[go: up one dir, main page]
More Web Proxy on the site http://driver.im/

WO2014048999A1 - Illuminateur de photolithographie telecentrique selon deux directions - Google Patents

Illuminateur de photolithographie telecentrique selon deux directions Download PDF

Info

Publication number
WO2014048999A1
WO2014048999A1 PCT/EP2013/069982 EP2013069982W WO2014048999A1 WO 2014048999 A1 WO2014048999 A1 WO 2014048999A1 EP 2013069982 W EP2013069982 W EP 2013069982W WO 2014048999 A1 WO2014048999 A1 WO 2014048999A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
focal plane
orthogonal
microlenses
illuminator
matrix
Prior art date
Application number
PCT/EP2013/069982
Other languages
English (en)
Inventor
Bertrand PLAINCHAMP
Renaud Mercier Ythier
Original Assignee
Sagem Defense Securite
Shanghai Micro Electronics Equipment Co., Ltd.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sagem Defense Securite, Shanghai Micro Electronics Equipment Co., Ltd. filed Critical Sagem Defense Securite
Priority to EP13770451.6A priority Critical patent/EP2901215B1/fr
Priority to US14/430,895 priority patent/US9874818B2/en
Priority to CN201380049388.8A priority patent/CN104823111B/zh
Priority to JP2015532463A priority patent/JP6501187B2/ja
Publication of WO2014048999A1 publication Critical patent/WO2014048999A1/fr

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
    • G02B27/0927—Systems for changing the beam intensity distribution, e.g. Gaussian to top-hat
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058—Mask illumination systems
    • G03F7/7015—Details of optical elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
    • G02B27/0938—Using specific optical elements
    • G02B27/095—Refractive optical elements
    • G02B27/0955—Lenses
    • G02B27/0961—Lens arrays
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058—Mask illumination systems
    • G03F7/70066—Size and form of the illuminated area in the mask plane, e.g. reticle masking blades or blinds
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058—Mask illumination systems
    • G03F7/70075—Homogenization of illumination intensity in the mask plane by using an integrator, e.g. fly's eye lens, facet mirror or glass rod, by using a diffusing optical element or by beam deflection

