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CH705945B1 - Method of producing a resonator and resonator obtained by such a method - Google Patents

Method of producing a resonator and resonator obtained by such a method Download PDF

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Publication number
CH705945B1
CH705945B1 CH002031/2011A CH20312011A CH705945B1 CH 705945 B1 CH705945 B1 CH 705945B1 CH 002031/2011 A CH002031/2011 A CH 002031/2011A CH 20312011 A CH20312011 A CH 20312011A CH 705945 B1 CH705945 B1 CH 705945B1
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CH
Switzerland
Prior art keywords
resonator
arm
recess
substrate
recesses
Prior art date
Application number
CH002031/2011A
Other languages
French (fr)
Other versions
CH705945A2 (en
Inventor
Dalla Piazza Silvio
Hessler Thierry
Original Assignee
Swatch Group Res & Dev Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Swatch Group Res & Dev Ltd filed Critical Swatch Group Res & Dev Ltd
Priority to CH002031/2011A priority Critical patent/CH705945B1/en
Publication of CH705945A2 publication Critical patent/CH705945A2/en
Publication of CH705945B1 publication Critical patent/CH705945B1/en

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Abstract

La présente invention concerne un procédé de fabrication d'un résonateur dans un substrat, caractérisé en ce qu'il comprend les étapes suivantes : a) modifier la structure d'au moins une zone du substrat par un laser afin de rendre plus sélective ladite au moins une zone; b) graver ladite au moins une zone afin de sélectivement fabriquer ledit résonateur. On peut obtenir au moyen de ce procédé, un résonateur spiral ou un diapason pour une montre.The present invention relates to a method for manufacturing a resonator in a substrate, characterized in that it comprises the following steps: a) modifying the structure of at least one area of the substrate by a laser in order to make said at least one area more selective; b) etching said at least one area in order to selectively manufacture said resonator. By means of this method, a spiral resonator or a tuning fork for a watch can be obtained.

Description

[0001] L'invention concerne un résonateur comportant un corps utilisé en déformation comme un résonateur spiral ou un diapason. [0001] The invention relates to a resonator comprising a body used in deformation as a spiral resonator or a tuning fork.

ARRIERE PLAN TECHNOLOGIQUETECHNOLOGICAL BACKGROUND

[0002] Il est connu de l'art antérieur que certaines pièces de microtechnique en matériaux de type monocristallin ou polycristallin, comme des résonateurs, sont réalisées par gravure chimique. Cette technique consiste à se munir du substrat à graver et à déposer une couche de résine photosensible dessus. Sur cette résine est placé un masque puis le tout est exposé à de la lumière afin que la structure de la résine photosensible exposée à la lumière soit modifiée. Cette résine modifiée est éliminée par action d'un élément chimique laissant alors à nu, aux endroits où la résine a été éliminée, le substrat. [0002] It is known from the prior art that certain microtechnology parts made of monocrystalline or polycrystalline materials, such as resonators, are produced by chemical etching. This technique consists of providing the substrate to be etched and depositing a layer of photosensitive resin on it. A mask is placed on this resin and then the whole is exposed to light so that the structure of the photosensitive resin exposed to the light is modified. This modified resin is removed by the action of a chemical element, thus leaving the substrate exposed at the locations where the resin has been removed.

[0003] Par la suite, ces zones à nu du substrat sont attaquées chimiquement afin de les creuser. L'agent chimique est choisi pour attaquer seulement le matériau composant le substrat et non la résine photosensible non modifiée. La durée de cette étape de gravure chimique permet de déterminer les dimensions des creusures. [0003] Subsequently, these exposed areas of the substrate are chemically etched in order to hollow them out. The chemical agent is chosen to attack only the material composing the substrate and not the unmodified photosensitive resin. The duration of this chemical etching step makes it possible to determine the dimensions of the hollows.

[0004] De même, il est envisageable que des pièces de microtechnique soient réalisées par usinage et/ou polissage de sorte qu'un foret ou une polisseuse puissent être utilisés pour façonner lesdites pièces. [0004] Similarly, it is conceivable that microtechnology parts are produced by machining and/or polishing so that a drill or polisher can be used to shape said parts.

[0005] Un premier inconvénient de cette technique de gravure chimique est qu'elle ne permet pas de réaliser des creusures avec des flancs droits. En effet, les creusures obtenues présentent des flancs inclinés. On entend par là que la surface de la creusure varie en fonction de la profondeur c'est-à-dire que cette surface s'agrandit ou se rétrécit au fur et à mesure que la creusure devient profonde. Généralement cette surface rétrécit avec la profondeur. Cette constatation oblige à adapter les calculs théoriques réalisés pour obtenir des creusures à flancs droits. De plus, cette variation du profil des creusures entre la théorie et la pratique entraîne une variation des caractéristiques. [0005] A first drawback of this chemical etching technique is that it does not allow hollows with straight sides to be produced. Indeed, the hollows obtained have inclined sides. This means that the surface of the hollow varies according to the depth, i.e. this surface increases or decreases as the hollow becomes deeper. Generally this surface decreases with depth. This observation requires adapting the theoretical calculations carried out to obtain hollows with straight sides. In addition, this variation in the profile of the hollows between theory and practice leads to a variation in the characteristics.

RESUME DE L'INVENTIONSUMMARY OF THE INVENTION

[0006] L'invention a pour but de pallier aux inconvénients cités ci-devant en proposant un procédé de fabrication permettant de réaliser un composant comprenant des creusures dont les flancs ont une inclinaison facilement réalisable. [0006] The invention aims to overcome the drawbacks mentioned above by proposing a manufacturing method making it possible to produce a component comprising hollows whose sides have an easily achievable inclination.

[0007] A cet effet, l'invention concerne un procédé de fabrication d'un résonateur dans un substrat, caractérisé en ce qu'il comprend les étapes suivantes: a) modifier la structure d'au moins une zone de substrat afin de rendre plus sélective ladite au moins une zone ; b) graver ladite au moins une zone afin de sélectivement fabriquer ledit résonateur.[0007] For this purpose, the invention relates to a method for manufacturing a resonator in a substrate, characterized in that it comprises the following steps: a) modifying the structure of at least one substrate zone in order to make said at least one zone more selective; b) etching said at least one zone in order to selectively manufacture said resonator.

