KR102438404B1 - 마이크로 소자의 패키징 방법 - Google Patents
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- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 title claims abstract description 84
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 53
- 239000005022 packaging material Substances 0.000 claims abstract description 94
- 230000005496 eutectics Effects 0.000 claims abstract description 55
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 37
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 37
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 35
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 claims abstract description 31
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 31
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 30
- 238000007906 compression Methods 0.000 claims abstract description 12
- 230000006835 compression Effects 0.000 claims abstract description 11
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 97
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims description 15
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 claims description 13
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 claims description 13
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 11
- 238000007667 floating Methods 0.000 claims description 8
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 5
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 claims description 5
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 claims description 4
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 3
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 claims description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 abstract description 5
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 17
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 238000004299 exfoliation Methods 0.000 description 3
- CNQCVBJFEGMYDW-UHFFFAOYSA-N lawrencium atom Chemical compound [Lr] CNQCVBJFEGMYDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000002609 medium Substances 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 238000005411 Van der Waals force Methods 0.000 description 2
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 2
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 2
- 238000000608 laser ablation Methods 0.000 description 2
- 238000012858 packaging process Methods 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 238000011982 device technology Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000006163 transport media Substances 0.000 description 1
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- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/50—Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
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- H01L2224/131—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/13138—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
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Abstract
본 발명은 1) 베이스에 패키징 재료층을 형성하고, 패키징 재료층에 대해 반경화 처리를 진행하는 단계; 2) 패키징 재료층의 표면 점성에 기반하여, 마이크로 소자의 어레이를 상기 패키징 재료층 표면으로 픽업하는 단계; 3) 마이크로 소자의 어레이를 패키징 기판 상의 공융 금속에 맞춰 접합하는 단계; 4) 마이크로 소자의 어레이와 공융 금속에 대해 공융 처리를 진행하고, 패키징 재료의 반경화 상태를 유지하는 단계; 5) 반경화된 패키징 재료층과 패키징 기판을 압착하여, 패키징 재료층이 마이크로 소자를 피복하도록 하고, 상기 패키징 재료를 완전히 경화시키는 단계; 및 6) 베이스를 제거하는 단계를 포함하는 마이크로 소자의 패키징 방법을 제공한다. 본 발명은 반경화된 실리카 겔을 이용하여 마이크로 소자의 픽업을 실현하고, 저온 고진공 압착을 이용하여 마이크로 소자의 이송 및 밀폐를 실현하므로, 공정이 간단하고 순조로우며, 마이크로 소자의 무공극 패키징을 실현하여, 패키징 품질을 향상시키고, 패키징 원가를 효과적으로 절감할 수 있다.
Description
본 발명은 반도체 제조 분야에 속하며, 특히 마이크로 소자의 패키징 방법에 관한 것이다.
마이크로 소자 기술은 베이스 상에 마이크로 크기의 소자 어레이를 고밀도로 집적시키는 것을 말한다. 현재, 마이크로 피치 LED(Micro LED) 기술은 핫한 연구대상으로 떠오르고 있으며, 공업 분야에서는 고품질의 마이크로 소자 제품이 시장에 출시될 것을 기대하고 있다. 고품질의 마이크로 피치 LED 제품은 이미 시장에 나와있는 LCD/OLED와 같은 기존 디스플레이 제품에 큰 영향을 미칠 것이다.
마이크로 소자 제조 과정에서, 먼저 도너 패키징 기판에 마이크로 소자를 형성하고, 이어서 마이크로 소자를 수용 패키징 기판으로 이송한다. 수용 패키징 기판은 예를 들면 디스플레이 스크린이다. 마이크로 소자 제조 과정 중 하나의 어려운 점은, 마이크로 소자를 도너 패키징 기판으로부터 수용 패키징 기판으로 이송하는 것이다.
종래의 마이크로 소자를 이송하는 방법은 패키징 기판 접합(Wafer Bonding)을 통해 마이크로 소자를 이송 패키징 기판에서 수용 패키징 기판으로 이송하는 것이다. 이송 방법 중 하나의 실시 방법은 직접 이송이다. 즉, 직접 마이크로 소자 어레이를 이송 패키징 기판에서 수용 패키징 기판에 접합시킨 후, 박리 또는 에칭을 통해 이송 패키징 기판을 제거하므로, 직접 이송은 종종 여분의 에피택셜층을 희생시켜야 한다. 다른 실시 방법은 간접 이송이다. 먼저, 이송 매질로 마이크로 소자 어레이를 픽업하고, 이어서 이송 매질은 마이크로 소자 어레이를 수용 패키징 기판에 접합시킨 후, 이송 매질을 제거한다. 이송 매질은 내고온 특성이 요구된다.
현재 마이크로 소자의 이송의 기술은 반데르발스 힘, 정전기 흡착, 상변화 이송 및 레이저 어블레이션과 같은 4대 기술을 포함한다. 반데르발스 힘, 정전기 흡착 및 레이저 어블레이션 방식은 현재 비교적 많은 제조업체의 발전 방향이다. 서로 다른 응용에 대하여, 각 이송방식은 각각 장점과 결함이 있다. 마이크로 소자의 패키징은 이송 후, 전면에 대해 패키징을 해야 하며, 주로 일반적인 유체 패키징 경화이다.