Definitions

  • the present invention relates to an illuminator of a photolithography device, and such a photolithography device.
  • Photolithography is a technique used for the fabrication of semiconductor devices, using electromagnetic radiation to generate fine patterns on semiconductor devices.
  • an illuminator of a photolithography device illuminates a mask whose image is projected onto a semiconductor wafer (also known as the "wafer").
  • a known illuminator generally comprises a diffractive optical element 1 (also called a "diffractive optical element” or DOE) which is illuminated by a source 1 'of illumination.
  • a diffractive optical element 1 also called a "diffractive optical element” or DOE
  • the source 1 'of illumination is for example a laser source.
  • the element 1 can be any element generally used to produce diffraction, such as for example a two-dimensional matrix of spherical microlenses, a Fresnel lens, a diffraction grating, etc.
  • the element acts as an optical diffuser and its main function is to produce at its output a pupil of general pattern wanted, for example in the form of disk or ring.
  • the illuminator comprises at the output of the element 1 a zoom 2 formed of several lenses.
  • the function of the zoom 2 is to bring the image of the exit pupil of the element 1 to a finite distance and to be able to vary it in dimension.
  • a matrix L1 of micro-lenses consisting of a flat blade comprising two faces facing one another, and on each face being formed an array of spherical or cylindrical microlenses.
  • the L1 matrix of microlenses breaks down the incident beam, at the output of the zoom 2, into a multitude of sub-beams. In other words, the exit pupil of the matrix L1 is decomposed into sub-exit pupils.
  • a second L2 matrix of microlenses is disposed downstream of the first L1, so that the L1 L2 system is afocal.
  • a third L3 matrix of microlenses is disposed downstream of the second L2.
  • a shutter 3 consisting of a plate or a grid in which openings are provided at regular intervals.
  • the shutter 3 may comprise two plates 31, 32 displaced in synchronism with the movements of the mask 7 and w slice to be illuminated in a direction orthogonal to the optical axis, or two directions orthogonal to the optical axis and where appropriate between them.
  • the shutter 3 makes it possible to control the dose, the image format, and the illumination profile on the mask 7. It is in this respect positioned in a conjugate plane of the focal plane of a condenser 5, the mask 7 being disposed slightly downstream thereof. This makes it possible to prevent light from being transmitted outside the desired field, generating stray light on the wafer during illumination.
  • the fact that the mask is slightly defocused with respect to the focal plane of the condenser makes it possible to improve the control of the dose by smoothing temporal variations of energies of the light pulses.
  • the network system L1 L2 upstream of the shutter 3 is afocal makes it possible to limit the size of the sub-pupil output of the system illuminating the shutter.
  • the image focal point of the third L3 matrix of microlenses is located at the object focus of a condenser 5, in order to make the illuminator telecentric, that is to say so that the exit pupil of the illuminator is at the infinite.
  • An apodization device 6 is also placed between the condenser 5 and the mask 7. As previously indicated, the shutter 3 is positioned in a conjugate plane of the focal plane of the condenser to ensure a clear closure of the light beam 10.
  • Such an illuminator provides in particular good results for the light beam in one dimension, i.e. when the shutter of the light beam must be made along a first axis in the plane of the shutter.
  • the telecentricity condition of the illuminator requires the shutter 3 to be positioned at the object focus of the microlens matrix L3 in the directions of the two shutter axes.
  • the condition of sharpness of the image of the shutter on the mask requires that the image focus of the microlens matrix L3 is positioned at the object focus of the condenser in both directions.
  • microlens matrix L3 have the same focal length in both directions.
  • focal length of the microlenses being of the same order of magnitude as the thickness of said microlenses, it is geometrically impossible to ensure obtaining this result, and thus to ensure perfect conjugation between the microlenses. shutter and mask in both directions.
  • the shutter causes a diffraction phenomenon which makes it difficult to obtain a clear image of the shutter in the plane of the condenser, and therefore on the mask. More particularly, the diffraction of the light by the grid diffuses the light beam in an opening greater than the opening of the sub-beams from the microlens matrices L1 L2. This results in two negative consequences:
  • the light from the shutter may not pass through the good microlens of the matrix L3, creating crosstalk between the sub-beams 100 and interference phenomena on the mask.
  • the diffraction by the shutter leads to increase the opening of the sub-beams at the input of the third matrix of microlenses L3.
  • a larger aperture limits the depth of field object of the matrix microlens L3, which increases the sensitivity to a defocusing of the shutter relative to the object focal plane of this matrix L3.
  • the setting of the illuminator is thus made more complex.
  • the invention proposes to overcome at least one of the above problems.
  • lithographic photo device illuminator comprising:
  • an optical homogenization system comprising at least one microlens array, arranged upstream of the condenser so that the image focal plane of the homogenization optical system is positioned at the object focal plane of the condenser,
  • the illuminator being characterized in that the homogenization optical system comprises two microlens matrices whose spacing, as well as the arrangement and orientation of the microlenses, are adapted so that the homogenization optical system has two orthogonal directions to the optical axis, confused image focal planes and object focal planes combined.
  • the invention is further supplemented by at least one of the following features:
  • the two directions orthogonal to the optical axis are orthogonal to each other.
  • each microlens array is a plate comprising two faces facing one another
  • the first microlens array with respect to the propagation direction of the light beam comprises cylindrical microlenses etched on each of its faces, the axes of the microlenses cylinders lenses of one face being orthogonal to the axes of the cylinders of the lenses of the other face and orthogonal to the optical axis
  • the spacing between the microlens matrices and the arrangement and orientation of the microlenses are adapted so that the system homogenization optics behaves, in a first direction orthogonal to the optical axis, as a convergent lens disposed at the first face of the first matrix, the plane of the shutter being at the object focal plane of said lens, and the object focal plane of the condenser being at the image focal plane of said lens
  • the convergent lens is formed by the cylindrical microlenses on the first face of the first matrix, the axes of the cylinders extending in a second direction orthogonal to the optical axis, and orthogonal to the first direction.
  • the spacing between the microlens matrices and the arrangement and orientation of the microlenses are adapted so that the homogenizing optical system behaves, in the second direction orthogonal to the optical axis and orthogonal to the first, as a system comprising:
  • the plane of the shutter is at the object focal plane of the converging lens, and the object focal plane of the condenser is at the image focal plane of the system.
  • the convergent lens on the second face of the first matrix on the one hand and the diverging lens on the other hand are formed by cylindrical microlenses whose axes of the cylinders extend in the first direction orthogonal to the optical axis.
  • the illuminator further comprises a network of diaphragms disposed at the image focal plane of the homogenization optical system,
  • each diaphragm of the network of diaphragms is arranged facing a microlens of the second microlens array of the homogenization optical system.
  • the invention also relates to a photolithography device, comprising a mask and an illuminator according to the invention, wherein the shutter of the illuminator is positioned in a conjugate plane of the image focal plane of a condenser.
  • the invention has many advantages.
  • An illuminator according to the invention fulfills the conditions of conjugation between the shutter and the mask to be illuminated both in a first direction orthogonal to the optical axis, but also in a second direction orthogonal to the optical axis, and preferably orthogonal to the first.
  • an illuminator according to the invention makes it possible to control the effect of the diffraction related to the shutter so as to increase the sharpness of the image of the shutter on the mask.