[0008] Un avantage de la présente invention est de permettre de réaliser des évidements se situant sous la surface car le matériau utilisé est choisi comme étant transparent pour le laser. Cela permet au laser de pouvoir pointer n'importe quel point de la surface ou sous la surface du résonateur. Le matériau est alors rendu sélectif de sorte que l'attaque chimique qui suit n'opère que sur le matériau ayant subit une modification par le laser. On obtient alors un procédé qui permet de réaliser des évidements complexes et internes. [0008] An advantage of the present invention is that it allows recesses to be made that are located below the surface because the material used is chosen to be transparent to the laser. This allows the laser to be able to point at any point on the surface or below the surface of the resonator. The material is then made selective so that the chemical attack that follows only operates on the material that has undergone modification by the laser. This gives a method that allows complex and internal recesses to be made.

[0009] Des modes de réalisation avantageux du procédé selon la présente invention font l'objet de revendications dépendantes. [0009] Advantageous embodiments of the method according to the present invention are the subject of dependent claims.

[0010] Dans un premier mode de réalisation avantageux, le procédé comprend en outre l'étape: c) libérer le composant dudit substrat.[0010] In a first advantageous embodiment, the method further comprises the step: c) releasing the component from said substrate.

[0011] Dans un second mode de réalisation avantageux, la structure de ladite au moins une zone est modifiée par un laser dont la durée des impulsions est de l'ordre de la femtoseconde. [0011] In a second advantageous embodiment, the structure of said at least one zone is modified by a laser whose pulse duration is of the order of a femtosecond.

[0012] Dans un troisième mode de réalisation avantageux, le substrat est réalisé en matériau monocristallin. [0012] In a third advantageous embodiment, the substrate is made of monocrystalline material.

[0013] Dans un autre mode de réalisation avantageux, le substrat est réalisé en matériau polycristallin. [0013] In another advantageous embodiment, the substrate is made of polycrystalline material.

[0014] Dans un autre mode de réalisation avantageux, le substrat est réalisé en un matériau amorphe comme une céramique ou un verre. [0014] In another advantageous embodiment, the substrate is made of an amorphous material such as a ceramic or a glass.

[0015] Dans un autre mode de réalisation avantageux, le substrat est réalisé en polymère. [0015] In another advantageous embodiment, the substrate is made of polymer.

[0016] Dans un autre mode de réalisation avantageux, le composant est un résonateur comprenant une base à partir de laquelle s'étendent au moins deux bras parallèles présentant chacun une face supérieure et une face inférieure et comprenant en outre au moins un évidement réalisé sur l'une des faces de l'un des au moins deux bras parallèles. [0016] In another advantageous embodiment, the component is a resonator comprising a base from which extend at least two parallel arms each having an upper face and a lower face and further comprising at least one recess made on one of the faces of one of the at least two parallel arms.

[0017] Dans un autre mode de réalisation avantageux, ledit au moins un évidement se présente sous la forme d'une gorge ayant au moins un de ses flancs verticaux. [0017] In another advantageous embodiment, said at least one recess is in the form of a groove having at least one of its vertical sides.

[0018] Dans un autre mode de réalisation avantageux, ledit résonateur comprend une gorge par bras. [0018] In another advantageous embodiment, said resonator comprises one groove per arm.

[0019] Dans un autre mode de réalisation avantageux, ledit résonateur comprend une gorge sur la face supérieure de chaque bras et une gorge sur la face inférieure de chaque bras. [0019] In another advantageous embodiment, said resonator comprises a groove on the upper face of each arm and a groove on the lower face of each arm.

[0020] Dans un autre mode de réalisation avantageux, ledit résonateur comprend deux gorges par bras. [0020] In another advantageous embodiment, said resonator comprises two grooves per arm.

[0021] Dans un autre mode de réalisation avantageux, ledit résonateur comprend deux gorges sur la face supérieure de chaque bras et deux gorges sur la face inférieure de chaque bras. [0021] In another advantageous embodiment, said resonator comprises two grooves on the upper face of each arm and two grooves on the lower face of each arm.

[0022] La présente invention concerne un résonateur comprenant une base à partir de laquelle s'étendent au moins deux bras parallèles présentant chacun une face supérieure et une face inférieure, et au moins un groupe d'électrodes situé sur un des au moins deux bras parallèles pour exciter électriquement lesdits au moins deux bras parallèles, caractérisé en ce qu'il comprend au moins deux flans parallèles droits. [0022] The present invention relates to a resonator comprising a base from which extend at least two parallel arms each having an upper face and a lower face, and at least one group of electrodes located on one of the at least two parallel arms for electrically exciting said at least two parallel arms, characterized in that it comprises at least two straight parallel flanks.

[0023] Dans un premier mode de réalisation avantageux, l'une des faces de l'un des au moins deux bras parallèles comprend au moins un évidement se présentant sous la forme d'une gorge présentant des flancs verticaux. [0023] In a first advantageous embodiment, one of the faces of one of the at least two parallel arms comprises at least one recess in the form of a groove having vertical sides.

[0024] Dans un second mode de réalisation avantageux, ledit résonateur comprend une gorge par bras. [0024] In a second advantageous embodiment, said resonator comprises one groove per arm.

[0025] Dans un troisième mode de réalisation avantageux, ledit résonateur comprend une gorge sur la face supérieure de chaque bras et une gorge sur la face inférieure de chaque bras. [0025] In a third advantageous embodiment, said resonator comprises a groove on the upper face of each arm and a groove on the lower face of each arm.

[0026] Dans un autre mode de réalisation avantageux, ledit résonateur comprend deux gorges par bras. [0026] In another advantageous embodiment, said resonator comprises two grooves per arm.

[0027] Dans un autre mode de réalisation avantageux, ledit résonateur comprend deux gorges sur la face supérieure de chaque bras et deux gorges sur la face inférieure de chaque bras. [0027] In another advantageous embodiment, said resonator comprises two grooves on the upper face of each arm and two grooves on the lower face of each arm.

[0028] Dans un autre mode de réalisation avantageux, les gorges comprennent une saillie qui permet d'optimiser les champs électriques, tout en augmentant les tolérances d'alignement. [0028] In another advantageous embodiment, the grooves include a projection which makes it possible to optimize the electric fields, while increasing the alignment tolerances.

[0029] L'invention concerne également un résonateur comprenant un volant d'inertie couplé à un corps formé d'un barreau enroulé sur lui-même pour former un spiral caractérisé en ce que ledit corps comprend au moins une creusure pour modifier localement la rigidité et ainsi ajuster la fréquence du résonateur et/ou régler le défaut d'isochronisme. [0029] The invention also relates to a resonator comprising a flywheel coupled to a body formed of a bar wound on itself to form a hairspring characterized in that said body comprises at least one hollow to locally modify the rigidity and thus adjust the frequency of the resonator and/or adjust the isochronism defect.

