NL1036343C2 - Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van een optische voorvorm. - Google Patents
Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van een optische voorvorm. Download PDFInfo
- Publication number
- NL1036343C2 NL1036343C2 NL1036343A NL1036343A NL1036343C2 NL 1036343 C2 NL1036343 C2 NL 1036343C2 NL 1036343 A NL1036343 A NL 1036343A NL 1036343 A NL1036343 A NL 1036343A NL 1036343 C2 NL1036343 C2 NL 1036343C2
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- substrate tube
- flow
- hollow
- stream
- gas stream
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
- C03B37/01807—Reactant delivery systems, e.g. reactant deposition burners
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
- C03B37/01807—Reactant delivery systems, e.g. reactant deposition burners
- C03B37/01815—Reactant deposition burners or deposition heating means
- C03B37/01823—Plasma deposition burners or heating means
- C03B37/0183—Plasma deposition burners or heating means for plasma within a tube substrate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C16/045—Coating cavities or hollow spaces, e.g. interior of tubes; Infiltration of porous substrates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
- C23C16/40—Oxides
- C23C16/401—Oxides containing silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
- C23C16/45561—Gas plumbing upstream of the reaction chamber
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
- C03B37/01807—Reactant delivery systems, e.g. reactant deposition burners
- C03B37/01815—Reactant deposition burners or deposition heating means
- C03B37/01823—Plasma deposition burners or heating means
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T137/00—Fluid handling
- Y10T137/8593—Systems
- Y10T137/87265—Dividing into parallel flow paths with recombining
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Description
» .
Korte aanduiding: Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van een optische voorvorm.
De onderhavige uitvinding heeft betrekking op een werkwijze voor 5 het door middel van een inwendig dampdepositieproces vervaardigen van een optische voorvorm, welke werkwijze de volgende stappen omvat: i) het verschaffen van een holle glazen substraatbuis, ii) het aan het inwendige van de holle glazen substraatbuis toevoeren van van doteringen voorziene, glasvormende gassen, waarbij de toevoer 10 een hoofdgasstroom en een of meer nevengasstromen omvat, waarbij de hoofdgasstroom hoofdzakelijk de glasvormende gassen omvat en de een of meer nevengasstromen hoofdzakelijk dotering(en) omvatten, iii) het in het inwendige van de holle glazen substraatbuis tot stand brengen van zodanige omstandigheden dat depositie van glaslagen op het 15 inwendige van de holle glazen substraatbuis optreedt, en het eventueel iv) aan een collapse-handeling onderwerpen van de aldus verkregen substraatbuis ter vorming van een massieve voorvorm. Verder heeft de onderhavige uitvinding betrekking op een inrichting voor het toevoeren van gassen aan het inwendige van een holle glazen substraatbuis, welke holle glazen 20 substraatbuis geschikt is voor het daaruit verkrijgen van een optische voorvorm, welke optische voorvorm geschikt is voor het daaruit trekken van een optische vezel, waarbij in voornoemde inrichting sprake is van een toevoer, omvattende een hoofdgasstroom en een of meer nevengasstromen, waarbij de hoofdgasstroom hoofdzakelijk de glasvormende gassen omvat en de een of meer nevengasstromen 25 hoofdzakelijk dotering(en) omvatten. Dergelijke nevengasstromen omvatten naast dotering(en) veelal dragergassen.
Onder toepassing van de onderhavige uitvinding worden voorvormen voor optische vezels onder toepassing van een inwendige chemische dampdepositietechniek (CVD) gevormd, waarbij aan de binnenzijde van een holle 30 glazen substraatbuis al of niet van doteringen voorziene glaslagen worden afgezet. Voor het tot stand brengen van een dergelijke depositie worden reactieve gassen aan één zijde, te weten de toevoerzijde, van de substraatbuis toegevoerd en vormen ten gevolge van bijzondere procesomstandigheden een glaslaag op het inwendige 1036343
» I
2 van de substraatbuis. Voor de vorming van een glaslaag wordt een energiebron over een bepaalde lengte van de substraatbuis heen en weer bewogen. De energiebron, in het bijzonder een piasmagenerator, voert hoogfrequente energie toe waardoor een plasma in het inwendige van de substraatbuis wordt opgewekt, onder welke 5 plasma-omstandigheden de reactieve glasvormende gassen zullen reageren (de plasma-CVD-techniek). Het is echter ook mogelijk dat de energie door middel van warmte, in het bijzonder door branders, aan de buitenzijde van de substraatbuis of via een oven, die de substraatbuis omringt, wordt toegevoerd. Deze hiervoor genoemde technieken hebben als overeenkomst dat de energiebron ten opzichte 10 van de substraatbuis heen en weer wordt bewogen.
Een nadeel van de hiervoor omschreven technieken is dat door het heen en weer bewegen van de energiebron er ter hoogte van de omkeerpunten afwijkingen in de door depositie gevormde lagen op het inwendige van de glazen substraatbuis kunnen ontstaan. Dergelijke afwijkingen worden “taper" genoemd, 15 waarbij verder een onderscheid wordt gemaakt in geometrische taper en optische taper. Onder geometrische taper wordt verstaan dat de dikte van de totale depositie, te weten alle glaslagen, over de lengte van de buis niet constant is. Onder optische taper wordt verstaan dat de optische eigenschappen, over de lengte van de optische voorvorm, niet constant zijn en dat derhalve de optische eigenschappen van de uit 20 een dergelijke voorvorm verkregen optische vezels ook niet constant zijn. Optische taper is hoofdzakelijk bepaald door afwijkingen in de brekingsindex, of brekingsindex-profielen, over de lengte van de voorvorm. Voor een goede beheersing van de optische eigenschappen van de te vervaardigen optische vezels is, naast een goede beheersing van de geometrische taper, het gewenst dat de 25 afwijkingen in het longitudinale brekingsindexprofiel zo gering mogelijk zijn over een zo groot mogelijke lengte van de voorvorm. Van depositieprocessen is het bekend dat de lengte van de aan beide uiteinden van de substraatbuis gelegen depositiezones ook wel “end tapers” genoemd, ongeveer 15% van de totale lengte van de substraatbuis kunnen vormen. Een dergelijke “taper” zorgt voor een axiale 30 niet-uniforme dwarsdoorsnede van de kern. In het bijzonder vormt de taper een gebied waarin de optische en/of geometrische eigenschappen van de voorvorm niet uniform zijn. Deze niet-uniformiteit zal voor een degradatie in transmissiekwaliteiten van de optische vezel zorgen. Derhalve wordt voor het vervaardigen van een I * 3 optische vezel het gebruik van dergelijke “taper” gebieden in de voorvorm tot een minimum beperkt. Aangezien dergelijke “taper" gebieden een aanzienlijk lengtedeel van de voorvormbuis vormen, is de totale vezellengte, die uit een voorvorm kan worden verkregen, enigszins beperkt.
5 Het nadeel van taper is aldus dat de nuttige lengte van de voorvorm beperkt is, hetgeen betekent dat een geringere hoeveelheid optische vezel uit één voorvorm kan worden verkregen. Daarnaast kunnen de eigenschappen van een optische vezel ten gevolge van taper over de lengte van de vezel niet constant zijn. Constante optische eigenschappen van een vezel zijn voor een vezelfabrikant van 10 belang omdat er bepaalde garanties door de fabrikant dienen te worden verschaft met betrekking tot het afgegeven productcertificaat, waarbij in principe elk afzonderlijk deel van de optische vezel altijd dient te voldoen aan de afgegeven specificatie, in het bijzonder wanneer de optische eigenschappen door bijvoorbeeld de gebruiker worden nagemeten.
15 Het Amerikaans octrooischrift 4.445.918 heeft betrekking op een methode ter vervaardiging van optische voorvormen van verlaagd waterstofgehalte, waarbij volgens de daarin van toepassing zijnde MCVD (Modified Chemical Vapor Deposition) techniek deuterium aan dragergas wordt toegevoerd, waarbij het dragergas zuurstof is en een of meer glasvormende gassen, eventueel verrijkt met 20 doteermiddelen, bevat.
Het Amerikaans octrooischrift 5.504.829 heeft betrekking op een methode ter vervaardiging van een voorvorm, waarbij op een mandrel een aantal glaslagen wordt afgezet onder toepassing van door flow controllers samengestelde gasmengsels, omvattende SiCI4, GeCI4 en 02.
25 De Japanse octrooipublicatie JP 59 121129 heeft betrekking op het op het inwendige oppervlak van kwartsbuizen aanbrengen van glaslagen, waarbij een fijn poeder onder invloed van een inert gas, zoals argon, in het inwendige van kwartsbuizen wordt verstoven.
De Amerikaanse octrooiaanvrage US 2003/0084685 heeft 30 betrekking op een methode ter vervaardiging van een optische voorvorm, waarbij volgens het MCVD (Modified Chemical Vapor Deposition) proces glaslagen op het inwendige van de holle substraatbuis worden afgezet. Voornoemde Amerikaanse octrooiaanvrage ziet met name toe op het in de aldus af te zetten glaslagen
* I
4 inbouwen van deuteroxylgroepen (OD), verkregen uit dampstromen van zwaar water (D20) om aldus voorvormen te verkrijgen die de beschikking hebben over een gereduceerd verlies na blootstelling aan waterstof en/of water.
