TWI769483B - 承載裝置及承載套件 - Google Patents
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Abstract
本發明揭露一種承載裝置及承載套件。承載套件包含承載裝置及樣品承載構件。承載裝置承載樣品承載構件，且用以固定設置於樣品桿(specimen holder)。樣品承載構件內具有用來承載樣本的容置通道，且容置通道的一部分通過兩個觀測凹槽露出。承載裝置的本體的一側內凹形成有用來容置樣品承載構件的容槽。當樣品承載構件設置於容槽中時，本體的其中一個觀測凹槽能通過觀測口而露出於本體。限位件設置於本體，限位件用以限制設置於容槽中的樣品承載構件相對於本體的活動範圍。
Description
本發明涉及一種承載裝置及承載套件，特別是一種用來承載樣品承載構件且設置於電子顯微設備的樣品桿(specimen holder)上的承載裝置，及包含承載裝置及樣品承載構件的承載套件。
現今常見的各式電子顯微設備，例如穿透式電子顯微鏡(TEM)、掃描穿遂式電子顯微鏡(STM)、掃描穿透式電子顯微鏡(STEM)或高解析穿透式電子顯微鏡(HRTEM)等，是將待觀測樣本設置於銅網(Cu grid)上，而後將銅網設置於樣品桿上，最後將樣品桿安裝於顯微設備中，據以通過相關電子束觀測設置於銅網上的樣本。
上述觀測方式，無法觀測到液態狀的樣本，為此，相關業者開發出一種能承載液體狀樣本的構件，此種構件必須通過黏膠固定於銅環上，而後再與銅環(Cu ring)一同設置於樣品桿上，以進行相關觀測作業。
上述構件雖然可以解決習知利用銅網無法觀測液態狀樣本的問題，但此種構件在利用黏膠固定於銅環的過程中，容易發生黏膠污染樣本或是黏膠污染構件等問題。
本發明公開一種承載裝置，主要用以改善現有用來承載樣品的樣品承載構件，利用黏膠固定於銅環(Cu ring)，而容易發生黏膠影響觀測的問題。
本發明的其中一實施例公開一種承載裝置，其用以設置於一電子顯微設備的一樣品桿(specimen holder)的一承載端部的一凹槽中，且設
置於所述凹槽中的所述承載裝置能被所述樣品桿的一限位構件抵壓，而固定設置於所述樣品桿中，承載裝置用以承載一樣品承載構件，樣品承載構件彼此相反的兩側分別內凹形成有一觀測凹槽，樣品承載構件內具有一容置通道，容置通道用以容置一樣品，各個觀測凹槽使容置通道的一部分露出，承載裝置包含：一本體及至少一限位件。本體的一側內凹形成有一容槽，容槽用以容置樣品承載構件，本體還包含一觀測口，觀測口與容槽相互連通；當樣品承載構件設置於容槽中時，其中一個觀測凹槽能通過觀測口而露出於本體。限位件設置於本體，限位件用以限制設置於容槽中的樣品承載構件相對於本體的活動範圍。
本發明的其中一實施例公開一種承載套件，其包含：一樣品承載構件及一承載裝置。樣品承載構件彼此相反的兩側分別內凹形成有一觀測凹槽，樣品承載構件內具有一容置通道，容置通道用以容置一樣本，各個觀測凹槽使容置通道的一部分露出。承載裝置用以設置於一電子顯微設備的一樣品桿(specimen holder)的一承載端部的一凹槽中，且設置於所述凹槽中的所述承載裝置能被所述樣品桿的一限位構件抵壓，而固定設置於所述樣品桿中，承載裝置用以承載樣品承載構件，承載裝置包含：一本體及至少一限位件。本體的一側內凹形成有一容槽，容槽用以容置樣品承載構件，本體還包含一觀測口，觀測口與容槽相互連通；當樣品承載構件設置於容槽中時，其中一個觀測凹槽能通過觀測口而露出於本體。限位件設置於本體，限位件用以限制設置於容槽中的樣品承載構件相對於本體的活動範圍。
綜上所述，本發明的承載裝置及承載套件，通過本體及限位件等設計，讓樣品承載構件可以在不使用黏膠的情況下，穩定地固定於本體上，由於本發明的承載裝置及承載套件可以不使用黏膠，因此，可以解決習知技術中，利用黏膠將用來承載液體樣本的構件固定於銅環上，可能發生黏膠干擾觀測作業的問題。
為能更進一步瞭解本發明的特徵及技術內容，請參閱以下有關本發明的詳細說明與附圖，但是此等說明與附圖僅用來說明本發明，而非對本發明的保護範圍作任何的限制。
1:電子顯微設備
10:設備本體
101:電子束發射器
102:觀測裝置
103:處理裝置
104:輸入裝置
105:顯示裝置
11:樣品桿
111:握持部
112:桿體
113:承載端部
1131:凹槽
1132:穿孔
114:限位構件
1141:活動部
1142:抵壓結構
2:樣品承載構件
20:觀測凹槽
21:容置通道
22:頂面
23:電連接部
3:承載裝置
30:本體
30A:第一本體
301:容槽
301A:第一容槽
302:容置開口
303:片狀結構
3031:頂面
3032:底面
304:支撐結構
304A:輔助容置結構
305:觀測口
306:穿孔
307:穿孔
308:穿孔
309:止擋結構
310:第一卡合結構
3101:卡合槽
311:固定孔
312:輔助定位結構
313:第一限位部
314:第一輔助定位部
315:第一樞接部
316:避讓穿孔
32:限位件
321:固定基部
322:可撓結構
323:樞接部
324:抵靠部
325:滑動部
326:抵靠部
327:第二卡合結構
328:抵靠部
329:插入部
330:抵靠部
331:抵壓部
332:第二本體
3321:第二容槽
3322:第二開口
3323:輔助定位結構
3324:第二限位部
3325:第二輔助定位部
3326:第二樞接部
34:軌道結構
341:軌道通道
35:處理模組
351:供電單元
352:控制單元
36:電連接構件
37:彎曲結構
4:銅箔基板
40:第一凹槽
41:中間凹槽
42:第二凹槽
43:鎳層
44:金層
46:輔助金層
48:預留凹槽
C:中心軸線
CP:中心軸線
D:長度
L:距離
W:寬度
SP:組合容槽
圖1為電子顯微設備的示意圖。
圖2為電子顯微設備的樣品桿的示意圖。
圖3為電子顯微設備的樣品桿設置有本發明的承載套件的示意圖。
圖4為電子顯微設備的樣品桿及本發明的承載套件的第一實施例的分解示意圖。
圖5及圖6分別為本發明的承載裝置的第一實施例設置有樣品承載構件的組裝及分解示意圖。
圖7及圖8分別為本發明的承載套件的樣品承載構件的立體及剖面示意圖。
圖9為本發明的承載裝置的第一實施例的俯視示意圖。
圖10為本發明的承載裝置的第一實施例的剖面示意圖。
圖11至圖13為將樣品承載構件(未剖面)設置於本發明的承載裝置的第一實施例(剖面)中的過程示意圖。
圖14為本發明的承載裝置的第二實施例設置有樣品承載構件的示意圖。
圖15為本發明的承載裝置的第二實施例的示意圖。
圖16為本發明的承載裝置的第三實施例設置有樣品承載構件的示意圖。
圖17為本發明的承載裝置的第四實施例與樣品承載構件的分解示意圖。
圖18至圖19為將樣品承載構件(未剖面)設置於本發明的承載裝置的第五實施例(剖面)中的過程示意圖。
圖20至圖21為將樣品承載構件(未剖面)設置於本發明的承載裝置的第六實施例(剖面)中的過程示意圖。
圖22及圖23為本發明的承載裝置的第七實施例與樣品承載構件的分解及組裝示意圖。
圖24至圖25為將樣品承載構件(未剖面)設置於本發明的承載裝置的第八實施例(剖面)中的過程示意圖。
圖26至圖27為將樣品承載構件(未剖面)設置於本發明的承載裝置的第九實施例(剖面)中的過程示意圖。
圖28至圖29為將樣品承載構件(未剖面)設置於本發明的承載裝置的第十實施例(剖面)中的過程示意圖。
圖30為本發明的承載裝置的第十一實施例(剖面)設置有樣品承載構件(未剖面)的示意圖。
圖31及圖32為本發明的承載裝置的第十二實施例(剖面)與樣品承載構件(未剖面)相互組裝的過程示意圖。
圖33為本發明的承載裝置的第十二實施例(剖面)與樣品承載構件(未剖面)相互組裝的示意圖。
圖34及圖35為本發明的承載裝置的第十三實施例(剖面)與樣品承載構件(未剖面)相互組裝的過程示意圖。
圖36為本發明的承載裝置的第十四實施例與樣品承載構件的分解及組裝示意圖。