  • the control of the opening also makes it possible to make the third microlens matrix L3 less sensitive to a defocusing of the grid with respect to its object focal plane, which facilitates the assembly and adjustment of the illuminator according to the invention.
  • FIGS. 2a, 2b and 2c show schematically different embodiments of an illuminator according to the invention
  • FIG. 3 represents the relative dispositions of the microlens matrices downstream of the shutter
  • FIG. 4 represents the image of a slit of the shutter in the object focal plane of the condenser as a function of the coherence of light beams passing through a network of diaphragms.
  • FIGS. and 2c show schematically part of an illuminator according to the invention.
  • the illuminator comprises a source V of a light beam 10, for example a laser source, a diffractive element 1 placed at the output of the source 1 ', and a zoom 2 (these elements are not represented in FIGS. and 2c).
  • the beam 10 comprises, at its output from the afocal system L1 L2, a plurality of sub-beams 100 constituting sub-pupils of the output of the afocal system L1 L2.
  • the illuminator comprises a shutter 3, represented in the form of two grids 31, 32, and positioned at the level of the exit pupils of the afocal system L1 L2.
  • a homogenization optical system 4 comprising a third microlensed matrix L3 is placed downstream of the shutter 3, so that it is placed in the object focal plane of the homogenization optical system 4.
  • the illuminator also comprises a condenser 5 which makes it possible to superimpose, at the level of a photolithography mask 7, the sub-beams 100 coming from the afocal system L1 L2, an apodization device 6 being provided between the condenser 4 and the plane in which the mask 7 is positioned.
  • the focal plane object of the condenser 5 is advantageously arranged at the image focal plane of the homogenization system 4 to ensure the sharpness of the image of the shutter on the mask.
  • a photolithography device comprising such an illuminator also comprises a mask 7 disposed on an edge w to be etched, the shutter being arranged in the conjugate plane of the image focal plane of the condenser 5, it being understood that in use, a projection optic the image of the mask 7 on the slice w.
  • the homogenization system of the illuminator according to the invention makes it possible to obtain the sharpness and the telecentricity of the illuminator in two distinct directions, orthogonal to the optical axis. These directions are advantageously orthogonal to each other.
  • Z denotes the optical axis
  • X an axis in a first direction orthogonal to the axis optical and orthogonal to the section plane of the figures
  • Y an axis in a second direction orthogonal to the optical axis and the X axis.
  • the homogenization system making it possible to obtain this result comprises, in addition to the third microlens matrix L3, a fourth matrix of microlenses L4.
  • FIG. 3 Schematically shows the shutter 3, located at the object focus P of the homogenization system, and the image focal plane F 'of this system, to be located to the object focal plane FC of the condenser, in both directions X and Y.
  • the homogenizing optical system has the same focal length fi in the two directions X and Y, that is to say that it has focal planes image merged in these two directions and object focal planes also merged in these two directions.
  • each micro-lens matrix is in the form of a plane blade comprising two faces 310, 320, 410, 420 facing one another, a plurality of cylindrical microlenses being etched on at least one one of said faces.
  • the microlens matrix L3 comprises microlenses on each of its faces 310, 320, the microlenses being cylindrical, the axes of the microlenses of one face being orthogonal to the axes of the microlenses of the other face.
  • the axes of the microlenses of the two faces are orthogonal to the optical axis so that the light rays reach the microlenses by their cylindrical surfaces.
  • the microlens matrix L4 comprises cylindrical microlenses only on its first face 410 with respect to the direction of propagation of the luminous flux, the other face 420 being flat so as not to deflect the light rays in any direction.
  • the axes of the cylinders of the microlenses are oriented so that, in a first direction, for example the Y direction, the homogenization system behaves as a convergent lens 31 disposed at the first face of the matrix L3.
  • the plane of the shutter P is then at the focal plane object of said lens 31, and the object focal plane of the condenser FC is at the focal plane F 'of said lens.
  • the axes of the cylindrical lenses of the first face of the microlens matrix L3 extend orthogonally to the direction Y, while the axes of the other cylindrical lenses (ie those of the second face of the matrix L3 and the first face of the matrix L4) extend parallel to the direction Y, so as not to deflect the propagation of the light beams in the direction Y.
  • the axes of the cylinders of the microlenses are oriented parallel to the first direction Y, so that the homogenization system 4 behaves as a system comprising:
  • a diverging lens 41 at the first face of the matrix L4 the plane of the shutter being in the focal focal plane of the converging lens 32, and the object focal plane of the condenser being at the focal plane F 'of the system.
  • the lenses are dimensioned in a manner known to those skilled in the art so that their respective focal distances make it possible to obtain such a result.
  • the positioning of the two microlens matrices L3 and L4, and the dimensioning of the lenses composing them, makes it possible to obtain a homogenization system 4 having the same focal length in both directions.
  • the illuminator comprises, in order to control the diffraction phenomena at the output of the shutter, an array 8 of aperture diaphragms disposed in the plane of the Fourier transform, or Fourier plane, from the plane P of the shutter.
  • this network comprises a plurality of diaphragms 80, each diaphragm 80 being disposed facing a corresponding microlens 40 of an adjacent matrix of the homogenization system.
  • the homogenization system 4 comprises only an L3 matrix of microlenses; the network of diaphragms is then in the focal plane image of the matrix L3 of microlens, the diaphragms being opposite microlenses of this matrix L3.
  • FIG. 2c the use of a network 8 of diaphragms with a homogenization system 4 comprising two microlens arrays L3 L4 has been combined as previously described with reference to FIG. 2a.
  • the diaphragm network 8 is disposed between the two microlens matrices L3 and L4, in the plane of F ', this plane being the Fourier plane of the plane of the shutter.
  • the diaphragms are located opposite the microlenses of the matrices L4 and L3 of microlenses.
  • the presence of diaphragms makes it possible to avoid the phenomena of crosstalk between the sub-beams 100 of the light beam.
  • the array 8 of diaphragms also makes it possible to increase the depth of field sufficiently to make the accuracy of the illuminator less sensitive to a defocusing of the shutter with respect to the object focal plane of the homogenization system, and thus to facilitate the fabrication and the setting of the illuminator.
  • the aperture diameter of a diaphragm is of the order of magnitude of a microlens.
  • a microlens may have a diameter of the order of 0.5 mm, and an opening diameter may be of the order of 0.1 mm.
  • the diffraction correction resulting from the presence of the shutter by the network of aperture diaphragms depends on certain parameters of the illuminator.
  • the sharpness of the image depends on the coherence factor of the illumination of the network of diaphragms.
  • the curve drawn for a "partially coherent" beam corresponds to a coherence factor of 0.3
  • the curve drawn for an "incoherent" beam corresponds to a coherence factor equal to 1.
  • the slot is disposed at 25 mm, the transparent portion of the slot being less than 25 mm, and the opaque portion after 25 mm.
  • the light intensity is represented as a percentage of the intensity of the incident beam. Theoretically, this intensity is equal to 100% at the level of the transparent part of the slot and falls to 0% at the level of the opaque part.
  • the case where the beam is partially coherent is an intermediate case, providing a good compromise between the two previous cases. More specifically, an advantageous configuration is ensured when the beam has a coherence factor of between 0.2 and 0.8.
  • microlens matrix L3 of the homogenization system ⁇ the angle of illumination of the shutter with respect to the optical axis, and b the aperture diameter of the diaphragms.
  • the variations of the aperture diameters from one diaphragm to the other are between 0 and 50%, and preferably between 0 and 30%.
  • the aperture diameters of the diaphragms advantageously follow a random statistical distribution, irrespective of the illumination of the shutter. This makes it possible to average the diffraction phenomena, for example even locally for a given sub-beam 100.