Het Amerikaans octrooischrift 4.816.050 heeft betrekking op een 5 methode ter vervaardiging van een voorvorm, waarbij de uitwendige diameter van de holle substraatbuis continu wordt gemeten, welke aldus gemeten waarde wordt toegepast voor het mogelijk aanpassen van de aan de holle substraatbuis toegevoerde gasstroom.
Het Amerikaanse octrooischrift 4.741.747 heeft betrekking op een 10 methode voor het vervaardigen van optische vezels, waarbij het reduceren van zogenaamde eindtaper is beoogd door het plasma in het gebied van het omkeerpunt niet-lineair als functie van de tijd te verplaatsen en/of door de intensiteit van het plasma over de lengte van de glazen buis te variëren.
Het Amerikaans octrooischrift 4.857.091 heeft betrekking op een 15 methode ter vervaardiging van optische vezels, waarbij een aantal parameters is genoemd die de axiale positie van de lokale depositiezone met betrekking tot de piasmagenerator beïnvloeden, waaronder het periodiek variëren van het microgolfvermogen, het periodiek variëren van de druk in de substraatbuis, en het periodiek variëren van de snelheid van de resonator die over de buis wordt 20 bewogen.
De Europese octrooiaanvrage 0 038 982 heeft betrekking op een methode ter vervaardiging van optische vezels, waarbij de piasmagenerator over de lengte van de substraatbuis wordt bewogen, welke piasmagenerator een zodanig hete zone produceert dat de hete zone is te beschouwen als een zogenaamde 25 “tandem hete zone” die ten minste twee zones omvat, namelijk zone I en zone II.
De Europese octrooiaanvrage 0 333 580 heeft betrekking op een inrichting voor het vervaardigen van voorvormen voor optische vezels, waarbij een microgolfgenerator met variabel vermogen wordt toegepast, echter zonder dat gebruik wordt gemaakt van een niet-isotherm plasma dat tussen twee omkeerpunten 30 heen en weer over de lengte van de substraatbuis wordt bewogen.
Uit de Britse octrooipublicatie GB 2 118 165 is een methode voor het vervaardigen van een optische vezel bekend, waarbij de snelheid van de axiaal over de lengte van de substraatbuis verplaatsende warmtebron voldoet aan een
» I
5 bepaalde wiskundige vergelijking, waarbij de snelheid een functie van de positie van de warmtebron langs de substraatbuis is zodat de totale depositiedikte van de glaslagen over de lengte van de buis nagenoeg constant is.
Uit het ten name van de onderhavige aanvragers verleende 5 Amerikaanse octrooischrift 5.188.648 is een werkwijze ter vervaardiging van optische vezels bekend, waarbij iedere keer wanneer het plasma het omkeerpunt in de buurt van het gasinlaatpunt van de substraatbuis bereikt, de beweging van het plasma wordt onderbroken terwijl de glasdepositie zich voortzet, waarbij de periode waarin de plasmabeweging wordt onderbroken ten minste 0,1 seconde bedraagt. Dit 10 document ziet met name toe op een reductie van de geometrische taper van de kern van de optische voorvorm.
Uit de Europese octrooiaanvrage 0 333 580 is verder een methode bekend voor het vervaardigen van optische voorvormen, waarbij het vermogen van de energiebron tijdens het depositieproces continu wordt gestuurd aan de hand van 15 een signaal dat een functie is van ondermeer de mate waarin depositie van glaslagen op het inwendige van de substraatbuis plaatsvindt.
De stand van de techniek openbaart methoden ter vervaardiging van voorvormen waarbij de optimalisatie van de geometrische taper heeft geleid tot de vorming van een optische taper, en vice versa.
20 De Amerikaanse octrooiaanvrage US 2005/0041943 heeft betrekking op een depositiemethode waarbij het plasma wordt verplaatst over de lengte van een holle substraatbuis en wordt veranderd in een eerste eindgebied grenzend aan een omkeerpunt, zowel als functie van tijd in het depositieproces als functie van de positie in het eerste eindgebied, waarbij het eindpunt van het eerste 25 eindgebied samenvalt met het omkeerpunt en waarbij het beginpunt verder weg is gelegen van het omkeerpunt dan het vertragingspunt, waarbij het eerste eindgebied een lengte bezit die voldoende zou zijn om taper in de voorvorm te reduceren.
Het doel van de onderhavige uitvinding is aldus het verschaffen van een werkwijze ter vervaardiging van een voorvorm waaruit een optische vezel kan 30 worden getrokken, welke voorvorm een geringe geometrische en optische taper bezit, niet alleen constante optische eigenschappen aan beide uiteinden doch ook in het gebied gelegen tussen beide uiteinden van de voorvorm.
Een ander aspect van de onderhavige uitvinding is het verschaffen
• I
6 van een voorvorm waaruit een optische vezel kan worden getrokken, welke voorvorm over een zo groot mogelijke lengte constante optische eigenschappen bezit.
De onderhavige uitvinding zoals vermeld in de aanhef wordt 5 gekenmerkt doordat de nevengasstroom wordt onderverdeeld in N substromen, welke N substromen samen met de hoofdgasstroom worden toegevoerd aan het inwendige van de holle substraatbuis, waarbij N ;> 2.
De onderhavige uitvinders hebben geconstateerd dat de in een massieve voorvorm aanwezige “taper" onder meer afhankelijk is van de 10 depositiesnelheid van de glaslagen op het inwendige van de holle substraatbuis, waarbij een verhoging van de depositiesnelheid veelal leidt tot een verslechtering van de uniformiteit van de afgezette glaslagen. Door nu de nevengasstroom in een of meer substromen onder te verdelen, waarbij de hoogte van het debiet van elke substroom nauwkeurig instelbaar is, en de substromen met elkaar worden 15 samengevoegd en vervolgens met de hoofdgasstroom worden gecombineerd, is het mogelijk gebleken aan een of meer van voornoemde doelstellingen te voldoen. Aldus hebben de onderhavige uitvinders met name een werkwijze en inrichting voorgesteld voor het beheersen van de brekingsindex in longitudinale richting in de voorvorm.
20 Het debiet van een medium, zoals ideaal gas, door een doorstroomopening wordt door de volgende vergelijking bepaald: m = pVA - const, [kg /s], 25 waarin geldt: m = massastroming van een ideaal gas [kg/s], p = dichtheid van gas [kg/m3], V = gassnelheid [m/s], A = oppervlak van de doorstroomopening [m2].
In de praktijk wordt het debiet van een gasstroming door een doorstroomopening door de volgende vereenvoudigde vergelijking benaderd: 30 7 m = c(p1-p2}A1 waarin geldt: 5 c = constante, afhankelijk van het toegepaste gas, P! = statische druk vóór de doorstroomopening [Pa], p2 = statische druk na de doorstroomopening [Pa], A, = oppervlak van de doorstroomopening [m2].
10 Op basis van de hiervoor weergegeven vergelijkingen is het mogelijk het debiet van het gas als functie van de drukval door een doorstroomopening met een diameter r te bepalen, waarbij de invloed van de gravitatie wordt uitgesloten: 15 m = cApfn.
De onderhavige uitvinders hebben geconstateerd dat, wanneer een aantal van voornoemde doorstroomopeningen in een parallelle rangschikking wordt toegepast en dat wanneer de inwendige straal van de doorstroomopening zodanig 20 wordt gekozen dat de maximale stroming of doorzet door elke doorstroomopening varieert in een verhouding van 1:2:4:8: en dergelijke, het mogelijk is gebleken om het totale debiet van de nevengasstroom in discrete stappen in te stellen. Aldus is het mogelijk gebleken om de omvang van de gasstroming van de dotering(en) nauwkeurig in te stellen.
25 Voor een nauwkeurige sturing van de hoogte van de neven gasstroom verdient het de voorkeur dat het aantal substromen ten minste 4 bedraagt, te weten N ;> 4.
Het is aldus gewenst dat de maximale stroming van elke substroom tweemaal groter is dan de maximale stroming van de andere substro(o)m(en). In 30 een bepaalde uitvoeringsvorm, waarbij er bijvoorbeeld sprake is van vier substromen (N=4), wordt de maximale stroming van de eerste substroom op 1 (arbitraire eenheid, AU) ingesteld, de maximale stroming van de tweede substroom op 2 (AU), de maximale stroming van de derde substroom op 4 (AU) en de maximale δ stroming van de vierde substroom op 8 (AU). Aldus is het mogelijk om maximaal 16 instellingen toe te passen tussen een minimaal debiet (geen stroming) en een maximaal debiet, waarbij de stuurbare klep in elke substroom is geopend. Derhalve is er sprake van een relatie tussen de N-substromen, te weten de maximale 5 stroming van substroom N is tweemaal groter dan de maximale stroming van substroom (N-1), en de maximale stroming van substroom N is tweemaal kleiner dan de maximale stroming van substroom (N+1). Aldus is het wenselijk dat de maximale stroming van substroom N, tweemaal groter is dan de maximale stroming van substroom ISI2, indien N = 2, meer in het bijzonder dat de maximale stroming van 10 substroom Nj tweemaal groter is dan de maximale stroming van substroom (Nr1) en de maximale stroming van substroom N is tweemaal kleiner dan de maximale stroming van substroom (Nj+1), waarbij N 2 3.