실리카 겔은 마이크로 소자 패키징에서 일반적으로 사용되는 패키징 재료이다. 실리카 겔 재료는 대기 노화, 자외선 노화를 방지하는 우수한 성능으로 인해, 고급 제품의 응용에서는 실리카 겔을 광범위하게 사용하여 패키징을 진행한다. 실리카 겔은 또한 매우 짧은 시간 내에 순간적인 고온을 견딜 수 있다. 마이크로 소자의 패키징은 단위가 작아, 단일 패키지를 이용하여 조합할 수 없으므로, 종종 전면 패키징을 이용하고, 일반적인 전면 유체 피복 패키징은 마이크로 소자 사이에 미세 공극을 쉽게 형성하며, 특히 소자의 직각 위치로 인해 신뢰성에 영향을 줄 수 있다.
상술한 문제로 인해, 공정 흐름이 간단하고, 패키징 결함을 효과적으로 줄일 수 있는 마이크로 소자의 패키징 방법을 제공하는 것이 절실히 필요하다.
상기 종래 기술의 문제점을 감안하여, 본 발명의 목적은 종래 기술의 패키징 공정이 복잡하고, 패키징 결함이 발생하기 쉬운 문제를 해결하기 위한 마이크로 소자의 패키징 방법을 제공하는 것이다.
상기 목적 및 기타 관련 목적을 실현하기 위해, 본 발명은 마이크로 소자의 패키징 방법을 제공하고, 상기 패키징 방법은 1) 베이스를 제공하고, 상기 베이스에 패키징 재료층을 형성하며, 상기 패키징 재료층이 점성을 갖도록 상기 패키징 재료층의 완전 경화 온도보다 낮은 제1 온도에서 상기 패키징 재료층에 대해 반경화 처리를 진행하는 단계; 2) 마이크로 소자의 어레이를 제공하고, 상기 패키징 재료층의 표면 점성에 기반하여, 상기 마이크로 소자의 어레이를 상기 패키징 재료층 표면으로 픽업하는 단계; 3) 패키징 기판을 제공하고, 상기 패키징 기판의 표면은 상기 마이크로 소자의 어레이에 대응하는 공융(eutectic) 금속을 가지며, 상기 마이크로 소자의 어레이를 상기 공융 금속에 맞춰 접합하는 단계; 4) 상기 마이크로 소자의 어레이와 상기 공융 금속에 대해 제2 온도에서 공융 처리를 진행하고, 상기 패키징 재료의 반경화 상태를 유지하는 단계; 5) 반경화된 상기 패키징 재료층과 상기 패키징 기판을 압착하여, 상기 패키징 재료층이 상기 마이크로 소자를 피복하도록 하고, 상기 패키징 재료를 완전히 경화시키는 단계; 및6) 상기 베이스를 제거하는 단계를 포함한다.
바람직하게는, 상기 패키징 재료층은 실리카 겔을 포함하고, 상기 반경화 처리에서 채용한 상기 제1 온도는 60℃ ~ 150℃에서 선택되며, 상기 완전 경화 온도는 150℃ ~ 200℃이다.
바람직하게는, 상기 공융 금속은 AgSnCu 합금 및 AuSn 합금으로 이루어진 군의 1종을 포함하고, 상기 제2 온도는 350℃ 이하이다.
추가적으로, 상기 마이크로 소자의 어레이와 상기 공융 금속의 공융 처리 시간은 1min 이하이고, 상기 패키징 재료는 350℃ 이하의 온도에서 가열되는 시간이 1min 이하인 조건에서 반경화 상태를 유지한다.
바람직하게는, 상기 공융 금속은 In 및 BiSn 합금으로 이루어진 군의 1종을 포함하고, 상기 제2 온도는 상기 패키징 재료의 완전 경화 온도 이하이다.
바람직하게는, 상기 패키징 재료층의 두께는 상기 마이크로 소자와 상기 공융 금속의 전체 두께보다 크다.
바람직하게는, 단계 2)에서, 상기 마이크로 소자의 어레이는 상기 패키징 재료층의 점성 표면에 의해 픽업되기 쉽도록 부상형 구조를 이용한다.
추가적으로, 상기 부상형 구조는, 지지층; 상기 지지층 표면에 위치하는 복수의 안정화 포스트; 및 마이크로 소자가 각각 복수의 상기 안정화 포스트에 의해 지지되는 마이크로 소자의 어레이를 포함한다.
바람직하게는, 단계 5)에서, 진공 압착 방식을 이용하여 반경화된 상기 패키징 재료층과 상기 패키징 기판을 압착하여, 상기 마이크로 소자의 표면이 상기 패키징 재료에 의해 완전히 피복되도록 하고, 상기 패키징 재료층이 상기 마이크로 소자 사이의 공극을 완전히 채우도록 한다.
바람직하게는, 상기 베이스는 스테인리스 베이스이며, 단계 6)에서 상기 스테인리스 베이스를 상기 패키징 재료에서 직접 박리시킨다.
