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CN104160336B - 正型感光性树脂组合物、分隔壁和光学元件 - Google Patents

正型感光性树脂组合物、分隔壁和光学元件 Download PDF

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CN104160336B
CN104160336B CN201380013041.8A CN201380013041A CN104160336B CN 104160336 B CN104160336 B CN 104160336B CN 201380013041 A CN201380013041 A CN 201380013041A CN 104160336 B CN104160336 B CN 104160336B
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Abstract

本发明提供正型感光性树脂组合物、以及提供使用该树脂组合物形成的分隔壁、和光学元件,所述正型感光性树脂组合物能够制造拒墨性优异、即使经过紫外线/臭氧照射处理拒墨性也优异、且点中残留物少的分隔壁,所述正型感光性树脂组合物具有充分的储藏稳定性。正型感光性树脂组合物、使用该树脂组合物形成的分隔壁和光学元件,所述正型感光性树脂组合物的特征在于,其为包含碱可溶性树脂(A)、光敏剂(B)和拒墨剂(C)的正型感光性树脂组合物,前述拒墨剂(C)由包含含氟水解性硅烷化合物的混合物的部分水解缩合物形成,前述水解性硅烷化合物中的氟原子的含有比率为10~55质量%。

Description

正型感光性树脂组合物、分隔壁和光学元件
技术领域
本发明涉及正型感光性树脂组合物、使用其形成的分隔壁、和具有该分隔壁的光学元件。
背景技术
用于作为光学元件的滤色器、有机EL(Electro-Luminescence)元件的像素部的分隔壁已知有在基板上涂布感光性树脂组合物并通过光刻技术而形成的方法。
近年来,作为滤色器、有机EL元件的像素部的制造方法,提出了利用喷墨法的低成本化工艺。
例如,在滤色器的制造中,利用光刻形成分隔壁后,利用喷墨法向由分隔壁围成的开口部(点)中喷射、涂布R(红)、G(绿)、和B(蓝)的墨,并形成像素。
喷墨法中,需要防止相邻的像素间的墨的混色。因此,对于分隔壁,要求排斥喷墨的吐出液即包含水、有机溶剂的墨的性质、即所谓的拒墨性。另一方面,对于喷墨法中形成于像素的墨层,要求具有优异的膜厚均匀性,因此,由分隔壁围成的点(dot)要求对吐出液具有良好的润湿性、即所谓的亲墨性。
为了使分隔壁的表面为拒墨性,开发了在用于分隔壁形成的感光性树脂组合物中添加拒墨剂的技术。
从显影后的残渣(以下也称作“显影残渣”)少的方面出发,正型感光性树脂比负型感光性树脂优异,有时可以优选使用。例如专利文献1中记载了使用包含表面自由能小的拒墨剂的正型感光性树脂组合物、对分隔壁表面赋予拒墨性的技术。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2009-251327号公报
发明内容
发明要解决的问题
然而,对于专利文献1中记载的正型感光性树脂组合物来说,存在拒墨剂的表面迁移性不充分,拒墨剂残留在分隔壁内部而分隔壁侧面的亲墨性变得不良的问题。还存在拒墨剂残留在显影后的点中,墨无法均匀地涂布从而产生墨的白点的问题。为了清洗点,使用紫外线/臭氧照射处理等,但对于专利文献1中记载的拒墨剂来说,还存在耐性不充分,分隔壁的拒墨性会大幅降低的问题。
本发明是鉴于前述情况而作出的,本发明的目的在于提供能够形成拒墨性优异、即使经过紫外线/臭氧照射处理拒墨性也优异、且点中残留物少的分隔壁、储藏稳定性也优异的正型感光性树脂组合物。
另外,本发明的目的在于提供具有拒墨性优异、即使经过紫外线/臭氧照射处理拒墨性也优异的分隔壁的光学元件。
用于解决问题的方案
本发明提供具有以下[1]~[15]的构成的正型感光性树脂组合物、分隔壁、和光学元件。
[1]一种正型感光性树脂组合物,其为包含碱可溶性树脂(A)、光敏剂(B)和拒墨剂(C)的正型感光性树脂组合物,
前述拒墨剂(C)由包含下式(c-1)所示的水解性硅烷化合物、和下式(c-2)所示的水解性硅烷化合物的混合物的部分水解缩合物形成,前述拒墨剂(C)中的氟原子含有率为10~55质量%。
Rf-Q1-SiX1 3 …(c-1)
RH1 p-SiX2 (4-p) …(c-2)
(式(c-1)和(c-2)中的符号如以下所述。
Rf:碳原子数1~6的全氟烷基、或Rf1ORf2-所示的碳原子数2~40的1价基团(Rf1为碳原子数1~6的全氟烷基,Rf2为在碳-碳原子间可以具有醚性氧原子的全氟亚烷基。),
Q1:碳原子数1~10的、不含氟原子的2价有机基团,
RH1:碳原子数1~6的烃基,
X1、和X2:水解性基团,
p:0、1或2,
其中,式(c-1)中的3个X1、式(c-2)中的(4-p)个X2、和p个RH1可以分别互不相同也可以相同。)
[2]根据上述[1]所述的正型感光性树脂组合物,其中,正型感光性树脂组合物中的总固体成分中的前述碱可溶性树脂(A)的含量为10~90质量%。
[3]根据上述[1]或[2]所述的正型感光性树脂组合物,其中,正型感光性树脂组合物中的总固体成分中的前述光敏剂(B)的含量为0.1~50质量%。
[4]根据上述[1]~[3]中的任一项所述的正型感光性树脂组合物,其中,正型感光性树脂组合物中的总固体成分中的前述拒墨剂(C)的含量为0.01~10质量%。
[5]根据上述[1]~[4]中的任一项所述的正型感光性树脂组合物,其中,前述拒墨剂(C)的数均分子量(Mn)为500以上且小于1000000。
[6]根据上述[1]~[5]中的任一项所述的正型感光性树脂组合物,其中,前述碱可溶性树脂(A)为酚醛清漆型酚醛树脂。
[7]根据上述[1]~[6]中的任一项所述的正型感光性树脂组合物,其中,前述光敏剂(B)为具有醌二叠氮基的化合物。
[8]根据上述[1]~[7]中的任一项所述的正型感光性树脂组合物,其中,前述混合物还包含下式(c-3)所示的水解性硅烷化合物。
(式(c-3)中的符号如以下所述。
Y:氢原子可以被卤素原子、碳原子数1~3的烷基、碳原子数2~3的链烯基或硝基所取代的苯基,
Q2:单键或2价有机基团,
RH2:碳原子数1~6的烃基,
X3:水解性基团,
q:1或2,
r:0和1中的使得q+r成为1或2的数,
其中,q个Y、Q2、和Y-Q2、以及(4-q-r)个X3可以分别互不相同也可以相同。)
[9]根据上述[1]~[8]中的任一项所述的正型感光性树脂组合物,其还包含溶剂(D)。
[10]根据上述[1]~[9]中的任一项所述的正型感光性树脂组合物,其还包含热固化剂(E)。
[11]根据上述[10]所述的正型感光性树脂组合物,其还包含热固化促进剂(F)。
[12]根据上述[1]~[11]中的任一项所述的正型感光性树脂组合物,其还包含着色剂(G)。
[13]一种分隔壁,其形成为将基板表面分隔成像素形成用的多个分区的形态,
其由上述[1]~[12]中的任一项所述的正型感光性树脂组合物的固化膜形成。
[14]一种光学元件,其在基板表面具有多个像素和位于邻接的像素间的分隔壁,前述分隔壁由上述[13]所述的分隔壁形成。
[15]根据上述[14]所述的光学元件,其中,前述光学元件为滤色器、TFT(ThinFilm Transistor)阵列或有机EL元件。
发明的效果
本发明的正型感光性树脂组合物能够形成拒墨性优异、即使经过紫外线/臭氧照射处理拒墨性也优异的分隔壁,储藏稳定性也优异。
本发明的光学元件通过具有拒墨性优异、即使经过紫外线/臭氧照射处理拒墨性也优异的分隔壁,从而可以抑制白点现象等的发生,外观良好。
附图说明
图1为示意性示出使用本发明的正型感光性树脂组合物的光学元件用分隔壁的制造例的截面图。
具体实施方式
本说明书中,将式(c-1)所示的化合物也称作“化合物(c-1)”。其他化合物也同样。
本说明书中的“总固体成分”是指,在正型感光性树脂组合物所含有的成分中的形成分隔壁的成分,除了溶剂(D)等通过在分隔壁形成过程中的加热等而挥发的挥发性成分以外的总成分。以将正型感光性树脂组合物在140℃下加热24小时去除溶剂后的残留物的形式来测定。另外,总固体成分也可以由各成分的投入量来计算。
本说明书中,将涂布正型感光性树脂组合物而成的膜称作“涂膜”,将使其干燥后的状态称作“膜”,将进一步使其固化而得到的膜称作“固化膜”。
本说明书中,分隔壁的“表面”用作仅表示分隔壁的上表面的用语。因此,分隔壁的“表面”不包括分隔壁的侧面。
本说明书中的“墨”是指,在干燥固化后具有例如光学、电气功能的液体的总称,并不限定于以往使用的着色材料。另外,对于注入上述墨而形成的“像素”来说也同样地,用于表示被分隔壁分隔了的、具有光学、电气功能的分区。
本说明书中的“拒墨性”是指,为了排斥上述墨而适度具有拒水性和拒油性两者的性质,例如可以利用后述的方法来评价。
以下,说明本发明的实施方式。其中,在本说明书中没有特别说明的情况下,%表示质量%。
[碱可溶性树脂(A)]
作为本发明的正型感光性树脂组合物中的碱可溶性树脂(A),可以使用正型感光性树脂组合物中使用的公知的碱可溶性树脂。
碱可溶性树脂(A)通过与后述的光敏剂(B)一同使用,从而可以以正型感光性树脂组合物的形式发挥功能。即,正型感光性树脂组合物中,进行光刻等曝光时,在曝光部光敏剂(B)发生活化,增大对显影液的溶解性。该曝光部在显影时溶解于显影液(通常为碱显影液)从而被去除。未经光照射的部分(未曝光部分)变为分隔壁。需要说明的是,碱可溶性树脂(A)由于在曝光前与光敏剂(B)组合,所以还存在不溶解于显影液的树脂。