圖37及圖38為本發明的承載裝置的第十四實施例(剖面)與樣品承載構件(未剖面)相互組裝的過程示意圖。
圖39為本發明的承載裝置的第十五實施例(剖面)與樣品承載
構件(未剖面)的分解示意圖。
圖40為本發明的承載裝置的第十六實施例的分解示意圖。
圖41將樣品承載構件(未剖面)設置於本發明的承載裝置的第十七實施例(剖面)中的過程示意圖。
圖42為本發明的承載裝置的製造方法的第一實施例的過程示意圖。
圖43及圖44為本發明的承載裝置的製造方法的第二實施例的過程示意圖。
圖45為利用本發明的承載裝置的製造方法的第二實施例所製造出的承載裝置的剖面示意圖。
於以下說明中，如有指出請參閱特定圖式或是如特定圖式所示，其僅是用以強調於後續說明中，所述及的相關內容大部份出現於該特定圖式中，但不限制該後續說明中僅可參考所述特定圖式。
請一併參閱圖1至圖4，圖1為電子顯微設備的示意圖，圖2為電子顯微設備的樣品桿的示意圖，圖3及圖4分別為電子顯微設備的樣品桿與本發明的承載套件的組合及分解示意圖。
電子顯微設備1包含：一設備本體10及一樣品桿11。於以下說明中，將僅針對設備本體10部分構件進行說明，設備本體10未說明的部分，與現有的穿透式電子顯微鏡(Transmission Electron Microscopy,TEM)、掃描穿透式電子顯微鏡(Scanning Transmission Electron Microscope,STEM)或高解析穿透式電子顯微鏡(High Resolution Transmission Electron Microscope,HRTEM)所包含的所有機構及電子零組件相同，於此不再贅述。
設備本體10包含一電子束發射器101、一觀測裝置102、一處理裝置103、多個輸入裝置104及一顯示裝置105。電子束發射器101用以發射
一電子束。觀測裝置102用以提供使用者觀測設置於設備本體10中的樣品桿11上的樣品承載構件2所承載的樣本。處理裝置103電性連接電子束發射器101，而處理裝置103能控制電子束發射器101發出電子束，輸入裝置104電性連接處理裝置103，輸入裝置104用以提供使用者操作，以通過處理裝置103控制設備本體10內的相關機構或電子零組件作動。顯示裝置105用以顯示設置於設備本體10中的樣品桿11上的樣品承載構件2所承載的樣本所對應的影像。
如圖2至圖4所示，樣品桿11包含一握持部111、一桿體112、一承載端部113及一限位構件114。樣品桿11的握持部111用以提供使用者握持，桿體112與握持部111相互連接，承載端部113位於桿體112相反於與握持部111相連接的一端。其中，樣品桿11的桿體112及承載端部113能被安裝至設備本體10中。
如圖3及圖4所示，承載端部113具有一凹槽1131及一穿孔1132，凹槽1131用以設置本發明的承載裝置3，且凹槽1131亦可以設置標準銅網(Standard Cu grid)。限位構件114可活動地設置於承載端部113，而限位構件114能被操作以選擇性地抵壓設置於凹槽1131中的承載裝置3，穿孔1132貫穿承載端部113設置，且穿孔1132與凹槽1131相互連通。更具體來說，限位構件114可以是包含一活動部1141及一抵壓結構1142，活動部1141與抵壓結構1142相連接，抵壓結構1142通過活動部1141可旋轉地設置於承載端部113，而抵壓結構1142能通過活動部1141向靠近或遠離凹槽1131的方向旋轉，據以抵壓設置於凹槽1131中的承載裝置3或離開設置於凹槽1131中的承載裝置3。抵壓結構1142的外型例如可以是大致呈現為C字型，但不以此為限，例如也可以是呈環狀。另外，於此所指的抵壓結構1142可以是依據需求為習知各式樣品桿上用來抵壓銅網(Cu grid)的各種結構。
請一併參閱圖3至圖10，圖5及圖6分別為本發明的承載裝置的第一實施例設置有樣品承載構件的組裝及分解示意圖，圖7及圖8分別為樣品承載構件的立體及剖面示意圖，圖9及圖10分別為本發明的承載裝置的第一實施例的俯視及剖面示意圖。本發明的承載裝置3設置於樣品桿11的承載端部113的凹槽1131中。承載裝置3用以承載樣品承載構件2。樣品承載構件2用以承載欲被觀測的一樣本。樣品承載構件2彼此相反的兩側分別內凹形成有一觀測凹槽20，樣品承載構件2內具有一容置通道21，容置通道21用以容置欲被觀測的所述樣本，各個觀測凹槽20使容置通道21的一部分露出。在實際應用中，樣品承載構件2可以是由矽所構成，且樣品承載構件2內可以是設置有Si3N4薄膜，以區隔出所述容置通道21。
承載裝置3包含一本體30及兩個限位件32。於本實施例中，是以承載裝置3具有兩個限位件32為例，但承載裝置3所包含的限位件32的數量不以兩個為限，在不同實施例中，承載裝置3也可以是僅包含單一個限位件32，或者，承載裝置3也可以是包含三個以上的限位件32。
本體30的一側內凹形成有一容槽301，且容槽301於本體30的一側對應形成有一容置開口302，而樣品承載構件2的至少一部分能通過容置開口302設置於容槽301中。所述容槽301主要是用來容置樣品承載構件2，因此，在實際應用中，容槽301的外型、尺寸可以是大致對應於樣品承載構件2的外型、尺寸，但容槽301具體的外型及尺寸不以圖中所示為限，只要容槽301至少可以容置半個樣品承載構件2，容槽301可以是任意外型。本體30的整體外型可以是呈圓盤狀，較佳地，本體30可以是與標準銅網(standard Cu grid)具有相同的尺寸，舉例來說，本體30可以是直徑為3公釐(mm)的圓盤狀銅片結構。
具體來說，本體30可以是包含一片狀結構303及一支撐結構304，片狀結構303呈圓盤狀，且片狀結構303彼此相反的兩側面分別定義為
一頂面3031及一底面3032，片狀結構303具有前述容置開口302，且片狀結構303由底面3032向外延伸形成支撐結構304，而支撐結構304及片狀本體30共同形成前述容槽301，支撐結構304遠離片狀結構303的一側則形成有一觀測口305。在實際應用中，支撐結構304與本體30可以是一體成型的結構，但不以此為限，在不同的應用中，支撐結構304也可以是通過各式加工方式，另外固定於本體30上。其中，支撐結構304及容槽301的外型可以是依據樣品承載構件2的外型及尺寸設計，圖中所示僅為其中一示範態樣。
如圖5及圖6所示，在實際應用中，容槽301的深度可以是小於樣品承載構件2的高度，而樣品承載構件2設置於容槽301中時，樣品承載構件2的一部分可以是對應露出於本體30，但不以此為限，在不同的實施例中，容槽301的深度也可以是大於樣品承載構件2的高度。
如圖5、圖6、圖9及圖10所示，兩個限位件32設置於本體30，兩個限位件32與本體30一同固持設置於容槽301中的樣品承載構件2，而兩個限位件32主要是用來限制樣品承載構件2相對於本體30的活動範圍。如圖6及圖9所示，各個限位件32可以是與本體30一體成型地設置，具體來說，在製造承載裝置3時，可以是先於容槽301的兩側分別形成兩個類似C字型的穿孔(如圖15所示)，而後，再通過相關機械或是工具，將位於類似C字型的穿孔中間的結構向上彎曲，據以形成前述限位件32；如圖6所示，通過上述方式所形成的限位件32，其旁邊將對應形成有一穿孔306。
如圖9所示，為利使各個限位件32能夠有效地與本體30相互配合，以固持設置於容槽301中的樣品承載構件2，於所述承載裝置3的俯視圖中，各個限位件32的一部分是對應位於容置開口302中，如此，如圖5所示，當樣品承載構件2設置於容槽301中時，各個限位件32將得以抵靠於樣品承載構件2的一側。
請一併參閱圖10至圖13，圖11至圖13為將樣品承載構件(未剖面)設置於本發明的承載裝置的第一實施例(剖面)中的過程示意圖。如圖10所示，在實際應用中，本實施例所舉的承載裝置3在出廠時，其所包含的兩個限位件32是與本體30一體成型地設置，兩個限位件32是彼此相面對地設置，且兩個限位件32彼此間的距離可以是小於樣品承載構件2的長度D(如圖11所標示)。
