TW200411262A - Device and method for fabricating liquid crystal display device - Google Patents

Description

200411262 五、發明說明（1) 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種液晶顯示裝置，特別是一種用以製 造以液晶分滴方法形成之液晶顯示裝置的基板接合設備及 其液晶顯示裝置之製造方法。 【先前技術】 由於社會資訊膨脹所帶來的需求，平面顯示器逐漸以 優良的顯示品質、超薄以及低耗能為訴求。朝向為符合上 述需求，許多平面顯示器應運而生，包含液晶顯示裝置 (LCD)、電漿顯示器（PDP)、電泳顯示器（ELD)和真空螢光 顯示器（VFD)等，這些顯示器技術已經可應用於資訊顯示 器中。 於眾多平面顯示器中，液晶顯示裝置具有最優良的顯 示品質、超薄以及低耗能，其應用範圍很廣。事實上，可 攜式裝置，如筆記型電腦，液晶顯示裝置技術已經取代以 往的陰極射線管技術（C R T)。此外，如桌上型電腦和電視 螢幕，液晶顯示裝置的使用也非常普遍。

儘管液晶顯示裝置技術有各種的技術發展，然而，相 較於液晶顯示裝置的其他特徵和優點研究，如減少重量、 薄化與低能源消耗等，提高液晶顯示裝置圖片品質的研究 比較缺少。為增加液晶顯示裝置的應用領域，液晶顯示裝 置需提高大尺寸'之影像顯示品質（如高解析度和高亮度）， 並維持其重量輕、超薄和低耗能的特性。 液晶顯示裝置一般包含用以顯示圖案之液晶顯示面板 與提供液晶顯示面板驅動訊號之驅動部，液晶顯示面板包

200411262 五、發明說明（2) 接合之第一基板與第二基板，兩者並藉由-間隙互 減；二而液晶材料則注入於間隔以形成液晶材料層。 隔-固基板（即薄膜電晶體陣列基板），設有互相間 互相門 ⑽亚同樣往第—方向延伸之複數個閘極線，盘 i 並：r第二方向延伸之複數個資料 資料線所-、,、3極線。其中像素區域係由交叉之閘極線與 域 '以及^ ί ?數個*素電極係分別言免置於每一像素區 曾，# ΐ數個潯膜電晶體，係能對應其閘極線所傳輸的 «^資料線傳輸訊號至對應的像素電極。寻㈣ 防止板(即彩色遽光基板），係設有黑色矩陣以 以選擇所預定通過的=慮先片層（紅、綠、藍）用 極。液曰ϊ,ΐϊ 長；以及用以顯示圖案的共用電 夜日日顯不I置之平面電極開關（〗 IPS)，式的共用電極亦可形成於第(一基…一’ 唯持~ Μ ^板與第一基板係藉由隔離於兩者之間的間隔物 二二=:合同 象注入間隙，液晶㈡二= 進入間隙以形成液晶材料層。 缺點ί:Ϊ述之液晶注入法製造液晶顯示裝置，然而，其 過裁切之後，需使間隙之壓力維持直空狀^顯不面板經 料由液晶材料槽經過液晶注入口注、以々液晶材 面板尺寸增加時，使用液晶注入法將複：：浪rr 第ίο頁 200411262 五、發明說明（3) 間，並且需要使用佔用大量空間的液晶注入裝置。 有鑑於前述液晶注入方法的問題，採用分滴法 (dispensing method)注入液晶來製造液晶顯示裝置成 為當前研發目標。特別是日本專利申請號Hu〜〇8 9 6 1 2與 Η1卜1 7 2 9 0 3係揭露一種液晶材料分滴方法以及鍍於第一基 板與第二基板之密封材料，液晶材料分滴在兩^板其中二 一，另一基板則對準並於真空情形下加以接合: 一般來說’在節省液晶顯示面板的製造步驟方面，液 晶材料分滴法係優於液晶材料注入法（即可節省製作液晶 材料注入口、液晶材料注入和封住液晶材料住入口等步 驟），以簡化液晶顯示面板的製程。因此，以液晶材料分 滴法製作液晶顯示面板成為當前趨勢。 、曰第1圖和第2圖為前案之應用於以液晶材料分滴法製作 液晶面板的基板接合設備結構示意圖。 請參考第1圖和第2圖，先前所使用之基板接合設 ^框架10、上平台21、下平台22、密封材料分配部分（無 圖不）、液晶材料分滴部3 0、上腔室3 i、下腔室3 2、 移動=以及平台移動系統。 工至 $你f f材料分配裝置（無圖示）以及液晶分滴材料部30係 2以I ί之一侧，此外，上腔室31和下腔室32，可互相二讀 百以f合液晶顯示面板的基板。 μ 至接ί室移動件通常包含驅動馬達40用以先移動下腔室32 :基板的第二預定位置（S2)、塗佈密 +的弟一預定位置（S1)。平台移動系統包含驅動馬 200411262 五、發明說明（4) 達50用以上下移動上平台21至預定位置 乂下的段落中描述使用别案之基板接合設備來完成液 晶材料分滴以製作液晶面板的製程方法。 第了基板51係置於下腔室32之下平台22上，而腔室移 動件40係用以移動下腔室32至上腔室31的下方，使下平a 22對準上平台21。其次，平台移動系統之驅動馬達5◦降低 上平台21到適當位£，第一基板51安裝於上平台21 穿 基板51上平台抬升到預定位置，腔室移動件40移； 、疋位置以將第二基板52承載於下平台22。腔室移 ，下腔室32至第一預定位置以(如第i圖所示)至私使動第件 3: i ϊ5—2 ί!密封材料分配部(無圖示)和液晶材料分滴部 的製程。進行塗佈密封材料與分滴液晶材料 f ^Ια ;主布枪封材料材以及分滴液晶材料之後，腔室 示），祐Λ 至32至弟一預疋位置S2(如第2圖所 1 A侍弟基板5 1和第二基板5 2得以開始進行接合。 其二人，上腔室移動單 上平么川4 丁、T, y 0 ，、卜胺至扣動早兀32互相結合， 離* ^ i 4平口 22之間形成密封的隔離空間。密封的隔 間之由抽氣裝置(無圖示)形成真 ：广 平六”::張動馬達50則降低上平台21，使鎖緊於上 ^。21之第一基板51與鎖緊於下平台。 上 萄，上平台21下降至兩基板完成接 = 的製作。 以凡成液晶顯不面板 衣置的接合設備較不利於 特別是特殊規格的大尺寸 ’ 使用前述之習知的液晶顯 製作尺寸過大之液晶顯示面板

200411262 五、發明說明（5) 液晶顯示面板。習知的基板接合設備應用於大尺寸基板製 作時，由於習知的基板接合設備需要足夠的空間來安裝， 所以其他液晶顯示面板製程步驟所需的裝置則難以安置， 因此液晶顯示面板的製程設計會產生困難。 另外，使用先前技術之基板接合設備提供密封以及液 晶材料給基板中的薄膜電晶體以及彩色濾光片層後，再將 兩基板接合在一起，可能會造成製造時間過長。特別是， 因為分滴液晶材料、塗佈密封材料以及接合基板均是採用 同樣的設備，從前一製程所運送過來的基板必須等到目前 的基板完成以上的製程後才能繼續進行。並且，當其他的春 製程也在進行時，先前技術之基板接合設備無法處理運送 過來的基板，而造成整體的生產率降低。 更進一步，在上腔室31與下腔室32結合時可能產生縫 隙。因此，外部的空氣可能會進入由在上腔室31與下腔室 3 2結合所產生的禮閉空間中’而使得在接合中的基板受到 損壞。 此外，於定位下腔室32以及接合兩基板時皆需要高度 對位，這樣的對位步驟部是相當的困難而複雜，並且可能 增加整體製作LCD面板的時間。因此，將下腔室32移動的 位置越多（例如：分滴液晶材料以及塗佈密封材料至 基板52的卜預定位置S1、接合兩基板的第二 S2)都將會影響基板對位以及成功的接合。 、 【發明内容】 有鑑於此，本發明係揭露一 種用以製造液晶顯示裝置

