莱思科磁控管溅镀源，圆形R&D溅射源

针对r&d应用，大连瑞闻科技有限公司提供的圆形torus溅射源具有良好的薄膜均勻性及沉积速率。

同时提供hv溅射源及uhv溅射源：其中hv溅射源可使用直径1~4寸的溅镀靶材；uhv溅射源可使用直径2～3寸的溅镀靶材。

torus的r&d溅射源既可以使用磁性靶材，也可以使用非磁性靶材；并兼容rf, dc或脉动dc等多种电源。

我们还能提供齐全的溅射源附件，包括：靶表面气环、防止交叉污染用的烟囱及挡板。

另外，我们也能根据客戶需要订制的torus溅射源组合(多个溅射源安装在一个法兰上，并配备有所必要的附件)，来满足客戶的共溅射薄膜工艺需求。