當相關人員購買承載裝置3，而欲將樣品承載構件2設置於承載裝置3的容槽301中時，則可以是依循圖10至圖13所示的操作流程；詳細來說，首先，如圖10所示，相關人員可以是利用相關輔助工具(圖未示，例如可以是鑷子等)，固持本體30具有限位件32的兩側，並使本體30向相反於形成有限位件32的方向彎曲，如此，本體30將由圖10的狀態轉換為圖11的狀態，而兩個限位件32彼此間的距離將會據以增加。
如圖11及圖12所示，接著，相關人員即可以使樣品承載構件2由被撐開後的兩個限位件32之間通過，以設置於容槽301中；如圖12及圖13所示，當樣品承載構件2設置於容槽301後，即可使相關工具不再彎曲本體30，而後，本體30將會通過其本身具有的彈性回復力，由圖12所示的狀態轉變為圖13所示的狀態，而兩個限位件32將據以抵靠於樣品承載構件2的兩側，且兩個限位件32將會因為受樣品承載構件2的抵頂而產生彈性回復力，據以緊密地抵靠於樣品承載構件2。
依上所述，如圖1至圖4及圖13所示，當承載有樣品承載構件2的承載裝置3設置於凹槽1131中，且限位構件114抵壓本體30時，電子束發射器101所發出的電子束能通過樣品承載構件2的觀測凹槽20及位於容置通道21中的樣本、承載裝置3的觀測口305、承載端部113的穿孔1132，而觀測人員則能利用觀測裝置102觀測位於容置通道21中的樣本，且處理裝置103將控制顯示裝置105顯示出樣本所對應的影像。
需特別說明的是，習知利用黏膠將能承載液體樣本的構件固定於銅環的方式，由於承載液體樣本的構件尺寸很小，因此，在相關人員利用黏膠將能承載液體樣本的構件固定於銅環的過程中，很容易發生黏膠流入沾黏能承載液體樣本的觀測窗，從而可能發明電子束無法順利地通過樣本，而相關人員無法對樣本進行觀測的問題。反觀本發明的承載裝置3，通過限位件32等設計，可以在不使用黏膠的情況下，與樣品承載構件2相互固定，如此，將可大幅降低樣品承載構件2所承載的樣本受到不預期的外部干擾的機率。
請一併參閱圖14及圖15，圖14顯示為本發明的承載裝置的第二實施例設置有樣品承載構件的示意圖，圖15顯示為本發明的承載裝置的第二實施例的示意圖。本實施例與前述第一實施例最大不同之處在於：當樣品承載構件2設置於承載裝置3中時，各個限位件32的一部分可以是對應抵靠於樣品承載構件2的一頂面22。
如圖14及圖15所示，值得一提的是，在實際應用中，承載裝置3可以是以圖15所示的態樣進行販售，而相關人員購買如圖15所示的承載裝置3後，則可以是先將樣品承載構件2安裝於容槽301中，而後再利用相關工具(例如鑷子)，將位於類似C字型穿孔307中的結構，向樣品承載構件2的方向彎折，據以形成前述限位件32。
請參閱圖16，其顯示本發明的承載裝置的第三實施例設置有樣品承載構件的示意圖。本實施例與前述實施例最大不同之處在於，各個限位件32不是與本體30一體成型地設置，而各個限位件32是額外地固定於本體30上。在實際應用中，本實施例所舉的承載裝置3，各個限位件32可以是由生產承載裝置3的廠商預先固定於本體30上，或者，各個限位件32也可以是未先安裝於本體30上，而相關人員購買承載裝置3後，則可以是先將兩個限
位件32固定於本體30上後，再利用如圖10至圖13所示的安裝方式，將樣品承載構件2設置於容槽301中。
請參閱圖17，其顯示為本發明的承載裝置的第四實施例與樣品承載構件的分解示意圖。本實施例與前述實施例最大不同之處在於：兩個限位件32可以是鄰近於容槽301的兩個長邊設置，且兩個限位件32彼此間的最短距離L是小於樣品承載構件2的寬度W。在樣品承載構件2通過兩個限位件32以設置於容槽301的過程中，兩個限位件32將被樣品承載構件2推擠而彈性變形，而當樣品承載構件2的一半設置於容槽301中時，受壓而彈性變形的兩個限位件32將會緊密地抵靠於樣品承載構件2的兩個長側邊。
於本實施例圖中，是以各個限位件32非與本體30一體成型地設置為例，但不以此為限，在不同的實施例中，各個限位件32也可以是與本體30一體成型地設置。另外，只要兩個限位件32能在樣品承載構件2通過時彈性變形，且彈性變形的兩個限位件32在樣品承載構件2的一半設置於容槽301中時，可以緊密地抵靠樣品承載構件2，兩個限位件32可以是任何外型，而各個限位件32不以圖中所示的圓弧結構狀為限。
需特別說明的是，於本實施例中，是以兩個限位件32鄰近於容槽301的兩個長邊設置，但不以此為限，在不同實施例中，本實施例所舉的兩個限位件32也可以是鄰近於容槽301的兩個短邊設置。相同地，於前述各實施例中，兩個限位件32是鄰近於容槽301的兩個短邊設置，但前述各實施例所舉的兩個限位件32也可以是鄰近於容槽301的兩個長邊設置。
值得一提的是，前述各實施例中，是以承載裝置3具有兩個限位件32，兩個限位件32彼此相面對地設置為例，但承載裝置3所包含的限位件32的數量不以兩個為限，在不同的實施例中，承載裝置3也可以是包含四個限位件32，而四個限位件32可以是對應鄰近於容槽301的四個側邊設置。
在特殊的應用中，承載裝置3的兩個限位件32也可以是設置於容槽301的對角處，而不侷限於設置於容槽301的兩側邊。
請一併參閱圖18及圖19，其分別顯示為本發明的承載裝置的第五實施例(剖面)與樣品承載構件(未剖面)的分解及組合示意圖。本實施例與前述實施例最大不同之處在於：承載裝置3可以是僅包含單一個限位件32。限位件32包含一固定基部321及一可撓結構322，固定基部321固定於本體30，可撓結構322能被操作而向靠近或遠離容槽301的方向彎曲。
如圖18所示，當相關人員欲將樣品承載構件2設置於容槽301中時，可以是先使可撓結構322向遠離容槽301的方向彎曲，以讓樣品承載構件2能夠不被阻擋地直接設置於容槽301中；如圖19所示，當相關人員把樣品承載構件2設置於容槽301中後，相關人員可以是再彎曲可撓結構322，以使可撓結構322抵壓樣品承載構件2，據以限制樣品承載構件2相對於本體30的活動範圍。特別說明的是，在不同的實施例中，承載裝置3也可以是包含有兩個以上的本實施例所舉的限位件32。
請一併參閱圖20及圖21，其分別顯示為本發明的承載裝置的第六實施例(剖面)與樣品承載構件(未剖面)的分解及組合示意圖。本實施例與前述實施例最大不同之處在於：承載裝置3所包含的限位件32包含一樞接部323及一抵靠部324。樞接部323可旋轉地與本體30相連接，樞接部323能以平行於本體30的法線方向的一中心軸線C為中心相對於本體30旋轉。抵靠部324與樞接部323相連接，而抵靠部324能與樞接部323一同相對於本體30旋轉。
如圖20所示，相關人員欲將樣品承載構件2設置於容槽301中時，可以是通過操作抵靠部324，以使抵靠部324相對於本體30旋轉，而使抵靠部324不位於容槽301的上方，如此，相關人員即可將樣品承載構件2的一半設置於容槽301中。如圖21所示，當樣品承載構件2的一半設置於容槽301
中時，相關人員則可以再次操作抵靠部324，以使抵靠部324抵靠於樣品承載構件2的上方，藉此限制樣品承載構件2相對於本體30的活動範圍。
請一併參閱圖22及圖23，其分別為本發明的承載裝置的第七實施例的與樣品承載構件的分解及組裝示意圖。本實施例與前述實施例最大不同之處在於：承載裝置3所包含的限位件32是可以相對於本體30，向靠近或遠離容槽301的方向滑動，並據以選擇性地限制設置於容槽301中的樣品承載構件2。
具體來說，承載裝置3可以是包含兩個限位件32及兩個軌道結構34。各個限位件32包含一滑動部325及一抵靠部326，滑動部325能於本體30的頂面3031向靠近容槽301或遠離容槽301的方向移動，抵靠部326與滑動部325相連接，而抵靠部326能與滑動部325一同相對於本體30移動。兩個軌道結構34設置於本體30，且兩個軌道結構34鄰近於容槽301的兩端設置，各個軌道結構34具有一軌道通道341，而各個滑動部325可滑動地設置於各個軌道結構34。各個軌道結構34可以是以黏膠或是各式加工方式，額外地固定設置於本體30，但不以此為限，在不同實施例中，各軌道結構34也可以與本體30一體成型地設置。關於各個軌道結構34的外型可以是依據需求變化，且軌道通道341及滑動部325兩者的外型亦可依據需求變化。
