「biprism」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To obtain an interference microscope image of a multi-stage electron beam biprism by an electromagnetic lens system with the same number as the one-stage electron beam biprism without drop of operation flexibility of the multi-stage electron beam biprism.例文帳に追加

多段電子線バイプリズムの操作自由度を落とすことなく、１段電子線バイプリズムと同数の電磁レンズ系によって、多段電子線バイプリズムの干渉顕微鏡像を得る。 - 特許庁

An electron wave can be split into two coherent waves by an electron-optical biprism interferometer. 例文帳に追加

電子波は、電子光学バイプリズム干渉計によって2つの可干渉な波に分割することができる。 - 科学技術論文動詞集

To provide an electron beam biprism having a large deflection angle of an electron beam per applied voltage.例文帳に追加

印加電圧当たりの電子線の偏向角が大きな電子線バイプリズムを提供する。 - 特許庁

Then, a double-biprism interference optical system is constructed of a lower-stage electron beam biprism arranged downstream side of the objective lens up to the first image plane of the specimen.例文帳に追加

そして対物レンズの下流側に下段の電子線バイプリズムを配置させることにより、試料の第１像面までで２段バイプリズム干渉光学系を構成する。 - 特許庁

A first electron-beam biprism is set in an irradiation optical system, and two electron beams with different angles are irradiated on an observation area of the sample at the same time.例文帳に追加

照射光学系中に第１の電子線バイプリズムを設置し、角度の異なる２つの電子線を試料の観察領域に同時に照射する。 - 特許庁

An upper-stage electron beam biprism is arranged at further upstream side in a progress direction of an electron beam than a specimen, and an image of the electron beam biprism is formed on the specimen (on an object plane) with the use of an imaging action of an upstream side magnetic field of an objective lens.例文帳に追加

試料より電子線の進行方向の上流側に上段の電子線バイプリズムを配置するとともに、対物レンズの前方磁界の結像作用を利用して、試料上（物面上）に電子線バイプリズムの像を結像させる。 - 特許庁

To provide an electron beam biprism device which can far simply and speedily perform a replacement operation of a line electrode and thrat the line electrode more easily.例文帳に追加

線電極の交換作業をより一層簡単にかつ迅速にできるとともに、線電極の取扱いをより簡単にできる電子線バイプリズム装置を提供する。 - 特許庁

The present invention is for observation by an interference microscopic image by a two-step electron-beam biprism interferometer.例文帳に追加

従来の電子線干渉計測法では、電子線バイプリズムの極細線電極から発生するフレネル縞が取得画像ごとに変化して干渉像に重畳されるため、新たなアーティファクトの原因となり、高精度な再生像を得るには至っていない。 - 特許庁

To observe or inspect a sample by correctly selecting the desired position for observation or inspection and to prevent a filament from being cut in an electron beam biprism device.例文帳に追加

電子線バイプリズム装置において、試料の観察または検査したい場所を正確に選択して観察または検査できるようにし且つフィラメントの切断が発生しないようにすること。 - 特許庁

Superimposing effect of deflection of each filament electrode by piling filament electrodes of the electron beam biprism in multistage in an optical axis direction totally gives a large deflection angle to the electron beam.例文帳に追加

光軸方向に電子線バイプリズムのフィラメント電極を多段に重ねることにより、それぞれのフィラメント電極がもつ偏向の効果を重ね合わせ、全体として電子線に大きな偏向角を与える。 - 特許庁

The two electron beams transmitting the sample at the same time are spatially separated and imaged by a second electron-beam biprism arranged in an imaging optical system to obtain two electron microscope images with different irradiation angles.例文帳に追加

この同時に試料を透過した２つの電子線を結像光学系に配置した第２の電子線バイプリズムにより空間的に分離して結像させ、照射角度の異なる２つの電子顕微鏡像を得る。 - 特許庁

An electron beam emitted from an electron source 1 is separated by a biprism 11 arranged under a convergence lens 3, and made incident to an objective lens 4 as an electron beam 6 transmitted through a sample and an electron beam 7 transmitted through vacuum.例文帳に追加

電子源１から発せられた電子線は収束レンズ3の下に配備されたバイプリズム１１によって分離され、試料を透過する電子線６、真空を通過する電子線７として対物レンズ４に入る。 - 特許庁

By using two electron beam biprisms in two stages in the optical axis direction, not only the Fresnel diffraction can be avoided, but also the interference fringe spacing s and the interference region width W are independently controlled by controlling the respective electrode voltage of the electron beam biprism.例文帳に追加

２つの電子線バイプリズムを光軸方向に２段に用いることにより、フレネル回折を回避できるだけでなく、干渉縞間隔ｓと干渉領域幅Ｗを、それぞれの電子線バイプリズム電極電圧を制御して、独立にコントロールする。 - 特許庁

In addition to an upper-step and lower-step electron-beam biprisms in the conventional two-step electron-beam biprism interferometer, an electron beam deflector is used anew, or an electron-beam deflection function is also given to the upper-step or the lower-step electron-beam biprisms.例文帳に追加

従来の２段電子線バイプリズム干渉計における上段と下段の電子線バイプリズムに加えて、新たに、電子線偏向器を使用することにより、もしくは上段または下段の電子線バイプリズムに電子線偏向機能を合わせ持たせた。 - 特許庁

The column includes a charged particle beam emitter (2) for emitting primary charged particle beams as one source of the primary charged particle beams; a biprism (6) adapted for acting on the primary charge particle beams so as to generate two virtual sources; and a charged particle beam optical system (10) adapted to simultaneously focus the charged particle beams on two positions of a specimen (8) corresponding to images of two virtual sources.例文帳に追加

コラムは、一次荷電粒子ビーム源として一次荷電粒子ビームを放出する荷電粒子ビームエミッタ（２）と、２つの仮想源が作られるように一次荷電粒子ビームに作用するようになったバイプリズム（６）と、荷電粒子ビームを２つの仮想源の像に対応した試料（８）の２つの位置に同時に集束させるようになった荷電粒子ビーム光学系（１０）とを有する。 - 特許庁

This transmission electron microscope can form an electron beam hologram H by a control device 17 by bringing an electron beam biprism 15 into a state in which interference is caused between an object wave E1 and a reference wave E2 by grounding an object wave side electrode 15a and a reference wave side electrode 15b and impressing positive potential V1 to a filament 15c.例文帳に追加

制御装置１７により、電子線バイプリズム１５を、物体波側電極１５ａと参照波側電極１５ｂとを接地し、フィラメント１５ｃに正の電位Ｖ１を印加し、物体波Ｅ１と参照波Ｅ２とを干渉させる状態にすることにより、電子線ホログラムＨを形成することができる。 - 特許庁