200411262 五、發明說明（6) 之基板接合 本發明 示裝置的方 簡化液晶顯 晶顯不面板 本發明 中了解某些 徵來了解， 為了達 體而廣泛的 底框架，安 腔室，並可 移動袭置， 提供具有容 板和第二基 表面以接合 置於密封之 本發明 其步驟包含 於下平台； 其上平台與 由密封裝置 室與上平台 板接觸形成 設備， 的優點法，藉 示裝置 的製造 另外的 程度上 特別是 到本發 描述， 裝於基 相對於 用以上 置空間 板；密 上腔室 容置空 以解決 係提供 由簡化 製程， 時間， 特徵和 的外觀 指說明 明的優 基板接 底框架 基底框 升和下 的下腔 封裝置 和下腔 間内。 前案的限制和問題。 一基板接合設備以及製 設備結構以及縮減之設 k供基板之間的對位以 以利於其前後的製程步 優點如下所述，同時亦 。本發明之優點可由結 書、專利範圍和圖示所 點以及完成本發明的目 合設備含有可露出中央 之下腔室；置於下腔室 架移動。·安裝於基底框 降上腔室，下平台和上 室與上腔室，其各自鎖 提供於至少上腔室和下 室並密封住容置空間/ 造液晶顯 備尺寸來 及縮減液 驟。 可於說明 構上的特 述。 的，係具 區域之基 上方之上 架之腔室 平台用以 緊第一基 腔室的一 基板係設 的另一目的 :裝載 降低上 下平台 第 平台以 係間隔 加以密封；抽 使第一基板與 於第二基板表 係為液晶顯示裝置的製造方法， 基板於上平台；裝載一第二基板 纟巴外部空間形成一容置空間， 密封之容置空間，此容置空間係 真空此密封容置空間；移動上腔 弟一基板進行對位，並使第一基 面的·役封裝置；洩壓其密封容置

第14頁 200411262 五、發明說明

空間，外加壓力將使第一基板壓合於第二 置，以及卸載已屢合之第一基板與第二^二板上的密封裳 以上之說明與敘述以及以下之詳細說 — 解釋本發明，並且提供本發明之專利申过〜你用以不乾與 說明。 τ明靶圍更進一步之 么么配合圖示作最 佳實施例 有關本發明的特徵與實作 詳細說明如下。 【實施方式】.

參考本發明實施例之詳細說明，配合圖示 如第3圖所示，，為本發明實施例製造液晶V示w 之基板接合設備的結構示意圖，其為一卸載狀離、。" 請參考第3圖，本發明之基板接合設備可包“含一美 框架100、上腔室210、下腔室22〇、腔室移動裝 土 - 符號310、320、33 0、340及3 5 0 );上平台23〇、下平台 24 0、密封裝置250、上低真空腔室單元41◦、下低真空腔

室單元420、對位裝置（即圖示符號510、52〇、5 3 0及540 所示）；第5圖所不為真空幫浦裝置示意圖（即61〇、621與 622);第6圖所示為支撐裝置示意圖（即710與720);第7圖 所示為光固化裝置8 0 〇。 以本發明之一目的觀之，基底框架1 0 0係固定於支撐 結構或表面（如地板）’可形成基板接合設備的外觀，以及 支撐如下所述之各種元件。 以另〆目的觀之’上平台230與下平台240係各固定於 上腔室210與下腔室220 °容後詳述，上腔室21〇與下腔室

第15頁 200411262 五、發明說明（8) 2 2 0可互相結合以定義一容置空間。 上腔室210包含一上基底211，可暴露於外部環境；、 及一上腔室板212，固定於上基底211之下表面。上腔室以 212靠近内部之矩形邊緣可定義用以固定上平台23〇的=被 空間。由於上平台23 0係固定於上腔室210，上平台23〇^*置 著上腔室210上升或下降。同時，於上腔室21〇之上基底故 211與上腔至板212之間設有第一密封裝置213，密封住一由 上腔室板2 1 2所定義之容置空間以隔絕外部環境。第一资 封I置2 1 3可選自密封墊和〇形環（〇 — r丨n g )等適於密封縫 之元件，使上平台23 0可與第一基板緊密結合。 、、：： 下腔室220，可包含有一固定於基架1〇〇上之下基座 221以及一下腔室板222，係設置於下基座221周圍的上表 面^上。為完成本發明的目的，下腔室板222可以是一矩 形環，以在下平台240固定之處定義一内部空間。為符合 本發明的另一個目的，下腔室板22 2可相對於下基座221前 後左右（亦即橫向）移動。在本發明的另一個目的中，下 月=至220具有一固定板223，用以將下基座221固定於基架 222間ϋί :的ί 一目的中，在下基座221與下腔室板 Μ Λ/, ^ 一抢封裝置224 ’用以將下腔室板222所定 義的空間密封以鱼hL jLrr 1±l. rr- /rj f 一 ，、外邛^ ^兄隔絕。在本發明的目的中，第 一欲封叙置224可為一 目散 Hny m 件。 ”見墊、0形裱或其他適合密封的元 鱼根τ據^發明的原' 1里’至少一支撙部2 25設置於下基底 ^月二至.板222之間，用以在下腔室板222與下基底221

第16頁 200411262 五、發明說明（9) 之上表面之間保持一預定距離。支撐部225可包括 腔至板222之底部接觸之第一端，以及與可相對於下基 221橫向移動的第二端，並且與下基座221的底部上的"一 片相接觸。因此，支撐部225使得下腔室板2 ; 基座=\之前、後、左、右方向移動。 對於下 晴芩考第3圖，前述的腔室移動裝置，可包括有一 定於基底框架100上的驅動馬達31〇，一搞接至驅動馬 310、的驅動軸32 0 ;約略垂直於驅動軸32〇的一連接桿， 用以接收來自驅動軸32〇的驅動力；一連接部34〇用以連 驅動軸3 2 0及連接桿33〇，以及裝設於連接桿33〇 千斤頂35 0。 j 在本發明的目的中，驅動馬達3丨〇可設置於基架1 〇 〇的 ，部中，為兩側皆具有驅動轴的馬達31〇，驅動軸32〇係水 二地自驅動馬達31〇的兩側延伸。，驅動軸32〇係與驅動馬達 31〇相接，並且將驅動力沿著水平方向傳送到連接部34〇， 而連接杯33 0係與連接部34〇相接，以與驅動軸32〇垂直的 =向傳送驅動力。+斤頂35〇係位於連接桿33〇的末端，並 、接至上腔室210，千斤頂35〇可包括有一螺紋容置外殼 (nut housing)，用以使連接桿33()根據其轉動前進方向， #動方式進入其螺紋容置外殼上下地移動上腔室21 〇。 邛340可為一斜齒輪系統，以將來自驅動軸的驅動 力由水平方向轉換成垂直方向，並傳送給連接桿33〇。 根據士發明的原理，上平台23〇與下平台24〇可分別包 上固疋板231與下固定板241，分別固定於上腔室21〇 200411262 五、發明說明（ίο) 及下腔室220 ;上平台230和下平台240鎖固板232、242， 分別用以固定第一基板11 0與第二基板1 2 〇 ;以及複數個固 定塊233、243，分別設置於每對上固定板231與鎖固板232 以及下固定板2 4 1與鎖固板2 4 2之間。在本發明的目的中， 鎖固板232、242可以是由高分子材料製成的靜電吸盤 (electrostatic chuck，ESC )，以藉由靜電 (electrostatic charge)力將基板固定於相對應平台 上。 請參考第4A圖與第4B圖，其為本發明之基板接合設備 的平台之内部結構示意圖。 _ 第4A圖與第4B圖為第3圖所標示之A區域與B區域的放 大側視圖。因此，如第4 A圖與第4 B圖所示，鎖固板2 3 2、 242可分別具有複數個孔洞232a、2 42a，用以傳遞一吸力 以固定相對應的基板。每一個孔洞232a、242a均與相對應 的真空官線2 71、2 7 2相通連，真空管線2 71、2 7 2分別形成 於相對應的上平台230與下平.台240。於本發明的一實施例 中，每一真空管線2 71、272可連接至一真空幫浦裝置（如 第6圖所示之622)以產生吸力。 再回顧第3圖，密封裝置25 0 (在此及以下的段落中指 的是第三密封裝置）可以是由橡膠製成的〇型環，並且固鲁 定在下腔室22 0中的下腔室板222的上表面。在本發明的目 第三密封裝置2 5 0突出於下腔室板222的上表面一預 定高度以形成一預定的厚度以防止由固定於相對應上平台 2 3 0與下平台240上的基板在上腔室21〇與下腔室22〇初始結 200411262 合時太過接近。此情形將在以下的段落中詳細描述。 發明的另-實施例中’當第三密封裝置25〇受到壓 候，第三密封裝置25 0的厚度可容許基板相互接觸。 於本發明的實施例中，上低真空腔室單元41〇與 真空腔室單元42.0，各包含已抽除大部分氣體之内部* 一 間。此外，上低真空腔室單元41〇與下低真空腔室單=42〇 可分別於上腔室210之上表面與下腔室22〇之下表面接 上腔室21〇與下腔室220係互相結合以定義一容置空間並加 以密封，上平台2 3 0與下平台240係設置於密閉容置空間之 内，當密封容置空間進行抽真空時，上平台23〇與下平台 2 4 0將因為密封的容置空間與外部環境的壓力差昱而產生 彎曲。上平台23 0與下平台240彎曲角度最大的部分為其内 側的中央區域，上低真空腔室單元41 〇與下低真空腔室單 元42 0的内部空間之中央區域高度係大於邊緣區域，因此 上低真空腔室單元410與下低真空腔室單元42〇的内部空間 可以=抽真空時減少上平台23〇與下平台24〇的彎曲。 刖述之對位裝置係用以對於基板丨丨〇、12〇進行對位進 而使其分別鎖固於上平台2 30與下平台240。基板110、120 對位％，下平台2 4 0係維持不動，根據對位裝置調整上平 台230的位置使其符合下腔室板222的位置。 "其中對位裝置可包含：複數個線性致動器5丨〇、複數 口對位攝衫機5 2 0、複數個凸輪（c a m s ) μ 〇與複數個回復裝 置5 4 0複數個線性致動器5 1 0係圍繞上腔室2 1 〇的周圍設 置’可降低相對應之複.數個可動桿（m〇vabu shafts)