在實際應用中，相關人員可以是先將樣品承載構件2設置於容槽301中後，再使各個限位件32的滑動部325插入於軌道通道341中，如此，各個限位件32的抵靠部326將對應抵靠於設置在樣品承載構件2的一端，而各個限位件32將能限制樣品承載構件2相對於本體30的活動範圍。
本實施例所舉的承載裝置3，在包裝為商品販售時，各個限位件32可以是未與軌道結構34相結合，而相關人員拿到承載裝置3後，可以是先將樣品承載構件2設置於容槽301，再使各個限位件32與各軌道結構34相結合。另外，在實際應用中，各軌道通道341的尺寸可以是略小於各個滑動部
325的尺寸，而各個滑動部325可以是與軌道通道341以緊配合的方式相互固定。在不同的實施例中，也可以是於本體30鄰近於各個軌道結構34的位置，設置有用來限制限位件32相對於軌道結構34活動的結構，舉例來說，本體30可以是在鄰近於軌道結構34的一側形成有類似C字型的穿孔308，而相關人員可以在使限位件32的滑動部325設置於軌道通道341中後，通過相關工具將被類似C字形穿孔308圍繞的結構向上彎曲，如此，將可以據以形成一止擋結構309，所述止擋結構309則可用來限制限位件32離開軌道結構34。
需特別強調的是，本實施例圖中所示的限位件32及軌道結構34，僅是作為限位件32以可滑動地方式固定於本體30上的其中一個實施例，在實際應用中，任何限位件32可以相對於本體30滑動，並據以限制設置於容槽301中的樣品承載構件2的變化形式，皆應屬於本實施例所涵蓋的變化態樣中。另外，承載裝置3所包含的限位件32及軌道結構34的數量，亦不以圖中所示為限。
請一併參閱圖24及圖25，其分別顯示為本發明的承載裝置的第八實施例(剖面)與樣品承載構件的分解及組合示意圖。本實施例與前述實施例最大不同之處在於：本體30可以是包含有一第一卡合結構310，第一卡合結構310包含一卡合槽3101。限位件32可以是包含有一第二卡合結構327及一抵靠部328，而限位件32的第二卡合結構327能卡合於卡合槽3101中。抵靠部328與第二卡合結構327相互連接，當第二卡合結構327卡合於卡合槽3101中時，抵靠部328將能對應抵靠於設置在容槽301中的樣品承載構件2的一端，並據以限制樣品承載構件2相對於本體30的活動範圍。在實際應用中，卡合槽3101的尺寸可以是略小於第二卡合結構327的尺寸，而第二卡合結構327卡合於卡合槽3101中時，則可以是以緊配合的方式相互固定。在實際應用中，承載裝置3可以是包含有單一個第一卡合結構310配合單一個限位件
32，或者，承載裝置3也可以是包含兩個以上的第一卡合結構310並配合兩個以上的限位件32。
請一併參閱圖26及圖27，其分別顯示為本發明的承載裝置的第九實施例(剖面)與樣品承載構件的分解及組合示意圖。本實施例與前述實施例最大不同之處在於：承載裝置3的本體30包含一固定孔311，限位件32包含一插入部329及一抵靠部330。插入部329插設於固定孔311，抵靠部330與插入部329連接。當插入部329插入於固定孔311時，抵靠部330將可以對應抵靠設置於容槽301中的樣品承載構件2，並據以限制樣品承載構件2相對於本體30的活動範圍。在實際應用中，固定孔311可以是略小於限位件32的插入部329，且而插入部329可以是以緊配合的方式與固定孔311相互固定。本實施例的承載裝置3在販售時，限位件32可以是未組裝於本體30，而相關人員可以是先使樣品承載構件2設置於容槽301中後，再將插入部329插入固定孔311中，而使抵靠部330抵靠於樣品承載構件2，據以限制樣品承載構件2相對於本體30的活動範圍。本實施例所舉的承載裝置3所包含的限位件32及固定孔311的數量，可以是依據需求變化，不以單一個為限。限位件32的抵靠部330的外型也可以是依據樣品承載構件2的外型變化，圖中所示僅為其中一示範態樣。
值得一提的是，限位件32還可以是包含有一抵壓部331，抵壓部331與插入部329相連接。如圖26所示，插入部329插入固定孔311中時，抵壓部331將對應抵靠於本體30的頂面3031，而後，承載有樣品承載構件2的承載裝置3設置於樣品桿11(如圖4所示)中時，限位構件114(如圖4所示)的抵壓結構1142(如圖4所示)將可以對應抵壓限位件32的抵壓部331，據以限制限位件32相對於本體30活動；也就是說，抵壓部331是用來提供樣品桿11的抵壓結構1142抵壓。
請一併參閱圖28及圖29，其分別顯示為本發明的承載裝置的第十實施例(剖面)與樣品承載構件的分解及組合示意圖。前述各實施例所舉的承載裝置3，皆是以容槽301的深度小於樣品承載構件2的高度為，而樣品承載構件2設置於容槽301中時，樣品承載構件2的一半露出於本體30。本實施例所舉的承載裝置3，則是容槽301的深度不小於樣品承載構件2，而樣品承載構件2設置於容槽301中時，樣品承載構件2基本上是完全位於容槽301中，而樣品承載構件2不會露出於容槽301。
本實施例與前述實施例最大不同之處在於：本體30相反於形成有支撐結構304的一側還向外延伸形成有一輔助容置結構304A，輔助容置結構304A、本體30及支撐結構304則共同形成可以完全容置樣品承載構件2的容槽301；另外，限位件32是可活動地設置於本體30，而限位件32能被操作以蓋設於輔助容置結構304A的一側，據以限制設置於容槽301中的樣品承載構件2相對於本體30的活動範圍。
值得一提的是，在實際應用中，樣品承載構件2設置於容槽301中時，樣品承載構件2的中心軸線CP是大致與本體30的頂面3031齊平，如此，將可避免樣品承載構件2在利用電子顯微設備進行樣本觀測時，發生影像聚焦問題。在實際應用中，輔助容置結構304A的外型及其相對於本體30的高度，皆可依據樣品承載構件2的外型及尺寸進行設計，本實施例圖中所示僅為其中一示範態樣。另外，限位件32與本體30的連接方式，不以圖中所示為限，只要限位件32可以與輔助容置結構304A相互配合，而限制設置於容槽301中的樣品承載構件2相對於本體30的活動範圍，限位件32的尺寸、外型及其與本體30的連接方式等，皆可依據需求變化。
請參閱圖30，其顯示為本發明的承載裝置的第十一實施例(剖面)與樣品承載構件的分解及組合示意圖。本實施例與前述實施例最大不同之處在於：承載裝置3還包含一處理模組35及一電連接構件36。處理模組35
固定設置於本體30，處理模組35包含一供電單元351及一控制單元352，供電單元351用以儲存電能，控制單元352與供電單元351電性連接。電連接構件36與處理模組35相連接，電連接構件36可以是能導電的可撓結構，而電連接構件36相反於與處理模組35相連接的一端，用以與樣品承載構件2的一電連接部23相連接。在實際應用中，所述供電單元351例如是各式電容，所述控制單元352例如是各式微處理器。
當樣品承載構件2固定設置於容槽301中，且電連接構件36與樣品承載構件2的電連接部23相連接時，供電單元351將能提供控制單元352運作時所需的電能，且供電單元351能提供樣品承載構件2內的一電子組件運作時所需的電能。樣品承載構件2的電子組件例如可以包含有加熱器、混合器、流量控制器、過濾器、開關中的至少一個。
依上所述，本實施例所舉的承載裝置3，通過處理模組35及電連接構件36的設置，將可以供電給設置於容槽301中的樣品承載構件2的電子組件，而使樣品承載構件2內的樣本在特定的溫度或是特定的狀況下被觀測。特別強調的是，本發明的承載裝置3及具有電子組件的樣品承載構件2，可以是搭配應用於各式樣品桿11中，而樣品桿11完全無需額外設置供電單元或是控制單元，如此，將可大幅降低使用者的相關觀測費用；更具體來說，現有常見的一般樣品桿11，是不具有供電單元及控制單元，而相關人員如欲對樣本進行加熱等作業，則必須額外購買高昂的特定規格的樣品桿11，為此，導致觀測費用大幅提升。反觀本發明的承載裝置3，其可以與設置有電子組件的樣品承載構件2相互配合，而可以在不需要額外添購樣品桿11的情況下，直接對樣本進行加熱等作業。需說明的是，本實施例所舉的處理模組35及電連接構件36可以是應用於前述任一個實施例中，不局限於僅可應用於本實施例中。
