NL191186C - Fotometrische inrichting voor meting van de dikte van een laag op een substraat. - Google Patents

Fotometrische inrichting voor meting van de dikte van een laag op een substraat.

Info

Publication number: NL191186C
Authority: NL; Netherlands
Prior art keywords: measuring; substrate; thickness; layer; photometric device
Prior art date: 1981-09-08

Application number

NL8203211A

Other languages

English (en)

Other versions

NL8203211A (nl

NL191186B (nl

Original Assignee

Leybold Ag

Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)

1981-09-08

Filing date

1982-08-16

Publication date

1995-03-01

1982-08-16 Application filed by Leybold Ag filed Critical Leybold Ag

1983-04-05 Publication of NL8203211A publication Critical patent/NL8203211A/nl

1994-10-03 Publication of NL191186B publication Critical patent/NL191186B/nl

1995-03-01 Application granted granted Critical

1995-03-01 Publication of NL191186C publication Critical patent/NL191186C/nl

Classifications

- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
- G01B11/06—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material
- G01B11/0616—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating
- G01B11/0625—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating with measurement of absorption or reflection
- G01B11/0633—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating with measurement of absorption or reflection using one or more discrete wavelengths

Landscapes

Physics & Mathematics (AREA)
General Physics & Mathematics (AREA)
Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

NL8203211A 1981-09-08 1982-08-16 Fotometrische inrichting voor meting van de dikte van een laag op een substraat. NL191186C (nl)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number	Priority Date	Filing Date	Title
DE3135443		1981-09-08
DE19813135443 DE3135443A1 (de)	1981-09-08	1981-09-08	Verfahren und fotometrische anordnung zur dickenmessung und -steuerung optisch wirksamer schichten

Publications (3)

Publication Number	Publication Date
NL8203211A NL8203211A (nl)	1983-04-05
NL191186B NL191186B (nl)	1994-10-03
NL191186C true NL191186C (nl)	1995-03-01

Family

ID=6141084

Family Applications (1)

Application Number	Title	Priority Date	Filing Date
NL8203211A NL191186C (nl)	1981-09-08	1982-08-16	Fotometrische inrichting voor meting van de dikte van een laag op een substraat.

Country Status (9)

Country	Link
US (1)	US4469713A (nl)
JP (2)	JPS5855706A (nl)
CA (1)	CA1203598A (nl)
CH (1)	CH669662A5 (nl)
DE (1)	DE3135443A1 (nl)
FR (1)	FR2512545B1 (nl)
GB (1)	GB2105461B (nl)
NL (1)	NL191186C (nl)
SU (1)	SU1584759A3 (nl)

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number	Priority date	Publication date	Assignee	Title
US4643910A (en) *	1985-04-01	1987-02-17	Motorola Inc.	Process for curing polyimide
EP0290657A1 (de) *	1987-05-15	1988-11-17	KSB Aktiengesellschaft	Verfahren und Vorrichtung zur Messung der optischen Eigenschaften von dünnen Schichten
US4837044A (en) *	1987-01-23	1989-06-06	Itt Research Institute	Rugate optical filter systems
JPH02257929A (ja) *	1989-03-09	1990-10-18	Makutaa Kk	生体透過率測定器
US5101111A (en) *	1989-07-13	1992-03-31	Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd.	Method of measuring thickness of film with a reference sample having a known reflectance
US5009485A (en) *	1989-08-17	1991-04-23	Hughes Aircraft Company	Multiple-notch rugate filters and a controlled method of manufacture thereof
NL9000323A (nl) *	1990-02-12	1991-09-02	Philips & Du Pont Optical	Werkwijze voor het vanuit een metalliseringsvloeistof stroomloos neerslaan van een metaallaag op een vlak voorwerp.
US5384153A (en) *	1993-03-10	1995-01-24	At&T Corp.	Monitoring electroless plating baths
EP0665577A1 (en) *	1994-01-28	1995-08-02	Applied Materials, Inc.	Method and apparatus for monitoring the deposition rate of films during physical vapour deposition
DE19522188C2 (de) *	1995-06-19	1999-12-02	Optisense Ges Fuer Optische Pr	Verfahren und Vorrichtung zur Bestimmung der Dicke und/oder des komplexen Brechungsindexes dünner Schichten und Verwendung zur Steuerung von Beschichtungsverfahren
US6630998B1 (en)	1998-08-13	2003-10-07	Acushnet Company	Apparatus and method for automated game ball inspection
US6052176A (en) *	1999-03-31	2000-04-18	Lam Research Corporation	Processing chamber with optical window cleaned using process gas
US20040046969A1 (en) *	2002-09-10	2004-03-11	Honeywell International Inc.	System and method for monitoring thin film deposition on optical substrates
EP1664381A1 (en) *	2003-09-19	2006-06-07	Applied Materials, Inc.	Apparatus and method of detecting the electroless deposition endpoint
US9013450B1 (en) *	2003-11-03	2015-04-21	Imaging Systems Technology, Inc.	IR touch
US20060062897A1 (en) *	2004-09-17	2006-03-23	Applied Materials, Inc	Patterned wafer thickness detection system
DE102005008889B4 (de) *	2005-02-26	2016-07-07	Leybold Optics Gmbh	Optisches Monitoringsystem für Beschichtungsprozesse
FR2902514A1 (fr) *	2006-06-15	2007-12-21	Sidel Sas	Procede pour controler l'epaisseur d'un revetement sur un substrat