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Microscoopes, Condenser (AREA)

Abstract

L'invention concerne llluminateur de dispositif photo-lithographique, comprenant : - une source d'un faisceau lumineux, - un condenseur (5), - un système optique d'homogénéisation (4), comprenant au moins une matrice de microlentilles (L3, L4), disposé en amont du condenseur (5) de sorte que le plan focal image du système optique d'homogénéisation soit positionné au plan focal objet du condenseur, - un obturateur (3), disposé au plan focal objet du système optique d'homogénéisation, et dans lequel le système optique d'homogénéisation comprend deux matrices de microlentilles (L3, L4) dont l'écartement ainsi que la disposition et l'orientation des microlentilles sont adaptés pour que le système optique d'homogénéisation présente, selon deux directions (X,Y) orthogonales à l'axe optique, des plans focaux image confondus et des plans focaux objet confondus. L'invention concerne également un dispositif de photolithographie comprenant un tel illuminateur.

Description

ILLUMINATEUR DE PHOTOLITHOGRAPHIE TELECENTRIQUE SELON DEUX
DIRECTIONS
DOMAINE TECHNIQUE DE L'INVENTION
La présente invention concerne un illuminateur d'un dispositif de photolithographie, et un tel dispositif de photolithographie. ETAT DE L'ART
La photolithographie est une technique utilisée pour la fabrication de dispositifs semiconducteurs, en utilisant un rayonnement électromagnétique pour générer des motifs fins sur les dispositifs semiconducteurs. A cet effet, un illuminateur d'un dispositif de photolithographie illumine un masque dont l'image est projetée sur une tranche semiconductrice (également connue sous le nom anglais de « wafer »).
En référence à la figure 1 , un illuminateur connu comporte généralement un élément optique diffractif 1 (également appelé « diffractive optical élément » ou DOE en anglais) qui est illuminé par une source 1 ' d'illumination.
La source 1 ' d'illumination est par exemple une source laser.
L'élément 1 peut être n'importe quel élément généralement utilisé pour produire de la diffraction, comme par exemple une matrice en deux dimensions de microlentilles sphériques, une lentille de Fresnel, un réseau de diffraction, etc. L'élément joue le rôle d'un diffuseur optique et a pour fonction principale de produire à sa sortie une pupille de motif général voulu, par exemple en forme de disque ou d'anneau.
L'illuminateur comporte en sortie de l'élément 1 un zoom 2 formé de plusieurs lentilles. La fonction du zoom 2 est de ramener l'image de la pupille de sortie de l'élément 1 à une distance finie et de pouvoir la faire varier en dimension.
En sortie du zoom 2 est disposée une matrice L1 de micro-lentilles, constituée d'une lame plate comprenant deux faces en regard l'une de l'autre, et sur chaque face étant formé un réseau de microlentilles sphériques ou cylindriques. La matrice L1 de microlentilles décompose le faisceau incident, en sortie du zoom 2, en une multitude de sous faisceaux. En d'autres termes, la pupille de sortie de la matrice L1 est décomposée en sous-pupilles de sortie. Une deuxième matrice L2 de microlentilles est disposée en aval de la première L1 , de sorte que le système L1 L2 soit afocal.
Une troisième matrice L3 de microlentilles est disposée en aval de la deuxième L2. Au foyer objet de cette troisième matrice L3 est positionné un obturateur 3, constitué d'une plaque ou d'une grille dans laquelle sont aménagées des ouvertures à intervalles réguliers. Alternativement, l'obturateur 3 peut comprendre deux plaques 31 , 32, déplacées en synchronisme avec les déplacements du masque 7 et de la tranche w à éclairer selon une direction orthogonale à l'axe optique, ou deux directions orthogonales à l'axe optique et le cas échéant entre elles. On pourra se référer au document WO2007/028793 pour plus de détails sur la réalisation de cet obturateur.
Dans tous les cas, l'obturateur 3 permet de contrôler la dose, le format image, et le profil d'illumination sur le masque 7. Il est à cet égard positionné dans un plan conjugué du plan focal d'un condenseur 5, le masque 7 étant disposé légèrement en aval de celui-ci. Ceci permet d'éviter que de la lumière soit transmise en dehors du champ souhaité, générant de la lumière parasite sur la tranche en cours d'illumination. Le fait que le masque soit légèrement défocalisé par rapport au plan focal du condenseur permet d'améliorer le contrôle de la dose en lissant des variations temporelles d'énergies des impulsions lumineuses.
Le fait que le système de réseaux L1 L2 en amont de l'obturateur 3 soit afocal permet de limiter la taille des sous-pupilles de sortie du système éclairant l'obturateur. Il existe ainsi une zone non éclairée, située entre les microlentilles des faisceaux, où la partie opaque de l'obturateur 3 peut se positionner sans intercepter le faisceau lorsque le champ image doit être complètement éclairé. Ceci permet une coupure franche des sous-faisceaux en sortie de l'obturateur et une obturation nette au niveau du masque.
Le foyer image de la troisième matrice L3 de microlentilles est situé au foyer objet d'un condenseur 5, afin de rendre l'illuminateur télécentrique, c'est-à-dire afin que la pupille de sortie de l'illuminateur soit à l'infini. Le condenseur 5, quant à lui, comporte une pluralité de lentilles permettant de superposer au niveau du masque les sous-faisceaux issus des matrices L1 L2.
Un dispositif d'apodisation 6 est également placé entre le condenseur 5 et le masque 7. Comme précédemment indiqué, l'obturateur 3 est positionné dans un plan conjugué du plan focal du condenseur pour assurer une obturation nette du faisceau lumineux 10.
Un tel illuminateur fournit notamment de bons résultats pour le faisceau lumineux selon une dimension, i.e. lorsque l'obturation du faisceau lumineux doit être faite selon un premier axe dans le plan de l'obturateur.
Cependant, dans l'hypothèse où l'obturation doit être faite selon deux axes du plan de l'obturateur, notamment deux axes perpendiculaires à l'axe optique et perpendiculaires entre eux, des problématiques d'imagerie se posent.
En effet, la condition de télécentricité de l'illuminateur impose que l'obturateur 3 soit positionné au foyer objet de la matrice de microlentilles L3 dans les directions des deux axes d'obturation. D'autre part, la condition de netteté de l'image de l'obturateur sur le masque impose que le foyer image de la matrice de microlentilles L3 soit positionné au foyer objet du condenseur dans les deux directions.
Ces deux conditions imposent que la matrice de microlentilles L3 ait la même distance focale selon les deux directions. Or, dans ce type d'illuminateur, la distance focale des microlentilles étant du même ordre de grandeur que l'épaisseur desdites microlentilles, il est géométriquement impossible d'assurer l'obtention de ce résultat, et donc de garantir une parfaite conjugaison entre l'obturateur et le masque dans les deux directions.
D'autre part, l'obturateur provoque un phénomène de diffraction qui rend difficile l'obtention d'une image nette de l'obturateur dans le plan du condenseur, et donc sur le masque. Plus particulièrement, la diffraction de la lumière par la grille diffuse le faisceau lumineux selon une ouverture plus grande que l'ouverture des sous-faisceaux issus des matrices de microlentilles L1 L2. Il en résulte deux conséquences négatives :
Si la diffraction est trop importante, la lumière issue de l'obturateur peut ne pas passer par la bonne microlentille de la matrice L3, créant de la diaphonie entre les sous-faisceaux 100 et des phénomènes d'interférence sur le masque.
La diffraction par l'obturateur conduit à augmenter l'ouverture des sous- faisceaux en entrée de la troisième matrice de microlentilles L3. Or, une ouverture plus grande limite la profondeur de champ objet de la matrice de microlentilles L3, ce qui augmente la sensibilité à une défocalisation de l'obturateur par rapport au plan focal objet de cette matrice L3. Le réglage de l'illuminateur est donc rendu plus complexe.
PRESENTATION DE L'INVENTION
L'invention propose de pallier au moins l'un des problèmes ci-dessus.