[0030] Dans un mode de réalisation avantageux, ladite au moins une creusure comprend au moins deux flans parallèles. [0030] In an advantageous embodiment, said at least one hollow comprises at least two parallel blanks.

[0031] Dans un autre mode de réalisation avantageux, ledit corps est réalisé quartz ou céramique ou verre et en ce qu'il comprend des flancs localement parallèles sur tout la longueur dudit corps. [0031] In another advantageous embodiment, said body is made of quartz or ceramic or glass and in that it comprises locally parallel sides over the entire length of said body.

BREVE DESCRIPTION DES FIGURESBRIEF DESCRIPTION OF THE FIGURES

[0032] Les buts, avantages et caractéristiques du procédé selon la présente invention apparaîtront plus clairement dans la description détaillée suivante de formes de réalisation de l'invention données uniquement à titre d'exemple non limitatif et illustrées par les dessins annexés sur lesquels: – La figure 1 représente de manière schématique une vue de face d'un résonateur selon l'art antérieur ; – Les figures 2a à 2e représentent de manière schématique les étapes du procédé selon la présente invention; – Les figures 3 et 4 représentent de manière schématique une première forme d'exécution du résonateur selon la présente invention ; – La figure 5 représente de manière schématique une variante de la première forme d'exécution du résonateur selon la présente invention ; – La figure 6 représente de manière schématique une deuxième forme d'exécution du résonateur selon la présente invention; – Les figures 7 et 8 représentent de manière schématique une première variante de la seconde forme d'exécution du résonateur selon la présente invention; – La figure 9 représente de manière schématique une seconde variante de la seconde forme d'exécution du résonateur selon la présente invention ; – La figure 10 représente de manière schématique une troisième forme d'exécution du résonateur selon la présente invention ; et – La figure 11 représente de manière schématique la partie spiral du résonateur balancier-spiral selon la présente invention.[0032] The aims, advantages and characteristics of the method according to the present invention will appear more clearly in the following detailed description of embodiments of the invention given solely by way of non-limiting example and illustrated by the appended drawings in which: – Figure 1 schematically represents a front view of a resonator according to the prior art; – Figures 2a to 2e schematically represent the steps of the method according to the present invention; – Figures 3 and 4 schematically represent a first embodiment of the resonator according to the present invention; – Figure 5 schematically represents a variant of the first embodiment of the resonator according to the present invention; – Figure 6 schematically represents a second embodiment of the resonator according to the present invention; – Figures 7 and 8 schematically represent a first variant of the second embodiment of the resonator according to the present invention; – Figure 9 schematically represents a second variant of the second embodiment of the resonator according to the present invention; – Figure 10 schematically represents a third embodiment of the resonator according to the present invention; and – Figure 11 schematically represents the spiral part of the balance-spring resonator according to the present invention.

DESCRIPTION DETAILLEEDETAILED DESCRIPTION

[0033] Les figures 3 et 4 représentent de manière schématique un composant selon la présente invention. [0033] Figures 3 and 4 schematically represent a component according to the present invention.

[0034] Le composant 101 fabriqué avec le procédé selon la présente invention est un résonateur 300. Un résonateur classique visible à la figure 1 comprend un corps 100 utilisé en déformation. Ce corps 100 prend la forme d'une base 302 posée sur un socle 306 et à partir de laquelle s'étendent au moins deux bras parallèles 304. Ces deux bras parallèles 304 portent des métallisations qui forment, sur ces branches, deux groupes d'électrodes 308 qui permettent de les soumettre à des champs électriques pour les faire vibrer. Le résonateur 300 comprend en outre, sur la base 302, des plages de connexion 309 reliées respectivement aux groupes d'électrodes 308 comme visible à la figure 4. Chaque bras 304 comprend une face supérieure 314 et une face inférieure 316. Les dimensions d'un tel résonateur 300 sont une longueur de 1mm, une largeur de 0.1 mm et une épaisseur de 0.1mm. [0034] The component 101 manufactured with the method according to the present invention is a resonator 300. A conventional resonator visible in FIG. 1 comprises a body 100 used in deformation. This body 100 takes the form of a base 302 placed on a base 306 and from which at least two parallel arms 304 extend. These two parallel arms 304 carry metallizations which form, on these branches, two groups of electrodes 308 which allow them to be subjected to electric fields to make them vibrate. The resonator 300 further comprises, on the base 302, connection pads 309 connected respectively to the groups of electrodes 308 as visible in FIG. 4. Each arm 304 comprises an upper face 314 and a lower face 316. The dimensions of such a resonator 300 are a length of 1 mm, a width of 0.1 mm and a thickness of 0.1 mm.

[0035] Afin d'améliorer les caractéristiques du résonateur 300, il est connu de réaliser des évidements 200 se présentant sous la forme de gorges 310 ou rainures et situés sur ces bras 304. Ces gorges 310 augmentent le couplage piézoélectrique, ce qui permet une diminution de la consommation électrique. Cette diminution de la consommation est une conséquence de la diminution de la résistance électrique représentant les pertes dans le schéma équivalent du résonateur 300. [0035] In order to improve the characteristics of the resonator 300, it is known to produce recesses 200 in the form of grooves 310 or grooves and located on these arms 304. These grooves 310 increase the piezoelectric coupling, which allows a reduction in electrical consumption. This reduction in consumption is a consequence of the reduction in electrical resistance representing the losses in the equivalent diagram of the resonator 300.

[0036] Pour réaliser les gorges 310 du composant 101, la présente invention se propose de fournir un procédé de fabrication. Dans le cas présent, l'accent sera mis sur la réalisation des gorges 310 ou évidements 200. [0036] To produce the grooves 310 of the component 101, the present invention proposes to provide a manufacturing method. In the present case, the emphasis will be placed on the production of the grooves 310 or recesses 200.

[0037] Dans une première étape représentée à la figure 2a, on se munit du composant 101, ici le résonateur 300, sans que les gorges 310 ne soient réalisées. On comprend alors que ce résonateur 300 est préalablement réalisé. Ce résonateur 300 est réalisé selon la méthode la plus appropriée en fonction du matériau le constituant, appelé ici premier matériau, comme par exemple l'usinage ou la gravure chimique. [0037] In a first step shown in FIG. 2a, the component 101 is provided, here the resonator 300, without the grooves 310 being made. It is then understood that this resonator 300 is made beforehand. This resonator 300 is made according to the most appropriate method depending on the material constituting it, here called the first material, such as for example machining or chemical etching.

