粒子（粒子的平均粒径1.0μm，空心部分平均直径0.3μm）与76g上述基础涂布液混合均匀，得到混配涂布液。然后将混配涂布液用涂布机涂在基材（平均厚度188μm）上，将涂覆的薄膜置于120℃下干燥30min，并逐渐冷却室温，即可得到本发明所述的光学膜。
实施例16－22的评价结果见表3。
比较例1
基材不进行涂布，直接进行评价。
比较例2
将上述基础涂布液用涂布机涂在基材（平均厚度188μm）上，将涂覆的薄膜置于120℃下干燥30min，并逐渐冷却室温，即可得到本发明所述的光学膜。
比较例3
将12.5g折射率为1.650的实心粒子（粒子的平均粒径1.0μm）与87.5g上述基础涂布液混合均匀，得到混配涂布液。然后将混配涂布液用涂布机涂在基材（平均厚度188μm）上，将涂覆的薄膜置于120℃下干燥30min，并逐渐冷却室温，即可得到本发明所述的光学膜。
比较例4
将12.5g折射率为1.933的实心粒子（粒子的平均粒径1.0μm）与87.5g上述基础涂布液混合均匀，得到混配涂布液。然后将混配涂布液用涂布机涂在基材（平均厚度188μm）上，将涂覆的薄膜置于120℃下干燥30min，并逐渐冷却室温，即可得到光学膜片。
比较例5
将12.5g折射率为2.351的实心粒子（粒子的平均粒径1.0μm）与87.5g上述基础涂布液混合均匀，得到混配涂布液。然后将混配涂布液用涂布机涂在基材（平均厚度188μm）上，将涂覆的薄膜置于120℃下干燥30min，并逐渐冷却室温，即可得到光学膜片。
比较例6
将12.5g折射率为2.351的实心粒子（粒子的平均粒径2.1μm）与87.5g上述基础涂布液混合均匀，得到混配涂布液。然后将混配涂布液用涂布机涂在基材（平均厚度188μm）上，将涂覆的薄膜置于120℃下干燥30min，并逐渐冷却室温，即可得到光学膜片。
比较例7
将12.5g折射率为2.351的实心粒子（粒子的平均粒径5.0μm）与76.5g上述基础涂布液混合均匀，得到混配涂布液。然后将混配涂布液用涂布机涂在基材（平均厚度188μm）上，将涂覆的薄膜置于120℃下干燥30min，并逐渐冷却室温，即可得到光学膜片。
比较例8
将23.5g折射率为2.351的实心粒子（粒子的平均粒径1.0μm）与76.5g上述基础涂布液混合均匀，得到混配涂布液。然后将混配涂布液用涂布机涂在基材（平均厚度188μm）上，将涂覆的薄膜置于120℃下干燥30min，并逐渐冷却室温，即可得到光学膜片。
比较例1-8的评价结果见表4。
表1
| 反射率（%） | 挺度（mN·m） | |
| 实施例1 | 100.1 | 1.8 |
| 实施例2 | 100.5 | 1.8 |
| 实施例3 | 100.8 | 1.8 |
| 实施例4 | 101.0 | 1.8 |
| 实施例5 | 101.2 | 1.8 |
| 实施例6 | 101.3 | 1.9 |
| 实施例7 | 101.6 | 1.8 |
| 实施例8 | 102.3 | 1.8 |
| 实施例9 | 102.8 | 1.9 |
| 实施例10 | 103.5 | 1.9 |
表2
| 反射率（%） | 挺度（mN·m） | |
| 实施例11 | 104. 8 | 2.0 |
| 实施例12 | 102.8 | 1.8 |
| 实施例13 | 102.3 | 1.8 |
| 实施例14 | 101.5 | 1.7 |
| 实施例15 | 100.8 | 1.7 |
| 实施例16 | 102.0 | 1.8 |
| 实施例17 | 103.1 | 1.9 |
| 实施例18 | 106.0 | 2.0 |
| 实施例19 | 106.8 | 2.1 |
| 实施例20 | 107.6 | 2.3 |
| 实施例21 | 108.2 | 2.4 |
| 实施例22 | 108.0 | 2.4 |
表3
| 反射率（%） | 挺度（mN·m） | 覆盖率（%） | |
| 实施例16 | 102.0 | 1.8 | 9.7 |
| 实施例17 | 103.1 | 1.9 | 30.2 |
| 实施例18 | 106.0 | 2.0 | 75.3 |
| 实施例19 | 106.8 | 2.1 | 88.9 |