바람직하게는, 단계 1)에서 베이스를 제공한 후, 상기 베이스 상에 박리층 및 보호층을 차례로 형성하는 더 단계를 포함하고, 이후 상기 보호층 상에 패키징 재료층을 형성하고, 단계 6)에서는 먼저 상기 박리층에 기반하여, LLO(laser lift-off) 방식을 이용하여 상기 베이스를 제거한 후, 습식 에칭 방식을 이용하여 상기 보호층을 제거한다.
바람직하게는, 상기 베이스는 사파이어 베이스를 포함하고, 상기 박리층은 GaN층을 포함하고, 상기 보호층은 ITO층을 포함한다.
바람직하게는, 상기 마이크로 소자의 어레이는 마이크로 피치 LED어레이를 포함한다.
상술한 바와 같이, 본 발명의 마이크로 소자의 패키징 방법은, 다음과 같은 유익한 효과를 가진다.
본 발명은 반경화된 실리카 겔을 이용하여 마이크로 소자의 픽업을 실현하고, 저온 고진공 압착을 이용하여 마이크로 소자의 이송 및 밀폐를 실현하므로, 공정이 간단하고 순조로우며, 마이크로 소자의 무공극 패키징을 실현하여, 패키징 품질을 향상시키고, 패키징 원가를 효과적으로 절감할 수 있다.
본 발명은 공융 금속을 이용하여 단시간 내에 순간 승온하여 공융시키거나, 공융 온도가 실리카 겔의 완전 경화 온도보다 낮은 공융 금속을 이용하여, 실리카 겔의 반경화 상태의 안정성을 유지할 수 있다.
본 발명은 무기 희생층을 이용하여 실리카 겔의 압착 패키징을 실현하고, 이후 습식 에칭을 이용하여 무기 희생층을 제거하므로, 실리카 겔의 완전성을 완전히 보존할 수 있다.
본 발명은 마이크로 소자의 대량의 이송 및 전면이 완전한 무공극 패키징을 실현할 수 있으므로, 반도체 패키징 분야에서 광범위한 응용 전망이 있다.
도 1은 본 발명의 마이크로 소자의 패키징 방법의 단계 흐름 개략도를 나타낸다.
도 2 ~ 도 8은 본 발명의 실시예1의 마이크로 소자의 패키징 방법의 각 단계를 도시한 구조 개략도를 나타낸다.
도 9 ~ 도 16은 본 발명의 실시예2의 마이크로 소자의 패키징 방법의 각 단계를 도시한 구조 개략도를 나타낸다.
도 2 ~ 도 8은 본 발명의 실시예1의 마이크로 소자의 패키징 방법의 각 단계를 도시한 구조 개략도를 나타낸다.
도 9 ~ 도 16은 본 발명의 실시예2의 마이크로 소자의 패키징 방법의 각 단계를 도시한 구조 개략도를 나타낸다.
이하 특정한 구체적 실시예를 통해 본 발명의 실시형태에 대해 설명한다. 해당 분야의 기술자는 본 명세서에서 공개한 내용을 통해 본 발명의 기타 장점 및 효과를 쉽게 이해할 수 있다. 본 발명은 다른 구체적 실시형태를 통해 실시 또는 응용될 수도 있으며, 본 명세서의 각 세부 사항도 상이한 관점과 응용에 기초하여, 본 발명의 정신을 벗어나지 않으면서 다양하게 수정 또는 변경할 수 있다.
도 1 ~ 도 16을 참고하길 바란다. 참고로, 본 실시예에서 제공하는 도면은 단지 본 발명의 기본 사상을 설명하기 위한 것이며, 이에 따라 도면에서는 실제의 부재 개수, 형상 및 크기에 따라 도시하지 않고 본 발명과 관련된 부재만 표시하였으며, 실제 시 각 부재의 형상, 수량 및 비율은 임의로 변경할 수 있으며, 또한 부재 배치 형태도 더욱 복잡해질 수 있다.
실시예1
도 1 ~ 도 8에 도시한 바와 같이, 본 실시예는 마이크로 소자(103)의 패키징 방법을 제공하며, 상기 패키징 방법은 아래 단계들을 포함한다.
도 1 ~ 도 3에 도시한 바와 같이, 먼저 1) 베이스(101)를 제공하고, 상기 베이스(101) 상에 패키징 재료층(102)을 형성하며, 상기 패키징 재료층(102)이 점성을 갖도록 상기 패키징 재료층의 완전 경화 온도보다 낮은 제1 온도에서 상기 패키징 재료층(102)에 대해 반경화 처리를 진행하는 단계(S11)를 진행한다.
상기 베이스(101)는 스테인리스 베이스(10)와 같은 완전 경화된 패키징 재료와 쉽게 분리 가능한 재료를 선택한다.
상기 패키징 재료층(102)의 두께는 상기 마이크로 소자(103)와 상기 공융 금속(105)의 전체 두께보다 크며, 예를 들어 상기 패키징 재료층(102)의 두께는 15 ~ 100 μm에서 선택될 수 있다.