Om ervoor te zorgen dat een nauwkeurige instelling van het debiet van de substroom geoptimaliseerd is, is het gewenst dat de een of meer 15 nevengasstromen zich in een temperatuur gecontroleerde omgeving bevinden. Aldus worden nadelige effecten ten aanzien van temperatuuruitzetting en drukfluctuaties tot een minimum teruggebracht.
In een bijzondere uitvoering van de onderhavige werkwijze is het met name gewenst dat zich in elke substroom een stuurbare klep en een 20 doorstroomopening bevinden, waarbij de stuurbare klep voor het blokkeren of doorlaten van de stroming van de desbetreffende substroom zorgt, en de doorstroomopening voor de grootte van de stroming van de desbetreffende substroom. In het bijzonder is het gewenst dat de stuurbare klep in twee standen instelbaar is, te weten open stand en gesloten stand.
25 Voor een nauwkeurige en snelle instelling van de omvang van de nevengasstroom is het gewenst dat de aanstuurfrequentie waarmee de stuurbare klep wordt aangestuurd ten minste 20 Hz bedraagt, waarbij bij voorkeur een aanstuurfrequentie van ten minste 50 Hz wordt toegepast, waarbij in het bijzonder het aansturen van de stuurbare klep(pen) geschiedt door middel van een 30 elektronische rekeneenheid.
De onderhavige uitvinders hebben verder gevonden dat in de onderhavige werkwijze voor het door middel van een inwendig dampdepositieproces vervaardigen van optische voorvormen het gewenst is dat het debiet van doteringen 9 t , in de hoofdgasstroom wordt ingesteld op een instelpunt dat ongeveer 10% lager is dan het debiet dat nodig zou zijn om de gewenste brekingsindexwaarde (middels dergelijke doteringen) te bereiken.
In een bijzondere uitvoeringsvorm van de onderhavige uitvinding is 5 het gewenst dat in een eerste stap een optische voorvorm onder gebruikmaking van een PCVD-proces wordt vervaardigd, waarbij aan het inwendige van de holle glazen substraatbuis de van doteringen voorziene, glasvormende gassen slechts via de hoofdgasstroom worden toegevoerd. Met andere woorden, in een eerste stap wordt een voorvorm volgens de stand van de techniek vervaardigd, zoals bijvoorbeeld 10 geopenbaard in de eerder besproken Amerikaanse octrooiaanvrage US 2005/0041943. Nadat het depositieproces is beëindigd, gevolgd door een gebruikelijke collapse-handeling, wordt van de aldus verkregen massieve voorvorm het longitudinale brekingsindexprofiel bepaald. Dit gemeten brekingsindexprofiel wordt vergeleken met het gewenste brekingsindexprofiel. Aldus is het mogelijk om 15 op elke willekeurige positie van de massieve voorvorm vast te stellen wat de afwijking is tussen het gemeten brekingsindexprofiel en het gewenste brekingsindexprofiel. Op basis van dit gemeten longitudinaal brekingsindexprofiel en de aldus vastgestelde afwijking daarvan, wordt een nieuw depositieproces aangevangen, waarbij gebruik wordt gemaakt van een hoofdgasstroom en een of 20 meer nevengasstromen. In de hoofdgasstroom, waarin zich bijvoorbeeld Si02 en siliciumtetrachloride bevinden, kan de hoeveelheid dotering, bijvoorbeeld germanium in de vorm van germaniumtetrachloride, zijn aangepast, om aldus het brekingsindexniveau over de volledige lengte van de voorvorm tot een bepaalde waarde te verhogen, Immers, het debiet van de hoofdgasstroom zal tijdens het 25 depositieproces op een nagenoeg constante waarde zijn ingesteld. Op basis van de vastgestelde afwijking in het longitudinale brekingsindexprofiel wordt de hoeveelheid extra dotering via de nevengasstroom toegevoerd, waarbij het debiet van de een of meer nevengasstromen als functie van de longitudinale positie in de holle substraatbuis nauwkeurig wordt ingesteld. Aldus zorgt de hoofdgasstroom voor een 30 “basisinstelling” van de brekingsindex en de een of meer nevengasstromen voor het gewenste “eindniveau", welk eindniveau nagenoeg constant is over een zo groot mogelijke lengte van de voorvorm. Aldus is het wenselijk dat het aansturen geschiedt door een eerder vastgesteld brekingsindexprofiel te vergelijken met een 10 gewenst brekingsindexprofiel, waarbij de afwijking tussen beide profielen dient om het debiet van ten minste een van de hoofdgasstroom en nevengasstromen in te stellen voor het uitvoeren van stappen ii)-iii), waarbij derhalve het aansturen van de stuurbare klep(pen) geschiedt als functie van de tijd gedurende stap iii).
5 In de uitvoeringsvorm van een correctie met germanium is het wenselijk dat de hoofdgasstroom een zodanige hoeveelheid germanium bevat dat de daardoor resulterende brekingsindexwaarde gelijk aan of kleiner dan de gewenste brekingsindexwaarde in het gewenste longitudinale brekingsindexprofiel is. Vervolgens kan, als functie van de longitudinale positie van de reactiezone 10 gedurende het depositieproces in de holle substraatbuis, de hoeveelheid extra germanium worden vastgesteld, welke hoeveelheid germanium via een of meer nevengasstromen wordt toegevoerd. Aldus kan het debiet van de een of meer nevengasstromen, en dus de toe te voeren hoeveelheid doteringsmiddel (brekingsindexverhogend en/of -verlagend), als functie van de tijd gedurende het 15 depositieproces worden gevarieerd. Omdat tijdens het depositieproces de reactiezone over de substraatbuis heen en weer pendelt, is het aldus mogelijk om op elk gewenst moment (en dus ook elke gewenste positie op de substraatbuis) in het depositieproces de hoeveelheid doteringen nauwkeurig in te stellen.
In een bijzondere uitvoeringsvorm waarbij de longitudinale 20 brekingsindexwaarde met een brekingsindex verlagend doteermiddel, in het bijzonder fluor, moet worden gecorrigeerd, dan is het wenselijk dat aan de hoofdgasstroom een zodanige hoeveelheid fluor wordt toegevoegd dat de resulterende brekingsindexwaarde gelijk aan of groter is dan de gewenste brekingsindexwaarde in het beoogde longitudinale brekingsindexprofiel. Vervolgens 25 kan, als functie van de longitudinale positie van de reactiezone gedurende het depositieproces in de holle substraatbuis, de hoeveelheid extra fluor worden vastgesteld, welke hoeveelheid fluor via een of meer nevengasstromen wordt toegevoerd.
Onder toepassing van de onderhavige uitvinding is het mogelijk 30 gebleken een optische voorvorm te vervaardigen waarin afwijkingen in de brekingsindex, bijvoorbeeld taper, in de longitudinale richting tot een minimum zijn beperkt.
Onder toepassing van de onderhavige uitvinding is het in principe 11 mogelijk een nagenoeg uniform brekingsindexprofiel te vervaardigen. In de nevengasstromen kunnen zowel brekingsindex verhogende als brekingsindex verlagende doteringen worden toegepast, zoals bijvoorbeeld GeCI4 en C2F6. Dergelijke doteringen worden in het glas ingebouwd Het is in bepaalde 5 uitvoeringsvormen ook wenselijk dat in de hoofdgasstroom ook een of meer doteringen aanwezig zijn. In een bijzondere uitvoeringsvorm van de onderhavige uitvinding is het wenselijk dat er ten minste twee nevengasstromen worden toegepast, waarbij via de ene nevengasstroom de brekingsindex verlagende doteringen en via de andere nevengasstroom de brekingsdindex verhogende 10 doteringen worden toegevoerd. Aldus kan een zeer nauwkeurige dosering van doteringsmiddelen plaatsvinden om mogelijke afwijkingen in de brekingsindex, bijvoorbeeld taper, in de longitudinale richting tot een minimum te beperken.
De onderhavige uitvinding kent met name toepassing op het gebied van plasma chemical vapor deposition (PCVD), waarbij een inwendig 15 depositieproces in een holle substraatbuis van quartz onder toepassing van een plasma wordt uitgevoerd. In een dergelijk proces wordt een microgolfgenerator, in het bijzonder een resonator, tussen twee omkeerpunten heen en weer over de lengte van de substraatbuis bewogen. Aldus “verplaatst” de plasmazone zich over de lengte van de substraatbuis en de depositie van de glasvormende precursors 20 vindt in de plasmazone plaats. Onder toepassing van de onderhavige uitvinding is het mogelijk om de gassamenstelling in de substraatbuis aan te passen aan de positie van de resonator. Met andere woorden, het is gewenst om binnen een “resonatorslag" de concentratie van doteringen positie-afhankelijk te variëren, in het bijzonder bij resonatorsnelheden in het gebied van 10-40 m/min. Aldus is het 25 mogelijk om op een voorafbepaalde positie in het inwendige van de holle substraatbuis een depositie van glas te laten plaatsvinden, welke depositie ten gevolge van de bijzondere onderverdeling tussen hoofdgasstroom en een of meer nevengasstromen het mogelijk maakt dat elke gewenste brekingsindexwaarde op elke gewenste positie in de holle glazen substraatbuis kan worden bereikt.