第19頁 200411262 五、發明說明（12) 511，直至可動桿511安裝至設於下腔室22〇之下腔室板222 所對應的接合孔2 2 2 a ( r e s p e c t i v e h ο 1 e s )，每一線性致 動器510可包含一承載單元（無圖示）可藉以微調上平台23〇 的傾斜角度使其與下平台24〇相同，以增加上平台23〇與下 平台24 0的工作表面（即平台與基板接觸的表面）。亦即， 線性致動器510可調整上平台23〇之工作表面的方向使其平 行於下平台2 4 0之工作表面。於本發明的實施例中，線性 致，器510被提供於至少上腔室21〇呈對角線之兩個相對的 角落，於另一實施例中，線性致動器5丨〇可被提供於至 上腔室2 1 0之四個角落。 、接合孔222a之尺寸可符合對應的可動桿51ι之末端區 域的尺寸’其接合孔2 2 2 a之尺寸與可動桿5 11之末端區域 可形成具有斜面的錐狀結構。因此，即^ ^ ^ ^ ^ ^ ^ ^ ^ 端區域可接觸接合孔222a，並藉由其斜面的引導，使 孔2 2 2 a與可動桿5 1 1最終可準確對位。 5 99Π #對—位攝影機52〇係安裝於可經由上腔室210或下腔室 對位標誌（無圖示）之處，其形成在鎖緊於上平台 :於與下平台240的基板(無圖示)表面。於本發明的實施 式:阜ί少兩個對位攝影機52〇係設置於鎖緊在上平台230 ^。“ 口 240之一之基板的呈對角線的兩角落以進行觀

/麵圖係根據本發明的原理說明在基板接合設備的可 方疋轉凸輪的配置示意圖。 J 第20頁 200411262 五、發明說明（13) 1 同時參考第3圖與第5圖，凸輪530係旋轉地配置並選 擇性地與下腔室板2 2 2周圍的表面接觸。在本發明的實施 樣態中，本發明係提供三個凸輪5 3 0於基板接合裝置。在 本發明的另一個目的中，每一凸輪5 3 0可偏心地 (eccentr i cal ly )地旋轉，俾使在旋轉時，以一預定方 向推動下腔室板2 2 2。根據本發明的原理，下腔室2 2 〇可由 四個邊定義而成，其中，第一對邊的長度比第二對邊的長 度長。據此，其中兩個凸輪5 3 0係旋轉地配置並選擇性地 與弟一對邊的每一邊接觸’另一凸輪5 3 0則旋轉地配置並 選擇性地與第二對邊的每一邊的中間部分接觸，以使得下 腔室板2 2 2可以前、後、左、右的移動。在本發明的目的 中’凸輪5 3 0可約略一致地旋轉並以一預定方向推動下腔 室板222。並且，其回復裝置54〇可提供一端連接至基底框 架100之彈簧而另一端連接至下腔室板222矩形表面。 第6圖係為本發明之基板接合辱備的真空幫浦及管線 之不意圖。 請參考第3圖與第6圖，前述的真空幫浦裝置“ο、621 以及62 2可以設置於上腔室210與下腔室22 0其中至少一個 上，以促使由上腔室210與下腔室2 20所定義的密閉容置空 間可以緊密的結合。在本發明的實施中，真空幫浦裝置 _ 610、621以及622，舉例來說，可包括有一高真空幫浦 (Turbo Molecular Pump，TMP ) 610 以及一第一、第二低 真空幫浦（乾式幫浦）6 2 1、6 2 2。 第一低真空幫浦6 2 1可以與一位於上腔室2丨〇中間區域

200411262 五、發明說明（14) 的上真空管線630連接，使高真空幫浦61〇可與由上腔室板 2 1 2及下腔室板2 2 2所定義的密閉容置空間相互通連。此 外’第一低真空幫浦621可將由上腔室21〇與下腔室220所 定義的密閉内部空間抽真空至一預定的壓力。 第二低真空幫浦6 2 2與經由上腔室2 1 〇、下腔室2 2 0側 邊區域的下真空管線641、642相通連。更進一步，第二低 真空幫浦622分別與上平台23 0與下平台240中的管線及基 板安全管線6 5 0相通連，基板安全管線6 5 〇與真空管線 271、272相通連，以藉由一吸力固定基板。上真空管線 6 3 0、下真空管線641、下真空管線642以及基板安全管線 j 650具有至少一個關閉的閥門66ι、662、663、664、665、 666、667、668以及669。上真空管線6 3◦可包括有一壓力 感測器6 7 0，用以感測基板所在的容置空間的壓力。 於本發明的實施中，第一低真空幫浦6 21與第二低真 空幫浦622可用以預先將上低真空腔室單元41〇與下低真空 腔室單元42 0所形成的容置空間抽真空。 與第二低真空幫浦622相通連的下真空管線β41、642 以及基板安全管線6 5 0可用來作為釋放壓力的管線，以下 詳細說明此過程。因此，可將氣體，例如氮氣（Ν2 )通入 到由上腔室210與下腔室220所定義的密封内部空間中，以· 將密閉内部，空間中的壓力從真空狀態回復到大氣壓力。 第7圖係本發明之基板接合設備之支撐裝置的透視 圖。 參考第3圖與第7圖，支撐裝置可包括有一升降架71〇

第22頁 200411262 五、發明說明（15) ------- (Uft pin)以及複數個致動器72〇。在本發明的目 中，升降架710的厚度係足夠支撐至少一基板，以避 板下陷。升降架710的中央區域可包括有一向下的彎曲土 部，使得承載件9 10可以在不受升降架71〇的影響下支撐至 少一基板（如第12圖所示）。此外，當第二基板12〇裝載於 下平台240時，透過下平台240的上升，升降架71〇可上升 至下平台240的上表面，促使第二基板12〇安全地固定。當 下平台240未裝載基板的時候，升降架71〇的上表面可被固 定在下平，240的上表面之下方。複數個致動器72〇則可依 據需求將升降架710上下地移動。據此，支撐裝置可促使 下平台240所I載的已接合與未接合的基板更易於卸載 (請參考第2 1圖）。 再參考第3圖，根據本發明的原理，更可包含至少通 過上腔室210或下腔室220的光固化裝置8〇〇，用以部分硬 化各自固定於上平台230與下平台240之承載基板的密封材 料。此光固化裝置8 0 0包含一紫外光照射部分，以照射紫 外光至密封材料。 ’ 又如第3圖所示，一間隙感測器9 2 〇係設於下腔室2 2 〇 之下腔室板2 2 2表面以測量上腔室2丨〇與下腔室2 2 〇之間的 距離；以及預先測量上腔室2丨〇進行移動以接合第一基板_ 1 1 0和第二基板1 2 〇時之誤差距離。 — 繼續請參考第8圖至第2 2圖，以詳細說明使用第3圖至 第7圖所示之基板接合設備以製造液晶顯示裝置的方法的 詳細過程。

第23頁 200411262 、發明說明（16) 請j考第22圖，其為本發明之液晶顯示裝置製造方法 的流程圖。 穷封：其他製造步驟預先完成，提供鏟有 山、; 土板11 〇及含有分滴的液晶材料之第-某 板12〇 (步驟1S);其中，第一基板110可為一 TFt車基列 基板或濾、光片陣列基板’並根據第一基板11〇 可選=二基板12〇為TFT陣列基板或遽'光片^基亦 ί封Πϊ材料可為熱固化密封材料、紫外光固化 在封材枓、複合光/熱固化密封材料等；另外， 1 20亦可同時鍍有密封材料及含有分滴之液晶材料。土 11〇Λ提二供其第^基，110與第二基板120之後，將第一基板 ^，二土板120裝載於基板接合設備（步驟2S);請參考 下月:室22弟0 : ί板110可藉由承載件910被載入上腔室210與 以^有资％TL工間。於本發明的實施例中，第一基板110可 觸下Ϊ科（無圖示）。第一基板11◦與密封材料的接 滴之液曰# 4·/第一基板同柃鍍有密封材料以及含有分 阳材料）。第一基板110的下表面可設有共同電極、 /思 f及黑色矩陣，正對下腔室2 2 〇 〇 下降，^ ~ β參考第9圖，上腔室2 1 G將從原來的位置開始 110會因為侍笛上一平台230接近第一基板110。接著，第一基板 23 2 二—低真空幫浦622所產生的吸力以及鎖固板 曰 力與靜電力·固定於上平台23 0，而第一基板11()固