A cet effet, on propose selon l'invention un illuminateur de dispositif photo lithographique, comprenant :
- une source d'un faisceau lumineux,
- un condenseur,
- un système optique d'homogénéisation, comprenant au moins une matrice de microlentilles, disposé en amont du condenseur de sorte que le plan focal image du système optique d'homogénéisation soit positionné au plan focal objet du condenseur,
- un obturateur, disposé au plan focal objet du système optique d'homogénéisation, et
l'illuminateur étant caractérisé en ce le système optique d'homogénéisation comprend deux matrices de microlentilles dont l'écartement, ainsi que la disposition et l'orientation des microlentilles, sont adaptés pour que le système optique d'homogénéisation présente, selon deux directions orthogonales à l'axe optique, des plans focaux image confondus et des plans focaux objet confondus.
Avantageusement, mais facultativement, l'invention est en outre complétée par au moins l'une des caractéristiques suivantes :
- les deux directions orthogonales à l'axe optique sont orthogonales entre elles.
chaque matrice de microlentilles est une lame comprenant deux faces en regard l'une de l'autre, et la première matrice de microlentilles par rapport à la direction de propagation du faisceau lumineux comprend des microlentilles cylindriques gravées sur chacune de ses faces, les axes des cylindres des lentilles d'une face étant orthogonaux aux axes des cylindres des lentilles de l'autre face et orthogonaux à l'axe optique, l'écartement entre les matrices de microlentilles ainsi que la disposition et l'orientation des microlentilles sont adaptés pour que le système optique d'homogénéisation se comporte, dans une première direction orthogonale à l'axe optique, comme une lentille convergente disposée au niveau de la première face de la première matrice, le plan de l'obturateur étant au plan focal objet de ladite lentille, et le plan focal objet du condenseur étant au plan focal image de ladite lentille,
la lentille convergente est formée par les microlentilles cylindriques sur la première face de la première matrice, les axes des cylindres s'étendant selon une deuxième direction orthogonale à l'axe optique, et orthogonale à la première direction.
l'écartement entre les matrices de microlentilles ainsi que la disposition et l'orientation des microlentilles sont adaptés pour que le système optique d'homogénéisation se comporte, dans la deuxième direction orthogonale à l'axe optique et orthogonale à la première, comme un système comprenant :
o une lentille convergente au niveau de la deuxième face de la première matrice, et
o une lentille divergente au niveau de la première face de la seconde matrice,
de sorte que le plan de l'obturateur soit au plan focal objet de la lentille convergente, et le plan focal objet du condenseur soit au plan focal image du système.
la lentille convergente sur la deuxième face de la première matrice d'une part et la lentille divergente d'autre part, sont formées par des microlentilles cylindriques dont les axes des cylindres s'étendent selon la première direction orthogonale à l'axe optique.
l'illuminateur comprend en outre un réseau de diaphragmes disposé au plan focal image du système optique d'homogénéisation,
chaque diaphragme du réseau de diaphragmes est disposé en regard d'une microlentille de la deuxième matrice de microlentilles du système optique d'homogénéisation.
L'invention a également pour objet un dispositif de photolithographie, comprenant un masque et un illuminateur selon l'invention, dans lequel l'obturateur de l'illuminateur est positionné dans un plan conjugué du plan focal image d'un condenseur. L'invention présente de nombreux avantages.
Un illuminateur selon l'invention remplit les conditions de conjugaison entre l'obturateur et le masque à illuminer à la fois dans une première direction orthogonale à l'axe optique, mais aussi dans une seconde direction orthogonale à l'axe optique, et de préférence orthogonale à la première.
En outre, un illuminateur selon l'invention permet de contrôler l'effet de la diffraction liée à l'obturateur de manière à augmenter la netteté de l'image de l'obturateur sur le masque. Le contrôle de l'ouverture permet en outre de rendre moins sensible la troisième matrice de microlentilles L3 à une défocalisation de la grille par rapport à son plan focal objet, ce qui facilite le montage et le réglage de l'illuminateur selon l'invention.
PRESENTATION DES FIGURES
D'autres caractéristiques, buts et avantages de l'invention ressortiront de la description qui suit, qui est purement illustrative et non limitative, et qui doit être lue en regard des dessins annexés sur lesquels :
La figure 1 , déjà décrite, représente schématiquement un illuminateur connu de l'état de la technique ;
Les figure 2a, 2b, et 2c représentent schématiquement différentes réalisations d'un illuminateur selon l'invention ;
La figure 3 représente les dispositions relatives des matrices de microlentilles en aval de l'obturateur,
La figure 4 représente l'image d'une fente de l'obturateur dans le plan focal objet du condenseur en fonction de la cohérence de faisceaux lumineux traversant un réseau de diaphragmes.
DESCRIPTION DETAILLEE D'AU MOINS UN MODE DE REALISATION DE L'INVENTION Description générale de l'illuminateur
Les figures 2a à 2c montrent schématiquement une partie d'un illuminateur selon l'invention. Sur la figure 2a, rilluminateur comporte une source V d'un faisceau lumineux 10, par exemple une source laser, un élément diffractif 1 placé en sortie de la source 1 ', et un zoom 2 (ces éléments ne sont pas représentés en figures 2b et 2c).
Il comporte en outre un système afocal L1 L2 constitué d'une première et d'une seconde matrice de microlentilles L1 et L2 en sortie du zoom 2.
Le faisceau 10 comprend, à sa sortie du système afocal L1 L2, une pluralité de sous-faisceaux 100, constituant des sous-pupilles de sortie du système afocal L1 L2.
L'illuminateur comporte un obturateur 3, représenté sous la forme de deux grilles 31 , 32, et positionné au niveau des pupilles de sorties du système afocal L1 L2.
Un système optique d'homogénéisation 4 comportant une troisième matrice L3 de microlentilles est placé en aval de l'obturateur 3, de sorte que celui-ci soit disposé dans le plan focal objet du système optique d'homogénéisation 4.
L'illuminateur comporte également un condenseur 5 qui permet de superposer au niveau d'un masque 7 de photolithographie les sous-faisceaux 100 issus du système afocal L1 L2, un dispositif d'apodisation 6 étant prévu entre le condenseur 4 et le plan dans lequel le masque 7 est positionné.
Le plan focal objet du condenseur 5 est avantageusement disposé au plan focal image du système d'homogénéisation 4 pour assurer la netteté de l'image de l'obturateur sur le masque.
Un dispositif de photolithographie comprenant un tel illuminateur comprend également un masque 7 disposé sur une tranche w à graver, l'obturateur étant disposé dans le plan conjugué du plan focal image du condenseur 5, étant entendu qu'en utilisation, une optique de projection fait l'image du masque 7 sur la tranche w.
Système d'homogénéisation
Le système d'homogénéisation de l'illuminateur selon l'invention permet d'obtenir la netteté et la télécentricité de l'illuminateur dans deux directions distinctes, orthogonales à l'axe optique. Ces directions sont avantageusement orthogonales l'une à l'autre. A titre d'exemple non limitatif, on note, dans les figures 2a à 2c, Z l'axe optique, X un axe selon une première direction orthogonale à l'axe optique et orthogonale au plan de coupe des figures, et Y un axe selon une seconde direction orthogonale à l'axe optique et à l'axe X.
Le système d'homogénéisation permettant d'obtenir ce résultat comprend, outre la troisième matrice de microlentilles L3, une quatrième matrice de microlentilles L4.
Les configurations relatives des matrices de microlentilles L3 et L4 sont représentées en figure 3. On a représenté schématiquement l'obturateur 3, situé au foyer objet P du système d'homogénéisation, et le plan focal image F' de ce système, devant être situé au plan focal objet FC du condenseur, dans les deux directions X et Y.