30 De onderhavige uitvinding heeft verder betrekking op een inrichting voor het toevoeren van gassen aan het inwendige van een holle substraatbuis waarbij de toevoer een hoofdgasstroom en een of meer nevengasstromen omvat, waarbij de hoofdgasstroom hoofdzakelijk de glasvormende gassen omvat en de een 12 of meer nevengasstromen hoofdzakelijk dotering(en) omvat, gekenmerkt doordat de nevengasstroom een eerste verdeeleenheid voor het verdelen van de nevengasstromen in N substromen, en een tweede verdeeleenheid omvat voor het samenvoegen van alle N substromen, omvat, waarbij N 2 2.
5 In een bijzondere uitvoeringsvorm is het gewenst dat zich in elke substroom een stuurbare klep en een doorstroomopening bevinden, waarbij de stuurbare klep voor het blokkeren of doorlaten van de stroming van de desbetreffende substroom zorgt, en de doorstroomopening voor de grootte van de stroming van de desbetreffende substroom zorgt, met name dat de eerste 10 verdeeleenheid en tweede verdeeleenheid zich in een temperatuur gecontroleerde omgeving bevinden.
Voor het verkrijgen van een uniform longitudinaal brekingsindexprofiel van de voorvorm is het gewenst dat de inrichting verder een systeem voor het instellen van de grootte van de hoofdgasstroom en de een of meer 15 nevengasstromen omvat.
De onderhavige uitvinding heeft verder betrekking op de toepassing in een plasma chemical vapor deposition (PCVD) proces van het variëren van de samenstelling van de aan het inwendige van een holle glazen substraatbuis toe te voeren, van doteringen voorziene, glasvormende gassen als functie van de positie 20 van de plasmazone tijdens depositie van glaslagen voor het beheersen van de brekingsindex in longitudinale richting van een optische voorvorm.
Voor een betrouwbare instelling is het gewenst dat de toevoer van de nevengasstroom nagenoeg lekvrij is, waarbij het de voorkeur verdient dat, voordat daadwerkelijk met het vervaardigen van een optische voorvorm wordt 25 begonnen, het gasleidingsysteem aan een lekproef wordt onderworpen, bij voorkeur door het systeem onder hoge druk te vullen met een gas en vervolgens het gehele gassysteem af te sluiten en vervolgens de afname van druk als functie van de tijd te noteren.
De onderhavige aanvrage zal hierna aan de hand van een 30 voorbeeld worden toegelicht, waarbij echter dient te worden opgemerkt dat de onderhavige uitvinding in geen geval tot een dergelijk bijzonder voorbeeld is beperkt.
13
Voorbeeld
In de bijgevoegde figuur is het gastoevoersysteem 4 volgens de onderhavige uitvinding weergegeven, omvattende een hoofdgasstroom 6 en een nevengasstroom 5, waarbij hoofdgasstroom 6 hoofdzakelijk SiCI4/02 omvat en 5 nevengasstroom 5 bijvoorbeeld een germaan bevattende verbinding, bijvoorbeeld GeCI„ omvat, waarbij in de nevengasstroom 5 veelal sprake is van een dragergas, bijvoorbeeld zuurstof, waarin de dotering zich bevindt. In de hoofdgasstroom 6 zijn gebruikelijk doteringen aanwezig, bijvoorbeeld brekingsindex verhogende en/of verlagende doteringen, zoals bijvoorbeeld GeCI4 en C2F6. Nevengasstroom 5 wordt 10 onderverdeeld in een viertal substromen 9, 10, 11 en 12, onder toepassing van een eerste verdeeleenheid 7. In elke substroom 9-12 bevindt zich een stuurbare klep 1 en een doorstroomopening 2, waarbij in de weergegeven uitvoeringsvorm de maximale stroming van substroom 9 een waarde 1 (arbitraire eenheid) kent, de maximale stroming van substroom 10 een maximale waarde van 2 (AU), de 15 maximale stroming van substroom 11 een waarde 4 (AU) en de maximale stroming van substroom 12 een waarde 8 (AU) kent. Substromen 9-12 worden via een tweede verdeeleenheid 8 samengevoegd tot nevengasstroom 13, waarbij nevengasstroom 13 en hoofdgasstroom 6 worden samengevoegd en aan een holle glazen substraatbuis 14 toegevoerd. In het inwendige van holle substraatbuis 14 vindt een 20 inwendig dampdepositieproces plaats, waarbij holle glazen substraatbuis 14 in een oven (niet weergegeven) is geplaatst, in welke oven zich een resonator (niet weergegeven) bevindt waaraan microgolven worden toegevoerd, welke resonator over een bepaald deel van de lengte van de substraatbuis 14 heen en weer wordt bewogen om aldus in het inwendige van de holle glazen substraatbuis 14 zodanige 25 omstandigheden te creëren dat zich op het inwendige van de holle substraatbuis 14 een of meer glaslagen afzetten. Een daarvoor geschikt depositieproces is geopenbaard in WO 2004/101458 ten name van de onderhavige aanvrager en dient hier als ingelast te worden beschouwd. Na het depositie- en collapse-proces wordt de massieve voorvorm, indien gewenst, nog van extra glas aan de buitenzijde 30 voorzien, waarna het uiteindelijke trekproces ter verkrijging van de optische vezel wordt uitgevoerd.
Voor een juiste uitvoering van voornoemd depositieproces is het beoogde brekingsindexprofiel vooraf bekend, waarbij de aan het inwendige van de 14 holle substraatbuis 14 toe te voeren hoeveelheid dotering(en) wordt gestuurd door het aansturen van kleppen 1 in elke afzonderlijke substroom 9-12. In de weergegeven uitvoeringsvorm is het aldus mogelijk om maximaal 16 stappen in te stellen tussen een minimaal debiet voor de nevengasstroom, te weten geen 5 stroming wanneer alle kleppen 1 zijn gesloten, en een maximaal debiet wanneer alle kleppen 1 in de substromen 9-12 zijn geopend. Een dergelijke sturing van kleppen 1 vindt via een elektronisch gestuurd meet- en regelsysteem (software en hardware, niet weergegeven) plaats. Om temperatuurschommelingen tot een minimum te beperken is gastoevoersysteem 4 aan een temperatuurcontrolesysteem 3 10 gekoppeld. Hoewel in de weergegeven figuur sprake is van een viertal substromen 9-12, is het ook mogelijk twee, acht, zestien en dergelijke aantallen substromen 9, 10 toe te passen. Daarnaast is het mogelijk een tweede gastoevoereenheid 4 (niet weergegeven) toe te passen waarin een nauwkeurige dosering van andere dotering(en), al of niet in aanwezigheid van een of meer dragergassen, plaatsvindt, 15 welke tweede gastoevoereenheid 4 (niet weergegeven) ook is samengesteld uit een aantal substromen, elk voorzien van een stuurbare klep en een doorstroomopening, bij voorkeur gekoppeld aan een temperatuurcontrolesysteem.
Onder toepassing van de hiervoor beschreven werkwijze en inrichting voor het door middel van inwendige dampdepositie vervaardigen van een 20 optische voorvorm is het mogelijk gebleken een nagenoeg uniform brekingsindexprofiel over een deel van de lengte van een holle substraatbuis te verkrijgen, waarbij de afwijkingen ten opzichte van het beoogde longitudinale brekingsindexprofiel tot een minimum zijn beperkt.
25 1036343
Claims (22)
1. Werkwijze voor het door middel van een inwendig dampdepositieproces vervaardigen van een optische voorvorm, welke werkwijze de 5 volgende stappen omvat: i) het verschaffen van een holle glazen substraatbuis, ii) het aan het inwendige van de holle glazen substraatbuis toevoeren van van doteringen voorziene, glasvormende gassen, waarbij de toevoer een hoofdgasstroom en een of meer nevengasstromen omvat, waarbij de 10 hoofdgasstroom de glasvormende gassen omvat en de een of meer nevengasstromen hoofdzakelijk dotering(en) omvatten, iii) het in het inwendige van de holle glazen substraatbuis tot stand brengen van zodanige omstandigheden dat depositie van glaslagen op het inwendige van de holle glazen substraatbuis optreedt, en het eventueel 15 iv) aan een collapse-handeling onderwerpen van de aldus verkregen substraatbuis ter vorming van een massieve voorvorm, met het kenmerk, dat de nevengasstroom wordt onderverdeeld in N substromen, welke N substromen samen met de hoofdgasstroom worden toegevoerd aan het inwendige van de holle glazen substraatbuis, waarbij N > 2.
2. Werkwijze volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat het aantal substromen ten minste 4 bedraagt, te weten N > 4.
3. Werkwijze volgens een of meer van de conclusies 1-2, met het kenmerk, dat de maximale stroming van substroom N, tweemaal groter is dan de maximale stroming van substroom N2, indien N = 2.
4. Werkwijze volgens een of meer van de voorafgaande conclusies, met het kenmerk, dat de maximale stroming van substroom N, tweemaal groter is dan de maximale stroming van substroom (Nr1) en de maximale stroming van substroom N is tweemaal kleiner dan de maximale stroming van substroom (Nj+1), waarbij N > 3.