作为碱可溶性树脂(A),可以举出加入酚类和醛类、进而根据需要的各种改性剂后进行缩聚而制造的未改性或改性的酚醛清漆型酚醛树脂、聚羟基苯乙烯、聚卤代羟基苯乙烯、N-(4-羟基苯基)甲基丙烯酰胺的共聚物、氢醌单甲基丙烯酸酯共聚物。另外,还可以使用磺酰亚胺系聚合物、含羧基聚合物、含有酚羟基的丙烯酸类树脂、具有磺酰胺基的丙烯酸类树脂、氨基甲酸酯系的树脂等各种碱可溶性的高分子化合物。
作为本发明的正型感光性树脂组合物中的碱可溶性树脂(A),优选酚醛清漆型酚醛树脂。
作为用于制造酚醛清漆型酚醛树脂的酚类,例如可以举出苯酚、邻甲酚、对甲酚、间甲酚等甲酚类;3,5-二甲苯酚、2,5-二甲苯酚、2,3-二甲苯酚、3,4-二甲苯酚等二甲苯酚类;2,3,4-三甲基苯酚、2,3,5-三甲基苯酚、2,4,5-三甲基苯酚、3,4,5-三甲基苯酚等三甲基酚类;2-叔丁基苯酚、3-叔丁基苯酚、4-叔丁基苯酚等叔丁基酚类;2-甲氧基苯酚、3-甲氧基苯酚、4-甲氧基苯酚、2,3-二甲氧基苯酚、2,5-二甲氧基苯酚、3,5-二甲氧基苯酚等甲氧基酚类;2-乙基苯酚、3-乙基苯酚、4-乙基苯酚、2,3-二乙基苯酚、3,5-二乙基苯酚、2,3,5-三乙基苯酚、3,4,5-三乙基苯酚等乙基酚类;邻氯苯酚、间氯苯酚、对氯苯酚、2,3-二氯苯酚等氯酚类;间苯二酚、2-甲基间苯二酚、4-甲基间苯二酚、5-甲基间苯二酚等间苯二酚类;5-甲基邻苯二酚等邻苯二酚类;5-甲基连苯三酚等连苯三酚类;双酚A、B、C、D、E、F等双酚类;2,6-二羟甲基-对甲酚等羟甲基化甲酚类;α-萘酚、β-萘酚等萘酚类;等。它们可以单独使用1种也可以组合使用2种以上。
作为用于制造酚醛清漆型酚醛树脂的醛类,可以举出甲醛、低聚甲醛、三氧杂环己烷、乙醛、丙醛、聚甲醛、三氯乙醛、糠醛、乙二醛、叔丁醛、己醛、烯丙醛、苯甲醛、丁烯醛、丙烯醛、四甲醛(tetraoxymethylene)、苯基乙醛、邻甲苯甲醛、水杨醛等。它们可以单独使用1种也可以组合使用2种以上。
上述酚醛清漆型酚醛树脂中,从购买容易性、金属杂质少等方面出发,优选作为酚类使用甲酚类、二甲苯酚类等的酚醛清漆型酚醛树脂等,特别优选使用甲酚类的酚醛清漆型酚醛树脂(以下也称作“甲酚酚醛清漆树脂”)。
碱可溶性树脂(A)的质均分子量(Mw)优选为0.5×103~20×103,特别优选为2×103~15×103。质均分子量(Mw)为上述范围时,对曝光后的显影液的溶解性优异。
需要说明的是,本说明书中质均分子量(Mw)是指,通过凝胶渗透色谱法(GPC)将四氢呋喃作为流动相来测定的、以标准聚苯乙烯作为基准进行换算而得到的质均分子量。另外,数均分子量(Mn)是指,通过同样的GPC测定的数均分子量。
碱可溶性树脂(A)优选对碱显影液的溶解性优异。例如作为正型感光性树脂组合物的碱显影液,如果以对一般的2.38质量%TMAH(四甲基氢氧化铵)水溶液的溶解速度(埃/秒、以下简单称作“溶解速度”)作为指标,则优选为50~400埃/秒,特别优选为100~200埃/秒。溶解速度为上述范围时,正型感光性树脂组合物的显影性变得良好。
碱可溶性树脂(A)也可以使用市售品。作为市售品,可以举出均以旭有机材工业株式会社制造的商品名计的、EP4020G(Mw:9000~14000、溶解速度:160~250埃/秒)、EPR5010G(Mw:7000~12500、溶解速度:50~150埃/秒)(均为甲酚酚醛清漆树脂)等。
本发明的正型感光性树脂组合物中的碱可溶性树脂(A)可以单独使用1种也可以组合使用2种以上。
正型感光性树脂组合物中的总固体成分中的碱可溶性树脂(A)的含量优选为10~90质量%,特别优选为30~80质量%。含量为上述范围时,正型感光性树脂组合物的显影性变得良好。
[光敏剂(B)]
作为本发明的正型感光性树脂组合物中的光敏剂(B),可以使用用于正型感光性树脂组合物的公知的光敏剂。
作为光敏剂(B),优选具有醌二叠氮基的化合物。作为具有醌二叠氮基的化合物,可以使用与酚醛清漆型酚醛树脂组合使用的、公知的具有醌二叠氮基的化合物。
作为光敏剂(B),可以举出能够彼此缩合的、后述具有醌二叠氮基的化合物α和化合物β的完全缩合物、部分缩合物。
化合物α具有能够进行缩合反应的官能团。作为该能够进行缩合反应的官能团,可以举出磺基、氯磺基等。作为化合物α,可以举出苯并醌二叠氮磺酸、萘醌二叠氮磺酸、蒽醌二叠氮磺酸等磺酸、它们的磺酰氯。作为磺酰氯,具体而言,可以举出1,2-萘醌二叠氮-5-磺酰氯、1,2-萘醌二叠氮-4-磺酰氯、1,2-苯并醌二叠氮-4-磺酰氯等。
化合物β具有能够与化合物α进行缩合反应的官能团。作为该能够进行缩合反应的官能团,可以举出羟基、氨基等,优选羟基。
作为化合物β,从所得分隔壁的耐热性优异的方面出发,优选具有芳香环的化合物。从耐热性和能够大量地导入羟基的方面出发,该芳香族化合物中的芳香环的数量优选为1~6个,特别优选为2~4个。
作为化合物β,特别优选为与芳香环键合的氢原子的至少1个被取代为羟基的芳香族化合物。1分子中的羟基的数量优选为1~10个,特别优选为2~4个。
作为化合物β的具体例,可以举出下述化合物:
苯酚、4-甲基苯酚等酚类;
2,3,4-三羟基二苯甲酮、2,3,4,4′-四羟基二苯甲酮等多羟基二苯甲酮类;
三(4-羟基苯基)甲烷、1,1,1-三(4-羟基苯基)乙烷、1,1-双(4-羟基苯基)-1-[α,α-二甲基-α-(4′-羟基苯基)苄基]乙烷、双(4-羟基-3-甲基苯基)-2-羟基苯基甲烷、双(4-羟基-2,3,5-三甲基苯基)-2-羟基苯基甲烷、双(4-羟基-3,5-二甲基苯基)-4-羟基苯基甲烷、双(4-羟基-3,5-二甲基苯基)-3-羟基苯基甲烷、双(4-羟基-3,5-二甲基苯基)-2-羟基苯基甲烷、双(4-羟基-2,5-二甲基苯基)-4-羟基苯基甲烷、双(4-羟基-2,5-二甲基苯基)-3-羟基苯基甲烷、双(4-羟基-2,5-二甲基苯基)-2-羟基苯基甲烷、双(4-羟基-3,5-二甲基苯基)-3,4-二羟基苯基甲烷、双(4-羟基-2,5-二甲基苯基)-3,4-二羟基苯基甲烷、双(4-羟基-2,5-二甲基苯基)-2,4-二羟基苯基甲烷、双(4-羟基苯基)-3-甲氧基-4-羟基苯基甲烷、双(5-环己基-4-羟基-2-甲基苯基)-4-羟基苯基甲烷、双(5-环己基-4-羟基-2-甲基苯基)-3-羟基苯基甲烷、双(5-环己基-4-羟基-2-甲基苯基)-2-羟基苯基甲烷、双(5-环己基-4-羟基-2-甲基苯基)-3,4-二羟基苯基甲烷、1,3,5-三(4-羟基苯基二甲基苄基)苯等三苯酚型化合物;
2,4-双(3,5-二甲基-4-羟基苄基)-5-羟基苯酚、2,6-双(2,5-二甲基-4-羟基苄基)-4-甲基苯酚等线型3核体苯酚化合物;
1,1-双[3-(2-羟基-5-甲基苄基)-4-羟基-5-环己基苯基]异丙烷、双[2,5-二甲基-3-(4-羟基-5-甲基苄基)-4-羟基苯基]甲烷、双[2,5-二甲基-3-(4-羟基苄基)-4-羟基苯基]甲烷、双[3-(3,5-二甲基-4-羟基苄基)-4-羟基-5-甲基苯基]甲烷、双[3-(3,5-二甲基-4-羟基苄基)-4-羟基-5-乙基苯基]甲烷、双[3-(3,5-二乙基-4-羟基苄基)-4-羟基-5-甲基苯基]甲烷、双[3-(3,5-二乙基-4-羟基苄基)-4-羟基-5-乙基苯基]甲烷、双[2-羟基-3-(3,5-二甲基-4-羟基苄基)-5-甲基苯基]甲烷、双[2-羟基-3-(2-羟基-5-甲基苄基)-5-甲基苯基]甲烷、双[4-羟基-3-(2-羟基-5-甲基苄基)-5-甲基苯基]甲烷、双[2,5-二甲基-3-(2-羟基-5-甲基苄基)-4-羟基苯基]甲烷等线型或环状型4核体苯酚化合物;
2,4-双[2-羟基-3-(4-羟基苄基)-5-甲基苄基]-6-环己基苯酚、2,4-双[4-羟基-3-(4-羟基苄基)-5-甲基苄基]-6-环己基苯酚、2,6-双[2,5-二甲基-3-(2-羟基-5-甲基苄基)-4-羟基苄基]-4-甲基苯酚等线型或环状型5核体苯酚化合物等、线型或环状型多苯酚化合物;
双(2,3,4-三羟基苯基)甲烷、双(2,4-二羟基苯基)甲烷、2,3,4-三羟基苯基-4′-羟基苯基甲烷、2-(2,3,4-三羟基苯基)-2-(2′,3′,4′-三羟基苯基)丙烷、2-(2,4-二羟基苯基)-2-(2′,4′-二羟基苯基)丙烷、2-(3,4-二羟基苯基)-2-(3′,4′-二羟基苯基)丙烷、2-(4-羟基苯基)-2-(4′-羟基苯基)丙烷、2-(3-氟-4-羟基苯基)-2-(3′-氟-4′-羟基苯基)丙烷、2-(2,4-二羟基苯基)-2-(4′-羟基苯基)丙烷、2-(2,3,4-三羟基苯基)-2-(4′-羟基苯基)丙烷、2-(2,3,4-三羟基苯基)-2-(4′-羟基-3′,5′-二甲基苯基)丙烷等双酚型化合物;
1-[1,1-双(4-羟基苯基)乙基]-4-[1′,1′-双(4′-羟基苯基)乙基]苯、1-[1-(4-羟基苯基)异丙基]-4-[1,1-双(4-羟基苯基)乙基]苯、1-[1-(3-甲基-4-羟基苯基)异丙基]-4-[1,1-双(3-甲基-4-羟基苯基)乙基]苯等多核分支型化合物;
1,1-双(4-羟基苯基)环己烷、2-双[1,1-双(4-羟基苯基环己基)]-2-双[1′,1′-双(4′-羟基苯基环己基)]丙烷等缩合型苯酚化合物;
1,1′-螺双[1H-茚]-5,5′,6,6′-四醇、2,4,4-三甲基-2-(2,4-二羟基苯基)-7-羟基色满、五环[19,3,1,13,7,19,13,115,19]二十八碳烷-1,3,5,7,9,11,13,15,17,19,21,23-十二烯-4,6,10,12,16,18,22,24-八醇等。它们可以单独使用1种也可以组合使用2种以上。
作为光敏剂(B),更优选以下化合物α和化合物β的完全缩合物或部分缩合物。
化合物α:1,2-萘醌二叠氮-5-磺酰氯、1,2-萘醌二叠氮-4-磺酰氯、1,2-苯并醌二叠氮-4-磺酰氯等,
化合物β:作为酚类,苯酚、4-甲基苯酚;
作为多羟基二苯甲酮类,2,3,4-三羟基二苯甲酮、2,3,4,4′-四羟基二苯甲酮;