請一併參閱圖31至圖33，圖31及圖32分別顯示為本發明的承載裝置的第十二實施例(剖面)與樣品承載構件相互組裝的過程示意圖，圖33顯示為本發明的承載裝置的第十二實施例(剖面)與樣品承載構件的組合示意圖。本實施例與前述實施例最大不同之處在於：承載裝置3的本體定義為一第一本體30A，承載裝置3的容槽定義為一第一容槽301A。限位件32包含一第二本體332，第二本體332的一側內凹形成有一第二容槽3321，且第二本體332具有一第二開口3322，第二容槽3321能通過第二開口3322與外連通。第二本體332及第二容槽3321的尺寸及外型可以是大致等同於第一本體30A及第一容槽301的尺寸及外型。其中，第一本體30A的觀測口305的尺寸及第二本體332的第二開口3322的尺寸皆大於樣品承載構件2兩端的觀測凹槽20的尺寸，而電子束能通過觀測口305及第二開口3322進、出樣品承載構件2。
第一本體30A還包含兩個輔助定位結構312，兩個輔助定位結構312用以固定第二本體332，以限制第二本體332相對於第一本體30A的活動範圍。具體來說，兩個輔助定位結構312可以是與第一本體30A一體成型地設置，兩個輔助定位結構312可以是片狀結構，且兩個輔助定位結構312可以是大致彼此相面對地設置，而兩個輔助定位結構312彼此間的距離則是小於第二本體332的外徑，亦即，第二本體332是無法直接安裝於第一本體30A的一側。
如圖31及圖32所示，相關人員欲將第二本體332安裝於第一本體30A的一側時，可以是先將樣品承載構件2設置於第一容槽301A中，接著，再彎曲第二本體332，隨後，將呈現彎曲狀的第二本體332塞入第一本體30A的兩個輔助定位結構312之間，最後，不再彎曲第二本體332，而第二本體332將會藉著其本身的彈性回復力，回復至未受彎曲前的狀態，藉此，第二本體332將穩固地抵靠於兩個輔助定位結構312。關於第一本體30A所包含的輔助
定位結構312的數量、設置位置、外型及其設置位置，皆可依據第二本體332的尺寸、外型等設計，本實施例圖中所示僅為其中一示範態樣。
如圖33所示，當第二本體332通過第一本體30A的兩個輔助定位結構312固定於第一本體30A的一側時，第一容槽301A及第二容槽3321將共同形成一組合容槽SP，而樣品承載構件2則對應設置於所述組合容槽SP中。在較佳的實施例中，組合容槽SP的尺寸及外型是對應於樣品承載構件2的尺寸及外型，但不以此為限，只要組合容槽SP可以容置樣品承載構件2，組合容槽SP的尺寸及外型可以依據需求變化。
請一併參閱圖34及圖35，其分別顯示為本發明的承載裝置的第十三實施例(剖面)與樣品承載構件的分解及組合示意圖。本實施例與前述本發明的承載裝置的第十二實施例最大不同之處在於：第一本體30A可以是不設置有輔助定位結構312，而第二本體332設置有兩個輔助定位結構3323。相關人員欲將第二本體332固定於第一本體30A的一側時，可以是彎折第二本體332，以使第二本體332的兩個輔助定位結構3323向彼此相反的方向彎曲，而後，兩個輔助定位結構3323即可夾持第一本體30A，而第二本體332及其所包含的兩個輔助定位結構3323將共同固持第一本體30A。
特別強調的是，前述本發明的承載裝置3的第十二實施例及第十三實施例，所舉的輔助定位結構，僅是其中一種示範態樣，在實際應用中，只要第一本體30A及第二本體332中的至少一個具有一固定結構，而第一本體30A及第二本體332是通過所述固定結構而相互固定，皆應屬於本發明的承載裝置3的第十二實施例及第十三實施例的其中一種變化形式。
請一併參閱圖36至圖38，其圖36顯示為本發明的承載裝置的第十四實施例與樣品承載構件的分解示意圖，圖37及圖38分別顯示為本發明的承載裝置的第十四實施例(剖面)與樣品承載構件(非剖面)的分解及組合示意圖。本實施例與前述第十二實施例最大不同之處在於：本實施例的第一本
體30A不具有前述兩個輔助定位結構，而本實施例的第一本體30A具有兩個第一限位部313，且第二本體332具有兩個第二限位部3324。第一限位部313能與第二限位部3324相互固定，以限制第一本體30A與第二本體332彼此間的活動範圍。
如圖36所示，第一本體30A所包含的各個第一限位部313可以是凸柱結構，而第二本體332的各個第二限位部3324則對應為穿孔(或盲孔)。在不同的實施例中，也可以是各個第一限位部313為穿孔(或盲孔)，而各個第二限位部3324為凸柱結構。其中，為凸柱結構的第一限位部313(或第二限位部3324)，例如可以是圓柱狀結構、半球型狀結構等，只要可以與第二限位部3324(或第一限位部313)相互卡合，第一限位部313及第二限位部3324的數量、外型、尺寸、設置位置等皆可依據需求變化。
如圖37及圖38所示，第一容槽301A與第二容槽3321具有大致相同的外型及尺寸，當第一本體30A及第二本體332，通過兩個第一限位部313與兩個第二限位部3324而相互固定時，第一容槽301A將與第二容槽3321相互連通成為組合容槽SP，而樣品承載構件2則能對應容置於組合容槽SP中。
在不同的實施例中，可以是通過改變第一限位部313及第二限位部3324的數量、使部分第一限位部313及第二限位部3324的外型與其餘第一限位部313及第二限位部3324的外型不相同等設計，來限制相關人員以特定的方向，使第一本體30A設置於第二本體332上。舉例來說，可以是使其中一個第一限位部313為圓形穿孔，而使另一個第一限位部313呈方形穿孔，並使兩個第二限位部3324對應呈圓柱結構及方柱結構，如此，相關人員將被限制僅可使第二本體332以特定的方向設置於第一本體30A上；或者，可以是使第一本體30A具有三個第一限位部313，並使其中兩個第一限位部313位於第一容槽301A的一端，另一個第一限位部313則位於第一容槽301A的另一
端，而第二本體332則具有相對應的三個第二限位部3324，如此，也可以達到限制相關人員以正確的方向將第二本體332設置於第一本體30A上。
請參閱圖39，其分別顯示為本發明的承載裝置的第十五實施例(剖面)與樣品承載構件的分解示意圖。本實施例與前述實施例最大不同之處在於：承載裝置3還包含一彎曲結構37，彎曲結構37與第一本體30A相連接，彎曲結構37與第二本體332相連接，而第二本體332能通過彎曲結構37相對於第一本體30A旋轉，據以向靠近第一本體30A的方向移動或是向遠離第一本體30A的方向移動。所述彎曲結構37可以是任何可撓結構，而彎曲結構37可以是以任何方式與第一本體30A、第二本體332相互連接。關於第一本體30A與彎曲結構37相互連接的位置，第二本體332與彎曲結構37相連接的位置，可以是依據需求變化，不以圖中所示為限。
特別說明的是，前述各實施例所舉的承載裝置3，是以圓盤狀結構為例，但本實施例所舉的第一本體30A的外型則不以圓盤狀結構為限，第一本體30A及第二本體332的外型，可以是依據彎曲結構37的設置位置而對應變化，舉例來說，第一本體30A及第二本體332的外型也可以是接近於方形。另外，在實際應用中，彎曲結構37可以是額外固定於第一本體30A及第二本體332的構件，或者，第一本體30A、第二本體332及彎曲結構37可以是通過特定的製作流程一同製作形成。
值得一提的是，在不同的實施中，第一本體30A還可以是包含一第一輔助定位部314，第二本體332可以是包含一第二輔助定位部3325，第一輔助定位部314能與第二輔助定位部3325相互卡合，而當第二本體332通過彎曲結構37向第一本體30A的方向彎曲，以設置於第一本體30A上時，第二輔助定位部3325將與第一輔助定位部314相互卡合，據以輔助限制第二本體332相對於第一本體30A的活動範圍，如此，將可確保第二本體332不容易相對於第一本體30A活動。在本實施例的圖式中，是以第一輔助定位部314