Les conditions de netteté et de télécentricité sont assurées si le système optique d'homogénéisation présente la même distance focale fi dans les deux directions X et Y, c'est-à-dire qu'il présente des plans focaux image confondus dans ces deux directions et des plans focaux objet également confondus dans ces deux directions.
Pour ce faire, chaque matrice de microlentilles se présente sous la forme d'une lame plane comprenant deux faces 310, 320, 410, 420 en regard l'une de l'autre, une pluralité de microlentilles cylindriques étant gravée sur au moins l'une desdites faces.
Plus précisément, la matrice de microlentilles L3 comporte des microlentilles sur chacune de ses faces 310, 320, les microlentilles étant cylindriques, les axes des microlentilles d'une face étant orthogonaux aux axes des microlentilles de l'autre face.
Les axes des microlentilles des deux faces sont orthogonaux à l'axe optique pour que les rayons lumineux parviennent aux microlentilles par leurs surfaces cylindriques.
Quant à la matrice de microlentilles L4, elle ne comporte des microlentilles cylindriques que sur sa première face 410 par rapport à la direction de propagation du flux lumineux, l'autre face 420 étant plane pour ne dévier les rayons lumineux dans aucune direction.
Les axes des cylindres des microlentilles sont orientés de sorte que, dans une première direction, par exemple la direction Y, le système d'homogénéisation se comporte comme une lentille convergente 31 disposée au niveau de la première face de la matrice L3. Le plan de l'obturateur P est alors au plan focal objet de ladite lentille 31 , et le plan focal objet du condenseur FC est au plan focal image F' de ladite lentille.
Pour obtenir ce résultat, les axes des lentilles cylindriques de la première face de la matrice de microlentilles L3 s'étendent orthogonalement à la direction Y, tandis que les axes des autres lentilles cylindriques (i.e. celles de la deuxième face de la matrice L3 et de la première face de la matrice L4) s'étendent parallèlement à la direction Y, de manière à ne pas dévier la propagation des faisceaux lumineux selon la direction Y.
Ceci permet d'obtenir la netteté et la télécentricité de l'illuminateur dans la première direction Y.
Quant à la deuxième direction, en l'occurrence la direction X, les axes des cylindres des microlentilles sont orientés parallèlement à la première direction Y, pour que le système d'homogénéisation 4 se comporte comme un système comprenant :
- une lentille convergente 32 au niveau de la deuxième face de la matrice L3, et
une lentille divergente 41 au niveau de la première face de la matrice L4, le plan de l'obturateur étant au plan focal objet de la lentille convergente 32, et le plan focal objet du condenseur étant au plan focal image F' du système.
Les lentilles sont dimensionnées de façon connue de l'homme du métier pour que leurs distances focales respectives permettent d'obtenir un tel résultat.
Ainsi, le positionnement des deux matrices de microlentilles L3 et L4, et le dimensionnement des lentilles les composant permet d'obtenir un système d'homogénéisation 4 présentant la même distance focale dans les deux directions.
Diaphragmes
En référence à la figure 2b, l'illuminateur comprend, afin de contrôler les phénomènes de diffraction en sortie de l'obturateur, un réseau 8 de diaphragmes d'ouverture, disposé dans le plan de la transformée de Fourier, ou plan de Fourier, du plan P de l'obturateur.
De préférence, ce réseau comprend une pluralité de diaphragmes 80, chaque diaphragme 80 étant disposé en regard d'une microlentille 40 correspondante d'une matrice adjacente du système d'homogénéisation. Dans la figure 2b, le système d'homogénéisation 4 ne comprend qu'une matrice L3 de microlentilles ; le réseau de diaphragmes se trouve alors au plan focal image de la matrice L3 de microlentille, les diaphragmes étant en regard des microlentilles de cette matrice L3.
Dans la figure 2c, on a combiné l'utilisation d'un réseau 8 de diaphragmes avec un système d'homogénéisation 4 comprenant deux matrices de microlentilles L3 L4 comme décrit précédemment en référence à la figure 2a.
Dans ce cas, le réseau de diaphragme 8 est disposé entre les deux matrices de microlentilles L3 et L4, dans le plan de F', ce plan étant le plan de Fourier du plan de l'obturateur. Les diaphragmes se trouvent en regard des microlentilles des matrices L4 et L3 de microlentilles.
Ainsi, en cas de diffraction en sortie de l'obturateur 3, la présence de diaphragmes permet d'éviter les phénomènes de diaphonie entre les sous-faisceaux 100 du faisceau lumineux. Le réseau 8 de diaphragmes permet également d'augmenter suffisamment la profondeur de champ pour rendre la précision de l'illuminateur moins sensible à une défocalisation de l'obturateur par rapport au plan focal objet du système d'homogénéisation, et ainsi faciliter la fabrication et le réglage de l'illuminateur.
Avantageusement, le diamètre d'ouverture d'un diaphragme est de l'ordre de grandeur d'une microlentille. Par exemple, une microlentille peut présenter un diamètre de l'ordre de 0.5 mm, et un diamètre d'ouverture peut être de l'ordre de 0.1 mm.
La correction de la diffraction résultant de la présence de l'obturateur par le réseau de diaphragmes d'ouverture dépend de certains paramètres de l'illuminateur. Notamment, la netteté de l'image dépend du facteur de cohérence de l'éclairage du réseau de diaphragmes.
En référence à la figure 4, on montre l'image d'un bord d'une fente de l'obturateur au niveau du plan focal image du condenseur, pour différents facteurs de cohérence. Dans la figure ;
- la courbe tracée pour un faisceau « cohérent » correspond à un facteur de cohérence nul,
la courbe tracée pour un faisceau « partiellement cohérent » correspond à un facteur de cohérence de 0.3, et la courbe tracée pour un faisceau « incohérent » correspond à un facteur de cohérence égal à 1.
En abscisse est donnée une position géométrique en mm par rapport à la fente. La fente est disposée à 25 mm, la partie transparente de la fente se trouvant à moins de 25 mm, et la partie opaque se trouvant après 25 mm.
En ordonnée, l'intensité lumineuse est représentée, en pourcentage de l'intensité du faisceau incident. Théoriquement, cette intensité est égale à 100% au niveau de la partie transparente de la fente et tombe à 0% au niveau de la partie opaque.
Or pour un faisceau totalement cohérent, des figures d'interférence apparaissent au niveau du côté transparent de la fente, donnant l'aspect sinusoïdal de l'intensité à ce niveau.
Ces interférences disparaissent dans le cas où le faisceau est totalement incohérent, cette amélioration se produisant toutefois au détriment de la transition entre la partie opaque et la partie transparente de la fente, à 25 mm.
Le cas où le faisceau est partiellement cohérent est un cas intermédiaire, fournissant un bon compromis entre les deux cas précédents. Plus spécifiquement, une configuration avantageuse est assurée quand le faisceau présente un facteur de cohérence compris entre 0.2 et 0.8.
Le facteur de cohérence s'écrit σ = 2fiSin(e) 0ù fi est la distance focale de la b
matrice de microlentilles L3 du système d'homogénéisation, Θ l'angle d'éclairage de l'obturateur par rapport à l'axe optique, et b le diamètre d'ouverture des diaphragmes. Ainsi la valeur du facteur de cohérence est obtenue en ajustant les valeurs de ces trois paramètres.
On observe toutefois sur la figure 4 que des oscillations de l'intensité lumineuse subsistent au niveau de la partie transparente de la fente. Afin de moyenner ces oscillations, on prévoit avantageusement de faire varier les diamètres d'ouverture des diaphragmes, modifiant ce faisant le facteur de cohérence. De préférence, les diamètres des diaphragmes varient y compris entre deux diaphragmes adjacents.
Les variations des diamètres d'ouverture d'un diaphragme à l'autre sont comprises entre 0 et 50%, et de préférence entre 0 et 30%. En outre, les diamètres d'ouverture des diaphragmes suivent avantageusement une répartition statistique aléatoire, et ce, quelle que soit l'illumination de l'obturateur. Cela permet de moyenner les phénomènes de diffraction, par exemple même localement pour un sous-faisceau 100 donné.