作为三苯酚型化合物,三(4-羟基苯基)甲烷、1,1,1-三(4-羟基苯基)乙烷、1,1-双(4-羟基苯基)-1-[α,α-二甲基-α-(4′-羟基苯基)苄基]乙烷、1,3,5-三(4-羟基苯基二甲基苄基)苯;
作为双酚型化合物,2,3,4-三羟基苯基-4′-羟基苯基甲烷、2-(3,4-二羟基苯基)-2-(3′,4′-二羟基苯基)丙烷、2-(2,4-二羟基苯基)-2-(2′,4′-二羟基苯基)丙烷、2-(2,3,4-三羟基苯基)-2-(4′-羟基苯基)丙烷;
作为多核分支型化合物,1-[1,1-双(4-羟基苯基)乙基]-4-[1′,1′-双(4′-羟基苯基)乙基]苯;
作为缩合型苯酚化合物,2-双[1,1-双(4-羟基苯基环己基)]-2-双[1′,1′-双(4′-羟基苯基环己基)]丙烷;
1,1′-螺双[1H-茚]-5,5′,6,6′-四醇、2,4,4-三甲基-2-(2,4-二羟基苯基)-7-羟基色满、五环[19,3,1,13,7,19,13,115,19]二十八碳烷-1,3,5,7,9,11,13,15,17,19,21,23-十二烯-4,6,10,12,16,18,22,24-八醇。
作为光敏剂(B),特别优选1,2-萘醌二叠氮-5-磺酰氯或1,2-萘醌二叠氮-4-磺酰氯与2,3,4,4′-四羟基二苯甲酮的缩合反应物、即式(b-1)所示的化合物。
(式(b-1)中,D表示氢原子或下式(b-2)所示的基团。其中,D的至少1个为式(b-2)所示的基团。)
本发明的正型感光性树脂组合物中的光敏剂(B)可以为1分子中的醌二叠氮基数量不同的化合物的混合物,以光敏剂(B)整体的平均值计,优选为1分子中具有1~4个醌二叠氮基的化合物,特别优选具有2.5~3个醌二叠氮基的化合物。
本发明的正型感光性树脂组合物中的总固体成分中的光敏剂(B)的含量优选为0.1~50质量%,特别优选为1.0~30质量%。为上述范围时,正型感光性树脂组合物的显影性优异。小于下限值时,有时无法得到作为感光性树组合物的充分的灵敏度,超过上限值时,成分有可能析出。
[拒墨剂(C)]
本发明的正型感光性树脂组合物中的拒墨剂(C)由包含下式(c-1)所示的水解性硅烷化合物(以下也称作化合物(c-1))、下式(c-2)所示的水解性硅烷化合物(以下也称作化合物(c-2))的混合物(以下也称作“水解性硅烷化合物混合物”)的部分水解缩合物形成,前述拒墨剂(C)中的氟原子含有率为10~55质量%。
Rf-Q1-SiX1 3 …(c-1)
RH1 p-SiX2 (4-p) …(c-2)
(式(c-1)和(c-2)中的符号如以下所述。
Rf:碳原子数1~6的全氟烷基、或Rf1ORf2-所示的碳原子数2~40的1价基团(Rf1为碳原子数1~6的全氟烷基,Rf2为在碳-碳原子间可以具有醚性氧原子的全氟亚烷基),
Q1:碳原子数1~10的、不含氟原子的2价有机基团,
RH1:碳原子数1~6的烃基,
X1、和X2:水解性基团,
p:0、1或2,
其中,X1、X2、和RH1在式(c-1)或式(c-2)内存在多个时,它们可以互不相同也可以相同。)
拒墨剂(C)通过含有源自化合物(c-1)的全氟烷基,可以对使用正型感光性树脂组合物形成的分隔壁赋予优异的拒墨性。将正型感光性树脂组合物涂布到基板上时,源自水解性硅烷化合物(c-1)的Rf变得易于停留在与基板的相反侧(即空气侧)。即,拒墨剂(C)变得易于停留在与基板的相反侧。另外,化合物(c-1)由于具有Rf和硅原子,所以分隔壁的拒墨性的耐紫外线/臭氧性优异。
拒墨剂(C)通过含有源自化合物(c-2)的单元,拒墨剂(C)对烃系溶剂的溶解性、成膜性优异。另外,可以调整拒墨剂(C)的氟原子含有率。
拒墨剂(C)的氟原子含有率为10~55质量%,优选为12~40质量%,特别优选为15~30质量%。氟原子含有率为上述范围时,可以对使用正型感光性树脂组合物形成的分隔壁赋予耐于紫外线或臭氧照射的拒墨性。
拒墨剂(C)优选具有硅烷醇基。作为硅烷醇基的数量,每1个硅原子中,优选为0.2~3.5个,更优选为0.2~2个,特别优选为0.5~1.5个。为上述范围的下限值以上时,使用正型感光性树脂组合物形成分隔壁时,可以防止拒墨剂(C)自基板表面的脱离。为上述范围的上限值以下时,拒墨剂(C)在正型感光性树脂组合物中与溶剂、其他成分的相容性优异。
需要说明的是,拒墨剂(C)中的硅烷醇基数可以通过利用29Si-NMR测定的具有硅烷醇基的Si基、和不具有硅烷醇基的Si基的峰面积之比来算出。
本发明的水解性硅烷化合物混合物包含化合物(c-1)和化合物(c-2)。进而,也可以包含1种或2种以上的除化合物(c-1)和化合物(c-2)以外的水解性硅烷化合物。
作为除前述化合物(c-1)和化合物(c-2)以外的水解性硅烷化合物,可以举出具有含苯基的有机基团的水解性硅烷化合物(不包括上述水解性硅烷化合物(c-1)、和(c-2))。例如为在硅原子上键合有在末端具有1或2个苯基的有机基团、0或1个烃基、和1~3个水解性基团的水解性硅烷化合物,优选为后述的化合物(c-3)。
(水解性硅烷化合物(c-1))
水解性硅烷化合物(c-1)为上述式(c-1)所示的硅烷化合物。
式(c-1)中,Rf优选为碳原子数1~6的全氟烷基、或包含醚性氧原子的碳原子数4~9的全氟烷基,特别优选为碳原子数6的全氟烷基。Rf为上述范围时,使用正型感光性树脂组合物形成的分隔壁的拒墨性优异,特别是具有耐紫外线/臭氧性的拒墨性优异,进而对常用溶剂的溶解性优异。
Rf的结构可以举出直链结构、支链结构、环结构、或部分具有环的结构,但优选为直链结构。
作为Rf的具体例,可以举出以下的基团。
F(CF2)4-、F(CF2)6-。
CF3CF2OCF2CF2OCF2-、CF3CF2OCF2CF2OCF2CF2-、CF3CF2OCF2CF2OCF2CF2OCF2CF2OCF2-、CF3CF2OCF2CF2OCF2CF2OCF2CF2OCF2CF2-。
CF3CF2CF2OCF2-、CF3CF2CF2OCF2CF2-、CF3CF2CF2OCF(CF3)-、CF3CF2CF2OCF(CF3)CF2-、CF3CF2CF2OCF(CF3)CF2OCF2CF2-、CF3CF2CF2OCF(CF3)CF2OCF(CF3)-、CF3CF2CF2OCF(CF3)CF2OCF(CF3)CF2-、CF3OCF(CF3)CF2OCF(CF3)-、CF3CF2OCF(CF3)CF2OCF(CF3)-。
式(c-1)中,Q1以分别在右侧的原子键上键合有Si、在左侧的原子键上键合有Rf的形式表示的情况下,具体而言,优选为-(CH2)i1-(i1为1~5的整数。)、-CH2O(CH2)i2-(i2为1~4的整数。)、-SO2NR1-(CH2)i3-(R1为氢原子、甲基、或乙基,i3为1以上,以与R1的碳原子数的总计计为4以下的整数。)、-(C=O)-NR1-(CH2)i4-(R1与前述同样,i4为1以上,以与R1的碳原子数的总计计为4以下的整数。)所示的基团。作为Q1,更优选i1为2或3即-(CH2)i1-,特别优选-(CH2)2-。
Rf为碳原子数1~6的全氟烷基时,作为上述Q1,优选为-(CH2)i1-(i1与上述同样)所示的基团。i1优选为2~4的整数,特别优选为-(CH2)2-。
Rf为包含醚性氧原子的碳原子数4~9的全氟烷基时,作为上述Q1,优选为-(CH2)i1-、-CH2O(CH2)i2-、-SO2NR1-(CH2)i3-、-(C=O)-NR1-(CH2)i4-所示的基团(i1~i4和R1与上述同样)。在该情况下,也特别优选-(CH2)2-。
式(c-1)中,作为X1,可以举出烷氧基、卤素原子、酰基、异氰酸酯基、氨基、或氨基的氢原子被烷基所取代的基团。其中,优选碳原子数1~4的烷氧基或卤素原子,特别优选甲氧基、乙氧基、氯原子。这些基团通过水解反应变为羟基(硅烷醇基),进而在分子间发生缩合反应,形成Si-O-Si键的反应易于顺利进行。
作为化合物(c-1)的具体例,可以举出以下的化合物。
F(CF2)4CH2CH2Si(OCH3)3、F(CF2)4CH2CH2Si(OCH2CH3)3、F(CF2)4CH2CH2SiCl3、F(CF2)6CH2CH2Si(OCH3)3、F(CF2)6CH2CH2Si(OCH2CH3)3、F(CF2)6CH2CH2SiCl3
CF3OCF3CF2CF2CH2CH2Si(OCH3)3、F(CF2)2OCF2CF2OCF2CF2OCF2CF2OCF2CH2CH2Si(OCH2CH3)3、CF3OCF(CF3)CF2CH2CH2CH2Si(OCH3)3
F(CF2)2OCF2CF2OCF2CH2CH2CH2Si(OCH3)3、F(CF2)2O(CF2)2O(CF2)2CH2CH2Si(OCH3)3
F(CF2)3OCF2CF2CH2CH2SiCl3、F(CF2)3OCF(CF3)CF2O(CF2)2CH2CH2Si(OCH3)3
作为化合物(c-1),其中,特别优选F(CF2)6CH2CH2Si(OCH3)3、F(CF2)6CH2CH2Si(OCH2CH3)3、F(CF2)6CH2CH2SiCl3、F(CF2)3OCF(CF3)CF2O(CF2)2CH2CH2Si(OCH3)3等。
水解性硅烷化合物混合物中所含的化合物(c-1)可以单独使用1种也可以组合使用2种以上。
(水解性硅烷化合物(c-2))
水解性硅烷化合物(c-2)为上述式(c-2)所示的硅烷化合物。
式(c-2)中,RH1优选为碳原子数1~4的烷基,更优选为甲基或乙基,特别优选为甲基。
X2为水解性基团,与上式(c-1)中的X1同样地包含优选方案。
p为0、1或2,p为2时,2个RH1、和(4-p)个X2可以分别互不相同也可以相同。
p优选为0或1。
拒墨剂(C)中,通过源自化合物(c-1)的Rf1和源自化合物(c-2)的RH1,表现出拒水性,主要通过Rf表现出拒油性。另外,为了使拒墨剂(C)的固化物表现出充分的拒油性,相对于拒墨剂(C)中的Rf和RH1的总计,Rf的比率高为优选。p为0时,拒墨剂(C)中的Rf的比率变高,拒油性提高,而且成膜性优异。p为1或2时,由于存在一定程度的RH1,所以拒墨剂(C)变得易于溶解于烃系的溶剂,在基板的表面形成正型感光性树脂组合物的涂膜时,可以选择比较廉价的溶剂。