200411262 五、發明說明（17) 定於上平台230的吸力可提供於靜電力的提供 後。然而，如先提供靜電力 供之刖或之 間可能產生火花，因此“ = — 10和鎖固板232之 力再提供靜電力。 固基板11G時可先提供吸 請參考第10圖，在第—基板11〇 上腔室210則上升到原來的仞罟 ^ ^ ^ 十口 後 合設備。 」摩采的位置，承載件910則離開基板接 入其』il ί ΐ ϋ f，承載件910接著再承載第二基板12 〇進 ^板接“又備中。於本發明實施例中，第二基板12〇已 ^f/曰材料（無圖示），或著是於另-實施例中，第二基 板120係鍍有密封材料和/或分滴液晶材料；其中，第二基 板1 20分滴液晶材料與鍍有密封材料的表面係朝向上方，土 =正對上腔室210。在將第二基板12〇載入基板接合設備 時，下平台24 0會將升降架71〇從原來的位置以及下平台 240上表面的下方升起，以將第二基板12〇推離承載件 910。因此，升降架71〇可將第二基板12〇撐離於距離承載 件910 —預定高度（如第12圖所示）。當第二基板12〇被撐 起時，=載件910即離開基板接合設備。 接著，如第1 3圖所示，升降架7丨〇則下降以使得第二 基板120置於下平台240上，並由下平台240支撐。當第二 基板2 40,於下平台24〇時，可藉由吸力與靜電力將第二基 板120固定於下平台240上。使第一基板11〇與第二基板12() 分別固定於上平台23〇與下平台240上之後，即完成基板的 載入。 200411262

清參考弟1 4圖，於穿点其把沾莽 罢Μ跟如氣、去Q ·! η 、成基板的载入之後，腔室移動裝 置的驅動馬達31 G將帶動驅動軸32()以及連接桿㈣旋轉， 以使千斤頂35 0從原來的位置下降。在本發明實施例中， 上腔室210係隨著千斤頂35〇由原來的位置下降，此外，線 性致動器510會將可動桿511降低，以使可動桿5ΐι由上腔 室板21 2的下表面伸出一預定距離。由於上腔室21〇的下降 以及可動桿511的伸出，可動桿511的末端將接觸設置於下 腔室板222之相對應的接合孔222a之内表面。假定上腔室 2 1 0相對於下腔室2 2 0非約略形成水平，可動桿5丨】將成功 接觸接合孔222a的内表面。在可動桿511的末端接觸接合 孔2 2 2 a之後’腔室移動裝置將上腔室2丨〇向下移動，使得 上腔室板2 1 2的下表面與設置於下腔室板2 2 2周圍的第三密 封裝置250的上表面相接觸。此時千斤頂35〇更進一步下

降’由上腔室210與下腔室220之間離開，以形成由上腔室 210與下腔室220所定義之密封容置空間，其中密閉容置空 間係由於上腔室210壓在第三密封裝置25 0上的重量而形成 略與外部環境隔離之密封狀態。因此，第一基板1 1 〇與第 二基板1 2 0可大略隔離於外部環境，下移上腔室2 1 0以藉由 密封裝置形成密閉容置空間（步驟3 S )。

在本發明實施例中，設置於結合上腔室2 1 0與下腔室 2 20所定義出之密閉容置空間中的第一基板丨丨〇與第二基板 1 2 0，係藉由其密封容置空間的壓力約略壓合。於產生密 封容置空間時，其第一基板110與第二基板120係產生部分 的互相接合。藉由部分接合，第一基板110與第二基板120

第26頁 200411262 五、發明說明（19) 之間的相對距離可進行後續調整。在本發明實施例中，上 腔室210與下腔室220之間的距離（以及基板間的間距）可 由一間隙感測器9 2 0所決定。 一旦形成由上腔室210與下腔室220所定義之密封之容 置空間，即進行抽真空（步驟4S)。因此，第一低真空幫浦 621與第二低真空幫浦622將作用以將密閉内部空間中的壓 力抽真空至第一壓力，其由壓力感測器67〇所感測。於第 一低真空幫浦6 2 1與第二低真空幫浦6 2 2將密封容置空間抽 真空至第一壓力時，則啟動高真空幫浦6丨〇以抽真空内部 容置空間。 於本發明實施例中，高真空幫浦6丨〇以及第一低真空 幫浦621可連接至相同的上真空管線63〇。因此，在高真空 幫浦6 1 0啟動的時候，第一低真空幫浦6 2丨可停止作用。在 抽真空岔封谷置空間時，在真空的密封容置空間中的第一 基板11 0與第二基板1 20可藉由對位裝置進行對位（步驟 5S)。 請參考第23A圖與第23C圖’其為本發明實施例之對十 方法所使用的粗略對位標誌。請參考第24A圖盥第24〇圖： 其為本發明實施例之對位方法所使用的精細對位根 參考第2 5圖，其為本發明實施例之對丁 之焦距位置。 。之對位方去中對位麵 對準攝影機52 0 (如第3圖至第21圖所 形成於第一基板uo與第二基板12〇上的對準二乂硯ς = 第-基板11〇與第二基板12。的對準標記間位【確; 200411262 五、發明說明（20) 確認的偏移位置包括為了適當地對準基板，上平台23〇需 要移動的距離。因此，為了適當地對準基板，需要計算與 旋轉凸輪5 3 0的一預定設置，以及移動一下腔室板？。:/、 本發明實施例中，下腔室板22 2可藉由線性致動器51〇 與上腔室210耦合，進一步，下腔室板2 22配合支撐部225 了與下基座2 2 1間隔一預定距離。因此，上腔室2 1 〇可沿著 凸輪5 3 0的旋轉方向移動以大略配合下腔室板222，此=， 下腔室板222可以隔開於下平台24〇(亦即可與下平台24〇各 自移動^)，各自設置於上平台23〇與下平台24〇的第:基板 U〇與第二基板120，可藉由僅移動上平台230順利進行定 位與對位。 、/於本發明實施例中，第一基板110與第二基板12〇可透 過形成於基板之對位標誌進行對位。對位標誌可提供粗略 $位標誌與精細對位標誌，上述粗略對位標誌與精細對位 標誌可刻劃於基板的預定位置。據此，對位製程可藉由執 行粗略對位過程之後，再使用精細對位標諸來執行精細對 位過程。 請參考第23圖與第24圖，第一基板110與第二基板12〇 各自形成有複數個尺寸接近3微米^ )(如第2 3圖所示）的 對位標誌，以及複數個尺寸接近〇. 3微米（/zm)(如第24圖_ 戶^不）的對位標誌。例如，第一基板11 0包括如第2 3 Δ圖所 示之粗略對位標誌和如第2 4 A圖所示精細對位標誌，第二 基板120包括如第23B圖所示之粗略對位標誌和如第24B圖 所示精細對位標誌。

第28頁 200411262 五、發明說明（21) —--- 於本發明實施例中，分開的對位攝影機可用以對準由 基板所提供的粗略對位標誌與精細對位標誌，由於使用單 一攝影機來進行粗略和精細的對位，因此對位攝影機可包 含粗略對位攝影機與精細攝影機。除了粗略對位^諸和精 細對位標誌'通常形成於基板的不同區域之外，粗:對位^ 誌和精細對位標誌的尺寸差異也提高了使用單一 : 機的難度。 ~ 有據於此，在第一基板110和第二基板12〇上，上平A 2 3 0可下降但是須使第一基板11〇與第二基板12〇分開，並σ 防止第一基板110的密封材料接觸到第二基板12〇表面的液 晶材料。故第一基板110與第二基板12〇需維持3〇〇微米 (// m)的距離。 接著’可以沿著橫向移動上平台2 3 〇以對位第一基板 110與第二基板12〇，藉由移動上平台23〇，形成於第二基 板120之粗略對位標誌（如第23B圖所示）可和形成於第一土基 板11〇之粗略對位標誌（如第23A圖所示）以第23c圖的模式土 進行對位（即預先定位）。於本發明實施例中，可使用提供 於第一基板11 0和第二基板丨20之對角線的至少兩個相對區 域之對位攝影機5 2 0來對位粗略對位標誌，本發明之另一 實施例，，略對位標誌可以透過對位攝影機52〇第一次對_ 焦形成於第一基板11 〇的粗略對位標誌和第二次對焦形成 於第二基板120的粗略對位標誌來進行對位。又可: 圖所示^，粗略對位標誌可以利用對位攝影機對焦第一基板 11 0與弟一基板1 2 〇之中介點來進行對位。