5. Werkwijze volgens een of meer van de voorafgaande conclusies, met het kenmerk, dat de een of meer nevengasstromen zich bevinden in een temperatuur gecontroleerde omgeving.
6. Werkwijze volgens een of meer van de voorafgaande conclusies, 1036343 met het kenmerk, dat zich in elke substroom een stuurbare klep en een doorstroomopening bevinden, waarbij de stuurbare klep voor het blokkeren of doorlaten van de stroming van de desbetreffende substroom zorgt, en de doorstroomopening voor de grootte van de stroming van de desbetreffende 5 substroom.
7. Werkwijze volgens conclusie 6, met het kenmerk, dat de aanstuurfrequentie waarmee de stuurbare klep wordt aangestuurd ten minste 20 Hz bedraagt.
8. Werkwijze volgens conclusie 7, met het kenmerk, dat de 10 aanstuurfrequentie ten minste 50 Hz bedraagt.
9. Werkwijze volgens een of meer van de conclusies 6-8, met het kenmerk, dat het aansturen van de stuurbare klep(pen) geschiedt door middel van een elektronische rekeneenheid.
10. Werkwijze volgens een of meer van de conclusies 6-9, met het 15 kenmerk, dat het aansturen van de stuurbare klep(pen) geschiedt als functie van de tijd gedurende stap iii).
11. Werkwijze volgens conclusie 10, met het kenmerk, dat het aansturen geschiedt door een eerder vastgesteld brekingsindexprofiel te vergelijken met een gewenst brekingsindexprofiel, waarbij de afwijking tussen beide profielen 20 dient om het debiet van ten minste een van de hoofdgasstroom en nevengasstromen in te stellen voor het uitvoeren van stappen ii)-iii).
12. Werkwijze volgens een of meer van de voorafgaande conclusies, met het kenmerk, dat in stap iii) een plasmazone over de longitudinale as van de holle substraatbuis tussen een omkeerpunt nabij de toevoerzijde van de holle glazen 25 substraatbuis en een omkeerpunt nabij de afvoerzijde van de holle glazen substraatbuis wordt bewogen.
13 Werkwijze volgens conclusie 12, met het kenmerk, dat de plasmazone wordt bewogen met een snelheid in het gebied van 10-40 m/min tussen beide omkeerpunten.
14. Werkwijze volgens een of meer van de conclusies 12-13, met het kenmerk, dat afhankelijk van de positie van de plasmazone over de longitudinale as van de holle substraatbuis het debiet van een of meer nevengasstromen gedurende ten minste een deel van stap iii) wordt ingesteld.
15. Werkwijze volgens een of meer van de voorafgaande conclusies, met het kenmerk, dat in de hoofdgasstroom ook een of meer doteringen aanwezig zijn.
16. Inrichting voor het toevoeren van gassen aan het inwendige van een 5 holle substraatbuis waarbij de toevoer van gassen een hoofdgasstroom en een of meer nevengasstromen omvat, waarbij de hoofdgasstroom hoofdzakelijk de glasvormende gassen omvat en de een of meer nevengasstromen hoofdzakelijk dotering(en) omvat, met het kenmerk, dat de nevengasstroom een eerste verdeeleenheid voor het verdelen van de nevengasstromen in N substromen, en een 10 tweede verdeeleenheid omvat voor het samenvoegen van alle substromen, omvat, waarbij N > 2.
17. Inrichting volgens conclusie 16, met het kenmerk, dat zich in elke substroom een stuurbare klep en een doorstroomopening bevinden, waarbij de stuurbare klep voor het blokkeren of doorlaten van de stroming van de 15 desbetreffende substroom zorgt, en de doorstroomopening voor de grootte van de stroming van de desbetreffende substroom zorgt.
18. Inrichting volgens een of meer van de conclusies 16-17, met het kenmerk, dat de eerste verdeeleenheid, tweede verdeeleenheid en bijbehorende klep(pen) en doorstroomopening(en) zich in een temperatuur gecontroleerde 20 omgeving bevinden.
19. Inrichting volgens een of meer van de conclusies 16-18, met het kenmerk, dat de inrichting verder een elektronische rekeneenheid omvat, voor het aansturen van de stuurbare klep(pen).
20. Toepassing van een werkwijze zoals omschreven in een of meer 25 van de conclusies 1-15 voor het optimaliseren van het longitudinaal brekingsindexprofiel van een optische voorvorm.
21. Toepassing van een werkwijze zoals omschreven in een of meer van de conclusies 1-15 voor het door middel van een inwendig dampdepositieproces vervaardigen van een optische voorvorm, in het bijzonder een plasma chemical 30 vapor deposition (PCVD) proces.
22. Toepassing in een plasma chemical vapor deposition (PCVD) proces van het variëren van de samenstelling van de aan het inwendige van een holle glazen substraatbuis toe te voeren, van doteringen voorziene, glasvormende gassen als functie van de positie van de plasmazone over de longitudinale as van de holle substraatbuis tijdens depositie van glaslagen op het inwendige van de holle substraatbuis voor het beheersen van de brekingsindex in longitudinale richting van een optische voorvorm. 5 1036343
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL1036343A NL1036343C2 (nl) | 2008-12-19 | 2008-12-19 | Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van een optische voorvorm. |
| DK09015589T DK2199263T3 (da) | 2008-12-19 | 2009-12-17 | Fremgangsmåde og indretning til fremstilling af en optisk forform |
| EP20090015589 EP2199263B1 (en) | 2008-12-19 | 2009-12-17 | Method and device for manufacturing an optical preform |
| JP2009286151A JP5723095B2 (ja) | 2008-12-19 | 2009-12-17 | 光学プリフォームを製造するための方法および装置 |
| US12/642,784 US9051205B2 (en) | 2008-12-19 | 2009-12-19 | Method and device for manufacturing an optical preform |
| CN200910263860.3A CN101746949B (zh) | 2008-12-19 | 2009-12-21 | 用于制备光学预制件的方法和装置 |
| BRPI0905127A BRPI0905127B1 (pt) | 2008-12-19 | 2009-12-21 | método para fabricar uma pré-forma, e dispositivo para fornecer gases |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL1036343 | 2008-12-19 | ||
| NL1036343A NL1036343C2 (nl) | 2008-12-19 | 2008-12-19 | Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van een optische voorvorm. |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| NL1036343C2 true NL1036343C2 (nl) | 2010-06-22 |
Family
ID=40935650
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| NL1036343A NL1036343C2 (nl) | 2008-12-19 | 2008-12-19 | Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van een optische voorvorm. |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US9051205B2 (nl) |
| EP (1) | EP2199263B1 (nl) |
| JP (1) | JP5723095B2 (nl) |
| CN (1) | CN101746949B (nl) |
| BR (1) | BRPI0905127B1 (nl) |
| DK (1) | DK2199263T3 (nl) |
| NL (1) | NL1036343C2 (nl) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2535318A2 (en) | 2011-06-17 | 2012-12-19 | Draka Comteq B.V. | Device and method for manufacturing a preform of an optical glass fiber |
Families Citing this family (69)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009522080A (ja) | 2006-01-09 | 2009-06-11 | ウィンドクレスト リミテッド ライアビリティ カンパニー | 脈管ガイドワイヤコントロール装置 |
| US8467650B2 (en) | 2007-11-09 | 2013-06-18 | Draka Comteq, B.V. | High-fiber-density optical-fiber cable |
| US7970247B2 (en) * | 2008-09-12 | 2011-06-28 | Draka Comteq B.V. | Buffer tubes for mid-span storage |
| NL1036343C2 (nl) | 2008-12-19 | 2010-06-22 | Draka Comteq Bv | Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van een optische voorvorm. |
| US8891923B2 (en) | 2008-12-30 | 2014-11-18 | Draka Comteq, B.V. | Perforated water-blocking element |
| WO2010077132A1 (en) | 2008-12-31 | 2010-07-08 | Draka Comteq B.V. | Uvled apparatus for curing glass-fiber coatings |
| FR2941539B1 (fr) | 2009-01-23 | 2011-02-25 | Draka Comteq France | Fibre optique monomode |
| FR2941540B1 (fr) * | 2009-01-27 | 2011-05-06 | Draka Comteq France | Fibre optique monomode presentant une surface effective elargie |
| FR2941541B1 (fr) * | 2009-01-27 | 2011-02-25 | Draka Comteq France | Fibre optique monomode |