作为化合物(c-2),优选为以下的化合物。也可以根据需要使用将该多个化合物预先部分水解缩合得到的部分水解缩合物。需要说明的是,对于其他水解性硅烷化合物也是同样的。
Si(OCH3)4、Si(OCH2CH3)4、CH3Si(OCH3)3
CH3Si(OCH2CH3)3、CH3CH2Si(OCH3)3
CH3CH2Si(OCH2CH3)3、(CH3)2Si(OCH3)2
(CH3)2Si(OCH2CH3)2
将Si(OCH3)4水解缩合而成的化合物(例如COLCOAT CO.,Ltd制造的Methylsilicate 51(商品名))、
将Si(OCH2CH3)4水解缩合而成的化合物(例如COLCOAT CO.,Ltd制造的Ethylsilicate 40、Ethyl silicate 48(均为商品名))。
本发明的水解性硅烷化合物混合物中所含的化合物(c-2)可以单独使用1种也可以组合使用2种以上。组合使用2种以上时,也可以与4官能性化合物和/或3官能性化合物一起组合使用2官能性化合物。
对于水解性硅烷化合物混合物中的化合物(c-2)的含量,相对于化合物(c-1)的1摩尔,化合物(c-2)优选为0.1~9摩尔,特别优选为0.5~9摩尔。
(水解性硅烷化合物(c-3))
水解性硅烷化合物(c-3)为下式(c-3)所示的水解性硅烷化合物(以下也称作“化合物(c-3)”)。
式(c-3)中,表示水解性基团的X3与上述式(c-1)中的X1同样地包含优选方案。
另外,RH2与上述式(c-2)中的RH1同样地包含优选方案。
式(c-3)中,Y表示氢原子可以被卤素原子、碳原子数1~3的烷基、碳原子数2~3的链烯基或硝基所取代的苯基。
Q2为连接硅原子和苯基的基团,为单键或2价有机基团。
q为1或2,r为0或1,q+r为1或2。
需要说明的是,式(c-3)中,q为2时,2个Q2可以互不相同也可以相同,q+r为1时,3个X3可以互不相同也可以相同,q+r为2时,2个X3可以互不相同也可以相同。
式(c-3)中,优选q为1、且r为1、或q为1、且r为0。
式(c-3)中,作为Y,可以举出苯基、氟苯基、氯苯基、二氯苯基等,特别优选苯基。通过使用这样的化合物(c-3),可以得到高分辨率、和在点部残渣少的分隔壁。推测这是由于,拒墨剂(C)迁移到正型感光性树脂组合物的膜表面后,源自化合物(c-3)的苯基在显影液中与光敏剂(B)的二叠氮基发生偶氮偶联反应,从而易于将拒墨剂(C)停留在正型感光性树脂组合物的膜表面。由此,经过显影、后烘焙等后也可以将所得分隔壁的表面保持为拒墨性、将侧面保持为亲墨性。
式(c-3)中,Q2为2价有机基团时,从为给电子基团、且购买容易性的方面出发,优选-(CH2)j-(j为1~6的整数)、-NH-、-NH-(CkH2k)-(k为1~6的整数)、-N(CgH2g+1)-(g为1~6的整数)。作为Q2,特别优选单键或-NH-。
作为化合物(c-3)的具体例,可以举出以下的化合物。
(C6H5)Si(OC2H5)3
(C6H5)NH(CH2)3Si(OCH3)3
本发明的水解性硅烷化合物混合物中所含的化合物(c-3)可以单独使用1种也可以组合使用2种以上。
对于本发明的水解性硅烷化合物混合物中的化合物(c-3)的配混量,相对于水解性硅烷化合物(c-1)和(c-2)的总计量的1摩尔,优选为5摩尔以下,特别优选为4摩尔以下。
本发明的正型感光性树脂组合物中使用的拒墨剂(C)为上述原料的水解性硅烷化合物混合物的部分水解缩合物,通常为由聚合度等不同的多种缩合物构成的混合物。
即,拒墨剂(C)使用水解性硅烷化合物(c-1)和化合物(c-2)作为必须成分、任意地使用化合物(c-3)来制造时,成为具有下式(1)所示的平均组成式的结构。其中,实际上为残留有水解性基团或硅烷醇基的产物(部分水解缩合物),因此难以将该产物用化学式表示。
式(1)所示的平均组成式为在如上述那样制造的部分水解缩合物中全部水解性基团或硅烷醇基完全地发生水解、缩合变为硅氧烷键的情况的化学式。
式(1)中,Rf、RH1、RH2、Y、Q1、Q2、p、q、和r的优选范围与上述同样。s、t、和u为聚合度不同的多种含氟硅烷化合物混合物中的各单元的平均存在摩尔数。
具有式(1)所示平均组成式的结构的部分水解缩合物中,推测分别源自化合物(c-1)、化合物(c-2)和化合物(c-3)的单元无规地排列。
需要说明的是,对于使用化合物(c-1)和化合物(c-2)时的下述平均组成式(2)中的s/t(摩尔比),以拒墨剂(C)整体的平均值计,作为水解性硅烷化合物混合物中的化合物(c-2)相对于化合物(c-1)的含量,优选为上述范围、即10/1~90(摩尔比),特别优选为10/5~90(摩尔比)。
[Rf-Q1-SiO3/2]s·[RH1 p-SiO(4-p)/2]t (2)
式(2)中,Rf、RH1、Q1和p的优选范围与上述同样。s、和t为聚合度不同的多种含氟硅烷化合物混合物中的各单元的平均存在摩尔数。
使用水解性硅烷化合物(c-1)、水解性硅烷化合物(c-2)和水解性硅烷化合物(c-3)来制造拒墨剂(C)时,成为具有源自式(1)的化合物(c-3)的单元进一步与式(2)共缩合而成的平均组成式的结构。
式(1)中,以拒墨剂(C)整体的平均值计,相对于(s+t)的1,u优选为上述范围、即5以下(摩尔比),特别优选为4以下(摩尔比)。
认为,本发明的正型感光性树脂组合物中的拒墨剂(C)在曝光、固化等过程中所含硅烷醇基进一步发生缩合,即使进行紫外线/臭氧照射也可以形成表现出优异的拒墨性的分隔壁。
本发明的正型感光性树脂组合物中的拒墨剂(C)的数均分子量(Mn)优选为500以上,优选为小于1000000,特别优选为小于10000。数均分子量(Mn)为上述范围的下限值以上时,使用正型感光性树脂组合物来形成分隔壁时,可以防止自基板表面的脱离。数均分子量(Mn)为小于上述范围的上限值时,对溶剂的溶解性良好,且操作性优异。拒墨剂(C)的数均分子量(Mn)可以通过选择反应条件等来调节。
(拒墨剂(C)的制造)
本发明的正型感光性树脂组合物中的拒墨剂(C)可以通过使上述水解性硅烷化合物混合物水解、部分缩合(以下也称作“反应工序”)来制造。水解和部分缩合如上述所述为基于水解性基团的水解反应的硅烷醇基的生成、和生成基于硅烷醇基彼此的脱水缩合反应的硅氧烷键的反应。在反应工序中,可以没有特别限制地使用使水解性硅烷化合物进行水解缩合的反应中通常使用的反应条件,例如可以使用水、催化剂、有机溶剂等。
反应工序中使用水时,其量相对于水解性硅烷化合物混合物的100质量份,优选为25~9900质量份,特别优选为100~1900质量份。通过将水的量设为上述范围,水解和缩合反应的控制变得容易。
作为反应工序中使用的催化剂,优选使用盐酸、硫酸、硝酸、磷酸等无机酸、乙酸、草酸、马来酸等有机酸。所使用的催化剂的量相对于水解性硅烷化合物混合物的100质量优选为0.01~10质量份,特别优选为0.1~1质量份。
上述反应工序中也可以使用有机溶剂。作为该有机溶剂,可以举出对水解性硅烷化合物进行水解、缩合反应时通常使用的有机溶剂,具体而言,可以举出甲醇、乙醇、1-丙醇、2-丙醇、1-丁醇、2-丁醇、异丁醇、2-甲基-2-丙醇、乙二醇、丙三醇、丙二醇等醇类;丙酮、甲基异丁基酮、环己酮等酮类;2-甲氧基乙醇、2-乙氧基乙醇等溶纤剂类;2-(2-甲氧基乙氧基)乙醇、2-(2-乙氧基乙氧基)乙醇、2-(2-丁氧基乙氧基)乙醇等卡必醇类;乙酸甲酯、乙酸乙酯、丙二醇单甲基醚乙酸酯、4-丁内酯、乙酸丁酯、3-甲氧基乙酸丁酯等酯类;丙二醇单甲基醚、二乙二醇单甲基醚、二乙二醇单丁基醚、二丙二醇单甲基醚等二醇的单烷基醚类、二乙二醇二甲基醚、二乙二醇乙基甲基醚、二丙二醇二甲基醚等二醇的二烷基醚类。此外,还可以举出苄醇、N,N-二甲基甲酰胺、二甲基亚砜、二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮等。有机溶剂可以单独使用1种也可以组合使用2种以上。
反应工序中,有机溶剂的量相对于水解性硅烷化合物混合物的100质量份,优选为25~9900质量份,特别优选为100~1900质量份。
所得部分水解缩合物可以与反应工序中使用的溶剂一起配混到正型感光性树脂组合物中。因此,作为反应工序中使用的溶剂,优选使用使拒墨剂(C)中的硅烷醇基稳定化的溶剂。作为使硅烷醇基稳定化的溶剂,可以举出具有羟基、在25℃下的相对介电常数(ε)为5~20、优选为8~15的范围的化合物。
具体而言,可以举出碳原子数2~8个的二醇系的单烷基醚乙酸酯溶剂、二醇系的单烷基醚溶剂、乙二醇二甲醚系溶剂、碳原子数2~4个的烃系醇等。
更具体而言,作为二醇系的单烷基醚乙酸酯溶剂,可以举出丙二醇单甲基醚乙酸酯(ε:8.3),作为二醇系的单烷基醚溶剂,可以举出丙二醇单甲基醚(ε:12.3),作为烃系醇,可以举出2-丙醇(ε:19.92)等。在硅烷醇基的稳定化效果高的方面出发,丙二醇单甲基醚特别优选。
反应工序优选在从室温到溶剂的沸点的温度下、在合适的搅拌条件下实施。
反应时间还取决于所使用的原料成分的量、反应温度、搅拌条件等,但可以举出大概为0.5~24小时、优选为1~10小时。
反应结束后,还可以将所得拒墨剂(C)添加到本发明的正型感光性树脂组合物中而不去除有机溶剂。还可以利用通常的方法将有机溶剂去除后分离拒墨剂(C),然后添加到正型感光性树脂组合物中。
本发明的正型感光性树脂组合物中的总固体成分中的拒墨剂(C)的含量优选为0.01~10质量%,更优选为0.1~6质量%,特别优选为0.2~3质量%。拒墨剂(C)的含量为上述范围时,正型感光性树脂组合物的储藏稳定性优异,而且使用该正型感光性树脂组合物形成的光学元件的分隔壁的拒墨性优异,具有光滑的表面。
[溶剂(D)]
本发明的正型感光性树脂组合物也可以含有溶剂(D)。
