[go: up one dir, main page]
More Web Proxy on the site http://driver.im/

NL168279C - Werkwijze en inrichting voor het vormen van een epitaxiale laag. - Google Patents

Werkwijze en inrichting voor het vormen van een epitaxiale laag.

Info

Publication number
NL168279C
NL168279C NLAANVRAGE7511096,A NL7511096A NL168279C NL 168279 C NL168279 C NL 168279C NL 7511096 A NL7511096 A NL 7511096A NL 168279 C NL168279 C NL 168279C
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
forming
epitaxial layer
epitaxial
layer
Prior art date
Application number
NLAANVRAGE7511096,A
Other languages
English (en)
Other versions
NL7511096A (nl
NL168279B (nl
Original Assignee
Max Planck Gesellschaft
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Max Planck Gesellschaft filed Critical Max Planck Gesellschaft
Publication of NL7511096A publication Critical patent/NL7511096A/nl
Publication of NL168279B publication Critical patent/NL168279B/nl
Application granted granted Critical
Publication of NL168279C publication Critical patent/NL168279C/nl

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C30—CRYSTAL GROWTH
    • C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B19/00—Liquid-phase epitaxial-layer growth
    • C30B19/06—Reaction chambers; Boats for supporting the melt; Substrate holders
    • C30B19/066—Injection or centrifugal force system

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
NLAANVRAGE7511096,A 1974-09-20 1975-09-19 Werkwijze en inrichting voor het vormen van een epitaxiale laag. NL168279C (nl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE742445146A DE2445146C3 (de) 1974-09-20 1974-09-20 Verfahren und Vorrichtung zur Ausbildung epitaktischer Schichten

Publications (3)

Publication Number Publication Date
NL7511096A NL7511096A (nl) 1976-03-23
NL168279B NL168279B (nl) 1981-10-16
NL168279C true NL168279C (nl) 1982-03-16

Family

ID=5926387

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NLAANVRAGE7511096,A NL168279C (nl) 1974-09-20 1975-09-19 Werkwijze en inrichting voor het vormen van een epitaxiale laag.

Country Status (6)

Country Link
US (1) US4373988A (nl)
JP (1) JPS582200B2 (nl)
DE (1) DE2445146C3 (nl)
FR (1) FR2285714A1 (nl)
GB (1) GB1519478A (nl)
NL (1) NL168279C (nl)

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH629034A5 (de) * 1978-03-31 1982-03-31 Ibm Vorrichtung zum herstellen mehrschichtiger halbleiterelemente mittels fluessigphasen-epitaxie.
DE2842605C2 (de) * 1978-09-29 1983-12-08 Georg Dr. 8521 Langensendelbach Müller Verfahren zum Herstellen von Kristallen hoher Kristallgüte
JPS58188792A (ja) * 1982-04-30 1983-11-04 Sanshin Ind Co Ltd 船外機等のプロペラ組立体
US4597823A (en) * 1983-09-12 1986-07-01 Cook Melvin S Rapid LPE crystal growth
FR2566808B1 (fr) * 1984-06-27 1986-09-19 Mircea Andrei Procede et reacteur de croissance epitaxiale en phase vapeur
EP0220462B1 (en) * 1985-09-24 1990-09-19 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Method of synthesizing cubic system boron nitride
US5326716A (en) * 1986-02-11 1994-07-05 Max Planck-Gesellschaft Zur Foerderung Der Wissenschaften E.V. Liquid phase epitaxial process for producing three-dimensional semiconductor structures by liquid phase expitaxy
US4717688A (en) * 1986-04-16 1988-01-05 Siemens Aktiengesellschaft Liquid phase epitaxy method
US6375741B2 (en) 1991-03-06 2002-04-23 Timothy J. Reardon Semiconductor processing spray coating apparatus
US6099702A (en) * 1998-06-10 2000-08-08 Novellus Systems, Inc. Electroplating chamber with rotatable wafer holder and pre-wetting and rinsing capability
US6716334B1 (en) 1998-06-10 2004-04-06 Novellus Systems, Inc Electroplating process chamber and method with pre-wetting and rinsing capability
DE10241703A1 (de) * 2002-09-09 2004-03-18 Vishay Semiconductor Gmbh Reaktor und Verfahren zur Flüssigphasenepitaxie
US8668422B2 (en) 2004-08-17 2014-03-11 Mattson Technology, Inc. Low cost high throughput processing platform
KR20130079489A (ko) * 2010-07-28 2013-07-10 시너스 테크놀리지, 인코포레이티드 기판상에 막을 증착하기 위한 회전 반응기 조립체