본 실시예에서, 상기 패키징 재료층(102)은 실리카 겔이며, 상기 실리카 겔의 완전 경화 온도는 일반적으로 150℃ ~ 200℃이며, 이 온도에서 상기 실리카 겔은 완전한 경화를 실현하는데 약 30min ~ 120min이 필요하다.
상기 실리카 겔은 스핀 코팅 공정 등을 이용하여 상기 베이스(101) 표면에 형성되고, 이후 60℃ ~ 150℃의 제1 온도에서, 예를 들면 80℃, 100℃ 또는 120℃ 등 온도에서 10min ~ 30min 동안 열처리를 진행하여, 상기 실리카 겔이 반경화 상태가 되게 하고, 반경화 상태의 실리카 겔은 가소성을 가지며, 그 표면은 일정한 점성을 가진다.
도 1 및 도 4 ~ 도 5에 도시한 바와 같이, 2) 마이크로 소자(103)의 어레이를 제공하고, 상기 패키징 재료층(102)의 표면 점성에 기반하여, 상기 마이크로 소자(103)의 어레이를 상기 패키징 재료층(102) 표면으로 픽업하는 단계(S12)를 진행한다.
본 실시예에서, 상기 마이크로 소자(103)의 어레이는 마이크로 피치 LED어레이이다. 물론, MOS 부재, MEMS 부재와 같은 기타 마이크로 소자(103)도 마찬가지로 본 실시예의 패키징 방법을 이용하여 패키징을 진행할 수 있고, 여기서 열거한 예에 한정되지 않는다.
본 실시예에서, 상기 마이크로 소자(103)의 어레이는 상기 패키징 재료층(102)의 점성 표면에 의해 픽업되기 쉽도록 부상형 구조를 이용한다. 구체적으로, 상기 부상형 구조는, 지지층(106), 상기 지지층(106) 표면에 위치하는 복수의 안정화 포스트(107); 및 마이크로 소자(103)가 각각 복수의 상기 안정화 포스트(107)에 의해 지지되는 마이크로 소자의 어레이를 포함한다. 참고로, 상기 안정화 포스트(107)는 상기 마이크로 소자(103)가 안정적으로 지지되도록 보장하면서, 상기 안정화 포스트(107)의 면적을 최대한 작게 설계함으로써, 마이크로 소자(103)가 상기 패키징 재료에 의해 픽업되기 쉽도록 한다.
도 1 및 도 6에 도시한 바와 같이, 3) 패키징 기판(104)을 제공하고, 상기 패키징 기판(104) 표면은 상기 마이크로 소자(103)의 어레이에 대응하는 공융 금속(105)을 가지며, 상기 마이크로 소자(103)의 어레이 상의 전극을 상기 공융 금속(105)에 맞춰 접합하는 단계(S13)를 진행한다.
도 1에 도시한 바와 같이, 이후 4) 상기 마이크로 소자(103)의 어레이와 상기 공융 금속(105)에 대해 제2 온도에서 공융 처리를 진행하고, 상기 패키징 재료의 반경화 상태를 유지하는 단계(S14)를 진행한다.
예로서, 상기 공융 금속(105)은 AgSnCu 합금 및 AuSn 합금으로 이루어진 군의 1종을 포함하고, 상기 제2 온도는 350℃ 이하이다. 본 실시예에서, 상기 공융 금속(105)은 AgSnCu 합금을 선택한다.
단시간 내에 상기 공융 금속(105)을 일반적으로는 150℃ ~ 350℃인 공융 온도로 가열하여, Au 전극과 같은 상기 마이크로 소자(103)의 어레이 상의 전극과 상기 공융 금속(105)이 공융 융합을 실현하도록 하고, 전체 처리 시간은 1min 이하이며, 상기 패키징 재료는 350℃ 이하의 온도(예를 들면 150℃ ~ 350℃)에서 가열되는 시간이 1min 이하인 조건에서 여전히 반경화 상태를 유지하여, 후속 압착 공정의 진행에 유리하다.
도 1 및 도 7에 도시한 바와 같이, 5) 반경화된 상기 패키징 재료층(102)과 상기 패키징 기판(104)을 압착하여, 상기 패키징 재료층(102)이 상기 마이크로 소자(103)를 피복하도록 하고, 상기 패키징 재료를 완전히 경화시키는 단계(S15)를 진행한다.
예로서, 진공 압착 방식을 이용하여 반경화된 상기 패키징 재료층(102)과 상기 패키징 기판(104)을 압착하여, 상기 마이크로 소자(103)의 표면이 상기 패키징 재료층(102)에 의해 완전히 피복하도록 하고, 상기 패키징 재료층(102)이 상기 마이크로 소자(103) 사이의 공극을 완전히 채우도록 한다.
예로서, 상기 패키징 재료를 완전히 경화시키는 경화 온도는 150℃ ~ 200℃이다.
도 1 및 도 8에 도시한 바와 같이, 마지막으로 6) 상기 베이스(101)를 제거하는 단계(S16)를 진행한다.
예로서, 상기 스테인리스 베이스(101)를 상기 패키징 재료에서 직접 박리시킨다.