通过含有溶剂(D),该组合物涂布到基板上的涂覆性、与基板表面的密合性更优异。另外,通过含有溶剂(D),可以使拒墨剂(C)稳定地存在于该组合物中。
溶剂(D)只要使正型感光性树脂组合物的作为必须成分含有的碱可溶性树脂(A)、光敏剂(B)、拒墨剂(C)、作为任意成分含有的热固化剂(E)、热固化促进剂(F)和其他添加剂均匀地溶解或分散、且与正型感光性树脂组合物中所含的各成分不具有反应性,就没有特别限制。
作为溶剂(D)的具体例,可以举出乙醇、1-丙醇、2-丙醇、1-丁醇、乙二醇等醇类;丙酮、甲基异丁基酮、环己酮等酮类;2-甲氧基乙醇、2-乙氧基乙醇、2-丁氧基乙醇等溶纤剂类;2-(2-甲氧基乙氧基)乙醇、2-(2-乙氧基乙氧基)乙醇、2-(2-丁氧基乙氧基)乙醇等卡必醇类;乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸正丁酯、乳酸乙酯、乳酸正丁酯、乙二醇单甲基醚乙酸酯、乙二醇单乙基醚乙酸酯、乙二醇单丁基醚乙酸酯、二乙二醇单甲基醚乙酸酯、二乙二醇单乙基醚乙酸酯、二乙二醇单丁基醚乙酸酯、丙二醇单甲基醚乙酸酯、乙二醇二乙酸酯、丙二醇二乙酸酯、乙基-3-乙氧基丙酸酯、环己醇乙酸酯、乳酸丁酯、γ-丁内酯、3-甲基-3-甲氧基乙酸丁酯、丙三醇三乙酸酯等酯类;二乙二醇二甲基醚、二乙二醇二乙基醚、二乙二醇二丁基醚、三乙二醇二甲基醚、四乙二醇二甲基醚、丙二醇二甲基醚、二丁基醚、二乙二醇甲基乙基醚等。此外,还可以举出正丁烷、正己烷等链式烃;环己烷等环式饱和烃;甲苯、二甲苯、苄醇等芳香族烃;等。它们可以单独使用1种也可以组合使用2种以上。
本发明的正型感光性树脂组合物的溶剂(D)的含量相对于正型感光性树脂组合物的总固体成分100质量%优选为5~2000质量%,更优选为100~500质量%。
[热固化剂(E)]
对于本发明的正型感光性树脂组合物,作为促进热固化的任意成分,可以含有热固化剂(E)。
作为热固化剂(E),优选选自由氨基树脂、环氧化合物、噁唑啉化合物、多异氰酸酯化合物、和聚碳二亚胺化合物组成的组中的至少1种。
作为氨基树脂,可以举出将三聚氰胺系化合物、胍胺系化合物、尿素系化合物等的氨基的一部分或全部羟基甲基化而成的化合物、或将该羟基甲基化后的化合物的羟基的一部分或全部用甲醇、乙醇、正丁醇、2-甲基-1-丙醇等醚化而成的化合物,例如六甲氧基甲基三聚氰胺等。
作为环氧化合物,可以举出双酚A型环氧树脂、双酚F型环氧树脂、苯酚/酚醛清漆型环氧树脂、甲酚/酚醛清漆型环氧树脂、三苯酚甲烷型环氧树脂、溴化环氧树脂等缩水甘油醚类;3,4-环氧环己基甲基-3,4-环氧环己烷羧酸酯、双(2,3-环氧环戊基)醚等脂环式环氧树脂;六氢邻苯二甲酸二缩水甘油酯、四氢邻苯二甲酸二缩水甘油酯、邻苯二甲酸二缩水甘油酯等缩水甘油酯类;四缩水甘油基二氨基二苯基甲烷、三缩水甘油基对氨基苯酚等缩水甘油基胺类;三缩水甘油基异氰脲酸酯等杂环式环氧树脂;等。
作为噁唑啉化合物,可以举出2-乙烯基-2-噁唑啉、2-乙烯基-4-甲基-2-噁唑啉、2-乙烯基-5-甲基-2-噁唑啉、2-异丙烯基-2-噁唑啉、2-异丙烯基-4-甲基-2-噁唑啉等聚合性单体的共聚物等。
这些化合物可以单独使用1种也可以组合使用2种以上。
作为热固化剂(E),特别优选1分子中具有2个以上环氧基的化合物。通过正型感光性树脂组合物含有热固化剂(E),曝光时的正型感光性树脂组合物的固化性更优异,可以形成热固化后的形状稳定化的分隔壁。
本发明的正型感光性树脂组合物中的总固体成分中的热固化剂(E)的含量优选为5~20质量%,特别优选为10~15质量%。为上述范围时,使用正型感光性树脂组合物形成具有分隔壁的固化膜时,分隔壁表面以外(点)的墨的润湿性更优异。
[热固化促进剂(F)]
对于本发明的正型感光性树脂组合物,作为促进热固化的任意成分,可以含有热固化促进剂(F)。
热固化促进剂(F)为具有通过加热在正型感光性树脂组合物中形成交联结构的作用的化合物。
作为热固化促进剂(F),例如可以举出其自身与热固化剂(E)反应、并交联形成交联结构的化合物、其自身不发生交联而对热固化剂(E)具有催化作用的化合物。
使用环氧化合物作为热固化剂(E)时,作为形成交联结构的热固化促进剂(F),可以举出多胺类、多硫醇类、聚羧酸酐。更具体而言,作为多胺类,可以举出乙二胺、三乙二胺、三亚乙基四胺、四亚乙基五胺、六亚甲基二胺、聚氧亚烷基多胺、异佛尔酮二胺、薄荷烷二胺、3,9-双(3-氨基丙基)-2,4,8,10-四氧杂螺(5,5)十一烷。作为多硫醇类,可以举出聚醚多硫醇,作为聚羧酸酸酐,可以举出琥珀酸酐、甲基四氢邻苯二甲酸酐、六氢邻苯二甲酸酐、4-甲基六氢邻苯二甲酸酐等。
作为具有催化作用的化合物,可以举出叔胺类、咪唑类、路易斯酸类、鎓盐类、双氰胺类、有机酸二酰肼类、膦类等固化催化剂。更具体而言,可以举出2-甲基咪唑、2-乙基-4-甲基咪唑、三(二甲基氨基甲基)苯酚、三氟化硼-胺络合物、双氰胺、二苯基碘鎓六氟磷酸盐、三苯基锍六氟磷酸酯等。
热固化促进剂(F)可以单独使用它们的1种也可以组合使用2种以上。
热固化剂(E)为1分子中具有2个以上环氧基的化合物时,作为热固化促进剂(F),特别优选2-甲基咪唑、4-甲基-2-苯基咪唑。
本发明的感光性树脂组合物中的总固体成分中的热固化促进剂(F)的含量优选为0.1~10质量%,特别优选为0.5~3质量%。
[着色剂(G)]
为了形成包围液晶显示元件的滤色器的R、G、B这三种颜色的像素的格子状的黑色部分即黑色矩阵而使用本发明的正型感光性树脂组合物时,优选包含着色剂(G)。
着色剂(G)例如可列举出:炭黑、苯胺黑、蒽醌系黑色颜料、苝系黑色颜料,具体而言可列举出:C.I.颜料黑1、6、7、12、20、31等。作为着色剂(G),也可以使用红色颜料、蓝色颜料、绿色颜料等有机颜料、无机颜料的混合物。
使本发明的正型感光性树脂组合物中含有着色剂(G)、并用于黑色矩阵形成等时,该正型感光性树脂组合物中的总固体成分中的着色剂(G)的含量优选为15~65质量%,特别优选为20~50质量%。为上述范围时,正型感光性树脂组合物的灵敏度优异,且形成的分隔壁的遮光性优异。
本发明的正型感光性树脂组合物含有上述着色剂(G)等分散性材料时,为了使其分散性提高,也可以进一步含有高分子分散剂、分散助剂等。它们可以以不破坏本发明效果的范围的含量含有在正型感光性树脂组合物中。
[硅烷偶联剂(H)]
本发明的正型感光性树脂组合物也可以根据需要含有硅烷偶联剂(H)。通过含有硅烷偶联剂(H),所形成的固化膜的基板密合性更优异。
作为硅烷偶联剂(H),可以举出四乙氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-氯丙基三甲氧基硅烷、3-巯基丙基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、十七氟辛基乙基三甲氧基硅烷、含有聚氧亚烷基链的三乙氧基硅烷等。它们可以单独使用1种也可以组合使用2种以上。
本发明的正型感光性树脂组合物中的总固体成分中的硅烷偶联剂(H)的含量优选为0.1~20质量%,特别优选为1~10质量%。为上述范围的下限值以上时,由正型感光性树脂组合物形成的固化膜的基板密合性更优异,为上述范围的上限值以下时,固化膜的拒墨性良好。
[微粒(I)]
本发明的正型感光性树脂组合物可以根据需要含有微粒(I)。通过含有微粒(I),能够防止使用正型感光性树脂组合物形成的分隔壁的热流挂。
作为微粒(I),没有特别限定,可以举出二氧化硅、氧化锆、氟化镁、锡掺杂氧化铟(ITO)、锑掺杂氧化锡(ATO)等无机系微粒;聚乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)等有机系微粒。从耐热性的方面出发,优选为无机系微粒,从购买容易性、分散稳定性的方面出发,特别优选为二氧化硅或氧化锆。
另外,正型感光性树脂组合物含有着色剂(G)和高分子分散剂时,如果考虑该高分子分散剂的吸附能力,则优选微粒(I)带负电。
进而,如果考虑正型感光性树脂组合物的曝光灵敏度,则优选微粒(I)在曝光时不吸收所照射的光,特别优选不吸收超高压汞灯的主发光波长即i线(365nm)、h线(405nm)、和g线(436nm)
对于微粒(I)的平均粒径,从分隔壁的表面平滑性变得良好的方面出发,平均粒径优选为1μm以下,特别优选为200nm以下。其中,作为平均粒径,最优选为5~100nm。
本发明的正型感光性树脂组合物中的总固体成分中的微粒(I)的含量优选为5~35质量%,特别优选为10~30质量%。含量为上述范围的下限值以上时,有抑制拒墨性的降低的效果,为上述范围的上限值以下时,正型感光性树脂组合物的储藏稳定性优异。
[其他添加剂]
本发明的正型感光性树脂组合物中,作为其他添加剂,也可以根据需要在不破坏本发明效果的范围内配混选自由增稠剂、增塑剂、消泡剂、流平剂、防收缩剂和紫外线吸收剂组成的组中的1种以上。
[正型感光性树脂组合物的制造方法]
作为制造正型感光性树脂组合物的方法,优选将碱可溶性树脂(A)、光敏剂(B)、拒墨剂(C)、根据需要的溶剂(D)、热固化剂(E)、热固化促进剂(F)、着色剂(G)、硅烷偶联剂(H)、微粒(I)、和其他添加剂混合的方法。
混合使用搅拌机、将温度设为20℃~25℃、时间设为3hr~6hr下进行,所得组合物可以直接使用。
本发明的正型感光性树脂组合物可以与通常的正型感光性树脂组合物同样地用作光刻等的材料,所得固化膜可以作为通常的使用正型感光性树脂组合物的固化膜的光学元件的构件来使用。
[分隔壁和其制造方法]
本发明的分隔壁是为了在基板上设置分区而形成的分隔壁,由将上述本发明的正型感光性树脂组合物涂布、干燥、并固化而成的固化膜形成。
本发明的分隔壁可适宜地用于光学元件的用途,上述正型感光性树脂组合物含有着色剂(G)时,所得的分隔壁可作为黑色矩阵应用。
本发明的分隔壁例如可应用于在基板上具有多个像素和位于邻接像素之间的分隔壁的光学元件用的分隔壁。
作为使用本发明的正型感光性树脂组合物制造光学元件用的分隔壁的方法,例如可列举出以下方法。