| US8489219B1 (en) | 2009-01-30 | 2013-07-16 | Draka Comteq B.V. | Process for making loose buffer tubes having controlled excess fiber length and reduced post-extrusion shrinkage |
| US9360647B2 (en) * | 2009-02-06 | 2016-06-07 | Draka Comteq, B.V. | Central-tube cable with high-conductivity conductors encapsulated with high-dielectric-strength insulation |
| FR2942571B1 (fr) * | 2009-02-20 | 2011-02-25 | Draka Comteq France | Fibre optique amplificatrice comprenant des nanostructures |
| FR2942551B1 (fr) * | 2009-02-23 | 2011-07-15 | Draka Comteq France | Cable comportant des elements a extraire, procede d'extraction desdits elements et procede de fabrication associe |
| US8625945B1 (en) | 2009-05-13 | 2014-01-07 | Draka Comteq, B.V. | Low-shrink reduced-diameter dry buffer tubes |
| US8625944B1 (en) | 2009-05-13 | 2014-01-07 | Draka Comteq, B.V. | Low-shrink reduced-diameter buffer tubes |
| FR2946436B1 (fr) * | 2009-06-05 | 2011-12-09 | Draka Comteq France | Fibre optique multimode a tres large bande passante avec une interface coeur-gaine optimisee |
| US20110026889A1 (en) * | 2009-07-31 | 2011-02-03 | Draka Comteq B.V. | Tight-Buffered Optical Fiber Unit Having Improved Accessibility |
| FR2949870B1 (fr) | 2009-09-09 | 2011-12-16 | Draka Compteq France | Fibre optique multimode presentant des pertes en courbure ameliorees |
| FR2957153B1 (fr) | 2010-03-02 | 2012-08-10 | Draka Comteq France | Fibre optique multimode a large bande passante et a faibles pertes par courbure |
| FR2953029B1 (fr) | 2009-11-25 | 2011-11-18 | Draka Comteq France | Fibre optique multimode a tres large bande passante avec une interface coeur-gaine optimisee |
| FR2953030B1 (fr) | 2009-11-25 | 2011-11-18 | Draka Comteq France | Fibre optique multimode a tres large bande passante avec une interface coeur-gaine optimisee |
| FR2953605B1 (fr) | 2009-12-03 | 2011-12-16 | Draka Comteq France | Fibre optique multimode a large bande passante et a faibles pertes par courbure |
| FR2953606B1 (fr) | 2009-12-03 | 2012-04-27 | Draka Comteq France | Fibre optique multimode a large bande passante et a faibles pertes par courbure |
| US9014525B2 (en) | 2009-09-09 | 2015-04-21 | Draka Comteq, B.V. | Trench-assisted multimode optical fiber |
| US8306380B2 (en) * | 2009-09-14 | 2012-11-06 | Draka Comteq, B.V. | Methods and devices for cable insertion into latched-duct conduit |
| FR2950156B1 (fr) | 2009-09-17 | 2011-11-18 | Draka Comteq France | Fibre optique multimode |
| FR2950443B1 (fr) * | 2009-09-22 | 2011-11-18 | Draka Comteq France | Fibre optique pour la generation de frequence somme et son procede de fabrication |
| US8805143B2 (en) | 2009-10-19 | 2014-08-12 | Draka Comteq, B.V. | Optical-fiber cable having high fiber count and high fiber density |
| FR2952634B1 (fr) * | 2009-11-13 | 2011-12-16 | Draka Comteq France | Fibre en silice dopee en terre rare a faible ouverture numerique |
| US9042693B2 (en) | 2010-01-20 | 2015-05-26 | Draka Comteq, B.V. | Water-soluble water-blocking element |
| ES2684474T3 (es) | 2010-02-01 | 2018-10-03 | Draka Comteq B.V. | Fibra óptica con dispersión desplazada no nula que tiene una longitud de onda pequeña |
| DK2352047T3 (da) * | 2010-02-01 | 2019-11-11 | Draka Comteq Bv | Ikke-nul dispersionsskiftet optisk fiber med et stort effektivt areal |
| ES2539824T3 (es) * | 2010-03-17 | 2015-07-06 | Draka Comteq B.V. | Fibra óptica de modo único con reducidas pérdidas por curvatura |
| NL2004546C2 (nl) | 2010-04-13 | 2011-10-17 | Draka Comteq Bv | Inwendig dampdepositieproces. |
| US8693830B2 (en) | 2010-04-28 | 2014-04-08 | Draka Comteq, B.V. | Data-center cable |
| EP2390700B1 (en) | 2010-05-03 | 2016-07-06 | Draka Comteq B.V. | Bundled fiber optic cables |
| DK2388239T3 (da) | 2010-05-20 | 2017-04-24 | Draka Comteq Bv | Hærdningsapparat, der anvender vinklede UV-LED'er |
| US8625947B1 (en) | 2010-05-28 | 2014-01-07 | Draka Comteq, B.V. | Low-smoke and flame-retardant fiber optic cables |
| US8871311B2 (en) | 2010-06-03 | 2014-10-28 | Draka Comteq, B.V. | Curing method employing UV sources that emit differing ranges of UV radiation |
| FR2962230B1 (fr) | 2010-07-02 | 2012-07-27 | Draka Comteq France | Fibre optique monomode |
| US8682123B2 (en) | 2010-07-15 | 2014-03-25 | Draka Comteq, B.V. | Adhesively coupled optical fibers and enclosing tape |
| DK2418183T3 (en) | 2010-08-10 | 2018-11-12 | Draka Comteq Bv | Method of curing coated glass fibers which provides increased UVLED intensity |
| US8571369B2 (en) | 2010-09-03 | 2013-10-29 | Draka Comteq B.V. | Optical-fiber module having improved accessibility |
| FR2966256B1 (fr) | 2010-10-18 | 2012-11-16 | Draka Comteq France | Fibre optique multimode insensible aux pertes par |
| US8824845B1 (en) | 2010-12-03 | 2014-09-02 | Draka Comteq, B.V. | Buffer tubes having reduced stress whitening |
| US9790594B2 (en) * | 2010-12-28 | 2017-10-17 | Asm Ip Holding B.V. | Combination CVD/ALD method, source and pulse profile modification |
| US8524322B2 (en) * | 2010-12-28 | 2013-09-03 | Asm International N.V. | Combination CVD/ALD method and source |
| ES2494640T3 (es) | 2011-01-31 | 2014-09-15 | Draka Comteq B.V. | Fibra multimodo |
| FR2971061B1 (fr) | 2011-01-31 | 2013-02-08 | Draka Comteq France | Fibre optique a large bande passante et a faibles pertes par courbure |
| ES2674887T3 (es) | 2011-02-21 | 2018-07-04 | Draka Comteq B.V. | Cable de interconexión para fibras ópticas |
| EP2495589A1 (en) | 2011-03-04 | 2012-09-05 | Draka Comteq B.V. | Rare earth doped amplifying optical fiber for compact devices and method of manufacturing thereof |
| EP2503368A1 (en) | 2011-03-24 | 2012-09-26 | Draka Comteq B.V. | Multimode optical fiber with improved bend resistance |
| EP2506044A1 (en) | 2011-03-29 | 2012-10-03 | Draka Comteq B.V. | Multimode optical fiber |
| EP2518546B1 (en) | 2011-04-27 | 2018-06-20 | Draka Comteq B.V. | High-bandwidth, radiation-resistant multimode optical fiber |
| EP2527893B1 (en) | 2011-05-27 | 2013-09-04 | Draka Comteq BV | Single mode optical fiber |
| ES2451369T3 (es) | 2011-06-09 | 2014-03-26 | Draka Comteq Bv | Fibra óptica de modo único |
| DK2541292T3 (en) | 2011-07-01 | 2014-12-01 | Draka Comteq Bv | A multimode optical fiber |
| NL2007447C2 (nl) * | 2011-09-20 | 2013-03-21 | Draka Comteq Bv | Werkwijze voor de vervaardiging van een primaire voorvorm voor optische vezels, primaire voorvorm, uiteindelijke voorvorm, optische vezel. |
| EP2584340A1 (en) | 2011-10-20 | 2013-04-24 | Draka Comteq BV | Hydrogen sensing fiber and hydrogen sensor |
| US20130104996A1 (en) * | 2011-10-26 | 2013-05-02 | Applied Materials, Inc. | Method for balancing gas flow supplying multiple cvd reactors |
| NL2007831C2 (en) * | 2011-11-21 | 2013-05-23 | Draka Comteq Bv | Apparatus and method for carrying out a pcvd deposition process. |
| US8929701B2 (en) | 2012-02-15 | 2015-01-06 | Draka Comteq, B.V. | Loose-tube optical-fiber cable |
| WO2013160714A1 (en) | 2012-04-27 | 2013-10-31 | Draka Comteq Bv | Hybrid single and multimode optical fiber for a home network |
| TWI458939B (zh) * | 2012-07-02 | 2014-11-01 | Univ Nat United | Highly sensitive optical interferometer and its making method |
| US9188754B1 (en) | 2013-03-15 | 2015-11-17 | Draka Comteq, B.V. | Method for manufacturing an optical-fiber buffer tube |
| NL2010724C2 (en) * | 2013-04-26 | 2014-10-29 | Draka Comteq Bv | A pcvd method for manufacturing a primary preform for optical fibers. |
| NL2012857B1 (en) * | 2014-05-22 | 2016-03-07 | Draka Comteq Bv | Apparatus and method for carrying out a plasma deposition process. |
| JP6233368B2 (ja) * | 2015-09-01 | 2017-11-22 | 住友電気工業株式会社 | マルチモード光ファイバの製造方法 |