[0038] Une seconde étape consiste à se munir d'un laser (L) dont la durée des impulsions est ici de l'ordre de la femto-seconde c'est-à-dire 10<-15>seconde (typiquement 100 fs). La durée des impulsions peut aller de la femtoseconde à la picoseconde (10<-12>seconde). Ce laser (L) est ensuite utilisé afin de modifier la structure dudit bras 304 comme visible à la figure 2b. A cet effet, le premier matériau est choisi comme étant transparent pour le laser. Cela permet de pointer, avec le point de focalisation (P) du laser (L), un point (P) qui peut se trouver sur ou sous la surface du bras 304. Pour le laser (L) dont la durée des impulsions est ici de l'ordre de la femto-seconde, le premier matériau peut être un matériau monocristallin comme le quartz, le saphir ou le rubis synthétique, ou un matériau polycristallin comme le rubis polycristallin ou un matériau amorphe comme un verre tel que la silice ou une céramique. Le point de focalisation (P) est ensuite pointé en direction du résonateur 300 au niveau de zones situées sur ou sous la surface du résonateur 300. Tout cela est fait selon une séquence prédéterminée ou désirée afin de provoquer localement une modification de la structure par absorption à plusieurs photons. En effet, la modification de la structure du matériau par absorption à plusieurs photons nécessite une densité d'énergie très élevée. Or, obtenir une telle densité d'énergie nécessaire n'est actuellement possible qu'avec des lasers dont la durée des impulsions est très faible, c'est-à-dire, de l'ordre de la femto-seconde ou de la pico-seconde. Ces lasers sont, en effet, capables de fournir cette densité d'énergie au point de focalisation c'est-à-dire là ou la densité d'énergie est la plus importante. On modifie alors la structure d'un premier bras 304 comme visible à la figure 2c et on s'occupe de l'autre bras 304. On obtient alors le résonateur 300 tel que visible à la figure 2d. [0038] A second step consists in providing a laser (L) whose pulse duration is here of the order of the femtosecond, i.e. 10<-15>second (typically 100 fs). The pulse duration can range from the femtosecond to the picosecond (10<-12>second). This laser (L) is then used to modify the structure of said arm 304 as visible in FIG. 2b. For this purpose, the first material is chosen to be transparent to the laser. This makes it possible to point, with the focal point (P) of the laser (L), a point (P) which can be located on or under the surface of the arm 304. For the laser (L) whose pulse duration is here of the order of the femto-second, the first material can be a monocrystalline material such as quartz, sapphire or synthetic ruby, or a polycrystalline material such as polycrystalline ruby or an amorphous material such as a glass such as silica or a ceramic. The focal point (P) is then pointed towards the resonator 300 at areas located on or under the surface of the resonator 300. All this is done according to a predetermined or desired sequence in order to locally cause a modification of the structure by multi-photon absorption. Indeed, the modification of the structure of the material by multi-photon absorption requires a very high energy density. However, obtaining such a necessary energy density is currently only possible with lasers whose pulse duration is very low, that is to say, of the order of a femtosecond or a picosecond. These lasers are, in fact, capable of providing this energy density at the focal point, that is to say where the energy density is the greatest. The structure of a first arm 304 is then modified as visible in FIG. 2c and the other arm 304 is taken care of. The resonator 300 is then obtained as visible in FIG. 2d.

[0039] La troisième étape consiste à se munir d'un agent chimique. Cet agent chimique est choisi pour permettre aux zones Z1 dont la structure est modifiée, d'être dissoutes plus rapidement que les zones Z2 dont la structure n'a pas été modifiée. On entend par là que la vitesse d'attaque des zones Z1 dont la structure a été modifiée par le point de focalisation (P) du laser (L) est supérieure à la vitesse d'attaque des zones Z2 dont la structure n'a pas été modifiée par le laser (L). En effet, la modification locale de la structure par le point de focalisation (P) du laser (L) femtoseconde permet de choisir un agent chimique qui est plus réactif aux zones modifiées Z1 qu'aux zones non modifiées Z2. En conséquence, en plongeant, durant un temps déterminé, ledit résonateur dans un bain composé de l'agent chimique, on fait en sorte que toutes les zones Z1 dont la structure a été modifiée par le point de focalisation (P) du laser (L) soient dissoutes. Bien entendu, les dimensions du résonateur 300 sont calculées pour prendre en compte l'attaque chimique de l'agent chimique sur les zones non modifiées et ainsi ne pas dissoudre excessivement les zones dont la structure n'est pas modifiée. On obtient alors le résonateur 300 visible à la figure 2e. [0039] The third step consists of providing a chemical agent. This chemical agent is chosen to allow the zones Z1 whose structure is modified to be dissolved more quickly than the zones Z2 whose structure has not been modified. This means that the attack speed of the zones Z1 whose structure has been modified by the focal point (P) of the laser (L) is greater than the attack speed of the zones Z2 whose structure has not been modified by the laser (L). Indeed, the local modification of the structure by the focal point (P) of the femtosecond laser (L) makes it possible to choose a chemical agent that is more reactive to the modified zones Z1 than to the unmodified zones Z2. Consequently, by immersing, for a determined time, said resonator in a bath composed of the chemical agent, it is ensured that all the zones Z1 whose structure has been modified by the focal point (P) of the laser (L) are dissolved. Of course, the dimensions of the resonator 300 are calculated to take into account the chemical attack of the chemical agent on the unmodified areas and thus not to excessively dissolve the areas whose structure is not modified. We then obtain the resonator 300 visible in Figure 2e.

[0040] Par ailleurs, on notera que pour que la dissolution des zones Z1 dont la structure été modifiée se fasse, il est nécessaire que les zones Z1 puissent être accessibles pour l'agent chimique. On comprend donc qu'au moins une surface ou au moins une zone Z1 proche de la surface soit modifiée. En effet, le présent procédé permet de réaliser des structures internes mais nécessite que l'agent chimique puisse avoir accès aux zones Z1 dont la structure est modifiée. Avec une zone Z1 dont la structure est modifiée en surface, on permet audit agent chimique de dissoudre directement les zones modifies Z1. Néanmoins, il est envisageable que les zones Z1 dont la structure a été modifiée ne soit pas situées à la surface mais juste sous la surface. L'agent chimique dissout alors le peu de zones Z2 non modifiées séparant ledit agent chimique des zones modifiées Z1 pour permettre ensuite la dissolution de celles-ci. Bien entendu, chaque évidement 200 du résonateur 300 devra être configuré de la sorte ou doivent être joints. Une fois toutes les zones modifiées Z1 dissoutes, ledit résonateur est sorti du bain. [0040] Furthermore, it will be noted that for the dissolution of the Z1 zones whose structure has been modified to take place, it is necessary for the Z1 zones to be accessible to the chemical agent. It is therefore understood that at least one surface or at least one Z1 zone close to the surface is modified. Indeed, the present method makes it possible to produce internal structures but requires that the chemical agent can have access to the Z1 zones whose structure is modified. With a Z1 zone whose structure is modified on the surface, said chemical agent is allowed to directly dissolve the modified Z1 zones. Nevertheless, it is conceivable that the Z1 zones whose structure has been modified are not located on the surface but just below the surface. The chemical agent then dissolves the few unmodified Z2 zones separating said chemical agent from the modified Z1 zones to then allow the dissolution of the latter. Of course, each recess 200 of the resonator 300 must be configured in this way or must be joined. Once all the modified Z1 zones have been dissolved, the said resonator is removed from the bath.