200411262 五、發明說明（22) -一" 於進行粗略對位標誌的對準之後，可進一步下降上平 台2 3 0和橫向移動上平台2 3 〇來進行精細對位標誌的對位。 藉由移動上平台230，形成於第二基板12〇之精細對位 (如第24B圖所示）可和形成於第一基板丨1〇之精細對位^ ^ (如第24A圖所示）以第24C圖的模式進行對位（即預先定 位）。精細對位標誌可以使用被提供於第一基板丨丨〇與第二 基板120四個角落區域的對位攝影機52〇進行對位。/、 一 於進行精細對位標誌對準時，第一基板丨丨 板12〇可以改變至少三次，例如，於精細對位標諸以 對位步驟中，上平台230可藉由使第二基板12〇間隔第一基 板11 0 —段距離來成功防止第一基板丨丨〇的密封材料接觸到 第二基板120的液晶材料（即第一基板與第二基板維持將近 3〇〇微米（//m)的距離）。於精細對位標誌的第二對位步驟 中，上平台230可降低使第一基板11〇和第二基板12〇的距 離接近150微米（#m)。在第二對位步驟中’第一基板11〇與 第二基板120的中央區域可能因為基板的下陷而互相接 、 觸。於精細對位標誌的第三對位步驟中，上平台23〇可更 進一步下降使地一基板11()與第二基板12〇的距離接近1〇〇 微米（// m)。

精細對位標誌可以藉由三個步驟過程進行對位，因 ^ 2本發明貫施例中，精細對位標諸係藉由精細對位標 ，f每一步驟進行對位。須注意，精細對位標誌亦可僅由 第對位步驟完成，省略第二和第三對位步驟。此外，在 月、、、對位;^途、的弟一和弟三對位步驟中，可以藉由第一對

第30頁 200411262 五、發明說明（23) 位步驟的成功對位，而避免由於基板和密封材料或液晶材 料的接觸所造成的損害。 於本發明貫施例中，精細對位標誌可以使用設於上腔 室210和/或下腔室220的對位攝影機進行對位，其並以對 角線方式相對於第一基板丨丨〇和第二基板丨2〇排列。精細對 位標誌可以利用對位攝影機對焦第一基板丨丨〇與第二基板 120之中介點來進行對位。或是，精細對位標誌可以透過 攝，機52 0第一次對焦形成於第一基板n〇的精細對位 標途和第二次對焦形成於第二基板1 2 0的精細對位標誌來 進^對位，反之亦然。以上述改變對位攝影機焦距的方式❿ 進行精細對位標誌對位，相較於對焦兩基板的中介點的方 式具有較高的準確性。 根據本發明的原理，於第一基板110和第二基板120各 7 ^ 〉、兩個粗略對位標諸與至少兩個精細對位標諸。藉 杧加使用的對位標誌的數目可以增加兩基板對位的準確 ΐ ^ ΐ此，欲進行接合的基板尺寸越大，即可使用較多的 仿妗:4維持準確的對位。其中，粗略對位標誌與精細對 二^可以製作於由基板形成的複數個面板之間的切 ^ ，亦可於用以形成複數個面板的基板邊緣區域 衣作粗略對位標誌與精細對位標誌。 鲁 ，雷^ ^，對位標誌對位完成之後，用以產生上平台230 2】〇至一此源將關閉，並且啟動腔室移動裝置提升上腔室 11〇可二^定距離。故預先固定於上平台230的第一基板 人上平台230分開並與固定於下平台240的第二基 200411262

板1 2 0維持接合。 在上腔室2 1 0抬升至一預定距離之後，由上腔室板2工2 與下腔室板222所定義之密封容置空間仍藉由密封裝置25〇 Τ離外部環境維持密封狀態。同時，上腔室21〇抬升至預 f距離之後，對位攝影機可52〇透過形成於第一基板與 第二基板1 20的精細對位標誌測量其對位狀態，如所測之 精細對位標誌已經超出對位誤差的容許值，需要再以凸輪 5 3 0調整上平台2 3 〇的位置。如測量精細對位標誌的對位仍 維持精準，則可將上腔室21〇與下腔室22〇所定義之密封容 置空間洩壓（步驟6S)。 根據本發明的原理，需以兩個步驟進行洩壓，舉例來 說’第一洩壓步驟包括經由真空管線271、272通入氣體 (如氮氣等）至容置空間，真空管線271、272個別連接於第 二低真空幫浦622及上平台230與下平台240之鎖固板242、 2 4 2的真空孔洞2 3 2 a、2 4 2 a。相對的於第6圖中所示的關閉 閥門6 6 6、6 67與668可開啟使氮氣經由真空孔洞232a、 24 2a通入容置空間。由於經由真空孔洞23 2a、242a所提供 的氮氣，第一基板110與第二基板120將會透過密封材料產 生接合即使於先前步驟中並未使兩基板透過密封材料接 合。接著，氮氣可由下真空管線641、642、6 5 0注入密封鲁 谷置空間使提升其壓力至大氣壓力。 據此，第一基板11 0與第二基板1 2 0可經由密封材料接 著來維持上腔室與下腔室所定義之容置空間的真空狀態。 於基板互相接合之後，·已接合的基板可由於已接合的兩基

200411262 五、發明說明（25) ^ :隙壓力差異以及容置空間於洩壓之後所增加的壓力 向更進一步的壓合。 :據本，明之原理，可在精細對位標諸完成對位、靜 、、食μ與第—基板和第二基板以密封材'料接合之後進行 第食\然而，即使㈣在兩基板接合完成之前進行，由於 2壓步驟會壓合兩基板，使基板與密封 屋生基板的接合。 於本發明實施例中，於、、电嚴 部分& t 於洩壓之則紫外光可以直接硬化 封:：=料以及固定密封材料，先透過紫外光固定密 ===因她而使第一基板110與第二基板120 接硬化穷封材料7 =精細標誌對位完成之後使紫外光直 密封材i i i、 戌麼完成之後以紫外光直接硬化 ^ ,, " ·以Γ 乂由於傳輸至其他設備以進行A他穿程所 ;成：：論引起的對位偏差。因此，配合;：；：： 後與前述U硬化嫂封材料的步驟可進行於茂壓前、线壓 摩和密封圖案以減少由於、;， 材料主體，即封圖案可用以保護密封 封材料與密封材料板的密封圖案，辅密 基板12〇。本發明之^合第—基板11 〇與第二< 封材料主體(亦即無辅Μ 的後封材料亦可僅包含密 …直接硬化密外光精Λ紫外光一^ 的10個區域（如u區域） 1外先可至少硬化密封材料 200411262 五、發明說明（26) 將上腔室與下腔室所定義的密封容置空間進行浪麼之 後’即卸载已接合的基板（步驟7S)，於卸載基板之後，可 同時重複前述製程以接合其他基板。 於本發明實施例中，請參考第15圖，可以藉由關閉基 ，接合設備之下平台240所提供的靜電力來卸載已接合的 第一基板110與第二基板120，並利用吸力與靜電力使已接 a的基板附著於上平台230，再升起上平台23〇與已接合之 基板一段距離，以避免妨害承載件9 1〇進入基板接合設 備。請參考第16圖，支撐裝置的升降架71〇可撐高固定於 亡平台23 0之已接合的基板至離開下平台24〇的上表面，接 著，關閉上平台23 0所提供的吸力與靜電力，將已接合的 基板自上平台230釋放並且轉為由升降架71〇的上表面支 撐。請參考第17圖，承載件910進入基板接合設備並接近 升降架710的下方區域設置。請參考第以圖，升降架71〇可 下降使已接合的第一基板j 1〇和第二基板12〇由承載件9ι〇 所支撐，完成已接合的第一基板11〇和第二基板12〇的卸载 之後’承載件9 1 0即離開基板接合設備。 於另一/實施例中，已接合之第一基板11〇與第二基板 120的卸載係藉由將已接合之第一基板ιι〇與第二基板丨 :貞固：上腔室21〇，提升上腔室21〇，使承載件91〇進入基 I :Λ置接近接合的基板，釋放已接合基板並以承載 ♦之，取後，將承載已接合基板的承載件9 1 0移離 ^板接合設備。錢，承載件91〇再載入未接合的第一基 板〇.至基板接合設備，使第—基板i j 〇固定於上腔室