為穿孔，而第二輔助定位部3325為凸出結構為例，但不以此為限，第一輔助定位部314及第二輔助定位部3325可以是任何能彼此相互卡合的結構。
請參閱圖40，其分別顯示為本發明的承載裝置的第十六實施例(剖面)與樣品承載構件的分解示意圖。本實施例與前述第十五實施例最大不同之處在於：第一本體30A還包含一第一樞接部315，第二本體332還包含兩個第二樞接部3326，第一樞接部315與第二樞接部3326相互樞接，而第二本體332能相對於第一本體30A旋轉。更具體來說，第一本體30A的第一樞接部315可以是呈現為圓柱狀，且第一本體30A鄰近於第一樞接部315的位置形成有兩個避讓穿孔316，各個第二樞接部3326為圓弧狀結構，而呈現為圓弧狀結構的各個第二樞接部3326則能對應與呈圓柱狀的第一樞接部315相互卡合。其中，當第二本體332相對於第一本體30A旋轉時，呈圓弧狀結構的第二樞接部3326將能通過避讓穿孔316，而相對於呈圓柱狀的第一樞接部315旋轉。於本實施例中，是以第二本體332具有兩個呈圓弧狀結構的第二樞接部3326為例，但第二本體332所具有的第二樞接部3326的數量不以兩個為限，其可依據需求變化。
另外，於本實施例圖式中所舉的第一樞接部315及第二樞接部3326的外型、尺寸、數量及其設置於第一本體30A及第二本體332的位置，皆僅為其中一示範態樣，於實際應用中，任何可以使第一本體30A相對於第二本體332旋轉的結構，皆應屬於本實施例所舉的第一樞接部315及第二樞接部3326可實施應用的範圍。當然，在特殊的應用中，第一樞接部315、第二樞接部3326也可以是配合其他的構件，而使第一本體30A能相對於第二本體332旋轉。
綜合上述，由於本發明的承載裝置3無需利用黏膠，而相關人員可以簡單地通過相關工具，將樣品承載構件2設置於容槽中後，即可完成樣品的製備，是以，相較於現有利用黏膠將可以承載液體樣本的構件固定於
銅網的技術，本發明的承載裝置3具有：操作簡單快速及樣品製備良率高的優點。在習知技術中，相關人員在製備樣品的過程中，容易發生黏膠流入樣品承載構件2的觀測凹槽20的問題，因此，習知技術相較於本發明的承載裝置3具有相對較低的製備良率。另外，本發明的承載裝置3相較於習知技術，還具有成本便宜及可擴充性高(可以依據需求在承載裝置中設置處理模組及電連接構件，而增加承載裝置的功能)等優點。
請參閱圖41，其顯示為本發明的承載裝置的第十七實施例(剖面)與樣品承載構件的分解示意圖。本實施例與前述實施例最大不同之處在於：第二本體332設置有處理模組35的供電單元351及控制單元352，且電連接構件36的一端則是對應位於第二本體332的第二開口3322。如圖43所示，當第二本體332設置於第一本體30A的一側時，電連接構件36的一端將可以對應與設置於樣品承載構件2的電連接部23相連接，如此，供電單元351將能提供樣品承載構件2內的一電子組件運作時所需的電能。本實施例所舉的處理模組35及電連接構件36可以是應用於前述承載裝置3的第十二實施例至第十六實施例中的任一個。
請參閱圖42，其顯示為製造本發明的承載裝置的其中一個製造方法的示意圖。本實施例所舉的製造方法，主要是製造包含有第一本體30A及第二本體332承載裝置3，所述製造方法包含：一表面清潔步驟：對一銅箔基板4的表面進行清潔；一乾蝕刻步驟(如圖42中最上面的圖式所示)：對銅箔基板4進行乾蝕刻，以於銅箔基板4的一側形成一第一凹槽40、多個中間凹槽41及一第二凹槽42，多個中間凹槽41彼此間隔地設置，且多個中間凹槽41位於第一凹槽40及第二凹槽42之間；其中，第一凹槽40、各個中間凹槽41及第二凹槽42未貫穿銅箔基板4；
一鎳金層形成步驟：於銅箔基板4形成有第一凹槽40、多個中間凹槽41及第二凹槽42的一側形成一鎳層43，再於鎳層43上形成一金層44；一光阻形成步驟：於金層44上形成一光阻層，並使光阻層不形成於多個中間凹槽41的上方；一曝光顯影及電鍍步驟：利用曝光顯影技術，去除不被光阻層遮蔽的金層44，並再鍍上一層厚度更厚的一輔助金層46；一保護膜貼合步驟：於金層44及輔助金層46上形成一保護膜；一溼蝕刻步驟：將銅箔基板4設置於一蝕刻液中，以使蝕刻液蝕刻銅箔基板4相反於形成金層44的一側，而使部分的鎳層43外露(如圖42中由上往下數的第二個圖式所示)；一保護膜去除步驟：去除金層44上的保護膜；一模具成型步驟：利用一上模具5及一下模具6，壓合銅箔基板4，以使銅箔基板4外露有鎳層43的部分區段，由銅箔基板4未形成鎳層43的一側向形成有鎳層43的一側彎折，而使多個中間凹槽41的兩側分別形成兩個尺寸、外型大致相同的第一容槽301A及第二容槽3321(如圖42中由上往下數的第三個圖式所示)；一開孔步驟：去除位於中間凹槽41中的鎳層43及金層44，而僅保留設置於中間凹槽41中的鎳層43、金層44及輔助金層46，據以形成一觀測口305及一第二開口3322，而第一容槽301A則能通過其中一個觀測口305與外連通，第二容槽3321能通過第二開口3322與外連通(如圖42中由上往下數的第四個圖式所示)；一彎曲步驟：彎折銅箔基板4，以使第一容槽與第二容槽相面對，而多個凹槽及填充於其內的鎳層43、金層44及輔助金層46則作為前述彎曲結構37。
依上所述，通過鎳層43的設置，金層44及輔助金層46能夠穩固地與銅箔基板4相互固定，而透過金層44、輔助金層46具有相對較佳的變形能力，可以讓相關人員更容易地使第一本體30A與第二本體332相互靠近或相互遠離。
上述製造方法在不同的實施例中，也可以是不包含保護膜貼合步驟及保護膜去除步驟。另外，於本實施例的圖式中，僅顯示出銅箔基板4的局部區段，在實際應用中，上述製造方法可以是於單一個銅箔基板4上形成多個承載裝置3。特別說明的是，在實際應用中，上模具5、下模具6的外型、尺寸等，可依據實際的樣品承載構件2的外型、尺寸進行設計，本實施例各圖式所繪示的尺寸、外型僅為其中一個示範態樣。
請一併參閱圖43至圖45，圖43為製造本發明的承載裝置的第一本體(或第二本體)的製造方法的示意圖，圖44為製造本發明的承載裝置的第二本體(或第一本體)的製造方法的示意圖，圖45為依循圖43至圖44的製造方法所製造出的兩個承載裝置的示意圖。
如圖43所示，製造本發明的承載裝置的第一本體(或第二本體)的製造方法包含：一表面清潔步驟：對一銅箔基板4的表面進行清潔；一乾蝕刻步驟(如圖43中最上面的圖式所示)：對銅箔基板4進行乾蝕刻，以於銅箔基板4的一側形成一第一凹槽40、一中間凹槽41及一第二凹槽42，中間凹槽41位於第一凹槽40及第二凹槽42之間；其中，第一凹槽40、中間凹槽41及第二凹槽42未貫穿銅箔基板4；一鎳金層形成步驟：於銅箔基板4形成有第一凹槽40、中間凹槽41及第二凹槽42的一側形成一鎳層43，再於鎳層43上形成一金層44；一光阻形成步驟：於金層44上形成一光阻層(圖未示)，且使光阻層不形成於位在中間凹槽41的兩側的金層44上，使光阻層不形成於位在
第一凹槽40旁的金層44上，使光阻層不形成於位在第二凹槽42旁的金層44上；一曝光顯影及電鍍步驟：利用曝光顯影技術，去除不被光阻層遮蔽的金層44，再鍍上一層輔助金層46，所述輔助金層46為柱狀結構(如圖43中由上往下數的第二個圖式所示)；一保護膜貼合步驟：於金層44及輔助金層46上形成一保護膜(圖未示)；一溼蝕刻步驟：將銅箔基板4設置於一蝕刻液中，以使蝕刻液蝕刻銅箔基板4相反於形成金層44的一側，而使部分的鎳層43外露；一保護膜去除步驟：去除金層44上的保護膜；一模具成型步驟：利用一上模具5及一下模具6，壓合銅箔基板4，以使銅箔基板4外露有鎳層43的部分區段，由銅箔基板4形成有鎳層43的一側向未形成有鎳層43的一側彎折，而使中間凹槽41的兩側分別形成兩個尺寸、外型大致相同的第一容槽301A(如圖43中由上往下數的第三個圖式所示)；及一開孔步驟：除了各個輔助金層46及其所連接的鎳層43外，去除其他的金層44及鎳層43，據以形成一觀測口305，各個第一容槽301A則能通過其中一個觀測口305與外連通(如圖43中由上往下數的第四個圖式所示)。