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1353571A (en) * 1914-06-27 1920-09-21 Elektrochemische Werke Gmbh Method of and apparatus for forming large crystals
US2459869A (en) * 1946-08-10 1949-01-25 Bell Telephone Labor Inc Crystal growing apparatus
US3335084A (en) * 1964-03-16 1967-08-08 Gen Electric Method for producing homogeneous crystals of mixed semiconductive materials
US3697330A (en) * 1970-03-27 1972-10-10 Sperry Rand Corp Liquid epitaxy method and apparatus
FR2086578A5 (nl) * 1970-04-02 1971-12-31 Labo Electronique Physique
US3713883A (en) * 1970-05-27 1973-01-30 Western Electric Co Method of and apparatus for growing crystals from a solution
US3873463A (en) * 1972-02-23 1975-03-25 Philips Corp Method of and device for manufacturing substituted single crystals
JPS4896461A (nl) * 1972-03-24 1973-12-10
JPS4951180A (nl) * 1972-09-19 1974-05-17
US3913212A (en) * 1972-12-15 1975-10-21 Bell Telephone Labor Inc Near-infrared light emitting diodes and detectors employing CdSnP{HD 2{B :InP heterodiodes

Also Published As

Publication number Publication date
NL7511096A (nl) 1976-03-23
DE2445146A1 (de) 1976-04-01
DE2445146B2 (de) 1978-07-13
FR2285714A1 (fr) 1976-04-16
NL168279B (nl) 1981-10-16
DE2445146C3 (de) 1979-03-08
US4373988A (en) 1983-02-15
FR2285714B1 (nl) 1978-09-29
JPS582200B2 (ja) 1983-01-14
JPS5157162A (en) 1976-05-19
GB1519478A (en) 1978-07-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL7513642A (nl) Bandverbinding en werkwijze en inrichting voor het vormen daarvan.
NL176344C (nl) Werkwijze en inrichting voor het bedrukken van voorwerpen.
NL173132C (nl) Werkwijze en inrichting voor het vormen van voedselpasteitjes.
NL7408036A (nl) Werkwijze en inrichting voor het afkoelen van een gas.
NL172147B (nl) Werkwijze voor het bereiden van dialkyloxalaten.
NL180810C (nl) Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van samengestelde profielen.
NL7506211A (nl) Werkwijze en inrichting voor het capitonneren.
NL168279C (nl) Werkwijze en inrichting voor het vormen van een epitaxiale laag.
NL7509039A (nl) Werkwijze en inrichting voor het beproeven van gelijkstroommotoren.
NL168043C (nl) Werkwijze voor het bereiden van superfluide helium, en inrichting voor het uitvoeren van de werkwijze.
NL7514436A (nl) Werkwijze en inrichting voor het samenvoegen van damwand.
NL7409107A (nl) Werkwijze en inrichting voor het inslijpen van groeven.
NL7506879A (nl) Fotografische werkwijze, informatiedrager verkre- gen met de werkwijze en inrichting voor het uit- voeren van de werkwijze.
NL7408819A (nl) Werkwijze voor het bereiden van cycloolefines.
NL7500339A (nl) Werkwijze en inrichting voor het bewerken van .
NL7411498A (nl) Werkwijze en inrichting voor het bereiden van infuusdranken.
NL7502738A (nl) Werkwijze voor het uitvoeren van elektrolyse alsmede inrichting voor het toepassen van deze werkwijze.
NL7506609A (nl) Werkwijze voor het bereiden van een middel tegen hypercholesterolemie.
NL7710768A (nl) Werkwijze en inrichting voor het bereiden van alkanolamine.
NL7401406A (nl) Werkwijze en inrichting voor het bereiden van s.
NL183254C (nl) Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van belichte drukplaten.
NL7501309A (nl) Werkwijze en inrichting voor het bereiden van .
NL7410693A (nl) Synchronisatiewerkwijze en inrichting voor het uitvoeren van deze werkwijze.
NL176064B (nl) Werkwijze voor het polymeriseren van chloorcyclofosfazenen.
NL7509815A (nl) Werkwijze en inrichting voor het inleggen van band.

Legal Events

Date Code Title Description
V1 Lapsed because of non-payment of the annual fee
V4 Discontinued because of reaching the maximum lifetime of a patent