200411262 五、發明說明（27) 210 〇 另一實施例請參考第19圖，已接合的第一基板n〇與 第二基板120係藉由關閉上平台23 0所提供的吸力與靜電 力，再升起上平台230 —段距離，而已接合的基板並未附 著於上腔室210。接著，請參考第20圖，提升升降架71〇並 撐起已接合的基板使其不接觸下平台2 4 〇，承載件9 1 〇則載 入基板接合設備接近已接合之基板。再降低升降架7丨〇使 已接合的基板由承載件910加以支撐，支撐已接合基板的 承載件9 1 0則離開基板接合設備以完成已接合的第一基板 11 0與第二基板1 2 0的卸載。 於本發明的先前内容所述，承載件9 1 〇可以在卸載已 接合的基板離開下平台2 4 0之前載入未接合的第一基板11 〇 至基板接合設備。所載入的未接合基板可以固定於藉由吸 力和靜電力固定於上平台230，並提高一預定高度同時承 載件9 1 0可以移離基板接合設備。然後請參考第丨9圖至第 21圖之預先描述，升降架710可以提升已接合的基板使其 自下平台2 4 0加以釋放，而承載件9 1 〇則再度進入基板接合 設備並接近由升降架7 1 0所支撐的已接合基板，並使承載 件9 1 0支撐已接合的基板離開基板接合設備，已完成已接 合的第一基板11 0與第二基板1 2 0的卸載。 如前所述，基板接合設備有利於透過液晶分滴法所形 成的液晶顯示裝置之製造，並且由於相較於前案之基板接 合设備本發明基板接合设備的尺寸可以縮減，利用此設備 的液晶顯示裝置製造方法具有優勢。因為本發明之基板接

第35頁 200411262 五、發明說明（28) 合設備不提供塗 板接合設備可提 室與下腔室所定 内部空間所需的 亦隨之減少。另 斜’可使用線性 過各腔室之低真 後’由複數個可 下腔室的位置來 雖然本發明 用以限定本發明 之精神和範圍内 之專利保護範圍 者為準。 佈密封材料 供簡化的設 義的容置空 時間。因此 外，即使固 致動器來調 空腔室單元 旋轉的凸輪 進行基板的 以前述之較 ，任何熟習 ，當可作些 須視本說明 與为滴液晶材^基板。故基 計與節省空間，此外，由上腔 間亦可縮減進而減少抽真空其 製造液晶顯示裝置的整體時間 定於下平台的第二基板為傾 整上平台維持水平。以及，透 可提供穩定的基板接合。最 所形成的簡單結構可用以調整 對位。 二，例揭露如上，然 許之巧者，在不脫離本發明 書所附潤飾，因此本發明 申睛專利範圍所界定 第36 頁 200411262 圖式簡單說明 第1圖與第2圖為前案之應用於以液晶材料分滴法製作液晶 ，板的基板接合設備結構示意圖； 第3圖為本發明之用以製造液晶顯示面板的基板接合設備 =卸载狀態示意圖； 第4_A圖與第4B圖為本發明之基板接合設備的平台之内部結 構示意圖； 第5圖為本發明之基板接合設備的可旋轉凸輪的配置示意 圖； «丨 第6圖為本發明之基板接合設備的真空幫浦與真空管線配 置示意圖； $ 7圖為本發明之基板接合設備之支撐裝置的透視圖； 圖為本發明之基板接合設備載入第一基板的試意圖； 第9圖與第1 〇圖為本發明之基板接合設備中第一基板鎖固 於上平台的示意圖； 第11圖至第13圖為本發明之基板接合設備載入並鎖固第二 基板的示意圖； 第1 4圖與第1 5圖為本發明之基板接合設備係基板的 厂、 意圖； σ ^ 第1 6圖至第1 8圖為本發明之基板接合設備卸载已接人某板 的示意圖； ^ 第1 9圖至第2 1圖為本發明之基板接合設備卸載 另一方式的示意圖； 獲a基板 弟2 2圖為本發明之液晶顯示面板的製造流程示专图· 弟2 3 A圖至弟2 3 G圖為本發明之對位方法之粗略 ^ > 一 对位標諸示

第37頁 200411262 圖式簡單說明 意圖， 第24A圖至第24C圖為本發明之對位方法之精細對位標誌示 意圖，及 第2 5圖為本發明之對位方法之聚焦位置示意圖.。 【圖式符號說明】 10 框 架 21 上 平 台 22 下 平 台 30 液 晶 材 料 分 滴部 31 上 腔 室 32 下 腔 室 40 腔 室 移 動 件 50 驅 動 馬 達 51 第 一 基 板 52 第 二 基 板 S1 第 一 預 定 位 置 S2 第 二 預 定 位 置 100 基 底 框 架 110 第 · 基 板 120 第 二 基 板 210 上 腔 室 211 上 基 底 212 上 腔 室 板 213 第 一 密 封 裝 置

第38頁 200411262 圖式簡單說明 22 0 下腔室 221 下基座 222 下腔室板 2 2 2a 接合孔 223 固定板 224 第二密封裝置 225 支撐部 230 上平台 231 上固定板 232 鎖固板 23 2a 孔洞 233 固定塊 240 下平台 241 下固定板 242 鎖固板 242a 孔洞 243 固定塊 250 密封裝置 271 真空管線 2 72 真空管線 310 驅動馬達 320 驅動軸 330 連接桿 340 連接部 ❿ _

第39頁 200411262 圖式簡單說明 350 千斤頂 410 上低真空腔室單元 420 下低真空腔室單元 510 線性致動器 511 可動桿 520 對位攝影機 530 凸輪 540 回復裝置 610 高真空幫浦裝置 621 低真空幫浦裝置 622 低真空幫浦裝置 630 上真空管線 641 下真空管線 642 下真空管線 650 安全管線 661 〜669 閥門 670 壓力感測器 710 升降架 720 致動器 800 光固化裝置 910 承載件 920 間隙感測器 步驟1 S 提供鍍有密封材料之第一基板11 0及含有分滴的 液晶材料之第一基板

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Claims (1)

1. 200411262

   六、申請專利範圍 — -- 1 · 一種用以製造液晶顯示裝置的基板接合設備，係用以製 造利用液晶分滴方法所形成之液晶顯示裝置，包括有··、 一基底框架； 一下腔至，係安裝於該基底框架，該下腔室係具有 一上表面； 一上腔至’係設於下腔室的上方，該上腔室係相對 於該基底框架為可移動的，且該上腔室具有一下表面； 一腔室移動裝置，係設置於該基底框架以升降該下 腔室； 一上平台，係固定於該上腔室以鎖固一第一基板； 一下平台，係固定於該下腔室以鎖固一第二基板； 及 一密封裝置，係提供於至少該上表面與該下表面其 中之一，以密封住環繞該第一基板與該第二基板的一容置 空間，該容置空間係可由接合之該上腔室與該下腔室定 義。 ^ 2 ·如申請專利範圍第1項所述之用以製造以液晶分滴方法 形成之液晶顯示裝置的基板接合設備，其中該下腔室包 含： 一上基座，係暴露於一外部環境；及 一上腔室板，係接觸於該上基座之一周圍區域的下 表面。 3·如申請專利範圍第2項所述之用以製造以液晶分滴方法^ 形成之液.晶顯示裝置的基板接合設備，其中該上腔室板係

   第42頁 200411262

   六、申請專利範圍 為一矩形框並與固定的該上平台定義一上容置間。 4 ·如申請專利範圍第3項所述之用以製造以液曰曰分滴方法 形成之液晶顯示裝置的基板接合設備，其中該上平台固定 於該上基底。 5 ·如申請專利範圍第1項所述之用以製造以’夜日日刀滴方法 形成之液晶顯示裝置的基板接合設備，其中—下月工至包 含： 系固定於絲签瓜^ /丨、 @ F @ ，係設置於該下基座之^周圍&域的 上 下基座，係固定於該基底框架；及 下腔室板 ^ 〆 表面- 曰 6·如申請專利範圍第5項所述之用以製造以氣曰曰刀j商^方法 形成之液晶顯示裝置的基板接合設備，其中^ ^至板係 為一矩形框並與固定的該下平台定義一下、/曰八、$ +、 7·如申請專利範圍第5項所述之用以製造以/曰曰刀’去， 形成之液晶顯示裝置的基板接合設備’其 反係 相對於該下基座可朝橫向移動。 ，％曰3分嗝古土 8·如申請專利範圍第5項^之用以製造下 形成之液晶顯示裝置的基板接合設備’ /、 疋 於該：ίΐ。 …以液晶分滴方法 9 ·如申知專利範圍第5項所述之用以/ °含設置於該下 形成之液晶顯示裝置的基板接合設，^ 置空間隔離 令該外部空間。 γ曰八、洛士 ，制#以液晶分滴方 〇 ·如申請專利範圍第1項所述之用以农口 法 基底與該下腔室板之一密封裝置以啟対於 於該外部空間。 、> a _丄 200411262 六、申請專利範圍 形成之液晶顯示裝置的基板接合設備，其中該腔室移動裝 置包含： 一驅動馬達，係固定於該基底框架； 一驅動轴，係耦合於該驅動馬達； 一連接桿，係連接於該驅動軸； 一千斤頂，係連接於該上腔室；及 一連接桿，連接於該千斤頂的一第一端與用以接 收由該連接部所轉換之驅動力的一第二端。 11.如申請專利範圍第1 0項所述之用以製造以液晶分滴方 法形成之液晶顯示裝置的基板接合設備，其中 4 該驅動馬達可設置於該基底框架之一底部容置 區，以及含有約略沿著水平方向延伸的一突出桿； 該驅動桿係沿著水平方向連接於該驅動馬達；及 該連接桿係沿著垂直方向耦合於該驅動桿。 1 2.如申請專利範圍第11項所述之用以製造以液晶分滴方 法形成之液晶顯示裝置的基板接合設備，其中該連接部包 含用以轉換沿著水平方向之驅動力至該連接桿的一斜齒 輪。 1 3.如申請專利範圍第1項所述之用以製造以液晶分滴方法A 形成之液晶顯示裝置的基板接合設備，其中該上平台包 含： 一固定板，係固定於該下表面； 一鎖固板，用以鎖固該第一基板；及 複數個固定塊，設於該固定板與該鎖固板之間。