본 실시예는 반경화된 실리카 겔을 이용하여 마이크로 소자(103)의 픽업을 실현하고, 저온 고진공 압착을 이용하여 마이크로 소자(103)의 이송 및 밀폐를 실현하므로, 공정이 간단하고 순조로우며, 마이크로 소자(103)의 무공극 패키징을 실현하여, 패키징 품질을 향상시키고, 패키징 원가를 효과적으로 절감시킬 수 있으며, 또한 본 실시예는 공융 금속(105)을 이용하여 단시간 내에 순간 승온하여 공융시키므로, 실리카 겔의 반경화 상태의 안정성을 유지할 수 있다.
실시예2
도 9 ~ 도 16에 도시한 바와 같이, 본 실시예는 마이크로 소자(203)의 패키징 방법을 제공하며, 상기 패키징 방법은 아래 단계들을 포함한다.
도 9 ~ 도 10에 도시한 바와 같이, 먼저 1) 상기 베이스(201) 상에 박리층(208) 및 보호층(209)을 차례로 형성한 후, 상기 보호층(209) 상에 패키징 재료층(202)을 형성하고, 상기 패키징 재료층(202)이 점성을 갖도록 상기 패키징 재료층(202)의 완전 경화 온도보다 낮은 제1 온도에서 상기 패키징 재료층에 대해 반경화 처리를 진행하는 단계를 진행한다.
예로서, 상기 베이스(201)는 사파이어 베이스(201)를 선택하고, 상기 박리층(208)은 GaN층을 선택하고, 상기 보호층(209)은 ITO층을 선택한다. 상기 GaN층 및 ITO층은 화학 기상 증착 공정, 스퍼터링 공정 등을 이용하여 상기 사파이어 베이스(201) 표면에 차례로 형성한다.
상기 패키징 재료층(202)의 두께는 상기 마이크로 소자(203)와 상기 공융 금속(205)의 전체 두께보다 크며, 예를 들어 상기 패키징 재료층(202)의 두께는 15 ~ 100 μm에서 선택될 수 있다.
본 실시예에서, 상기 패키징 재료층(202)은 실리카 겔이며, 상기 실리카 겔의 완전 경화 온도는 일반적으로 150℃ ~ 200℃이며, 이 온도에서 상기 실리카 겔은 완전한 경화를 실현하는데 약 30min ~ 120min이 필요하다.
상기 실리카 겔은 스핀 코팅 공정 등을 이용하여 상기 베이스(201) 표면에 형성되고, 이후 60℃ ~ 150℃의 제1 온도에서, 예를 들면 80℃, 100℃ 또는 120℃ 등 온도에서 10min ~ 30min 동안 열처리를 진행하여, 상기 실리카 겔이 반경화 상태가 되게 하고, 반경화 상태의 실리카 겔은 가소성을 가지며, 그 표면은 일정한 점성을 가진다.
도 11 ~ 도 12에 도시한 바와 같이, 이후 2) 마이크로 소자(203)의 어레이를 제공하고, 상기 패키징 재료층(202)의 표면 점성에 기반하여, 상기 마이크로 소자(203)의 어레이를 상기 패키징 재료층(202) 표면으로 픽업하는 단계를 진행한다.
본 실시예에서, 상기 마이크로 소자(203)의 어레이는 마이크로 피치 LED어레이이다. 물론, MOS 부재, MEMS 부재와 같은 기타 마이크로 소자(203)도 마찬가지로 본 실시예의 패키징 방법을 이용하여 패키징을 진행할 수 있고, 여기서 열거한 예에 한정되지 않는다.
본 실시예에서, 상기 마이크로 소자(203)의 어레이는 상기 패키징 재료층(202)의 점성 표면에 의해 픽업되기 쉽도록 부상형 구조를 이용한다. 구체적으로, 상기 부상형 구조는, 지지층(206), 상기 지지층(206) 표면에 위치하는 복수의 안정화 포스트(207); 및 마이크로 소자(203)가 각각 복수의 상기 안정화 포스트(207)에 의해 지지되는 마이크로 소자의 어레이(203)를 포함한다. 참고로, 상기 안정화 포스트(207)는 상기 마이크로 소자(203)가 안정적으로 지지되도록 보장하면서, 상기 안정화 포스트(207)의 면적을 최대한 작게 설계함으로써, 마이크로 소자(203)가 상기 패키징 재료에 의해 픽업되기 쉽도록 한다.
도 13에 도시한 바와 같이, 3) 패키징 기판(204)을 제공하고, 상기 패키징 기판(204) 표면은 상기 마이크로 소자(203)의 어레이에 대응하는 공융 금속(205)을 가지며, 상기 마이크로 소자(203)의 어레이 상의 전극을 상기 공융 금속(205)에 맞춰 접합하는 단계를 진행한다.
이후 4) 상기 마이크로 소자(203)의 어레이와 상기 공융 금속(205)에 대해 제2 온도에서 공융 처리를 진행하고, 상기 패키징 재료의 반경화 상태를 유지하는 단계를 진행한다.