| 实施例20 | 107.6 | 2.3 | 90.8 |
| 实施例21 | 108.2 | 2.4 | 92.5 |
| 实施例22 | 108.0 | 2.4 | 92.5 |
表4
| 反射率（%） | 挺度（mN·m） | |
| 比较例1 | 100.0 | 1.4 |
| 比较例2 | 99.0 | 1.6 |
| 比较例3 | 99.4 | 1.8 |
| 比较例4 | 100.1 | 1.8 |
| 比较例5 | 100.8 | 1.8 |
| 比较例6 | 100.2 | 1.8 |
| 比较例7 | 100.0 | 1.7 |
| 比较例8 | 101.6 | 2.0 |
由以上实施例和比较例可知，本发明提供的光学膜及其制造方法，通过在至少一面设置含空心粒子的涂层，空心粒子的平均粒径≤5μm，空心部分平均直径0.3-2μm，空心粒子折射率≥1.65，涂层表面空心粒子的覆盖率9.7%-92.5%。涂层的设置增加了反射界面及折射率差异，进而提高了反射率；同时该方法还提高了光学膜的挺度，提高其抗折伤、刮伤的能力。此种光学膜应用于背光源或照明领域，既可以提高亮度，同时还可以提高其挺度，进而提高裁切良率；避免了背景技术所述方法带来的弊端。
Claims (9)
1.一种高反射率的光学膜，包括基材，其特征在于：在基材的至少一面上涂有至少一层含有空心粒子的涂层。
2.根据权利要求1所述的一种高反射率的光学膜，其特征在于：所述涂层的一面为反射功能面。
3.根据权利要求1所述的一种高反射率的光学膜，其特征在于：所述空心粒子为玻璃微珠，其折射率≥1.650。
4.根据权利要求1所述的一种高反射率的光学膜，其特征在于：所述空心粒子平均直径≤5μm，空心内部平均直径0.3-2μm。
5.根据权利要求1所述的一种高反射率的光学膜，其特征在于：所述涂层表面空心粒子的覆盖率≥9.7%。
6.根据权利要求1或4所述的一种高反射率的光学膜，其特征在于：所述空心粒子直径1-5μm，空心内部直径0.3-2μm。
7.根据权利要求1或5所述的一种高反射率的光学膜，其特征在于：所述表面空心粒子的覆盖率9.7%-92.5%。
8.一种高反射率的光学膜的制造方法，其特征在于：包括以下步骤:
（1）按照如下组成配制基础涂布液，然后根据配方加入玻璃微珠，搅拌均匀；
基础涂布液的质量组分如下：
丙烯酸水分散体（固含量50%） 50份
去离子水 44份
三聚氰胺 5份
聚乙二醇 0.98份
紫外吸收剂 0.02份
（2）将基材平铺于涂布台上，启动自动涂布机，进行涂覆；
（3）将涂覆的薄膜置于120℃下干燥30min，并逐渐冷却室温，即可得到被本发明所述的光学膜。
9.根据权利要求8所述的一种高反射率的光学膜的制造方法，其特征在于：所述基材是指承载涂层的薄膜，其制备方法如下：
将聚酯面层层原料、聚酯芯层原料在150℃左右的温度下预结晶－干燥后，分别输送至面层用挤出机和芯层用挤出机；其中，面层原料为100份聚酯和4wt%TiO2（平均粒径0.5μm）；芯层原料为100份聚酯和8wt% BaSO4（平均粒径为1.0μm）、8wt%聚甲基戊烯、1wt%聚乙二醇；在上述挤出机中，所述原料在275℃左右的温度下熔融挤出，并经过滤器过滤后从多层模头中挤出，得到片状熔体；将上述片状熔体一面通过静电吸附装置贴附在激冷辊上冷却固化，得到厚片；将该厚片经一组表面温度为78℃左右的辊预热，然后在温度为85℃左右的温度下纵向拉伸，拉伸倍率为3.2，得到单轴拉伸聚酯膜片；用夹子夹持上述聚酯膜片两边，进入横拉机内，先在90℃左右的温度下预热，接着在100℃左右的温度下横向拉伸3.2倍，然后经在220℃左右的温度下热定型，再在60℃左右的温度下冷却；之后经牵引、切边、收卷后得到双向拉伸膜片即可。
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- 2014-10-17 CN CN201410552544.9A patent/CN104267453A/zh active Pending
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