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number	Priority date	Publication date	Assignee	Title
GB1404573A (en) *	1971-07-26	1975-09-03	Vickers Ltd	Sensing of liquids on surfaces
US3773548A (en) *	1972-01-27	1973-11-20	Optical Coating Laboratory Inc	Method of monitoring the rate of depositing a coating solely by its optical properties
DE2220230C3 (de) *	1972-04-25	1975-01-16	Labtronic Ag Gesellschaft Fuer Klinischelabortechnik, Zuerich (Schweiz)	Schaltung zum automatischen Nullabgleich für ein Phonometer zur digitalen Anzeige der Lichtabsorption einer Messprobe
DE2300922A1 (de) *	1973-01-09	1974-07-18	Fischer Gmbh & Co Helmut	Einrichtung zur optisch elektronischen messung der schichtdicke von farben
DE2412729C3 (de) *	1974-03-16	1982-04-29	Leybold-Heraeus GmbH, 5000 Köln	Verfahren und Anordnung zur Regelung der Verdampfungsrate und des Schichtaufbaus bei der Erzeugung optisch wirksamer Dünnschichten
US4135006A (en) *	1974-07-29	1979-01-16	United States Steel Corporation	Automatic coating weight controls for automatic coating processes
US4024291A (en) *	1975-06-17	1977-05-17	Leybold-Heraeus Gmbh & Co. Kg	Control of vapor deposition
DE2627753C2 (de) *	1976-06-21	1983-09-01	Leybold-Heraeus GmbH, 5000 Köln	Anordnung zur Dickenmessung und -steuerung optisch wirksamer Dünnschichten
GB1594710A (en) *	1977-12-21	1981-08-05	Lippke Gmbh Co Kg Paul	Manufacture of films of plastics material
JPS5535214A (en) *	1978-09-04	1980-03-12	Asahi Chem Ind Co Ltd	Method and device for film-thickness measurement making use of infrared-ray interference
DE2913879C2 (de) *	1979-04-06	1982-10-28	Frieseke & Hoepfner Gmbh, 8520 Erlangen	Verfahren zur Regelung der Dicke von laufenden Meßgutbahnen

1981
- 1981-09-08 DE DE19813135443 patent/DE3135443A1/de active Granted
1982
- 1982-07-16 CH CH4339/82A patent/CH669662A5/de not_active IP Right Cessation
- 1982-08-16 NL NL8203211A patent/NL191186C/nl not_active IP Right Cessation
- 1982-08-23 SU SU823482210A patent/SU1584759A3/ru active
- 1982-08-25 US US06/411,238 patent/US4469713A/en not_active Expired - Lifetime
- 1982-09-07 GB GB08225491A patent/GB2105461B/en not_active Expired
- 1982-09-07 CA CA000410882A patent/CA1203598A/en not_active Expired
- 1982-09-08 JP JP57155296A patent/JPS5855706A/ja active Granted
- 1982-09-08 FR FR8215245A patent/FR2512545B1/fr not_active Expired
1990
- 1990-05-28 JP JP2135534A patent/JPH03135703A/ja active Granted