| NL2028245B1 (en) * | 2021-05-19 | 2022-12-05 | Draka Comteq Bv | A plasma chemical vapor deposition apparatus |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4445918A (en) * | 1981-06-22 | 1984-05-01 | Cselt Centro Studi E Laboratori Telecomunicazioni S.P.A. | Process and apparatus for on-line dehydrogenation of fiber-drawing preforms |
| JPS59121129A (ja) * | 1982-12-28 | 1984-07-13 | Fujitsu Ltd | 光フアイバ母材の製造方法 |
| US4816050A (en) * | 1982-03-05 | 1989-03-28 | Cselt - Centro Studi E Laboratori Telecomunicazioni S.P.A. | Process and apparatus for making optical-fiber preforms |
| US5188648A (en) * | 1985-07-20 | 1993-02-23 | U.S. Philips Corp. | Method of manufacturing optical fibres |
| US5504829A (en) * | 1993-12-27 | 1996-04-02 | Corning Incorporated | Optical fiber for soliton transmission and method of making |
| US20030084685A1 (en) * | 2001-11-02 | 2003-05-08 | Jds Uniphase Corporation | Method of making an optical fiber or preform having a reduced hydrogen content |
| US20050041943A1 (en) * | 2003-05-15 | 2005-02-24 | Draka Fibre Technology B.V. | Method for the production of an optical fibre, preform, and an optical fibre |
Family Cites Families (78)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR1602211A (nl) * | 1968-12-03 | 1970-10-26 | ||
| JPS5181816A (en) * | 1975-01-13 | 1976-07-17 | Hitachi Ltd | cvd makuno seizohoho |
| US4331462A (en) | 1980-04-25 | 1982-05-25 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Optical fiber fabrication by a plasma generator |
| US4474212A (en) * | 1981-05-11 | 1984-10-02 | Harper-Wyman Company | Proportional flow control valve |
| JPS59500512A (ja) | 1982-04-12 | 1984-03-29 | ウエスタ−ン エレクトリツク カムパニ−，インコ−ポレ−テツド | 光フアイバの改良した製造 |
| DE3445239A1 (de) | 1984-12-12 | 1986-06-19 | Philips Patentverwaltung Gmbh, 2000 Hamburg | Verfahren zur herstellung von lichtleitfasern |
| US4738283A (en) * | 1986-05-08 | 1988-04-19 | Matsushita Electric Industrial Co. Ltd. | Gas flow controller |
| DE3635034A1 (de) | 1986-10-15 | 1988-04-21 | Philips Patentverwaltung | Verfahren zur herstellung von lichtleitfasern |
| FR2628730B1 (fr) | 1988-03-16 | 1990-06-29 | France Etat | Dispositif de fabrication de preformes pour fibres optiques |
| US4838643A (en) | 1988-03-23 | 1989-06-13 | Alcatel Na, Inc. | Single mode bend insensitive fiber for use in fiber optic guidance applications |
| US5574816A (en) | 1995-01-24 | 1996-11-12 | Alcatel Na Cable Sytems, Inc. | Polypropylene-polyethylene copolymer buffer tubes for optical fiber cables and method for making the same |
| US5717805A (en) | 1996-06-12 | 1998-02-10 | Alcatel Na Cable Systems, Inc. | Stress concentrations in an optical fiber ribbon to facilitate separation of ribbon matrix material |
| US7322122B2 (en) | 1997-01-15 | 2008-01-29 | Draka Comteq B.V. | Method and apparatus for curing a fiber having at least two fiber coating curing stages |
| FR2760540B1 (fr) | 1997-03-10 | 1999-04-16 | Alsthom Cge Alcatel | Cable a fibres optiques serrees dans une gaine |
| US5911023A (en) | 1997-07-10 | 1999-06-08 | Alcatel Alsthom Compagnie Generale D'electricite | Polyolefin materials suitable for optical fiber cable components |
| US6066397A (en) | 1998-03-31 | 2000-05-23 | Alcatel | Polypropylene filler rods for optical fiber communications cables |
| US6175677B1 (en) | 1998-04-17 | 2001-01-16 | Alcatel | Optical fiber multi-ribbon and method for making the same |
| US6085009A (en) | 1998-05-12 | 2000-07-04 | Alcatel | Water blocking gels compatible with polyolefin optical fiber cable buffer tubes and cables made therewith |
| US6215931B1 (en) | 1999-01-26 | 2001-04-10 | Alcatel | Flexible thermoplastic polyolefin elastomers for buffering transmission elements in a telecommunications cable |
| US6134363A (en) | 1999-02-18 | 2000-10-17 | Alcatel | Method for accessing optical fibers in the midspan region of an optical fiber cable |
| US6381390B1 (en) | 1999-04-06 | 2002-04-30 | Alcatel | Color-coded optical fiber ribbon and die for making the same |
| US6181857B1 (en) | 1999-05-12 | 2001-01-30 | Alcatel | Method for accessing optical fibers contained in a sheath |
| US6314224B1 (en) | 1999-06-18 | 2001-11-06 | Alcatel | Thick-walled cable jacket with non-circular cavity cross section |
| US6334016B1 (en) | 1999-06-30 | 2001-12-25 | Alcatel | Optical fiber ribbon matrix material having optimal handling characteristics |
| US6321012B1 (en) | 1999-08-30 | 2001-11-20 | Alcatel | Optical fiber having water swellable material for identifying grouping of fiber groups |
| US6493491B1 (en) | 1999-09-28 | 2002-12-10 | Alcatel | Optical drop cable for aerial installation |
| US6321014B1 (en) | 1999-11-01 | 2001-11-20 | Alcatel | Method for manufacturing optical fiber ribbon |
| FR2809499B1 (fr) | 2000-05-29 | 2003-10-03 | Cit Alcatel | Peau de protection pour fibres optiques |
| US6603908B2 (en) | 2000-08-04 | 2003-08-05 | Alcatel | Buffer tube that results in easy access to and low attenuation of fibers disposed within buffer tube |
| US6922515B2 (en) | 2000-12-20 | 2005-07-26 | Alcatel | Method and apparatus to reduce variation of excess fiber length in buffer tubes of fiber optic cables |
| US6618538B2 (en) | 2000-12-20 | 2003-09-09 | Alcatel | Method and apparatus to reduce variation of excess fiber length in buffer tubes of fiber optic cables |
| US6405994B1 (en) * | 2000-12-22 | 2002-06-18 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd | Flow control valve incorporating an inflatable bag |
| US7346244B2 (en) | 2001-03-23 | 2008-03-18 | Draka Comteq B.V. | Coated central strength member for fiber optic cables with reduced shrinkage |
| US7045010B2 (en) | 2001-09-06 | 2006-05-16 | Alcatel | Applicator for high-speed gel buffering of flextube optical fiber bundles |
| US6749446B2 (en) | 2001-10-10 | 2004-06-15 | Alcatel | Optical fiber cable with cushion members protecting optical fiber ribbon stack |
| US6912347B2 (en) | 2002-11-15 | 2005-06-28 | Alcatel | Optimized fiber optic cable suitable for microduct blown installation |
| US6941049B2 (en) | 2003-06-18 | 2005-09-06 | Alcatel | Fiber optic cable having no rigid strength members and a reduced coefficient of thermal expansion |
| US7162128B2 (en) | 2004-01-26 | 2007-01-09 | Drake Comteq B.V. | Use of buffer tube coupling coil to prevent fiber retraction |
| WO2007013923A2 (en) | 2005-07-20 | 2007-02-01 | Draka Comteq | Grease-free buffer optical fiber buffer tube construction utilizing a water-swellable, texturized yarn |
| US7567739B2 (en) | 2007-01-31 | 2009-07-28 | Draka Comteq B.V. | Fiber optic cable having a water-swellable element |
| US7515795B2 (en) | 2005-07-20 | 2009-04-07 | Draka Comteq B.V. | Water-swellable tape, adhesive-backed for coupling when used inside a buffer tube |
| US7599589B2 (en) | 2005-07-20 | 2009-10-06 | Draka Comteq B.V. | Gel-free buffer tube with adhesively coupled optical element |
| FR2893149B1 (fr) | 2005-11-10 | 2008-01-11 | Draka Comteq France | Fibre optique monomode. |
| WO2007091879A1 (en) | 2006-02-08 | 2007-08-16 | Draka Comteq B.V. | Optical fiber cable suited for blown installation or pushing installation in microducts of small diameter |
| FR2899693B1 (fr) | 2006-04-10 | 2008-08-22 | Draka Comteq France | Fibre optique monomode. |
| FR2900739B1 (fr) | 2006-05-03 | 2008-07-04 | Draka Comteq France | Fibre de compensation de la dispersion chromatique |
| FR2904876B1 (fr) | 2006-08-08 | 2008-11-21 | Draka Comteq France | Cable de telecommunication a fibres optiques |
| FR2908250B1 (fr) | 2006-11-03 | 2009-01-09 | Draka Comteq France Sa Sa | Fibre de compensation de la dispersion chromatique |