[0041] Une quatrième étape consiste à nettoyer ledit résonateur afin que tous les résidus d'agent chimique soient éliminés. Cela permet que la réaction chimique soit définitivement stoppée. [0041] A fourth step consists of cleaning said resonator so that all chemical agent residues are eliminated. This allows the chemical reaction to be definitively stopped.

[0042] L'avantage du procédé selon la présente invention est double. En effet, ce procédé permet de modifier localement la structure du matériau du composant de sorte que chaque endroit en surface ou sous la surface du composant peut être structurellement modifié. Il est donc possible de modifier structurellement le résonateur 300 selon des formes complexes qui seront gravées chimiquement de façon précise. [0042] The advantage of the method according to the present invention is twofold. Indeed, this method makes it possible to locally modify the structure of the material of the component so that each location on the surface or under the surface of the component can be structurally modified. It is therefore possible to structurally modify the resonator 300 according to complex shapes which will be chemically etched precisely.

[0043] Cette possibilité de formes complexes est alors utilisée pour réaliser des creusures ayant des flancs 312 droits et verticaux. Effectivement, les zones modifiées Z2 sont agencées pour prévoir ces flancs 312 droits et comme l'étape de gravure chimique n'agit que sur les zones modifiées, la verticalité des flancs 312 est gardée. On peut généraliser en disant que l'avantage du présent procédé est de préserver les formes d'origines des évidements 200. La présence des flancs 312 droits et verticaux permet d'améliorer le couplage piézoélectrique. En effet, ces flancs 312 entraînent une augmentation de la capacité motionnelle du résonateur 300. Or, cette capacité motionnelle représente l'efficacité du couplage piézoélectrique. Pour le résonateur 300 représenté à la figure 3, l'augmentation du gain en couplage piézoélectrique est de 30%. [0043] This possibility of complex shapes is then used to produce recesses having straight and vertical sides 312. Indeed, the modified zones Z2 are arranged to provide these straight sides 312 and since the chemical etching step only acts on the modified zones, the verticality of the sides 312 is maintained. It can be generalized by saying that the advantage of the present method is to preserve the original shapes of the recesses 200. The presence of the straight and vertical sides 312 makes it possible to improve the piezoelectric coupling. Indeed, these sides 312 lead to an increase in the motional capacity of the resonator 300. Now, this motional capacity represents the efficiency of the piezoelectric coupling. For the resonator 300 shown in FIG. 3, the increase in the gain in piezoelectric coupling is 30%.

[0044] Dans une première forme d'exécution visible aux figures 3 et 4, le résonateur reprend le modèle du résonateur 300 de l'art antérieur c'est-à-dire qu'il comprend deux gorges 310. Ces deux gorges 310 sont situées chacune sur la face supérieure 314 d'un des bras 304. Chaque bras 304 comprend alors une gorge 310. De préférence, la gorge 310 de chaque bras 304 est placée de façon centrée comme visible à la figure 4. [0044] In a first embodiment visible in FIGS. 3 and 4, the resonator takes up the model of the resonator 300 of the prior art, that is to say that it comprises two grooves 310. These two grooves 310 are each located on the upper face 314 of one of the arms 304. Each arm 304 then comprises a groove 310. Preferably, the groove 310 of each arm 304 is placed in a centered manner as visible in FIG. 4.

[0045] Dans une variante de cette première forme d'exécution de l'invention, chaque face 314, 316 de chaque bras 304 comporte une gorge 310. On comprend que pour un résonateur 300 ayant deux bras 304, ledit résonateur 300 comprend quatre gorges 310. On dénombre alors une gorge 310 sur la face supérieure 314 de chaque bras 304 et une gorge 310 sur la face inférieure 316 de chaque bras 304. Dans cette variante, les gorges 310 de chaque bras 304 sont opposées par rapport au plan A-A' visible à la figure 5. [0045] In a variant of this first embodiment of the invention, each face 314, 316 of each arm 304 comprises a groove 310. It is understood that for a resonator 300 having two arms 304, said resonator 300 comprises four grooves 310. There is then a groove 310 on the upper face 314 of each arm 304 and a groove 310 on the lower face 316 of each arm 304. In this variant, the grooves 310 of each arm 304 are opposite relative to the plane A-A' visible in FIG. 5.

[0046] Dans une deuxième forme d'exécution, il est prévu d'avoir au moins deux gorges 310 sur l'une des faces 314, 316 de chaque bras 304 comme visible à la figure 6. De préférence, les au moins deux gorges 310 d'un bras 304 sont placées sur la même face 314, 316 que les au moins deux gorges 310 de l'autre bras 304. Cette disposition permet d'optimiser les champs électriques dans le résonateur 300. [0046] In a second embodiment, it is provided to have at least two grooves 310 on one of the faces 314, 316 of each arm 304 as visible in FIG. 6. Preferably, the at least two grooves 310 of an arm 304 are placed on the same face 314, 316 as the at least two grooves 310 of the other arm 304. This arrangement makes it possible to optimize the electric fields in the resonator 300.

[0047] Cette deuxième forme d'exécution peut avoir une variante en ce que chaque face 314, 316 de chaque bras 304 comprend au moins deux gorges 310 comme visible à la figure 7. [0047] This second embodiment may have a variant in that each face 314, 316 of each arm 304 comprises at least two grooves 310 as visible in FIG. 7.