   第44頁 200411262 六、申請專利範圍 1 4.如申請專利範圍第1 3項所述之用以製造以液晶分滴方 法形成之液晶顯示裝置的基板接合設備，其中該鎖固板包 含一靜電吸盤以產生一靜電力。 1 5.如申請專利範圍第1 3項所述之用以製造以液晶分滴方 法形成之液晶顯示裝置的基板接合設備，其中該鎖固板包 含聚亞醯胺。 1 6.如申請專利範圍第1 3項所述之用以製造以液晶分滴方 法形成之液晶顯示裝置的基板接合設備，更包含一第一低 真空幫浦以產生一吸力，該鎖固板包含複數個真空孔洞以 傳輸吸力。 1 7.如申請專利範圍第1項所述之用以製造以液晶分滴方法 形成之液晶顯示裝置的基板接合設備，其中該下平台包 含： 一固定板，係固定於該下表面； 一鎖固板，用以鎖固該第一基板；及 複數個固定塊，設於該固定板與該鎖固板之間。 1 8.如申請專利範圍第1 7項所述之用以製造以液晶分滴方 法形成之液晶顯示裝置的基板接合設備，其t該鎖固板包 含一靜電吸盤以產生一靜電力。 1 9.如申請專利範圍第1 7項所述之用以製造以液晶分滴方 法形成之液晶顯示裝置的基板接合設備，其中該鎖固板包 含聚亞醯胺。 2 0.如申請專利範圍第1 7項所述之用以製造以液晶分滴方 法形成之液晶顯示裝置的基板接合設備，更包含一第二低

   第45頁 200411262 六、申請專利範圍 真空幫浦以產生一吸力，該鎖固板包含複數個真空孔洞以 傳輸吸力。 2 1.如申請專利範圍第1項所述之用以製造以液晶分滴方法 形成之液晶顯示裝置的基板接合設備，其中該密封裝置係 包含適合的一 0型環沿著該上表面設置，並且突出該上表 面的上方一預定距離。 22.如申請專利範圍第1項所述之用以製造以液晶分、滴方法 形成之液晶顯示裝置的基板接合設備，更包含一上低真空 腔室單元，係設置於該上腔室的上表面。 2 3.如申請專利範圍第2 2項所述之用以製造以液晶分滴方 法形成之液晶顯示裝置的基板接合設備，其中該上低真空 腔室單元包含接近該上腔室的該上表面之一表面。 2 4.如申請專利範圍第1項所述之用以製造以液晶分滴方法 形成之液晶顯示裝置的基板接合設備，更包含一低真空腔 室單元，係設置於該下腔室的下表面。 2 5.如申請專利範圍第24項所述之用以製造以液晶分滴方 法形成之液晶顯示裝置的基板接合設備，其中該下低真空 腔室單元，包含接近該下腔室的該下表面之一表面。 2 6.如申請專利範圍第1項所述之用以製造以液晶分滴方法 形成之液晶顯示裝置的基板接合設備，其中該上腔室更包 含用以調整之一對位裝置來進行該第一基板與該第二基板 的對位。 2 7 ·如申請專利範圍第2 6項所述之用以製造以液晶分滴方 法形成之液晶顯示裝置的基板接合設備，其中該對位裝置

   第46頁 200411262 六、申請專利範圍 包含： 複數個凸輪，係可旋轉地設置並選擇性的接觸和 推動該下腔室之該周圍位置； 複數個回復裝置，用以調整複數個凸輪以提供朝 向凸輪對該下腔室之該周圍位置的推動方向之相對方向的 回復力； 複數個可移動件，具有一第一端與一第二端；及 複數個線性致動器，固定於該上腔室和該可移動 件的第一端，並使該可移動件的第二端延伸出該下表面一 段距離。 2 8 ·如申請專利範圍第2 7項所述之用以製造以液晶分滴方 法形成之液晶顯示裝置的基板接合設備，其中該複數個凸 輪係含有三個凸輪。 2 9 ·如申請專利範圍第2 8項所述之用以製造以液晶分滴方 法形成之液晶顯示裝置的基板接合設備，其中該下腔室含 有一對第一相對邊與一對第二相對邊，該對第一相對邊的 長度大於該對第二相對邊； 兩個凸輪係設置於接近該對第一相對邊之一邊； 及 一凸輪係設置於該對第二相對邊之一邊。 3 0 ·如申請專利範圍第2 7項所述之用以製造以液晶分滴方 法形成之液晶顯示裝置的基板接合設備，其中該回復裝置 包含複數個彈簧，每一該彈黃包含連接至该基底框架之一 第一端以及連接至該下腔室周圍區域之一第二端。

   第47頁 200411262 六、申請專利範圍 31.如申請專利範圍第27項所述之用以製造以液晶分滴方 法形成之液晶顯示裝置的基板接合設備’其中該下腔室包 含四角落，複數個線性致動器係提供於該下月空室的四角 落。 32·如申請專利範圍第27項所述之用以製造以液晶分滴方 法形成之液晶顯示裝置的基板接合設備’更包含複數個孔 洞，係形成於該下腔室之上表面的’該複數個可移動件之 該第二端係符合該孔洞的尺寸° 3 3 ·如申請專利範圍第3 2項所述之用以製造以液晶分滴方 法形成之液晶顯示裝置的基板接合設備，其中該複數個可❿ 移動件的該第二端係為錐狀結構。 3 4 ·如申請專利範圍第2 7項所述之用以製造以液晶分滴方 法形成之液晶顯示裝置的基板接合设備，其中忒線性致動 益包含一荷重元。 35.如申請專利範圍第1項所述之用以製造以液晶分滴方法 形成之液晶顯示裝置的基板接合設備，更包含一真空幫浦 裝置，以至少提供上腔室與下腔室其中之，進行密閉的該 谷置空間抽真空

   3 6 ·如申請專利範圍第3 5項所述之用以製以液曰曰刀&滴方 法形成之液晶顯示裝置的基板接合設備，，、μ ”工 裝置包含一高真空幫浦。 ^ a以、凉曰八^ ，形成之液晶顯示裝置的基板接合設備，，、 ”工幫 I置包含兩個低真空幫浦。

   200411262 述之用以製造以液晶分滴方 六、申請專利範圍 3 8 ·如申請專利範圍第3 6頊所1…一〜…π晶分滴2 法形成之液晶顯示裝置的基板接合設f，更包含一真空管 線，係連接至該高真空幫浦，該真空官線係連接並通過該 上腔室的中央區域。 39.如申請專利範圍第}項所述之用以製造以液晶分滴方法 形成之液晶顯示裝置的基板接合設備’更包含一支擇裝 置，係通過並突出於該下十台以安置基板。 40 ·如申請專利範圍第}項所述之用以製造以液晶分滴方法 .形成之液晶顯示裴置的基板接合設備，更包含一個以上之 光固化裝置，以至少提供上腔室與下腔室其中之一，以進 行置於該第一基板與該第二基板之間的一密封材料的部分 硬化。 41 ·如申請專利範圍第4〇項所述之用以製造以液晶分滴方 法形成之液晶顯示裝置的基板接合設備，其中該光固化妒 置包含一紫外光照射部以提供紫外光照射。 、 42· —種液晶顯示裝置之 方法，使用一 架；-下腔室，係安裝於該基底框 条卜‘，‘:ίΐ有—上表面；一上腔室，係設於下腔室 的_室呈==^係相對於該基底框架為可移動的，且該 腔室移動裝置，係設置於該基底 固，第—基板；-下平△上平台，係固定於該上腔室以鎖 二基板；及一密封穿，係固定於該下腔室以鎖固一第 面其中之一，以密；住产：提；於至少該上表面與該下表 长％該第一基板與該第二棊板的一