Also Published As

Publication number	Publication date
NL8203211A (nl)	1983-04-05
JPS5855706A (ja)	1983-04-02
JPH03135703A (ja)	1991-06-10
NL191186B (nl)	1994-10-03
FR2512545A1 (fr)	1983-03-11
US4469713A (en)	1984-09-04
JPH0439004B2 (nl)	1992-06-26
DE3135443C2 (nl)	1988-09-15
JPH0318121B2 (nl)	1991-03-11
CH669662A5 (nl)	1989-03-31
GB2105461A (en)	1983-03-23
GB2105461B (en)	1985-09-25
CA1203598A (en)	1986-04-22
DE3135443A1 (de)	1983-03-24
SU1584759A3 (ru)	1990-08-07
FR2512545B1 (fr)	1986-12-26

Similar Documents

Publication	Publication Date	Title
NL191186C (nl)	1995-03-01	Fotometrische inrichting voor meting van de dikte van een laag op een substraat.
NL194832B (nl)	2002-12-02	Werkwijze voor het vormen van een dunne-halfgeleiderfilm.
NL190419C (nl)	1994-02-16	Inrichting voor het opbrengen van een parti le oppervlaktebekleding.
NL190645B (nl)	1994-01-03	Werkwijze voor het vormen van een beschermende diffussielaag.
NL190671C (nl)	1994-06-16	Inrichting voor het meten van een oppervlaktetemperatuur.
NL191267C (nl)	1995-04-18	Inrichting voor het met plasma bewerken van een substraat.
NL191241B (nl)	1994-11-01	Kleefvel voor halfgeleiders.
NL8007022A (nl)	1981-08-03	Pijpplaat; werkwijze voor het vervaardigen van een pijpplaat.
AU8559882A (en)	1983-01-13	Multilayer element for ligand assay
ES509573A0 (es)	1983-02-01	Perfeccionamientos en un aparato para la sublimacion catodica de peliculas delgadas de un material de recubrimiento sobre substratos.
BR8206297A (pt)	1983-09-20	Pelicula de camadas multiplas
ES503068A0 (es)	1983-02-01	Un procedimiento y su aparato correspondiente para la metalizacion ionica de un sustrato.
DE69011956D1 (de)	1994-10-06	An der Oberfläche poröser Film.
NL188550C (nl)	1992-07-16	Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleidersubstraat.
NL191639B (nl)	1995-07-17	Inrichting voor de contactvrije meting van de snelheid van een bewegend medium.
MX162167A (es)	1991-04-04	Metodo mejorado para revestir un substrato con una pelicula de multiisocianato-fenolico
MX163517B (es)	1992-05-25	Deteccion de la presencia de un revestimiento sobre un substrato
NL190983C (nl)	1994-12-01	Inrichting voor het aanhechten van labelpennen.
NL190907B (nl)	1994-05-16	Werkwijze voor het uitvoeren van een stereofotogrammetrische meting.
NL7700641A (nl)	1977-07-26	Werkwijze voor het aanbrengen van een bekleding voor halfgeleidersubstraten.
NL7706712A (nl)	1977-12-23	Inrichting voor het meten en regelen van de dikte val een laag.
NL174281B (nl)	1983-12-16	Inrichting voor het opnemen van een laag elementen met een cilindrisch opneemorgaan, waarvan een, als klep uitgevoerd gedeelte de elementen opneemt.
NL179301C (nl)	1986-08-18	Werkwijze voor het vormen van een aanhechtend metaaloppervlak op een substraat.
NL7710607A (nl)	1978-03-31	Werkwijze voor de vervaardiging van een laag met een structuur op een substraat.
BE888841A (nl)	1981-11-19	Stelsel voor het meten van de wanddikte van een meetobject.

Legal Events

Date	Code	Title	Description
1985-01-01	A85	Still pending on 85-01-01
1989-09-01	BA	A request for search or an international-type search has been filed
1989-09-01	BB	A search report has been drawn up
1990-02-01	BC	A request for examination has been filed
1990-06-18	CNR	Transfer of rights (patent application after its laying open for public inspection)	Free format text: LEYBOLD AKTIENGESELLSCHAFT TE HANAU A.D. MAIN
1997-05-01	TNT	Modifications of names of proprietors of patents or applicants of examined patent applications	Owner name: BALZERS UND LEYBOLD DEUTSCHLAND HOLDING AKTIENGESE
2002-10-01	V4	Discontinued because of reaching the maximum lifetime of a patent	Free format text: 20020816