Claims

REVENDICATIONS
1 . Illuminateur de dispositif photo-lithographique, comprenant :
- une source (1 ') d'un faisceau lumineux,
- un condenseur (5),
- un système optique d'homogénéisation (4), comprenant au moins une matrice de microlentilles (L3, L4), disposé en amont du condenseur de sorte que le plan focal image du système optique d'homogénéisation soit positionné au plan focal objet du condenseur (5),
- un obturateur (3), disposé au plan focal objet du système optique d'homogénéisation (4), et
l'illuminateur étant caractérisé en ce le système optique d'homogénéisation (4) comprend deux matrices de microlentilles (L3, L4) dont l'écartement, ainsi que la disposition et l'orientation des microlentilles, sont adaptés pour que le système optique d'homogénéisation (4) présente, selon deux directions (X,Y) orthogonales à l'axe optique, des plans focaux image confondus et des plans focaux objet confondus.
2. Illuminateur selon la revendication 1 dans lequel les deux directions (X,Y) orthogonales à l'axe optique sont orthogonales entre elles.
3. Illuminateur selon la revendication 1 ou 2, dans lequel chaque matrice de microlentilles (L3, L4) est une lame comprenant deux faces en regard l'une de l'autre, et la première matrice de microlentilles (L3) par rapport à la direction de propagation du faisceau lumineux comprend des microlentilles cylindriques gravées sur chacune de ses faces, les axes des cylindres des lentilles d'une face étant orthogonaux aux axes des cylindres des lentilles de l'autre face et orthogonaux à l'axe optique.
4. Illuminateur selon l'une des revendications précédentes, dans lequel l'écartement entre les matrices de microlentilles (L3, L4) ainsi que la disposition et l'orientation des microlentilles sont adaptés pour que le système optique d'homogénéisation se comporte, dans une première direction (Y) orthogonale à l'axe optique, comme une lentille convergente (31 ) disposée au niveau de la première face (310) de la première matrice (L3), le plan de l'obturateur étant au plan focal objet de ladite lentille, et le plan focal objet du condenseur étant au plan focal image de ladite lentille.
5. Illuminateur selon la revendication 4, dans lequel la lentille convergente (31 ) est formée par les microlentilles cylindriques sur la première face (310) de la première matrice (L3), les axes des cylindres s'étendant selon une deuxième direction (X) orthogonale à l'axe optique, et orthogonale à la première direction (Y).
6. Illuminateur selon l'une des revendications précédentes, dans lequel l'écartement entre les matrices de microlentilles (L3, L4) ainsi que la disposition et l'orientation des microlentilles sont adaptés pour que le système optique d'homogénéisation se comporte, dans la deuxième direction (X) orthogonale à l'axe optique et orthogonale à la première (Y), comme un système comprenant :
une lentille convergente (32) au niveau de la deuxième face (320) de la première matrice (L3), et
une lentille divergente (41 ) au niveau de la première face (410) de la seconde matrice (L4),
de sorte que le plan de l'obturateur (3) soit au plan focal objet de la lentille convergente, et le plan focal objet du condenseur soit au plan focal image du système.
7. Illuminateur selon la revendication 6 dans lequel la lentille convergente (32) sur la deuxième face (320) de la première matrice (L3) d'une part et la lentille divergente (41 ) d'autre part, sont formées par des microlentilles cylindriques dont les axes des cylindres s'étendent selon la première direction (Y) orthogonale à l'axe optique.
8. Illuminateur selon l'une des revendications précédentes, comprenant en outre un réseau de diaphragmes (8) disposé au plan focal image du système optique d'homogénéisation (4).
9. Illuminateur selon la revendication précédente, dans lequel chaque diaphragme du réseau de diaphragme (8) est disposé en regard d'une microlentille de la deuxième matrice (L4) de microlentilles du système optique d'homogénéisation (4).
10. Dispositif de photolithographie, comprenant un masque (7) et un illuminateur selon l'une des revendications précédentes, dans lequel l'obturateur (3) de l'illuminateur est positionné dans un plan conjugué du plan focal image du condenseur (5).
PCT/EP2013/069982 2012-09-25 2013-09-25 Illuminateur de photolithographie telecentrique selon deux directions WO2014048999A1 (fr)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP13770451.6A EP2901215B1 (fr) 2012-09-25 2013-09-25 Illuminateur de photolithographie telecentrique selon deux directions
US14/430,895 US9874818B2 (en) 2012-09-25 2013-09-25 Photolithographic illuminator that is telecentric in two directions
CN201380049388.8A CN104823111B (zh) 2012-09-25 2013-09-25 在两个方向上是远心的光刻照射器
JP2015532463A JP6501187B2 (ja) 2012-09-25 2013-09-25 ２つの方向においてテレセントリックであるフォトリソグラフィック照明器

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR1259005 2012-09-25
FR1259005A FR2996016B1 (fr) 2012-09-25 2012-09-25 Illuminateur de photolithographie telecentrique selon deux directions

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2014048999A1 true WO2014048999A1 (fr) 2014-04-03

Family

ID=48128380

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/EP2013/069982 WO2014048999A1 (fr) 2012-09-25 2013-09-25 Illuminateur de photolithographie telecentrique selon deux directions

Country Status (6)

Country Link
US (1) US9874818B2 (fr)
EP (1) EP2901215B1 (fr)
JP (1) JP6501187B2 (fr)
CN (1) CN104823111B (fr)
FR (1) FR2996016B1 (fr)
WO (1) WO2014048999A1 (fr)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9945988B2 (en) 2016-03-08 2018-04-17 Microsoft Technology Licensing, Llc Array-based camera lens system
US10012834B2 (en) 2016-03-08 2018-07-03 Microsoft Technology Licensing, Llc Exit pupil-forming display with reconvergent sheet
US10191188B2 (en) 2016-03-08 2019-01-29 Microsoft Technology Licensing, Llc Array-based imaging relay

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20190335994A1 (en) * 2011-04-29 2019-11-07 The General Hospital Corporation Methods and arrangements for obtaining information and providing analysis for biological tissues
FR2996015B1 (fr) * 2012-09-25 2014-09-12 Sagem Defense Securite Illuminateur de dispositif de photolithographie permettant la diffraction controlee
DE102018211972B4 (de) * 2018-07-18 2020-04-23 Trumpf Laser Gmbh Optische Anordnung zur variablen Erzeugung eines Multifoki-Profils, sowie Verfahren zum Betrieb und Verwendung einer solchen Anordnung
US11333897B2 (en) * 2019-03-12 2022-05-17 Coherent Lasersystems Gmbh & Co. Kg Apparatus for forming a homogeneous intensity distribution with bright or dark edges

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1367442A2 (fr) * 2002-05-27 2003-12-03 Nikon Corporation Dispositif d'illumination
WO2011039261A2 (fr) * 2009-09-30 2011-04-07 Carl Zeiss Smt Gmbh Système d'illumination pour microlithographie
EP2354853A1 (fr) * 2010-02-09 2011-08-10 Carl Zeiss SMT GmbH Élément de trame optique, intégrateur optique et système d'éclairage d'un appareil d'exposition par projection microlithographique