[0048] Cette variante peut consister à avoir deux rainures comprenant chacune un flanc droit 312b et un flanc incliné 312a, ces deux gorges 310 étant séparées par un élément central 313 comme visible à la figure 6. Ces rainures sont agencées de sorte que l'élément central 313 soit formé par les flancs inclinés 312a des deux gorges 310. Ces flancs 312a ont inclinés de sorte que la surface de la gorge 310 diminue lorsque la profondeur augmente. Cette disposition permet de profiter des flancs droits 312b des gorges 310 pour augmenter le couplage. De plus, le fait d'avoir deux petites gorges 310 au lieu d'une gorge 310 très large permet de ne pas enlever trop de matière au résonateur 300 et ainsi de moins le fragiliser. [0048] This variant may consist of having two grooves each comprising a straight flank 312b and an inclined flank 312a, these two grooves 310 being separated by a central element 313 as visible in FIG. 6. These grooves are arranged so that the central element 313 is formed by the inclined flanks 312a of the two grooves 310. These flanks 312a are inclined so that the surface area of the groove 310 decreases when the depth increases. This arrangement makes it possible to take advantage of the straight flanks 312b of the grooves 310 to increase the coupling. In addition, having two small grooves 310 instead of a very wide groove 310 makes it possible not to remove too much material from the resonator 300 and thus to weaken it less.

[0049] Cette deuxième forme d'exécution et sa variante ont également l'avantage de permettre de raccourcir la durée du procédé car il y a moins de matière à enlever et donc moins de matière à modifier avec le laser (L). [0049] This second embodiment and its variant also have the advantage of making it possible to shorten the duration of the process because there is less material to remove and therefore less material to modify with the laser (L).

[0050] Néanmoins, pour réaliser cette deuxième forme d'exécution, il est possible d'utiliser le procédé selon l'invention d'une autre façon. En effet, il a été décrit que le procédé utilise un laser (L) dont la durée des impulsions est de l'ordre de la femto-seconde pour modifier des zones du résonateur 300 et les dissoudre par action chimique. Or, il est également possible d'utiliser le laser (L) pour découper le résonateur 300. Le laser (L) est utilisé pour modifier les contours d'une zone à supprimer. L'étape de gravure chimique est alors effectuée et cela permet de dissoudre les contours de la zone à supprimer. Comme les contours de cette dernière sont dissous par l'action de l'agent chimique, la zone à supprimer se détache du résonateur 300. On peut alors sculpter la surface du résonateur 300 et enlever une partie de celui-ci, pour faire par exemple les gorges 310, sans modifier la structure de toute cette partie. Le gain de temps est, par conséquent, significatif. [0050] However, to achieve this second embodiment, it is possible to use the method according to the invention in another way. Indeed, it has been described that the method uses a laser (L) whose pulse duration is of the order of a femtosecond to modify areas of the resonator 300 and dissolve them by chemical action. However, it is also possible to use the laser (L) to cut the resonator 300. The laser (L) is used to modify the contours of an area to be removed. The chemical etching step is then carried out and this makes it possible to dissolve the contours of the area to be removed. As the contours of the latter are dissolved by the action of the chemical agent, the area to be removed detaches from the resonator 300. It is then possible to sculpt the surface of the resonator 300 and remove a part of it, for example to make the grooves 310, without modifying the structure of this entire part. The time saving is therefore significant.

[0051] Dans une seconde variante visible à la figure 9, chaque gorge 310 comprend une portion relativement grande en surface 314. Ces portions en surface 314 se présentent sous la forme d'une saillie 315 située à la surface du résonateur 300. Cette saillie 315 présente un profil rectangulaire et s'étend en direction du centre des bras. Cet agencement permet, outre les avantages d'avoir un champ électrique optimisé, d'améliorer l'alignement des masques. En effet, dans le cas de cette deuxième forme d'exécution, les portions en surface 314 sont utilisées pour augmenter les tolérances nécessaires lors de l'alignement des masques employés lors de la réalisation des électrodes 308. [0051] In a second variant visible in FIG. 9, each groove 310 comprises a relatively large surface portion 314. These surface portions 314 are in the form of a projection 315 located on the surface of the resonator 300. This projection 315 has a rectangular profile and extends towards the center of the arms. This arrangement makes it possible, in addition to the advantages of having an optimized electric field, to improve the alignment of the masks. Indeed, in the case of this second embodiment, the surface portions 314 are used to increase the tolerances necessary when aligning the masks used when producing the electrodes 308.

[0052] Dans une troisième forme d'exécution visible à la figure 10, il est possible que le résonateur 300 comprenne un troisième bras 304 de sorte que le résonateur 300 ait une forme similaire à celle d'un trident. Ce troisième bras 304 est utilisé pour la fixation du résonateur 300 et plus particulièrement pour modifier son centre de gravité. En effet, ce troisième bras 304 est utilisé comme point de fixation de sorte qu'il soit en contact du socle 306 soutenant le résonateur 300. Cette disposition du troisième bras 304 qui fait office de bras central 304 permet de centrer le centre de gravité et d'avoir un meilleur équilibre du résonateur 300. [0052] In a third embodiment visible in FIG. 10, it is possible for the resonator 300 to comprise a third arm 304 so that the resonator 300 has a shape similar to that of a trident. This third arm 304 is used for fixing the resonator 300 and more particularly to modify its center of gravity. Indeed, this third arm 304 is used as a fixing point so that it is in contact with the base 306 supporting the resonator 300. This arrangement of the third arm 304 which acts as a central arm 304 makes it possible to center the center of gravity and to have a better balance of the resonator 300.

[0053] Avantageusement, le procédé selon la présente invention peut ne pas être utilisé que pour réaliser les gorges 310 des bras 304 du résonateur 300. En effet, comme le procédé selon la présente invention est précis et permet de réaliser des formes complexes, son utilisation pour réaliser la totalité du résonateur 300 à partir d'un substrat est envisageable. Cette possibilité de réaliser tout le résonateur 300 avec le procédé selon la présente invention est avantageuse car elle permet de raccourcir la durée du procédé. L'utilisation de ce procédé permet de réaliser, en une seule étape, l'étape de réalisation des contours et l'étape de réalisation des gorges 310 du résonateur 300. Bien entendu, on comprendra que cette façon de faire est aussi utilisable pour le cas d'un résonateur 300 standard à deux bras 304. Par ailleurs, il est envisageable que le procédé selon la présente invention ne soit utilisé que pour réaliser un résonateur 300 à deux ou trois bras 304 ne présentant pas de gorges 310 sur l'un et/ou l'autre des bras 304. [0053] Advantageously, the method according to the present invention may not only be used to produce the grooves 310 of the arms 304 of the resonator 300. Indeed, since the method according to the present invention is precise and makes it possible to produce complex shapes, its use to produce the entire resonator 300 from a substrate is conceivable. This possibility of producing the entire resonator 300 with the method according to the present invention is advantageous because it makes it possible to shorten the duration of the method. The use of this method makes it possible to carry out, in a single step, the step of producing the contours and the step of producing the grooves 310 of the resonator 300. Of course, it will be understood that this way of doing things can also be used for the case of a standard resonator 300 with two arms 304. Furthermore, it is conceivable that the method according to the present invention is only used to produce a resonator 300 with two or three arms 304 not having grooves 310 on one and/or the other of the arms 304.