예로서, 상기 공융 금속(205)은 In 및 BiSn 합금으로 이루어진 군의 1종을 포함하고, 상기 제2 온도는 상기 패키징 재료의 완전 경화 온도 이하이고, 예를 들면 상기 In 또는 BiSn 합금과 마이크로 소자(203) 상의 Au 전극의 공융 온도는 180℃ 이하이고, 또한 단시간(예를 들면 1min) 내 공융 융합을 실현할 수 있다. 따라서, 상기 공융 금속(205)과 마이크로 소자(203)의 Au전극이 공융을 실현할 때, 상기 패키징 재료는 반경화 상태를 여전히 유지할 수 있어, 후속의 압착 공정의 진행에 유리하다.
도 14에 도시한 바와 같이, 이후 5) 반경화된 상기 패키징 재료층(202)과 상기 패키징 기판(204)을 압착하여, 상기 패키징 재료층(202)이 상기 마이크로 소자(203)를 피복하도록 하고, 상기 패키징 재료를 완전히 경화시키는 단계를 진행한다.
예로서, 진공 압착 방식을 이용하여 반경화된 상기 패키징 재료층(202)과 상기 패키징 기판(204)을 압착하여, 상기 마이크로 소자(203)의 표면이 상기 패키징 재료층(202)에 의해 완전히 피복되도록 하고, 상기 패키징 재료층(202)이 상기 마이크로 소자(203) 사이의 공극을 완전히 채우도록 한다.
예로서, 상기 패키징 재료를 완전히 경화시키는 경화 온도는 150℃ ~ 200℃이다.
도 15 ~ 도 16에 도시한 바와 같이, 마지막으로 6) 상기 베이스(201) 및 상기 베이스(201) 상에 위치한 박리층(208) 및 보호층(209)을 제거하는 단계를 진행한다.
예로서, 먼저 상기 박리층(208)에 기반하여, LLO 방식을 이용하여 상기 베이스(201)를 제거하고, 상기 보호층(209)은 LLO 시 상기 패키징 재료층(202)을 보호하도록 상기 박리층(208) 및 상기 패키징 재료층(202)을 격리시킬 수 있으며, 이후 습식 에칭 방식을 이용하여 상기 보호층(20) 및 기타 잔류 물질을 제거하고, 상기 보호층(209)은 습식 에칭 시 상기 패키징 재료층(202)의 완전성을 보장할 수 있다.
본 실시예는 반경화된 실리카 겔을 이용하여 마이크로 소자(203)의 픽업을 실현하고, 저온 고진공 압착을 이용하여 마이크로 소자(203)의 이송 및 밀폐를 실현하므로, 공정이 간단하고 순조로우며, 마이크로 소자(203)의 무공극 패키징을 실현하여, 패키징 품질을 향상시키고, 패키징 원가를 효과적으로 절감시킬 수 있으며, 또한 본 실시예는 공융 금속(205)을 이용하여 단시간 내에 순간 승온하여 공융시키므로, 실리카 겔의 반경화 상태의 안정성을 유지할 수 있다.
상술한 바와 같이, 본 발명의 마이크로 소자의 패키징 방법은 아래와 같은 유익한 효과를 가진다.
본 발명은 반경화된 실리카 겔을 이용하여 마이크로 소자의 픽업을 실현하고, 저온 고진공 압착을 이용하여 마이크로 소자의 이송 및 밀폐를 실현하므로, 공정이 간단하고 순조로우며, 마이크로 소자의 무공극 패키징을 실현하여, 패키징 품질을 향상시키고, 패키징 원가를 효과적으로 절감할 수 있다.
본 발명은 공융 금속을 이용하여 단시간 내에 순간 승온하여 공융시키거나, 공융 온도가 실리카 겔의 완전 경화 온도보다 낮은 공융 금속을 이용하여, 실리카 겔의 반경화 상태의 안정성을 유지할 수 있다.
본 발명은 무기 희생층을 이용하여 실리카 겔의 압착 패키징을 실현하고, 이후 습식 에칭을 이용하여 무기 희생층을 제거하므로, 실리카 겔의 완전성을 완전히 보존할 수 있다.
본 발명은 마이크로 소자의 대량의 이송 및 전면이 완전한 무공극 패키징을 실현할 수 있으므로, 반도체 패키징 분야에서 광범위한 응용 전망이 있다.
따라서, 본 발명은 종래 기술의 여러 가지 결함을 극복하여 높은 산업적 이용 가치를 가진다.
상기 실시예는 단지 본 발명의 원리 및 효과를 설명하기 위한 예시일 뿐, 본 발명을 한정하지 않는다. 당업자는 본 발명의 정신 및 범위를 위배하지 않으면서, 상기 실시예를 수정 또는 변화시킬 수 있다. 따라서, 해당 분야에서 통상적인 지식을 가진 자가 본 발명에 공개된 정신과 기술 사상을 벗어나지 않고 완성한 등가 수정 또는 변화는 여전히 본 발명의 청구 범위에 포함되어야 한다.