在基板上涂布本发明的正型感光性树脂组合物而形成涂膜(涂膜形成工序),接着,将该涂膜进行干燥而制成膜(预烘焙工序),接着,仅将该膜的没有成为分隔壁的部分进行曝光(曝光工序),之后,将上述曝光了的部分的涂膜去除而形成由上述涂膜的未曝光部分形成的分隔壁(显影工序)。接着,根据需要将上述形成的分隔壁等进一步进行热固化(后烘焙工序),由此能够制造本发明的光学元件用的分隔壁。
对基板的材质没有特别限定,可以使用各种玻璃板;聚酯(聚对苯二甲酸乙二醇酯等)、聚烯烃(聚乙烯、聚丙烯等)、聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚砜、聚酰亚胺、聚甲基丙烯酸类树脂、丙烯酸类树脂等热塑性塑料片;环氧树脂、不饱和聚酯等热固性树脂的固化片等。尤其从耐热性的方面出发,优选玻璃板、聚酰亚胺等耐热性塑料。另外,优选为透明基板。
对基板的形状、形成分隔壁的表面没有特别限制,可以根据用途而适当选择。基板为板状时,可以为平板,也可以为整个面或一部分具有曲率的基板。基板的厚度可以根据分隔壁的用途而适当选择,通常优选为0.5~10mm。
本发明中使用的基板优选预先通过醇清洗、紫外线/臭氧清洗等对涂布正型感光性树脂组合物的面进行清洗。
图1为示意性示出使用了本发明的正型感光性树脂组合物的光学元件用分隔壁的制造例的截面图。
图1(I)为示出在基板1上形成了由本发明的正型感光性树脂组合物形成的涂膜2的状态的截面的图。
图1(II)为示意性示出曝光工序的图。
图1(III)为示出显影工序后的基板1和在基板上形成的分隔壁6的截面图。
以下利用图1来具体地说明使用了本发明的正型感光性树脂组合物的光学元件用分隔壁的制造方法。
(涂膜形成工序)
如图1的(I)所示的截面那样,在基板1上涂布上述本发明的正型感光性树脂组合物,形成由正型感光性树脂组合物形成的涂膜2。
作为正型感光性树脂组合物的涂布方法,只要是形成膜厚均匀的涂膜的方法,就没有特别的限制,可列举出:旋涂法、喷雾法、狭缝涂布法、辊涂法、旋转涂布法、棒涂法等通常用于涂膜形成的方法。
涂膜2的膜厚根据最终得到的分隔壁的高度来确定。涂膜2的膜厚优选为最终得到的分隔壁的高度的100~200%,特别优选为100~130%。涂膜2的膜厚优选为0.3~325μm,特别优选为1.3~65μm。
(预烘焙工序)
将上述涂膜形成工序中在基板1上形成的涂膜2加热,得到膜2。通过加热,构成涂膜的正型感光性树脂组合物中包含的、包括溶剂在内的挥发成分挥发而被去除,得到没有粘合性的膜。另外,拒墨剂(C)向涂膜表面附近迁移。
作为加热的方法,可列举出利用热板、烘箱等加热装置在50~120℃、优选70~110℃下将基板1和涂膜共同加热处理10~2000秒钟左右、优选30~180秒钟左右的方法。
为了去除溶剂等挥发成分,可以在预烘焙工序之前另行设置除加热(干燥)以外的真空干燥等干燥工序。另外,为了不产生涂膜外观的不均、高效地进行干燥,更优选组合使用基于上述预烘焙工序的兼具干燥的加热和真空干燥。真空干燥的条件还因各成分的种类、配混比率等而异,优选能够以500~10Pa、10~300秒钟左右的宽阔范围来进行。
(曝光工序)
如图1的(II)所示那样,隔着规定图案的掩膜4对膜2照射光5。光5仅透过被上述掩膜4分割成的规定图案部分到达基板1上的膜2。仅曝光部发生碱可溶化,因此,上述规定图案设置为适合于分隔壁形状的形状。后烘焙工序后的分隔壁的宽度的平均优选为100μm以下,特别优选为20μm以下。另外,邻接的分隔壁之间的距离的平均优选为300μm以下,特别优选为100μm以下。作为掩膜4,优选使用以达到上述范围的方式形成图案的掩膜。
图1(II)中,照射过光的膜的曝光部分变为正型感光性树脂组合物的可溶化部分,另一方面,未曝光部分3为正型感光性树脂组合物的膜2其本身状态。
作为所照射的光5,可列举出:可见光;紫外线;远紫外线;KrF准分子激光、ArF准分子激光、F2准分子激光、Kr2准分子激光、KrAr准分子激光、Ar2准分子激光等准分子激光;X射线;电子射线等。另外,作为照射光5,优选波长100~600nm的电磁波,更优选在300~500nm的范围内具有分布的光线,特别优选i线(365nm)、h线(405nm)和g线(436nm)。
作为照射装置(未图示),可以使用公知的超高压汞灯、深(Deep)紫外灯等。曝光量优选为5~1000mJ/cm2,特别优选为50~400mJ/cm2。曝光量若为上述范围的下限值以上,则正型感光性树脂组合物的可溶化的部分对显影液的溶解性变得充分,显影残渣消失。若为上述范围的上限值以下,则可得到高分辨率。
作为曝光时间,还取决于曝光量、感光组合物的组成、涂膜的厚度等,优选为1~60秒钟,特别优选为5~20秒钟。
(显影工序)
使用显影液进行显影,去除图1的(II)所示的基板1上的曝光部分2。由此得到如图1的(III)所示的截面图那样的、基板1和在上述基板上由正型感光性树脂组合物的膜形成的分隔壁6的构成。另外,由分隔壁6和基板1围成的部分是通过墨注入等而形成像素的、被称为点7的部分。所得基板10经由后述的后烘焙工序而能够用于利用喷墨方式的光学元件。
作为显影液,可以使用包含无机碱类、胺类、烷醇胺类、季铵盐等碱类的碱水溶液,优选包含四甲基氢氧化铵等碱类的碱水溶液。
另外,为了提高溶解性、去除残渣,可以在显影液中添加表面活性剂、醇等有机溶剂。
显影时间(与显影液接触的时间)优选为5~180秒钟,更优选为10~60秒钟。
显影方法可列举出搅动法、浸渍法、喷淋法等。通过在显影后进行高压水洗、流水清洗、并利用压缩空气、压缩氮气使其风干,能够去除基板1和分隔壁6上的水分。
(后烘焙工序)
作为后烘焙工序,将基板1上的分隔壁6加热。作为加热的方法,可列举出利用热板、烘箱等加热装置在150~250℃下将基板1和分隔壁6共同加热处理5~90分钟的方法。
通过加热,基板1上的由正型感光性树脂组合物的固化膜形成的分隔壁6进一步固化,分隔壁6与基板1围成的点7的形状也更加固定化。需要说明的是,上述加热温度特别优选为180℃以上。加热温度过低时,分隔壁6的固化不充分,因此无法获得充分的耐化学药品性。在后述的墨注入工序中向点7中注入墨时,有因该墨中包含的溶剂而导致分隔壁6溶胀或墨发生洇渗的担心。另一方面,加热温度过高时,有分隔壁6发生热分解的担心。
形成的分隔壁的宽度的平均优选为100μm以下,特别优选为20μm以下。其中,最优选为5~20μm。
另外,邻接的分隔壁间的距离(点的宽度)的平均优选为300μm以下,特别优选为100μm以下。其中,最优选为30~80μm。
另外,分隔壁的高度的平均优选为0.05~50μm,特别优选为0.2~10μm。
[光学元件的制造方法]
通过上述制造方法在基板上形成分隔壁后,例如对由上述基板和上述分隔壁围成的区域中露出的基板表面进行亲墨化处理(亲墨化处理工序),接着,利用喷墨法向上述区域注入墨而形成上述像素(墨注入工序),从而得到本发明的光学元件。
(亲墨化处理工序)
作为亲墨化处理的方法,可列举出利用碱水溶液的清洗处理、紫外线清洗处理、紫外线/臭氧清洗处理、准分子清洗处理、电晕放电处理、氧等离子体处理等方法。
利用碱水溶液的清洗处理是使用碱水溶液(氢氧化钾、四甲基氢氧化铵水溶液等)清洗基板表面的湿式处理。
紫外线清洗处理是使用紫外线清洗基板表面的干式处理。
紫外线/臭氧清洗处理是使用发出185nm和254nm的光的低压汞灯来清洗基板表面的干式处理。
准分子清洗处理是使用发出172nm的光的氙准分子灯来清洗基板表面的干式处理。
电晕放电处理是利用高频高电压使空气中发生电晕放电并清洗基板表面的干式处理。
氧等离子体处理是主要使用在真空中以高频电源等为触发来激发氧,使其处于反应性高的“等离子体状态”,从而清洗基板表面的干式处理。
作为亲墨化处理的方法,从简便的方面出发,优选为紫外线/臭氧清洗处理等干式处理法。紫外线/臭氧可以使用市售的装置来发生。
在紫外线/臭氧装置内部设置形成有分隔壁的基板,在空气中、室温下,在不损害分隔壁的拒油性的范围内进行1~10分钟左右的处理,由此可以进行亲墨化处理。需要说明的是,关于处理时间,配合各个紫外线/臭氧装置调整为不损害分隔壁的拒油性的范围的时间即可。
通过亲墨化处理而充分进行上述分隔壁形成后残留在点中的显影残渣的去除等,从而能够充分实现点的亲墨化,并可防止使用了所得光学元件的彩色显示装置等的白点现象。另外,如果使用利用本发明的正型感光性树脂组合物所形成的分隔壁,则可利用上述紫外线清洗处理等进行亲墨化而不降低分隔壁的拒墨性。
此处,由正型感光性树脂组合物形成的固化膜的拒墨性(拒水拒油性)可以通过水和PGMEA(丙二醇单甲醚醋酸酯:作为墨的溶剂而常用的有机溶剂。)的接触角来估算。
在使用具有用上述本发明的正型感光性树脂组合物形成的分隔壁的基板来制造光学元件时,要求分隔壁在上述亲墨化处理后也有充分的拒墨性。分隔壁的水的接触角优选为90度以上,特别优选为95度以上。另外,分隔壁的PGMEA的接触角优选为30度以上,特别优选为35度以上。
另一方面,在使用具有用本发明的正型感光性树脂组合物形成的分隔壁的基板来制造光学元件时,对于点而言,要求其为亲墨性,其水的接触角优选为20度以下,特别优选为10度以下。
(墨注入工序)
墨注入工序是利用喷墨法向亲墨化处理工序后的点中注入墨而形成像素的工序。
该工序可以使用喷墨法中通常使用的喷墨装置,与通常的方法同样地进行。作为这种像素的形成中使用的喷墨装置,没有特别限定,可以使用利用了如下的各种方法的喷墨装置:连续地喷射带电的墨并利用磁场进行控制的方法;使用压电元件间歇性地喷射墨的方法;将墨加热并利用其发泡来进行间歇性喷射的方法等。
作为使用本发明的正型感光性树脂组合物制造的光学元件,可列举出:滤色器、有机EL元件、有机TFT阵列等。
[滤色器的制造]
分隔壁的形成、点的亲墨化处理、基于喷墨法的墨注入如上所述。
在滤色器中,所形成的像素的形状也可以为条纹型、马赛克型、三角型、4像素配置型等公知的任意排列。