[0054] On peut aussi imaginer que le résonateur selon l'invention se présente sous la forme d'un résonateur balancier-spiral. Ce balancier spiral comprend un volant d'inertie appelé balancier sur lequel est monté coaxialement un ressort spiral. Le balancier comprend une masse annulaire appelée serge tenu par au moins deux bras et le ressort spiral comprend un corps 100 qui se présente sous la forme d'un barreau 5 enroulé sur lui même pour former un spiral 400 comme visible à la figure 11. Un tel spiral 400 peut être fabriqué en utilisant le procédé selon l'invention. Pour cela, les contours du spiral 400 sont dessinés sur un substrat en utilisant le laser (L) dont la durée des impulsions est de l'ordre de la femto-seconde ou picoseconde. L'étape de gravure chimique permet alors de désolidariser le spiral 400 du reste du substrat. [0054] It is also possible to imagine that the resonator according to the invention is in the form of a balance-spring resonator. This balance spring comprises a flywheel called a balance on which a spiral spring is coaxially mounted. The balance comprises an annular mass called a rim held by at least two arms and the spiral spring comprises a body 100 which is in the form of a bar 5 wound on itself to form a spiral 400 as visible in FIG. 11. Such a spiral 400 can be manufactured using the method according to the invention. For this, the contours of the spiral 400 are drawn on a substrate using the laser (L) whose pulse duration is of the order of a femtosecond or picosecond. The chemical etching step then makes it possible to separate the spiral 400 from the rest of the substrate.

[0055] L'avantage du procédé selon la présente invention est de permettre de réaliser précisément la forme désirée pour le spiral 400. Ce procédé permet également d'obtenir un spiral ayant des flancs droits sur la totalité de sa longueur c'est-à-dire avoir localement des flancs parallèles. Cela évite ainsi la présence de surplombs selon certaines orientations cristallographiques présentes après une technique classique de gravure chimique, et permet ainsi un meilleur équilibre du résonateur spiral. [0055] The advantage of the method according to the present invention is to make it possible to precisely produce the desired shape for the hairspring 400. This method also makes it possible to obtain a hairspring having straight flanks over its entire length, i.e. to have locally parallel flanks. This thus avoids the presence of overhangs according to certain crystallographic orientations present after a conventional chemical etching technique, and thus allows a better balance of the hairspring resonator.

[0056] Le procédé selon la présente invention permet également de faciliter le réglage du résonateur 300. En effet, les deux grandes caractéristiques d'un résonateur balancier-spiral sont la fréquence et l'isochronisme c'est-à-dire la capacité d'un résonateur 300 à avoir une durée des oscillations indépendantes de l'amplitude de celles-ci et de la position de la montre. Pour régler la fréquence et l'isochronisme d'un résonateur balancier-spiral, la modification locale de la rigidité du spiral est une solution. Pour se faire, la précision du procédé selon l'invention est utile car elle permet de réaliser des évidements 310 ou gorges ou baignoires le long des spires du résonateur spiral. Ces évidements ou gorges ou baignoires sont réalisés localement de sorte à diminuer localement la rigidité du résonateur et profitent des avantages de précision du procédé. Ces évidements 310 présentent au moins deux flancs droits, parallèles mais il est possible que les flancs soient parallèles deux à deux. Les flancs des évidements peuvent aussi être localement parallèles. [0056] The method according to the present invention also makes it easier to adjust the resonator 300. Indeed, the two major characteristics of a balance-spring resonator are the frequency and the isochronism, that is to say the capacity of a resonator 300 to have a duration of oscillations independent of the amplitude of these and of the position of the watch. To adjust the frequency and the isochronism of a balance-spring resonator, the local modification of the rigidity of the balance spring is a solution. To do this, the precision of the method according to the invention is useful because it makes it possible to produce recesses 310 or grooves or baths along the turns of the balance spring resonator. These recesses or grooves or baths are produced locally so as to locally reduce the rigidity of the resonator and benefit from the precision advantages of the method. These recesses 310 have at least two straight, parallel sides, but it is possible for the sides to be parallel two by two. The sides of the recesses can also be locally parallel.

[0057] On comprendra que diverses modifications et/ou améliorations et/ou combinaisons évidentes pour l'homme du métier peuvent être apportées aux différents modes de réalisation de l'invention exposée ci-dessus sans sortir du cadre de l'invention définie par les revendications annexées. [0057] It will be understood that various modifications and/or improvements and/or combinations obvious to those skilled in the art can be made to the different embodiments of the invention set out above without departing from the scope of the invention defined by the appended claims.

Claims (23)