如圖43中由上往下數的第四個圖式所示，通過上述製造方法將可以製造出本發明的多個承載裝置3的第一本體30A。在不同的實施例中也可以是不包含保護膜貼合步驟及保護膜去除步驟；另外，上模具5、下模具6的外型、尺寸等，可依據實際的樣品承載構件2的外型、尺寸進行設計，不以本實施例圖中所示為限。
如圖44所示，製造本發明的承載裝置的第二本體(或第一本體)的製造方法包含：一表面清潔步驟：對一銅箔基板4的表面進行清潔；一乾蝕刻步驟(如圖44中最上面的圖式所示)：對銅箔基板4進行乾蝕刻，以於銅箔基板4的一側形成一第一凹槽40、一中間凹槽41、一第二凹槽42及四個預留凹槽48，中間凹槽41位於第一凹槽40及第二凹槽42之間，其中兩個預留凹槽48位於第一凹槽40的兩側，另外兩個預留凹槽48位於第二凹槽42的兩側；其中，第一凹槽40、中間凹槽41、第二凹槽42及各個預留凹槽48未貫穿銅箔基板4；一鎳金層形成步驟：於銅箔基板4形成有第一凹槽40、中間凹槽41及第二凹槽42的一側形成一鎳層43，再於鎳層43上形成一金層44；一溼蝕刻步驟：將銅箔基板4設置於一蝕刻液中，以使蝕刻液蝕刻銅箔基板4相反於形成金層44的一側，而使部分的鎳層43外露(如圖44中由上往下數的第二個圖式所示)；一模具成型步驟：利用一上模具5及一下模具6，壓合銅箔基板4，以使位於兩個預留凹槽48之間的銅箔基板4由未形成有鎳層43的一側向另一側彎折，並據以形成兩個第二容槽(如圖42中由上往下數的第三個圖式所示)；一開孔步驟：去除所有鎳層43及金層44，以形成兩個第二開口3322，各個第二容槽3321則能通過其中一個第二開口3322與外連通(如圖44中由上往下數的第四個圖式所示)。
如圖44所示，通過上述製造方法將可以製造出本發明的多個承載裝置3的第二本體332。在不同的實施例中也可以是不包含保護膜貼合步驟及保護膜去除步驟；另外，上模具5、下模具6的外型、尺寸等，可依據實際的樣品承載構件2的外型、尺寸進行設計，不以本實施例圖中所示為限。
如圖45所示，通過上述製造方法所製造出的第一本體30A及第二本體332，可以是直接包裝為成品販售。另外，通過上述製造方法所製造出的第一本體30A及第二本體332將分別對應具有前述實施例所舉的第一限位部(即圖67中所示的輔助金層46及鎳層43)及第二限位部3324，而相關人員可以利用第一限位部及第二限位部3324來使第一本體30A與第二本體332相互固定。
依上所述，前述各實施例所舉的承載裝置3，在實際應用中，例如可以是通過機械精密加工與電鍍、半導體及微機電技術等技術製作，但不以此為限。另外，承載裝置3的本體30的材質，例如可以是銅、鋁、鎳、金、白金、錫、陶瓷、塑膠或矽，但不以此為限。限位件32的材質例如可以是銅、鋁、鎳、金、白金、錫、矽、碳化矽、氮化鋁、高分子聚合物、橡膠、壓克力等。
特別說明的是，前述各實施例所舉的承載裝置3不但可以是單獨地被販售外，前述各實施例所舉的承載裝置3還可以是與樣品承載構件2組成一承載套件一同販售，換言之，本發明的承載套件即是包含有樣品承載構件2及承載裝置3。
以上所述僅為本發明的較佳可行實施例，非因此侷限本發明的專利範圍，故舉凡運用本發明說明書及圖式內容所做的等效技術變化，均包含於本發明的保護範圍內。
112:桿體
113:承載端部
1131:凹槽
1132:穿孔
114:限位構件
1141:活動部
1142:抵壓結構
2:樣品承載構件
3:承載裝置
Claims (25)
- 一種承載裝置，其用以設置於一電子顯微設備的一樣品桿(specimen holder)的一承載端部的一凹槽中，且設置於所述凹槽中的所述承載裝置能被所述樣品桿的一限位構件抵壓，而固定設置於所述樣品桿中，所述承載裝置用以承載一樣品承載構件，所述樣品承載構件彼此相反的兩側分別內凹形成有一觀測凹槽，所述樣品承載構件內具有一容置通道，所述容置通道用以容置一樣品，各個所述觀測凹槽使所述容置通道的一部分露出，所述承載裝置包含：一本體，其一側內凹形成有一容槽，所述容槽用以容置所述樣品承載構件，所述本體還包含一觀測口，所述觀測口與所述容槽相互連通；當所述樣品承載構件設置於所述容槽中時，其中一個所述觀測凹槽能通過所述觀測口而露出於所述本體；以及至少一限位件，其設置於所述本體，所述限位件用以限制設置於所述容槽中的所述樣品承載構件相對於所述本體的活動範圍。
- 如請求項1所述的承載裝置，其中，所述本體包含一片狀結構及一支撐結構，所述片狀結構呈圓盤狀，且所述片狀結構彼此相反的兩側面分別定義為一頂面及一底面，而所述片狀結構由所述底面向外延伸形成所述支撐結構，所述支撐結構遠離所述片狀結構的一側形成有所述觀測口。
- 如請求項2所述的承載裝置，其中，所述本體相反於形成有所述支撐結構的一側，來延伸形成有一輔助容置結構，所述輔助容置結構及所述支撐結構共同形成所述容槽，而所述容槽能容置整個所述樣品承載構件；所述限位件是可活動地設置於所述本體，且所述限位件能被操作而蓋設於 所述輔助容置結構，並據以限制設置於所述容槽中的所述樣品承載構件相對於所述本體的活動範圍。
- 如請求項1所述的承載裝置，其中，所述容槽的深度小於所述樣品承載構件的高度，而所述樣品承載構件設置於所述容槽中時，所述樣品承載構件的一部分露出於所述本體；所述承載裝置包含兩個所述限位件；所述容槽於所述本體形成有一容置開口，所述樣品承載構件能通過所述容置開口置入於所述容槽，於所述承載裝置的俯視圖中，各個所述限位件的一部分是位於所述容置開口中。
- 如請求項4所述的承載裝置，其中，兩個所述限位件彼此相面對地設置，且各個所述限位件與所述本體一體成型地設置；其中，所述本體能被操作而彎曲，所述本體被操作而彎曲的過程中，兩個所述限位件彼此間的距離將相對改變。
- 如請求項1所述的承載裝置，其中，所述容槽的深度小於所述樣品承載構件的高度，而所述樣品承載構件設置於所述容槽中時，所述樣品承載構件的一部分露出於所述本體；所述本體具有至少一穿孔，所述穿孔呈C字型，被所述穿孔包圍的所述本體的部分為所述限位件，所述限位件能被操作以相對於所述本體彎折。
- 如請求項1所述的承載裝置，其中，所述容槽的深度小於所述樣品承載構件的高度，而所述樣品承載構件設置於所述容槽中時，所述樣品承載構件的一部分露出於所述本體；所述限位件固定於所述本體，所述限位件相反於所述本體的一端能被操作而彎折，據以抵靠於設置於所述容槽中的所述樣品承載構件的一側。
- 如請求項1所述的承載裝置，其中，所述容槽的深度小於所述樣品承載構件的高度，而所述樣品承載構件設置於所述容槽中時，所述樣品承載構件的一部分露出於所述本體；所述承載裝置包含兩個所述限位件，兩個所述限位件彼此相面對地設置，於所述樣品承載構件置入於所述容槽的過程中，兩個所述限位件將受所述樣品承載構件擠壓而彈性變形。
- 如請求項1所述的承載裝置，其中，所述容槽的深度小於所述樣品承載構件的高度，而所述樣品承載構件設置於所述容槽中時，所述樣品承載構件的一部分露出於所述本體；所述限位件包含一固定基部及一可撓結構，所述固定基部固定於所述本體，所述可撓結構能被操作而向靠近或遠離所述容槽的方向彎曲，所述可撓結構的一端用以抵靠設置於所述容槽中的所述樣品承載構件的一側，以限制所述樣品承載構件相對於所述本體的活動範圍。
- 如請求項1所述的承載裝置，其中，所述容槽的深度小於所述樣品承載構件的高度，而所述樣品承載構件設置於所述容槽中時，所述樣品承載構件的一部分露出於所述本體；所述限位件包含一樞接部及一抵靠部，所述樞接部可旋轉地與所述本體相連接，所述抵靠部與所述樞接部相連接，而所述抵靠部能與所述樞接部一同相對於所述本體旋轉；其中，當所述限位件被操作而相對於所述本體旋轉，且所述抵靠部位於所述容槽的上方時，所述抵靠部將抵靠設置於所述容槽中的所述樣品承載構件，其中，所述樞接部是以平行於所述本體的法線方向的一中心軸線為中心相對於所述本體旋轉。