   第49頁 200411262 六、申請專利範圍 與該下腔室 容置空間，該容置空間係可由接合之該上腔室 定義’其步驟包含有·· 該下平台分別載入該第一基板與該第二基板至該上平台與 降低該下腔室以透過該密封裝置密閉住該容置空 間使其隔離於一外部環境； 抽真空役閉之該容置空間； 提升該上腔室與該上平台以對位該第一基板與該 第二基板； 使該第一基板透過一密封材料與該第二基板接 觸； 浪壓該容置空間以利用壓力使該第一基板與該第 二基板透過該密封材料壓合，於洩壓後該第一基板與該第 二基板即完成接合；及 卸載已接合之該第一基板與該第二基板。 4 3.如申請專利範圍第42項所述之液晶顯示裝置之製造方 法，更包含： 於載入之前在該第/基板表面形成密封材料；及 於載入之前在該第二基板表面分滴一液晶材料。 4 4 ·如申請專利範圍第4 2項所述之液晶顯示裝置之製造方 法，更包含於載入之前在該第二基板表面形成密封材料與 分滴一液晶材料。 4 5 ·如申請專利範圍第4 2項所述之液晶顯示裝置之製造方 法’其中該.密封材料包含一紫外光固化密封材料。

   200411262 六、申請專利範圍 4 6.如申請專利範圍第42項所述之液晶顯示裝置之製造方 法，其中該密封材料包含一熱固化密封材料。 4 7.如申請專利範圍第42項所述之液晶顯示裝置之製造方 法，其中該密封材料包含一紫外光固化密封材料與一熱固 化材料。 4 8.如申_專利範圍第42項所述之液晶顯示裝置之製造方 法，其中該第一基板包含一薄膜電晶體陣列基板。 4 9.如申請專利範圍第42項所述之液晶顯示裝置之製造方 法，其中該第一基板包含一彩色濾光片陣列基板。 5 0 .如申請專利範圍第4 2項所述之液晶顯示裝置之製造方麵[ 法，其中該第二基板包含一薄膜電晶體陣列基板。 5 1.如申請專利範圍第42項所述之液晶顯示裝置之製造方 法，其1ΐ7該第二基板包含一彩色濾、光片陣列基板。 .5 2.如申請專利範圍第42項所述之液晶顯示裝置之製造方 法，其中該分別載入該第一基板與該第二基板至該上平台 與該下平台的步驟，係包含藉由一吸力與一靜電力鎖固一 個以上的該第一基板與該第二基板至其對應的平台。 5 3.如申請專利範圍第5 2項所述之液晶顯示裝置之製造方 法，其中該吸力的產生係先於該靜電力。 | 5 4.如申請專利範圍第4 2項所述之液晶顯示裝置之製造方 法，其中該抽真空密閉之該容置空間的步驟，係先抽真空 該容置空間至一第一壓力，然後再進一步的自該第一壓力 抽真空該容置空間。 5 5.如申請專利範圍第42項所述之液.晶顯示裝置之製造方

   第51頁 200411262 六、申請專利範圍 法，其中該提升該上腔室與該上平台以對位該第一基板與 該第二基板的步驟，包含有： 調節該第一基板與該第二基板的間隔符合一孩定 距離； 利用一組以上粗略對位標誌進行對位；及 完成該粗略對位標諸對位之後，利用一組以上精 細對位標遠進行對位’該精細對位標諸對位時’該第〆暴 板與該第二基板的距離係為變動者。 5 6 ·如申請專利範圍第5 5項所述之液晶顯示裝置之製造方 法，其令該精細對位標誌對位時，該第一基板與該第；I 板之距離係小於該第一預定距離。 5 7.如申請專利範圍第5 5項所述之液晶顯示裝置之製造方 法，其中該粗略對位標誌之對位係包含利用設置於該第〆 基板與該第二基板對角線之相對區域的兩個以上的攝影 機，測量其對位狀態。 5 8 ·如申請專利範圍第5 5項所述之液晶顯示裝置之製造方 法，其中該粗略對位標誌、之對位係包含利用設置於該第一 基板與該第二基板四角落區域的攝影機，測量其對位狀 態。 5 9 ·如申請專利範圍第5 5項所述之液晶顯示裝置之製造方 法，其中該第一基板與該第二基板的距離變動係包含： 設置該上平台使該第，基板與該第二基板不互相 接觸；及 降低該上平台使該第/基板的中央區域與該第二

   第52頁 200411262 六、申請專利範圍 ' 基板的中央區域接觸；及 “ 其中，該精細對位槔誌的對位係於上述設置與降 低该上平台的步驟之間進行。 6 0 ·如申請專利範圍第5 5項所述之/液晶顯示裝置之製造方 法，其中該粗略對位標誌之對位係包含使一對位攝影機對 焦於該第一基板與該第二基板的一中介點。 6 1 ·如申請專利範圍第5 5項所述之’夜晶顯示裝置之製造方 法，其中該精細對位標誌之對位係包含使一對位攝影機對 焦於該第一基板與該第二基板的一中介點。 6 2 ·如申請專利範圍第5 5項所述之液晶顯示裝置之製造方 φ 法，其中該粗略對位標誌之對位係包含交互對焦於該第一 基板的該粗略對位標誌及該第二基板的該粗略對位標誌之 間。 一 6 3 ·如申請專利範圍第5 5項所述之液aa顯示I置之製造方 法，其中該精細對位標誌之對位係包含父互對焦於該第一 基板的該精細對位標誌及該第二基板的該精細對位標誌之 間。 、一 64·如申請專利範圍第42項所述之液晶顯不I置之製造方 法，其中該第-基板載入I上不台以及於對位該第一基板 與該二基板之後，包含藉由該上平台的一吸力與一靜電力 鎖固該基板，係包含： / 卸除該上平台提供的该靜電力

   第53買 200411262 六、申請專利範圍 根據所測量的該對位狀態重新校準已對位的該第 一基板與該第二基板。 6 5.如申請專利範圍第6 4項所述之液晶顯示裝置之製造方 法，其中該對位狀態的測量係利用一組以上的精細對位標 誌進行。 ' 6 6.如申請專利範圍第42項所述之液晶顯示裝置之製造方 法，更包含： 提供複數個孔洞於該上平台和該下平台以進行卸 壓；及 提供複數個低真空管線至密封的容置空間，其中 # 欲進行之洩壓包含； 於第一洩壓步驟，經由該上平台和該下平台所提 供的孔洞通入氮氣至密閉的該容置空間；及 於第二步驟，經由該低真空管線通入氮氣以提升 該容置空間的壓力至其等同於大氣壓力。 6 7.如申請專利範圍第42項所述之液晶顯示裝置之製造方 法，更包含照射一紫外光至該密封材料以部分硬化該密封 材料。 68.如申請專利範圍第67項所述之液晶顯示裝置之製造方 @ 法，其中該紫外光係照射至密封材料的1 0個以上的區域。 6 9 ·如申請專利範圍第6 7項所述之液晶顯示裝置之製造方 法，更包含於洩壓之前照射紫外光。 70.如申請專利範圍第67項所述之液晶顯示裝置之製造方 法，更包含於洩壓之後照射紫外光。

   第54頁 200411262 六、申請專利範圍 7 1 ·如申請專利範圍第4 2項所述之液晶顯示裝 法，其中該卸载已接合之該第一基板與該第二 驟，其包含： 鎖固已接合的該基板至上平台； 上升該上平台，其已鎖固已接合的該 设置一承載件，使其接近已接合的該 固於該上平台； 由該上平台釋放已接合的該基板，已 板係由該承載件支撐；及 將支撐已接合的該基板之該承載件移 合設備。 72.如申請專利範圍第42項所述之液晶顯示裝 法，其中該卸載已接合之該第一基板與該第二 驟’其包含： 鎖固已接合的該基板至上平台； 上升該上平台，其已鎖固已接合的該 上升通過該下平台與其上表面的一升 接近已接合的該基板； 由該上平台釋放已接合的該基板，已 板係由該升降架支撐； 設置一承載件，使其接近由該升降架 合的該基板； 降低該升降架，使已接合的該基板由 # ;及 置之製造方 -基板的步 基板； 基板，其鎖 接合的該基 離該基板接 置之製造方 二基板的步 基板； 降架，使其 接合的該基 支撐之已接 該承载件樓

   第55頁 200411262 六、申請專利範圍 將支撐已接合的该基板之該承载件移離該基板接 合设備。 7 3.如申請專利範圍第42項所述之液晶顯示裝置之製造方 法，其中該卸载已接合之該第一基板與該第二基板~的步 驟，其包含： 上升已接合之該基板使其高於該上表面，藉由利 用通過該下平台與該上表面的一升降架支撐該基板； 設置一承載件，使其接近由該升降架支橡之已接 合的該基板； 降低該升降架使已接合的該基板承載於該承載 件；及 將支撐已接合的該基板之該承載件移離該基板接 合設備。 - 7 4.如申請專利範圍第7 3項所述之液晶顯示裝置之製造方 法，更包含在將支撐已接合的該基板之該承載件移離該基 板接合設備之前，裝載未接合的基板於上平台的步驟。

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