1. Procédé de fabrication d'un résonateur dans un substrat (101, 300) réalisé en matériau transparent à la longueur d'onde d'un laser, caractérisé en ce qu'il comprend les étapes suivantes: a) modifier la structure d'au moins une zone du substrat par le laser (L), afin de rendre plus sélective ladite au moins une zone; b) graver ladite au moins une zone afin de sélectivement fabriquer ledit résonateur.1. Method for manufacturing a resonator in a substrate (101, 300) made of material transparent to the wavelength of a laser, characterized in that it comprises the following steps: a) modifying the structure of at least one zone of the substrate by the laser (L), in order to make said at least one zone more selective; b) etching said at least one zone in order to selectively manufacture said resonator. 2. Procédé de fabrication selon la revendication 1, caractérisé en ce qu'il comprend en outre l'étape : c) libérer le résonateur dudit substrat.2. Manufacturing method according to claim 1, characterized in that it further comprises the step: c) releasing the resonator from said substrate. 3. Procédé de fabrication selon la revendication 1 ou 2, caractérisé en ce que la durée des impulsions du laser (L) vont de la femtoseconde à la picoseconde.3. Manufacturing method according to claim 1 or 2, characterized in that the duration of the laser pulses (L) ranges from femtosecond to picosecond. 4. Procédé de fabrication selon l'une des revendications 1 à 3, caractérisé en ce que le substrat est réalisé en matériau monocristallin.4. Manufacturing method according to one of claims 1 to 3, characterized in that the substrate is made of monocrystalline material. 5. Procédé de fabrication selon l'une des revendications 1 à 3, caractérisé en ce que le substrat est réalisé en matériau polycristallin.5. Manufacturing method according to one of claims 1 to 3, characterized in that the substrate is made of polycrystalline material. 6. Procédé de fabrication selon l'une des revendications 1 à 3, caractérisé en ce que le substrat est réalisé en polymère.6. Manufacturing method according to one of claims 1 to 3, characterized in that the substrate is made of polymer. 7. Procédé de fabrication selon l'une des revendications 1 à 3, caractérisé en ce que le substrat est réalisé en un matériau amorphe comme une céramique ou un verre.7. Manufacturing method according to one of claims 1 to 3, characterized in that the substrate is made of an amorphous material such as a ceramic or a glass. 8. Procédé selon l'une des revendications 1 à 7, caractérisé en ce que le résonateur (300) comprend une base (302) à partir de laquelle s'étendent au moins deux bras parallèles (304) présentant chacun une face supérieure (314) et une face inférieure (316) et comprenant en outre au moins un évidement (310) réalisé sur l'une des faces de l'un des au moins deux bras parallèles (304).8. Method according to one of claims 1 to 7, characterized in that the resonator (300) comprises a base (302) from which extend at least two parallel arms (304) each having an upper face (314) and a lower face (316) and further comprising at least one recess (310) made on one of the faces of one of the at least two parallel arms (304). 9. Procédé selon la revendication 8, caractérisé en ce que ledit au moins un évidement (310) se présente sous la forme d'une gorge ayant au moins un de ses flancs (312) vertical.9. Method according to claim 8, characterized in that said at least one recess (310) is in the form of a groove having at least one of its sides (312) vertical. 10. Procédé selon les revendications 8 ou 9, caractérisé en ce que ledit résonateur comprend un évidement (310) par bras.10. Method according to claims 8 or 9, characterized in that said resonator comprises a recess (310) per arm. 11. Procédé selon les revendications 8 ou 9, caractérisé en ce que ledit résonateur comprend un évidement (310) sur la face supérieure (314) de chaque bras et un évidement (310) sur la face inférieure (316) de chaque bras (304).11. Method according to claims 8 or 9, characterized in that said resonator comprises a recess (310) on the upper face (314) of each arm and a recess (310) on the lower face (316) of each arm (304). 12. Procédé selon les revendications 8 ou 9, caractérisé en ce que ledit résonateur comprend deux évidements (310) par bras.12. Method according to claims 8 or 9, characterized in that said resonator comprises two recesses (310) per arm. 13. Procédé selon les revendications 8 ou 9, caractérisé en ce que ledit résonateur comprend deux évidements (310) sur la face supérieure de chaque bras et deux évidements (310) sur la face inférieure de chaque bras.13. Method according to claims 8 or 9, characterized in that said resonator comprises two recesses (310) on the upper face of each arm and two recesses (310) on the lower face of each arm. 14. Résonateur (300) obtenu par le procédé selon la revendication 1, comprenant une base (302) à partir de laquelle s'étendent au moins deux bras parallèles (304) présentant chacun une face supérieure (314) et une face inférieure (316) et au moins un groupe d'électrodes situé sur un des au moins deux bras parallèles (304) pour exciter électriquement ledit au moins deux bras parallèles (304), caractérisé en ce qu'il comprend au moins deux flancs (312) parallèles droits et verticaux.14. Resonator (300) obtained by the method according to claim 1, comprising a base (302) from which extend at least two parallel arms (304) each having an upper face (314) and a lower face (316) and at least one group of electrodes located on one of the at least two parallel arms (304) to electrically excite said at least two parallel arms (304), characterized in that it comprises at least two straight and vertical parallel flanks (312). 15. Résonateur selon la revendication 14, caractérisé en ce que l'une des faces de l'un des au moins deux bras parallèles (304) comprend au moins un évidement (310) se présentant sous la forme d'une gorge présentant des flancs (312) verticaux.15. Resonator according to claim 14, characterized in that one of the faces of one of the at least two parallel arms (304) comprises at least one recess (310) in the form of a groove having vertical sides (312). 16. Résonateur selon la revendication 15, caractérisé en ce que ledit résonateur comprend un évidement (310) par bras.16. Resonator according to claim 15, characterized in that said resonator comprises a recess (310) per arm. 17. Résonateur selon la revendication 15, caractérisé en ce que ledit résonateur comprend un évidement (310) sur la face supérieure de chaque bras et un évidement (310) sur la face inférieure de chaque bras.17. Resonator according to claim 15, characterized in that said resonator comprises a recess (310) on the upper face of each arm and a recess (310) on the lower face of each arm. 18. Résonateur selon la revendication 15, caractérisé en ce que ledit résonateur comprend deux évidements (310) par bras.18. Resonator according to claim 15, characterized in that said resonator comprises two recesses (310) per arm. 19. Résonateur selon la revendication 15, caractérisé en ce que ledit résonateur comprend deux évidements (310) sur la face supérieure de chaque bras et deux évidements (310) sur la face inférieure de chaque bras.19. Resonator according to claim 15, characterized in that said resonator comprises two recesses (310) on the upper face of each arm and two recesses (310) on the lower face of each arm. 20. Résonateur selon l'une des revendications 15 à 19, caractérisé en ce que les évidements comprennent une saillie (315) qui permet d'optimiser les champs électriques, tout en augmentant les tolérances d'alignement.20. Resonator according to one of claims 15 to 19, characterized in that the recesses comprise a projection (315) which makes it possible to optimize the electric fields, while increasing the alignment tolerances. 21. Résonateur (300) obtenu par le procédé selon la revendication 1, comprenant un volant d'inertie couplé à un corps (100) formant un barreau enroulé sur lui-même pour former un spiral caractérisé en ce que ledit corps comprend au moins un évidement (310) pour modifier localement la rigidité et ainsi ajuster la fréquence du résonateur et/ou régler le défaut d'isochronisme.21. Resonator (300) obtained by the method according to claim 1, comprising a flywheel coupled to a body (100) forming a bar wound on itself to form a spiral characterized in that said body comprises at least one recess (310) to locally modify the rigidity and thus adjust the frequency of the resonator and/or adjust the isochronism defect. 22. Résonateur (300) selon la revendication 21, caractérisé en ce que ledit au moins un évidement comprend au moins deux flans parallèles et verticaux.22. Resonator (300) according to claim 21, characterized in that said at least one recess comprises at least two parallel and vertical sides. 23. Résonateur selon la revendication 21 ou 22, caractérisé en ce que ledit corps est réalisé quartz ou céramique ou verre et en ce qu'il comprend des flancs localement parallèles et verticaux sur tout la longueur dudit corps.23. Resonator according to claim 21 or 22, characterized in that said body is made of quartz or ceramic or glass and in that it comprises locally parallel and vertical sides over the entire length of said body.
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