| FR2908525B1 (fr) | 2006-11-10 | 2009-06-26 | Draka Comteq France Sa Sa | Cable de telecommunication a fibres optiques |
| EP1930753B1 (en) | 2006-12-04 | 2015-02-18 | Draka Comteq B.V. | Optical fiber with high Brillouin threshold power and low bending losses |
| FR2914751B1 (fr) | 2007-04-06 | 2009-07-03 | Draka Comteq France | Fibre optique monomode |
| FR2915002B1 (fr) | 2007-04-11 | 2009-11-06 | Draka Comteq France | Procede d'acces a une ou plusieurs fibres optiques d'un cable de telecommunication |
| US7724998B2 (en) | 2007-06-28 | 2010-05-25 | Draka Comteq B.V. | Coupling composition for optical fiber cables |
| US7646952B2 (en) | 2007-06-28 | 2010-01-12 | Draka Comteq B.V. | Optical fiber cable having raised coupling supports |
| US7639915B2 (en) | 2007-06-28 | 2009-12-29 | Draka Comteq B.V. | Optical fiber cable having a deformable coupling element |
| US8081853B2 (en) | 2007-11-09 | 2011-12-20 | Draka Comteq, B.V. | Single-fiber drop cables for MDU deployments |
| US8145026B2 (en) | 2007-11-09 | 2012-03-27 | Draka Comteq, B.V. | Reduced-size flat drop cable |
| US8041168B2 (en) | 2007-11-09 | 2011-10-18 | Draka Comteq, B.V. | Reduced-diameter ribbon cables with high-performance optical fiber |
| US8031997B2 (en) | 2007-11-09 | 2011-10-04 | Draka Comteq, B.V. | Reduced-diameter, easy-access loose tube cable |
| US8165439B2 (en) | 2007-11-09 | 2012-04-24 | Draka Comteq, B.V. | ADSS cables with high-performance optical fiber |
| US8041167B2 (en) | 2007-11-09 | 2011-10-18 | Draka Comteq, B.V. | Optical-fiber loose tube cables |
| WO2009062131A1 (en) | 2007-11-09 | 2009-05-14 | Draka Comteq, B.V. | Microbend- resistant optical fiber |
| US20090214167A1 (en) | 2008-02-25 | 2009-08-27 | Draka Comteq B.V. | Optical Cable Buffer Tube with Integrated Hollow Channels |
| FR2929716B1 (fr) | 2008-04-04 | 2011-09-16 | Draka Comteq France Sa | Fibre optique a dispersion decalee. |
| FR2930997B1 (fr) | 2008-05-06 | 2010-08-13 | Draka Comteq France Sa | Fibre optique monomode |
| FR2931253B1 (fr) | 2008-05-16 | 2010-08-20 | Draka Comteq France Sa | Cable de telecommunication a fibres optiques |
| FR2932932B1 (fr) | 2008-06-23 | 2010-08-13 | Draka Comteq France Sa | Systeme optique multiplexe en longueur d'ondes avec fibres optiques multimodes |
| FR2933779B1 (fr) | 2008-07-08 | 2010-08-27 | Draka Comteq France | Fibres optiques multimodes |
| US7970247B2 (en) | 2008-09-12 | 2011-06-28 | Draka Comteq B.V. | Buffer tubes for mid-span storage |
| US7974507B2 (en) | 2008-09-12 | 2011-07-05 | Draka Comteq, B.V. | High-fiber-density optical fiber cable |
| US8401353B2 (en) | 2008-09-12 | 2013-03-19 | Draka Comteq B.V. | Optical fiber cable assembly |
| DK2344911T3 (en) | 2008-11-07 | 2015-07-13 | Draka Comteq Bv | Reduced diameter optical fiber |
| FR2938389B1 (fr) | 2008-11-07 | 2011-04-15 | Draka Comteq France | Systeme optique multimode |
| EP2565997A3 (en) | 2008-11-12 | 2013-06-19 | Draka Comteq B.V. | Amplifying optical fiber and method of manufacturing. |
| FR2939246B1 (fr) | 2008-12-02 | 2010-12-24 | Draka Comteq France | Fibre optique amplificatrice et procede de fabrication |
| FR2939522B1 (fr) | 2008-12-08 | 2011-02-11 | Draka Comteq France | Fibre optique amplificatrice resistante aux radiations ionisantes |
| FR2939911B1 (fr) | 2008-12-12 | 2011-04-08 | Draka Comteq France | Fibre optique gainee, cable de telecommunication comportant plusieurs fibres optiques et procede de fabrication d'une telle fibre |
| NL1036343C2 (nl) | 2008-12-19 | 2010-06-22 | Draka Comteq Bv | Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van een optische voorvorm. |
-
2008
- 2008-12-19 NL NL1036343A patent/NL1036343C2/nl not_active IP Right Cessation
-
2009
- 2009-12-17 DK DK09015589T patent/DK2199263T3/da active
- 2009-12-17 JP JP2009286151A patent/JP5723095B2/ja active Active
- 2009-12-17 EP EP20090015589 patent/EP2199263B1/en active Active
- 2009-12-19 US US12/642,784 patent/US9051205B2/en active Active
- 2009-12-21 CN CN200910263860.3A patent/CN101746949B/zh active Active
- 2009-12-21 BR BRPI0905127A patent/BRPI0905127B1/pt active IP Right Grant
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4445918A (en) * | 1981-06-22 | 1984-05-01 | Cselt Centro Studi E Laboratori Telecomunicazioni S.P.A. | Process and apparatus for on-line dehydrogenation of fiber-drawing preforms |
| US4816050A (en) * | 1982-03-05 | 1989-03-28 | Cselt - Centro Studi E Laboratori Telecomunicazioni S.P.A. | Process and apparatus for making optical-fiber preforms |
| JPS59121129A (ja) * | 1982-12-28 | 1984-07-13 | Fujitsu Ltd | 光フアイバ母材の製造方法 |
| US5188648A (en) * | 1985-07-20 | 1993-02-23 | U.S. Philips Corp. | Method of manufacturing optical fibres |
| US5504829A (en) * | 1993-12-27 | 1996-04-02 | Corning Incorporated | Optical fiber for soliton transmission and method of making |
| US20030084685A1 (en) * | 2001-11-02 | 2003-05-08 | Jds Uniphase Corporation | Method of making an optical fiber or preform having a reduced hydrogen content |
| US20050041943A1 (en) * | 2003-05-15 | 2005-02-24 | Draka Fibre Technology B.V. | Method for the production of an optical fibre, preform, and an optical fibre |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2535318A2 (en) | 2011-06-17 | 2012-12-19 | Draka Comteq B.V. | Device and method for manufacturing a preform of an optical glass fiber |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20100154479A1 (en) | 2010-06-24 |
| JP2010143819A (ja) | 2010-07-01 |
| EP2199263B1 (en) | 2014-04-16 |
| CN101746949A (zh) | 2010-06-23 |
| EP2199263A1 (en) | 2010-06-23 |
| DK2199263T3 (da) | 2014-06-30 |
| US9051205B2 (en) | 2015-06-09 |
| JP5723095B2 (ja) | 2015-05-27 |
| BRPI0905127A2 (pt) | 2011-06-14 |
| BRPI0905127B1 (pt) | 2019-01-02 |
| CN101746949B (zh) | 2014-07-23 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| NL1036343C2 (nl) | Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van een optische voorvorm. | |
| NL1023438C2 (nl) | Werkwijze ter vervaardiging van een optische vezel, voorvorm en een optische vezel. | |
| CN100371275C (zh) | 在外部气相沉积法中制备光纤预制棒的方法和设备 | |
| CN103922579A (zh) | 一种基于基管外径维持与修正控制制造光纤预制芯棒的装置及其制造光纤预制芯棒方法 | |
| JP5572022B2 (ja) | 光ファイバ用一次プリフォームの製造方法 | |
| CN1922114B (zh) | 制造光纤预制件的方法及设备 | |
| RU2595030C2 (ru) | Способ изготовления первичной заготовки для оптических волокон, первичная заготовка, окончательная заготовка, оптическое стекло | |
| JP6258267B2 (ja) | 光ファイバープリフォーム内のテーパーを低減するための等温プラズマｃｖｄシステム | |
| KR100991925B1 (ko) | 광섬유 모재의 굴절률을 보정하는 인선 방법 및 장치 | |
| CN203866200U (zh) | 一种基于基管外径维持与修正控制制造光纤预制芯棒的装置 | |
| US8826698B2 (en) | Method for manufacturing a primary preform for optical fibres, primary preform, final preform and optical fibre | |
| US9249046B2 (en) | Methods for making a graded-index multimode preform and fiber | |
| US20040093905A1 (en) | Method for producing optical fiber base material | |
| US10604440B2 (en) | Method for the defined separation of a glass layer on an inner wall of a preform and preform and communication system | |
| NL2010724C2 (en) | A pcvd method for manufacturing a primary preform for optical fibers. | |
| US9663394B2 (en) | Method for manufacturing an optical preform | |
| JP2004099342A (ja) | ガラス部材の製造方法及び装置 | |
| CN117902824A (zh) | 在光纤预制件制造过程中控制折射率分布 | |
| KR100641941B1 (ko) | 길이방향으로 균일성을 갖는 기가비트급 전송시스템용다중모드 광섬유의 제조방법 | |
| JP2004224588A (ja) | 光ファイバ母材の製造方法およびその装置 | |
| JP2005194133A (ja) | ガラス母材の製造方法 | |
| JP2015202982A (ja) | 光ファイバ母材の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM | Lapsed because of non-payment of the annual fee |
Effective date: 20230101 |