101, 201: 베이스
102, 202: 패키징 재료층
103, 203: 마이크로 소자
104, 204: 패키징 기판
105, 205: 공융 금속
106, 206: 지지층
107, 207: 안정화 포스트
208: 박리층
209: 보호층
S11 ~ S16: 단계
102, 202: 패키징 재료층
103, 203: 마이크로 소자
104, 204: 패키징 기판
105, 205: 공융 금속
106, 206: 지지층
107, 207: 안정화 포스트
208: 박리층
209: 보호층
S11 ~ S16: 단계
Claims (13)
1) 베이스를 제공하고, 상기 베이스에 패키징 재료층을 형성하며, 상기 패키징 재료층이 점성을 갖도록 상기 패키징 재료층의 완전 경화 온도보다 낮은 제1 온도에서 상기 패키징 재료층에 대해 반경화 처리를 진행하는 단계;
2) 마이크로 소자의 어레이를 제공하고, 상기 패키징 재료층의 표면 점성에 기반하여, 상기 마이크로 소자의 어레이를 상기 패키징 재료층 표면으로 픽업하는 단계;
3) 패키징 기판을 제공하고, 상기 패키징 기판의 표면은 상기 마이크로 소자의 어레이에 대응하는 공융(eutectic) 금속을 가지며, 상기 마이크로 소자의 어레이를 상기 공융 금속에 맞춰 접합하는 단계;
4) 상기 마이크로 소자의 어레이와 상기 공융 금속에 대해 제2 온도에서 공융 처리를 진행하고, 상기 패키징 재료의 반경화 상태를 유지하는 단계;
5) 반경화된 상기 패키징 재료층과 상기 패키징 기판을 압착하여, 상기 패키징 재료층이 상기 마이크로 소자를 피복하도록 하고, 상기 패키징 재료를 완전히 경화시키는 단계; 및
6) 상기 베이스를 제거하는 단계를 포함하는, 마이크로 소자의 패키징 방법.
2) 마이크로 소자의 어레이를 제공하고, 상기 패키징 재료층의 표면 점성에 기반하여, 상기 마이크로 소자의 어레이를 상기 패키징 재료층 표면으로 픽업하는 단계;
3) 패키징 기판을 제공하고, 상기 패키징 기판의 표면은 상기 마이크로 소자의 어레이에 대응하는 공융(eutectic) 금속을 가지며, 상기 마이크로 소자의 어레이를 상기 공융 금속에 맞춰 접합하는 단계;
4) 상기 마이크로 소자의 어레이와 상기 공융 금속에 대해 제2 온도에서 공융 처리를 진행하고, 상기 패키징 재료의 반경화 상태를 유지하는 단계;
5) 반경화된 상기 패키징 재료층과 상기 패키징 기판을 압착하여, 상기 패키징 재료층이 상기 마이크로 소자를 피복하도록 하고, 상기 패키징 재료를 완전히 경화시키는 단계; 및
6) 상기 베이스를 제거하는 단계를 포함하는, 마이크로 소자의 패키징 방법.
제1항에 있어서,
상기 패키징 재료층은 실리카 겔을 포함하고, 상기 반경화 처리에서 채용한 상기 제1 온도는 60℃ ~ 150℃에서 선택되며, 상기 완전 경화 온도는 150℃ ~ 200℃인, 마이크로 소자의 패키징 방법.
상기 패키징 재료층은 실리카 겔을 포함하고, 상기 반경화 처리에서 채용한 상기 제1 온도는 60℃ ~ 150℃에서 선택되며, 상기 완전 경화 온도는 150℃ ~ 200℃인, 마이크로 소자의 패키징 방법.
제1항에 있어서,
상기 공융 금속은 AgSnCu 합금 및 AuSn 합금으로 이루어진 군의 1종을 포함하고, 상기 제2 온도는 350℃ 이하인, 마이크로 소자의 패키징 방법.
상기 공융 금속은 AgSnCu 합금 및 AuSn 합금으로 이루어진 군의 1종을 포함하고, 상기 제2 온도는 350℃ 이하인, 마이크로 소자의 패키징 방법.
제3항에 있어서,
상기 마이크로 소자의 어레이와 상기 공융 금속의 공융 처리 시간은 1min 이하이고, 상기 패키징 재료는 350℃ 이하의 온도에서 가열되는 시간이 1min 이하인 조건에서 반경화 상태를 유지하는, 마이크로 소자의 패키징 방법.
상기 마이크로 소자의 어레이와 상기 공융 금속의 공융 처리 시간은 1min 이하이고, 상기 패키징 재료는 350℃ 이하의 온도에서 가열되는 시간이 1min 이하인 조건에서 반경화 상태를 유지하는, 마이크로 소자의 패키징 방법.
제1항에 있어서,
상기 공융 금속은 In 및 BiSn 합금으로 이루어진 군의 1종을 포함하고, 상기 제2 온도는 상기 패키징 재료의 완전 경화 온도 이하인, 마이크로 소자의 패키징 방법.
상기 공융 금속은 In 및 BiSn 합금으로 이루어진 군의 1종을 포함하고, 상기 제2 온도는 상기 패키징 재료의 완전 경화 온도 이하인, 마이크로 소자의 패키징 방법.
제1항에 있어서,
상기 패키징 재료층의 두께는 상기 마이크로 소자와 상기 공융 금속의 전체 두께보다 큰, 마이크로 소자의 패키징 방법.