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2884848B2 (ja) * 1991-10-04 1999-04-19 株式会社ニコン 投影露光装置および回路パターン形成方法
US7186004B2 (en) * 2002-12-31 2007-03-06 Karlton David Powell Homogenizing optical sheet, method of manufacture, and illumination system
US7187399B2 (en) * 2003-07-31 2007-03-06 Fuji Photo Film Co., Ltd. Exposure head with spatial light modulator
US6769777B1 (en) * 2003-08-20 2004-08-03 Honeywell International Inc. Multi-aperture optical dimming system
KR20070090246A (ko) * 2004-12-22 2007-09-05 칼 짜이스 레이저 옵틱스 게엠베하 선형 빔을 형성하기 위한 광 조명 시스템
CN100521089C (zh) * 2004-12-27 2009-07-29 株式会社尼康 光学积分器、照明光学装置、曝光装置、方法及元件制法
DE102005013950A1 (de) * 2005-03-26 2006-09-28 Carl Zeiss Jena Gmbh Anordnung zur Beleuchtung einer Bildebene
FR2890461B1 (fr) * 2005-09-05 2008-12-26 Sagem Defense Securite Obturateur et illuminateur d'un dispositif de photolithographie
US7428039B2 (en) * 2005-11-17 2008-09-23 Coherent, Inc. Method and apparatus for providing uniform illumination of a mask in laser projection systems
TWI456267B (zh) * 2006-02-17 2014-10-11 Zeiss Carl Smt Gmbh 用於微影投射曝光設備之照明系統
CN101587302B (zh) * 2006-11-03 2011-10-12 上海微电子装备有限公司 一种光刻照明系统
US8115904B2 (en) * 2008-05-30 2012-02-14 Corning Incorporated Illumination system for sizing focused spots of a patterning system for maskless lithography
EP2146248B1 (fr) * 2008-07-16 2012-08-29 Carl Zeiss SMT GmbH Système d'illumination d'un appareil d'exposition à projection microlithographique
EP2169464A1 (fr) * 2008-09-29 2010-03-31 Carl Zeiss SMT AG Système d'illumination d'un appareil d'exposition à projection micro-lithographique
EP2202580B1 (fr) * 2008-12-23 2011-06-22 Carl Zeiss SMT GmbH Système d'illumination d'un appareil d'exposition à projection micro-lithographique
KR101646814B1 (ko) * 2009-03-19 2016-08-08 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 마이크로리소그래피 투영 노광 장치의 조명 시스템
US8164046B2 (en) * 2009-07-16 2012-04-24 Carl Zeiss Smt Gmbh Illumination system for illuminating a mask in a microlithographic projection exposure apparatus
FR2996015B1 (fr) * 2012-09-25 2014-09-12 Sagem Defense Securite Illuminateur de dispositif de photolithographie permettant la diffraction controlee

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1367442A2 (fr) * 2002-05-27 2003-12-03 Nikon Corporation Dispositif d'illumination
WO2011039261A2 (fr) * 2009-09-30 2011-04-07 Carl Zeiss Smt Gmbh Système d'illumination pour microlithographie
EP2354853A1 (fr) * 2010-02-09 2011-08-10 Carl Zeiss SMT GmbH Élément de trame optique, intégrateur optique et système d'éclairage d'un appareil d'exposition par projection microlithographique

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9945988B2 (en) 2016-03-08 2018-04-17 Microsoft Technology Licensing, Llc Array-based camera lens system
US10012834B2 (en) 2016-03-08 2018-07-03 Microsoft Technology Licensing, Llc Exit pupil-forming display with reconvergent sheet
US10191188B2 (en) 2016-03-08 2019-01-29 Microsoft Technology Licensing, Llc Array-based imaging relay
US10684470B2 (en) 2016-03-08 2020-06-16 Microsoft Technology Licensing, Llc Array-based floating display

Also Published As

Publication number Publication date
US9874818B2 (en) 2018-01-23
EP2901215A1 (fr) 2015-08-05
EP2901215B1 (fr) 2020-07-08
CN104823111A (zh) 2015-08-05
CN104823111B (zh) 2017-12-08
FR2996016A1 (fr) 2014-03-28
JP6501187B2 (ja) 2019-04-17
US20150234288A1 (en) 2015-08-20
FR2996016B1 (fr) 2014-09-19
JP2015534654A (ja) 2015-12-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP2901215B1 (fr) Illuminateur de photolithographie telecentrique selon deux directions
CN101681123B (zh) 照明光学系统、曝光装置以及元件制造方法
EP3208530B1 (fr) Dispositif de projection de faisceau lumineux muni de matrices de sources de lumière, module d'éclairage et phare de véhicule muni d'un tel dispositif
JP7142701B2 (ja) 自動車投光器用の投射装置、及び投射装置を製造するための方法
JP6043229B2 (ja) 拡散板およびこれを用いた光学機器
JP5905305B2 (ja) 照射光量制御装置及びソーラシミュレータ
WO1998020390A1 (fr) Dispositif de visualisation et ecran plat de television utilisant ce dispositif
EP1924889B1 (fr) Illuminateur d'un dispositif de photolithographie
CN103293677B (zh) 匀光器及其制作方法
EP2901214A1 (fr) Illuminateur de dispositif de photolithographie permettant la diffraction controlee
JP2016045415A (ja) 拡散板およびこれを用いた光学機器
FR3044743A1 (fr) Systeme optique de projection, module lumineux et dispositif d'eclairage pour vehicule automobile comportant un tel systeme
WO2016146904A1 (fr) Dispositif d'affichage tête haute, notamment pour véhicule automobile
EP2804027B1 (fr) Dispositif optique de réglage de la distribution spatiale d'un faisceau laser
WO2024175414A1 (fr) Dispositif d'éclairage
KR100759701B1 (ko) 마이크로 렌즈 제조 장치 및 이를 이용한 마이크로 렌즈제조 방법
FR3050833B1 (fr) Camera plenoptique avec correction d'aberrations geometriques
WO2016146903A1 (fr) Générateur d'image, notamment pour dispositif d'affichage tête haute
FR3069332B1 (fr) Dispositif d’illumination diffractif a angle de diffraction augmente
FR2715480A1 (fr) Procédé et dispositif de répartition spatiale de l'énergie d'un faisceau de rayonnement cohérent.
JP2016063185A5 (fr)
FR2887043A1 (fr) Illuminateur a homogeneite d'eclairement et procede d'apodisation d'illumination
FR2887645A1 (fr) Illuminateur ameliore d'un dispositif de photolithographie
WO2016181068A1 (fr) Système optique d'acquisition d'informations sur une surface

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 13770451

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2015532463

Country of ref document: JP

Kind code of ref document: A

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 14430895

Country of ref document: US

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2013770451

Country of ref document: EP