用于形成像素的墨主要包含着色成分、粘结剂树脂成分以及溶剂。
作为着色成分,优选使用耐热性、耐光性等优异的颜料和染料。
作为粘结剂树脂成分,优选为透明且耐热性优异的树脂,可列举出丙烯酸类树脂、三聚氰胺树脂、聚氨酯树脂等。
水性的墨包含水和根据需要的水溶性有机溶剂来作为溶剂,包含水溶性树脂或水分散性树脂来作为粘结剂树脂成分,并包含根据需要的各种助剂。
另外,油性的墨包含有机溶剂来作为溶剂,包含可溶于有机溶剂的树脂来作为粘结剂树脂成分,并包含根据需要的各种助剂。
优选的是,利用喷墨法注入墨后,再根据需要进行干燥、加热固化、和/或紫外线固化。
形成像素后,根据需要使用保护涂层用涂布液形成保护膜层。
保护膜层优选出于提高表面平坦性的目的、出于阻断来自分隔壁、像素部的墨中的溶出物到达液晶层的目的而形成。
形成保护膜层时,优选预先去除分隔壁的拒墨性。不去除拒墨性时,会排斥外涂层用涂布液,无法获得均匀的膜厚,因而不优选。
作为去除分隔壁的拒墨性的方法,可列举出等离子体灰化(Plasma Ashing)处理、光灰化处理等。
优选的是,进一步根据需要,为了使用滤色器制造的液晶面板的高品质化而在用分隔壁构成的黑色矩阵上形成光间隔物。
[有机EL元件的制造]
在使用本发明的正型感光性树脂组合物形成分隔壁前,通过溅射法等在玻璃等透明基材上将锡掺杂氧化铟(ITO)等的透明电极进行制膜,并根据需要将透明电极蚀刻成期望的图案。接着,使用本发明的正型感光性树脂组合物形成分隔壁,进行点的亲墨化处理后,使用喷墨法对点依次涂布空穴传输材料、发光材料的溶液并进行干燥,形成空穴传输层、以及发光层。其后,利用蒸镀法等形成铝等的电极,由此得到有机EL显示元件的像素。
[有机TFT阵列的制造]
可以经由以下的(1)~(3)的工序来制造有机TFT阵列。
(1)使用本发明的正型感光性树脂组合物在玻璃等透明基材上形成分隔壁。接着,在点的亲墨化处理后,使用喷墨法对点涂布栅电极材料的溶液,形成栅电极。
(2)在形成栅电极之后,在其上形成栅绝缘膜。接着,使用本发明的正型感光性树脂组合物在栅绝缘膜上形成分隔壁,进行点的亲墨化处理后,使用喷墨法对点涂布源-漏电极材料的溶液,形成源-漏电极。
(3)在形成源-漏电极后,以包围住包含一对源-漏电极的区域的方式使用本发明的正型感光性树脂组合物形成分隔壁。接着,在点的亲墨化处理后,使用喷墨法对点涂布有机半导体的溶液,在源-漏电极间形成有机半导体层。
需要说明的是,工序(1)~(3)可以仅在各自的1个工序中形成并利用使用了本发明的正型感光性树脂组合物的分隔壁,也可以在两个以上的工序中形成并利用使用了本发明的正型感光性树脂组合物的分隔壁。
实施例
以下使用实施例来进一步详细说明本发明,但本发明不限定于这些实施例。
例1~4为实施例,例5为比较例。
各测定按照以下的方法来进行。
[数均分子量(Mn)]
使用市售的GPC测定装置(东曹株式会社制造、装置名:HLC-8320GPC)测定作为分子量测定用的标准试样而市售的聚合度不同的数种单分散聚苯乙烯聚合物的凝胶渗透色谱图(GPC),基于聚苯乙烯的分子量和保留时间(retention time)的关系制作标准曲线。
用四氢呋喃将试样稀释为1.0质量%,使其通过0.5μm的过滤器,然后使用前述GPC测定装置对该试样测定其GPC。
使用前述标准曲线,对试样的GPC谱图进行计算机分析,由此求出该试样的数均分子量(Mn)。
[水接触角]
通过静滴法,以JIS R 3257“基板玻璃表面的湿润性试验方法”为基准,在基材上的测定表面的3处承载水滴,对各水滴进行测定。液滴为2μL/滴,测定在20℃下进行。接触角以3个测定值的平均值(n=3)的形式来表示。
[PGMEA接触角]
通过静滴法,以JIS R 3257“基板玻璃表面的湿润性试验方法”为基准,在基材上的测定表面的3处承载PGMEA滴,对各PGMEA滴进行测定。液滴为2μL/滴,测定在20℃下进行。接触角以3个测定值的平均值(n=3)的形式来表示。
合成例1~5和例1~5中使用的化合物的简称如下所示。
(碱可溶性树脂(A))
EP4020G(商品名;EP4020G、旭有机材工业株式会社制造、甲酚酚醛清漆树脂(质均分子量(Mw):11600、溶解速度:164(埃/秒))。
(光敏剂(B))
4NT-250(商品名;4NT-250、东洋合成工业株式会社制造(2,3,4,4’-四羟基二苯甲酮和6-重氮-5,6-二氢-5-氧杂-萘-1-磺酸的(单~四)酯))。
(作为拒墨剂(C)的原料的水解性硅烷化合物)
相当于水解性硅烷化合物(c-1)的、化合物(c-11):CF3(CF2)5CH2CH2Si(OCH3)3(旭硝子株式会社制造)。
相当于水解性硅烷化合物(c-2)的、化合物(c-21):Si(OC2H5)4(COLCOAT CO.,Ltd制造)。
相当于水解性硅烷化合物(c-3)的、化合物(c-31):C6H5Si(OC2H5)3(信越化学工业株式会社制造)。
相当于水解性硅烷化合物(c-3)的、化合物(c-32):C6H5NH(CH2)3Si(OCH3)3(信越化学工业株式会社制造)。
C6FMA:CH2=C(CH3)COOCH2CH2(CF2)6F。
MEK:甲基乙基酮。
MAA:甲基丙烯酸。
GMA:甲基丙烯酸缩水甘油酯。
MMA:甲基丙烯酸甲酯。
V-65:(商品名、和光化学工业株式会社制造(2,2’-偶氮双(2.4二甲基戊腈)(聚合引发剂))。
(溶剂(D))
PGMEA:丙二醇单甲基醚乙酸酯。
PGME:丙二醇单甲基醚(东邦化学工业株式会社制造)。
(热固化剂(E))
TEP-G(商品名;TEP-G、旭有机材工业株式会社制造、环氧树脂)。
(热固化促进剂(F))
2-MI(商品名、东京化成工业株式会社制造(2-甲基咪唑))。
[合成例1~3:拒墨剂(CA1)~(CA3)的合成和(CA1-1)~(CA3-1)液的制备]
在具备搅拌机的50cm3的三口烧瓶中投入上述化合物(c-11)0.57g、上述化合物(c-21)1.27g、和上述化合物(c-31)0.74g,得到拒墨剂(C1)的原料混合物。接着,在该原料混合物中投入PGME 9.85g,制成溶液(原料溶液)。
在室温下,边搅拌边在所得原料溶液中滴加作为催化剂的1.0质量%磷酸水溶液1.33g。滴加结束后,进一步搅拌5小时,进行水解和部分缩合反应,得到以10质量%含有拒墨剂(CA1)的PGME溶液即(CA1-1)液。
使用表1所示的原料1.33g来代替作为催化剂的1.0质量%磷酸水溶液,除此之外,与合成例1同样地实施,得到以10质量%含有拒墨剂(CA2)~(CA3)的PGME溶液即(CA2-1)~(CA3-1)液。
[合成例4:拒墨剂(CA4)的合成和(CA4-1)液的制备]
使用上述化合物(c-32)来代替上述化合物(c-31),除此之外,与合成例1同样地实施,制备拒墨剂(CA4)的原料溶液。
在室温下,边搅拌边在所得原料溶液中滴加1.0质量%硝酸水溶液0.93g。滴加结束后,进一步搅拌5小时,进行水解和部分缩合反应,得到以10质量%含有拒墨剂(CA4)的PGME溶液即(CA4-1)液。
[合成例5:拒墨剂(CA5)和(CA5-1)液的制备]
在具备搅拌机的内容积1000cm3的高压釜中投入MEK 420.0g、C6FMA86.4g、MAA18.0g、GMA 21.6g、MMA 54.0g和V-650.8g,在氮气氛下边搅拌边在50℃下进行24小时的聚合反应,合成粗共聚物。在所得粗共聚物的溶液中加入己烷,进行再沉淀、纯化,然后进行真空干燥。在所得固体物中加入PGMEA 14,643g并搅拌,得到以10质量%含有拒墨剂(CA5)的PGMEA溶液即(CA5-1)液。
上述合成例1~5中制备得到的、以10质量%含有拒墨剂的溶液(CA1-1)~(CA5-1)的不包括溶剂的组合物、即拒墨剂(CA1)~(CA5)的含氟含有率(氟原子的质量%)、和数均分子量(Mn)示于表1。
另外,拒墨剂(CA1)~(CA5)的投入量组成(摩尔%)也示于表1。
[表1]
[例1]
(正型感光性树脂组合物1的制造)
将(CA1-1)液1g(固体成分为0.1g、剩余为PGME(溶剂))、EP4020G15.6g、4NT-2505.4g、TEP-G 3.1g、2-MI 0.8g、和PGMEA 74.1g投入到500cm3的搅拌用容器中,进行30分钟搅拌,制备正型感光性树脂组合物1。
(固化膜的制造)
将边长10cm的正方玻璃基板用乙醇进行30秒钟超声波清洗,接着进行5分钟的紫外线/臭氧清洗。紫外线/臭氧清洗中使用PL7-200(SenEngineering Co.,Ltd制造)作为紫外线/臭氧发生装置。需要说明的是,以下所有的紫外线/臭氧处理也都使用本装置作为紫外线/臭氧发生装置。
使用旋转器在上述清洗后的玻璃基板表面涂布正型感光性树脂组合物1,然后以100℃在热板上干燥2分钟,形成膜厚1.3μm的膜。隔着具有开孔图案(2.5cm×5cm)的光掩模(对该图案部的区域进行光照射的光掩模)并空开50μm的间隙,从膜侧对所得的膜的表面以25mW/cm2照射10秒钟高压汞灯的紫外线。
接着,将进行了曝光处理的玻璃基板在2.38质量%四甲基氢氧化铵水溶液中浸渍40秒钟进行显影,用水冲洗曝光部分的膜,进行干燥。接着,通过在热板上以230℃将其加热20分钟,得到在除上述开孔图案部以外的区域形成了正型感光性树脂组合物1的固化膜的玻璃基板1。
(评价)
对上述得到的正型感光性树脂组合物1和形成有固化膜(分隔壁)的玻璃基板1进行以下评价。
<拒墨性(分隔壁)、亲墨性(点)、和显影残渣>
测定PGMEA对所得玻璃基板1的固化膜、即分隔壁表面(未曝光部分)的接触角、和水对通过显影去除了膜的部分、即点部分(玻璃基板表面)的接触角。此时,根据水对点部分的接触角,对显影残渣进行评价。评价如以下所述来进行。
○(良好):水的接触角小于30度。
×(不良):水的接触角为30度以上。
之后,对形成了玻璃基板1的固化膜一侧的表面整体进行1分钟紫外线/臭氧照射。测定照射1分钟后PGMEA对固化膜表面的接触角和水对玻璃基板表面的接触角。测定方法如上述所述。评价结果示于表2。