- 如請求項1所述的承載裝置，其中，所述限位件包含一滑 動部及一抵靠部，所述滑動部能於所述本體的一頂面向靠近所述容槽或遠離所述容槽的方向移動，所述抵靠部與所述滑動部相連接，而所述抵靠部能與所述滑動部一同相對於所述本體移動。
- 如請求項11所述的承載裝置，其中，所述本體包含一軌道結構，所述限位件的所述滑動部可活動地設置於所述軌道結構的一軌道通道中。
- 如請求項12所述的承載裝置，其中，所述本體還包含一止檔結構，所述止擋結構位於所述軌道結構的一端，所述止擋結構用以限制所述滑動部離開所述軌道結構。
- 如請求項1所述的承載裝置，其中，所述本體包含一固定孔，所述限位件包含一插入部及一抵靠部，所述插入部插設於所述固定孔，所述抵靠部與所述插入部連接；當所述插入部插入於所述固定孔，且所述抵靠部將抵靠設置於所述容槽中的所述樣品承載構件。
- 如請求項14所述的承載裝置，其中，所述限位件還包含一抵壓部，所述抵壓部抵靠於所述本體的一頂面；當所述承載裝置設置於所述樣品桿中時，所述樣品桿的一樣品固持件將壓在所述抵壓部，以限制所述限位件相對於所述本體的活動範圍。
- 如請求項1所述的承載裝置，其中，所述承載裝置還包含一處理模組及一電連接構件，所述處理模組固定設置於所述本體，所述處理模組包含一供電單元及一控制單元，所述供電單元用以儲存電能，所述控制單元與所述供電單元電性連接，所述電連接構件與所述處理模組相連接，所述電連接構件相反於與所述處理模組相連接的一端，用以與 所述樣品承載構件的一電連接部相連接；其中，當所述樣品承載構件固定設置於所述容槽中，且所述電連接構件與所述樣品承載構件的所述電連接部相連接時，所述供電單元能提供所述控制單元運作時所需的電能，且所述供電單元能提供所述樣品承載構件內的一電子組件運作時所需的電能。
- 如請求項1所述的承載裝置，其中，所述本體具有一第一卡合結構，所述限位件具有一第二卡合結構及一抵靠部，所述限位件的所述第二卡合結構能與所述第一卡合結構相互卡合，所述抵靠部與所述第二卡合結構相連接，且所述抵靠部用以限制設置於所述容槽中的所述樣品承載構件相對於所述本體的活動範圍。
- 如請求項1所述的承載裝置，其中，所述承載裝置的所述本體定義為一第一本體，所述承載裝置的所述容槽定義為一第一容槽；所述限位件包含一第二本體，所述第二本體的一側內凹形成有一第二容槽；所述第一本體及所述第二本體兩個中的至少一個設置有一固定結構，所述固定結構用以使所述第二本體固定設置於所述第一本體的一側；當所述第二本體固定設置於所述第一本體的一側時，所述第一容槽將與所述第二容槽相互連通，而共同組成一組合容槽，所述組合容槽用以容置所述樣品承載構件，而設置於所述組合容槽中的所述樣品承載構件將被所述第一本體及所述第二本體共同固持。
- 如請求項1所述的承載裝置，其中，所述承載裝置的所述本體定義為一第一本體，所述承載裝置的所述容槽定義為一第一容槽；所述限位件包含一第二本體，所述第二本體的一側內凹形成有一第二容槽；所述第一本體具有兩個輔 助定位結構，兩個所述輔助定位結構用以固定所述第二本體，以使所述第二本體固定設置於所述第一本體的一側；當所述第二本體固定設置於所述第一本體的一側時，所述第一容槽將與所述第二容槽相互連通，而共同組成一組合容槽，所述組合容槽用以容置所述樣品承載構件，而設置於所述組合容槽中的所述樣品承載構件將被所述第一本體及所述第二本體共同固持。
- 如請求項1所述的承載裝置，其中，所述承載裝置的所述本體定義為一第一本體，所述承載裝置的所述容槽定義為一第一容槽；所述限位件包含一第二本體，所述第二本體的一側內凹形成有一第二容槽；所述第二本體具有兩個輔助定位結構，兩個所述輔助定位結構用以固定所述第一本體，以使所述第二本體固定設置於所述第一本體的一側；當所述第二本體固定設置於所述第一本體的一側時，所述第一容槽將與所述第二容槽相互連通，而共同組成一組合容槽，所述組合容槽用以容置所述樣品承載構件，而設置於所述組合容槽中的所述樣品承載構件將被所述第一本體及所述第二本體共同固持。
- 如請求項1所述的承載裝置，其中，所述承載裝置的所述本體定義為一第一本體，所述承載裝置的所述容槽定義為一第一容槽；所述限位件包含一第二本體，所述第二本體的一側內凹形成有一第二容槽；所述第一本體具有至少一第一限位部，所述第二本體具有至少一第二限位部，所述第一限位部能與所述第二限位部相互固定，以使所述第二本體固定設置於所述第一本體的一側；當所述第二本體固定設置於所述第一本體的一側時，所述第一容槽將與所述第二容槽相互連通，而共同組成一組合容槽，所述組合容 槽用以容置所述樣品承載構件，而設置於所述組合容槽中的所述樣品承載構件將被所述第一本體及所述第二本體共同固持。
- 如請求項1所述的承載裝置，其中，所述承載裝置的所述本體定義為一第一本體，所述承載裝置的所述容槽定義為一第一容槽；所述限位件包含一第二本體，所述第二本體的一側內凹形成有一第二容槽；所述第一本體還包含一第一樞接部，所述第二本體還包含一第二樞接部，所述第一樞接部與所述第二樞接部相互樞接，而所述第二本體能相對於所述第一本體旋轉；當所述第二本體固定設置於所述第一本體的一側時，所述第一容槽將與所述第二容槽相互連通，而共同組成一組合容槽，所述組合容槽用以容置所述樣品承載構件，而設置於所述組合容槽中的所述樣品承載構件將被所述第一本體及所述第二本體共同固持。
- 如請求項1所述的承載裝置，其中，所述承載裝置的所述本體定義為一第一本體，所述承載裝置的所述容槽定義為一第一容槽；所述限位件包含一第二本體，所述第二本體的一側內凹形成有一第二容槽；所述承載裝置還包含一彎曲結構，所述彎曲結構與所述第一本體相連接，所述彎曲結構與所述第二本體相連接，而所述第二本體能通過所述彎曲結構相對於所述第一本體旋轉；當所述第二本體固定設置於所述第一本體的一側時，所述第一容槽將與所述第二容槽相互連通，而共同組成一組合容槽，所述組合容槽用以容置所述樣品承載構件，而設置於所述組合容槽中的所述樣品承載構件將被所述第一本體及所述第二本體共同固持。
- 如請求項1所述的承載裝置，其中，所述承載裝置的所述 本體定義為一第一本體，所述承載裝置的所述容槽定義為一第一容槽；所述限位件包含一第二本體，所述第二本體的一側內凹形成有一第二容槽，當所述第二本體固定設置於所述第一本體的一側時，所述第一容槽將與所述第二容槽相互連通，而共同組成一組合容槽，所述組合容槽用以容置所述樣品承載構件，而設置於所述組合容槽中的所述樣品承載構件將被所述第一本體及所述第二本體共同固持；所述承載裝置還包含一處理模組及一電連接構件，所述處理模組固定設置於所述第二本體，所述處理模組包含一供電單元及一控制單元，所述供電單元用以儲存電能，所述控制單元與所述供電單元電性連接，所述電連接構件與所述處理模組相連接，所述電連接構件相反於與所述處理模組相連接的一端，用以與所述樣品承載構件的一電連接部相連接；其中，當所述樣品承載構件固定設置於所述組合容槽中，且所述電連接構件與所述樣品承載構件的所述電連接部相連接時，所述供電單元能提供所述控制單元運作時所需的電能，且所述供電單元能提供所述樣品承載構件內的一電子組件運作時所需的電能。
- 一種承載套件，其包含：一樣品承載構件，其彼此相反的兩側分別內凹形成有一觀測凹槽，所述樣品承載構件內具有一容置通道，所述容置通道用以容置一樣本，各個所述觀測凹槽使所述容置通道的一部分露出；一承載裝置，用以設置於一電子顯微設備的一樣品桿(specimen holder)的一承載端部的一凹槽中，且設置於所述凹槽中的所述承載裝置能被所述樣品桿的一限位構件抵壓，而固定設置於所述樣品桿中，所述承載裝置用以承載所述樣品承載構件，所述承載裝置包含： 一本體，其一側內凹形成有一容槽，所述容槽用以容置所述樣品承載構件，所述本體還包含一觀測口，所述觀測口與所述容槽相互連通；當所述樣品承載構件設置於所述容槽中時，其中一個所述觀測凹槽能通過所述觀測口而露出於所述本體；至少一限位件，其設置於所述本體，所述限位件用以限制設置於所述容槽中的所述樣品承載構件相對於所述本體的活動範圍。
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