Trífhluairíd chlóirín
| Substaint cheimiceach | aicme eintiteas ceimiceach |
|---|---|
| Mais mhóilíneach | 91.964 Da |
| Struchtúr ceimiceach | |
 | |
| SMILES canónta | Model 2D FCl(F)F |
| InChI | Model 3D |
| Airí | |
| Dlús | 1.77 g/cm³ (a 53 °F, leacht)  |
| Móimint leictreach dhépholach | 0.6 D |
| Pointe leáite | −76 °C −76.34 °C |
| Fiuchphointe | 12 °C (a 760 Torr) 11.75 °C (a 101.325 kPa) |
| Móimint leictreach dhépholach | 0.6 D |
| Galbhrú | 1.4 atm (a 20 °C) |
| Guais | |
| Uasteorainn nochta | 0.4 mg/m³ (Stáit Aontaithe Mheiriceá) |
| Láithreach contúirteach don bheatha nó sláinte | 75.6 mg/m³ |
| NFPA 704: Standard System for the Identification of the Hazards of Materials for Emergency Response () | |
Is comhdhúil idirhalaigine í trífhluairíd chlóirín leis an bhfoirmle ClF 3 . Comhdhlúthaíonn an gás gan dath, nimhiúil, creimneach agus an-imoibríoch seo go leacht buí bán-uaine, an fhoirm ina ndíoltar é go minic (faoi bhrú ag teocht an tseomra). Is díol spéise an chomhdhúil go príomha mar chomhpháirt i mbreoslaí roicéad, in oibríochtaí glantacháin gan plasma agus eitseála sa tionscal leathsheoltóra,[1] i bpróiseáil breosla in imoibreoir núicléach, agus in oibríochtaí tionsclaíocha eile.
Tagairtí
[cuir in eagar | athraigh foinse]- ↑ Habuka (2004). "Silicon Etch Rate Using Chlorine Trifluoride". Journal of the Electrochemical Society 151 (11): G783–G787. doi:.