<储藏稳定性>
用玻璃制螺纹瓶将正型用感光性组合物在23℃(室温)下保存一个月。保存一个月后,通过与例1同样的方法,用旋转器在清洗过的10cm×10cm的玻璃基板表面涂布正型用感光性组合物,形成涂膜。然后,以100℃在热板上干燥2分钟,形成膜厚1μm的膜。以目视观察膜的外观,如以下所述地进行评价。
○(良好):膜上的异物为5个以下。
×(不良):膜上的异物为6个以上、且可观察到从玻璃基板的中心部起有放射状的条纹图案。
[例2~5]
使用表所示的(CA2-1)~(CA5-1)液来代替(CA1-1)液,除此之外,与例1同样地操作,制作正型感光性树脂组合物2~5和形成有正型感光性树脂组合物2~5的固化膜的玻璃基板2~5,对它们与例1同样地进行评价。
结果归纳示于表2。另外,例1~5中得到的组合物的组成也合并示于表2。
[表2]
由表2可知,例1~4中得到的正型感光性树脂组合物的储藏稳定性优异。通过使用该组合物,可以得到没有显影残渣的分隔壁。可知,例1~4中得到的固化膜由于使用了本发明的拒墨剂,所以拒墨性优异,紫外线/臭氧照射后拒墨性也优异,且点(玻璃基板表面)具有良好的亲墨性。
另一方面,对于使用不是本发明的拒墨剂的例5中得到的固化膜,紫外线/臭氧照射后的拒墨性不充分。
产业上的可利用性
本发明的正型感光性树脂组合物能够制造拒墨性优异、即使经过紫外线/臭氧照射拒墨性也优异、且在点中残留物少的分隔壁,可以适合用于利用了喷墨记录技术法的滤色器的制造、有机EL元件的制造、有机TFT阵列的制造中的分隔壁的形成,特别适合用于大面积的基板的分隔壁的形成。
需要说明的是,将2012年3月9日申请的日本专利申请2012-053448号的说明书、权利要求书、附图和摘要的全部内容引用至此,作为本发明的说明书的公开而并入。
附图标记说明
1…基板、2…正型感光性树脂组合物的涂膜、3…涂膜的未曝光部分、4…掩模、5…光、6…分隔壁、7…点、10…用于喷墨方式的光学元件用基板。

Claims (14)

1.一种正型感光性树脂组合物,其特征在于,其为包含碱可溶性树脂(A)、光敏剂(B)和拒墨剂(C)的正型感光性树脂组合物,
所述拒墨剂(C)由包含下式(c-1)所示的水解性硅烷化合物、和下式(c-2)所示的水解性硅烷化合物的混合物的部分水解缩合物形成,所述拒墨剂(C)中的氟原子含有率为10~55质量%,
Rf-Q1-SiX1 3 …(c-1)
RH1 p-SiX2 (4-p) …(c-2)
式(c-1)和(c-2)中的符号如以下所述:
Rf:碳原子数1~6的全氟烷基、或Rf1ORf2-所示的碳原子数2~40的1价基团,其中,Rf1为碳原子数1~6的全氟烷基,Rf2为在碳-碳原子间可以具有醚性氧原子的全氟亚烷基,
Q1:碳原子数1~10的、不含氟原子的2价有机基团,
RH1:碳原子数1~6的1价烃基,
X1和X2:水解性基团,
p:0、1或2,
其中,式(c-1)中的3个X1、式(c-2)中的(4-p)个X2、和p个RH1可以分别互不相同也可以相同,
所述碱可溶性树脂(A)为酚醛清漆型酚醛树脂。
2.根据权利要求1所述的正型感光性树脂组合物,其中,正型感光性树脂组合物中的总固体成分中的所述碱可溶性树脂(A)的含量为10~90质量%。
3.根据权利要求1或2所述的正型感光性树脂组合物,其中,正型感光性树脂组合物中的总固体成分中的所述光敏剂(B)的含量为0.1~50质量%。
4.根据权利要求1或2所述的正型感光性树脂组合物,其中,正型感光性树脂组合物中的总固体成分中的所述拒墨剂(C)的含量为0.01~10质量%。
5.根据权利要求1或2所述的正型感光性树脂组合物,其中,所述拒墨剂(C)的数均分子量(Mn)为500以上且小于1000000。
6.根据权利要求1或2所述的正型感光性树脂组合物,其中,所述光敏剂(B)为具有醌二叠氮基的化合物。
7.根据权利要求1或2所述的正型感光性树脂组合物,其中,所述混合物还包含下式(c-3)所示的水解性硅烷化合物,
式(c-3)中的符号如以下所述:
Y:氢原子可以被卤素原子、碳原子数1~3的烷基、碳原子数2~3的链烯基或硝基所取代的苯基,
Q2:单键或2价有机基团,
RH2:碳原子数1~6的1价烃基,
X3:水解性基团,
q:1或2,
r:0和1中的使得q+r成为1或2的数,
其中,q个Y、Q2、和Y-Q2、以及(4-q-r)个X3可以分别互不相同也可以相同。
8.根据权利要求1或2所述的正型感光性树脂组合物,其还包含溶剂(D)。
9.根据权利要求1或2所述的正型感光性树脂组合物,其还包含热固化剂(E)。
10.根据权利要求9所述的正型感光性树脂组合物,其还包含热固化促进剂(F)。
11.根据权利要求1或2所述的正型感光性树脂组合物,其还包含着色剂(G)。
12.一种分隔壁,其形成为将基板表面分隔成像素形成用的多个分区的形态,
其由权利要求1~11中的任一项所述的正型感光性树脂组合物的固化膜形成。
13.一种光学元件,其在基板表面具有多个像素和位于邻接的像素之间的分隔壁,所述分隔壁由权利要求12所述的分隔壁形成。
14.根据权利要求13所述的光学元件,其中,所述光学元件为滤色器、TFT阵列或有机EL元件。
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Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106462069B (zh) * 2014-04-25 2019-10-18 Agc株式会社 负型感光性树脂组合物、分隔壁及光学元件
JP2016040577A (ja) * 2014-08-12 2016-03-24 東京応化工業株式会社 ポジ型感光性樹脂組成物及び硬化膜
CN107848926B (zh) * 2015-08-18 2021-04-20 Dic株式会社 酚醛清漆型含酚性羟基树脂以及抗蚀膜
KR20170053442A (ko) * 2015-11-06 2017-05-16 롬엔드하스전자재료코리아유한회사 감광성 수지 조성물 및 이로부터 제조된 경화막
KR102310794B1 (ko) * 2016-05-19 2021-10-12 롬엔드하스전자재료코리아유한회사 감광성 수지 조성물 및 이로부터 제조된 경화막
JP7041402B2 (ja) * 2017-04-21 2022-03-24 日産化学株式会社 感光性樹脂組成物
US11800738B2 (en) * 2018-01-18 2023-10-24 Sharp Kabushiki Kaisha Display device, method of manufacturing display device, apparatus for manufacturing a display device
KR20220150301A (ko) 2020-03-04 2022-11-10 에이지씨 가부시키가이샤 포지티브형 감광성 수지 조성물
JPWO2021177252A1 (zh) * 2020-03-04 2021-09-10
JPWO2022168732A1 (zh) * 2021-02-03 2022-08-11
JPWO2022181351A1 (zh) * 2021-02-24 2022-09-01
WO2024038814A1 (ja) * 2022-08-19 2024-02-22 Agc株式会社 ポジ型感光性樹脂組成物、隔壁および光学素子
WO2024116362A1 (ja) * 2022-12-01 2024-06-06 シャープディスプレイテクノロジー株式会社 発光素子、表示装置、発光素子の製造方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101443704A (zh) * 2006-05-16 2009-05-27 日产化学工业株式会社 正型感光性树脂组合物以及由其得到的多孔膜
CN102112923A (zh) * 2008-08-01 2011-06-29 旭硝子株式会社 负型感光性组合物、使用该组合物的光学元件用间隔壁及具有该间隔壁的光学元件

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4283582B2 (ja) * 2002-04-15 2009-06-24 シャープ株式会社 感放射線性樹脂組成物、パターン状絶縁性被膜の形成方法、アクティブマトリクス基板およびそれを備えた平面表示装置、並びに平面表示装置の製造方法
TWI411884B (zh) * 2006-05-16 2013-10-11 Nissan Chemical Ind Ltd 含有矽氧烷的正型感光性樹脂組成物
JP5173543B2 (ja) 2008-04-08 2013-04-03 東京応化工業株式会社 ポジ型感光性樹脂組成物
JP5338258B2 (ja) * 2008-10-30 2013-11-13 Jnc株式会社 ポジ型感光性組成物、この組成物から得られる硬化膜、及びこの硬化膜を有する表示素子
JP5397152B2 (ja) * 2009-10-22 2014-01-22 Jsr株式会社 ポジ型感放射線性組成物、層間絶縁膜及びその形成方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101443704A (zh) * 2006-05-16 2009-05-27 日产化学工业株式会社 正型感光性树脂组合物以及由其得到的多孔膜
CN102112923A (zh) * 2008-08-01 2011-06-29 旭硝子株式会社 负型感光性组合物、使用该组合物的光学元件用间隔壁及具有该间隔壁的光学元件

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