상기 패키징 재료층의 두께는 상기 마이크로 소자와 상기 공융 금속의 전체 두께보다 큰, 마이크로 소자의 패키징 방법.
제1항에 있어서,
단계 2)에서, 상기 마이크로 소자의 어레이는 상기 패키징 재료층의 점성 표면에 의해 픽업되기 쉽도록 부상형 구조를 이용하는, 마이크로 소자의 패키징 방법.
단계 2)에서, 상기 마이크로 소자의 어레이는 상기 패키징 재료층의 점성 표면에 의해 픽업되기 쉽도록 부상형 구조를 이용하는, 마이크로 소자의 패키징 방법.
제7항에 있어서,
상기 부상형 구조는,
지지층;
상기 지지층 표면에 위치하는 복수의 안정화 포스트; 및
마이크로 소자가 각각 복수의 상기 안정화 포스트에 의해 지지되는 마이크로 소자의 어레이를 포함하는, 마이크로 소자의 패키징 방법.
상기 부상형 구조는,
지지층;
상기 지지층 표면에 위치하는 복수의 안정화 포스트; 및
마이크로 소자가 각각 복수의 상기 안정화 포스트에 의해 지지되는 마이크로 소자의 어레이를 포함하는, 마이크로 소자의 패키징 방법.
제1항에 있어서,
단계 5)에서,
진공 압착 방식을 이용하여 반경화된 상기 패키징 재료층과 상기 패키징 기판을 압착하여, 상기 마이크로 소자의 표면이 상기 패키징 재료에 의해 완전히 피복되도록 하고, 상기 패키징 재료층이 상기 마이크로 소자 사이의 공극을 완전히 채우도록 하는, 마이크로 소자의 패키징 방법.
단계 5)에서,
진공 압착 방식을 이용하여 반경화된 상기 패키징 재료층과 상기 패키징 기판을 압착하여, 상기 마이크로 소자의 표면이 상기 패키징 재료에 의해 완전히 피복되도록 하고, 상기 패키징 재료층이 상기 마이크로 소자 사이의 공극을 완전히 채우도록 하는, 마이크로 소자의 패키징 방법.
제1항에 있어서,
상기 베이스는 스테인리스 베이스이며, 단계 6)에서 상기 스테인리스 베이스를 상기 패키징 재료에서 직접 박리시키는, 마이크로 소자의 패키징 방법.
상기 베이스는 스테인리스 베이스이며, 단계 6)에서 상기 스테인리스 베이스를 상기 패키징 재료에서 직접 박리시키는, 마이크로 소자의 패키징 방법.
제1항에 있어서,
단계 1)에서 베이스를 제공한 후, 상기 베이스 상에 박리층 및 보호층을 차례로 형성하는 단계를 더 포함하고, 이후 상기 보호층상에 패키징 재료층을 형성하고, 단계 6)에서는 먼저 상기 박리층에 기반하여, LLO(laser lift-off) 방식을 이용하여 상기 베이스를 제거한 후, 습식 에칭 방식을 이용하여 상기 보호층을 제거하는, 마이크로 소자의 패키징 방법.
단계 1)에서 베이스를 제공한 후, 상기 베이스 상에 박리층 및 보호층을 차례로 형성하는 단계를 더 포함하고, 이후 상기 보호층상에 패키징 재료층을 형성하고, 단계 6)에서는 먼저 상기 박리층에 기반하여, LLO(laser lift-off) 방식을 이용하여 상기 베이스를 제거한 후, 습식 에칭 방식을 이용하여 상기 보호층을 제거하는, 마이크로 소자의 패키징 방법.
제11항에 있어서,
상기 베이스는 사파이어 베이스를 포함하고, 상기 박리층은 GaN층을 포함하고, 상기 보호층은 ITO층을 포함하는, 마이크로 소자의 패키징 방법.
상기 베이스는 사파이어 베이스를 포함하고, 상기 박리층은 GaN층을 포함하고, 상기 보호층은 ITO층을 포함하는, 마이크로 소자의 패키징 방법.
제1항에 있어서,
상기 마이크로 소자의 어레이는 마이크로 피치 LED어레이를 포함하는, 마이크로 소자의 패키징 방법.
상기 마이크로 소자의 어레이는 마이크로 피치 LED어레이를 포함하는, 마이크로 소자의 패키징 방법.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201711065564.3A CN108039415B (zh) | 2017-11-02 | 2017-11-02 | 微元件的封装方法 |
CN201711065564.3 | 2017-11-02 | ||
PCT/CN2018/087800 WO2019085444A1 (zh) | 2017-11-02 | 2018-05-22 | 微元件的封装方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20200070375A KR20200070375A (ko) | 2020-06-17 |
KR102438404B1 true KR102438404B1 (ko) | 2022-08-30 |
Family
ID=62092655
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020207014916A KR102438404B1 (ko) | 2017-11-02 | 2018-05-22 | 마이크로 소자의 패키징 방법 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11101239B2 (ko) |
JP (1) | JP7082264B2 (ko) |
KR (1) | KR102438404B1 (ko) |
CN (1) | CN108039415B (ko) |
TW (1) | TWI679681B (ko) |
WO (1) | WO2019085444A1 (ko) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108039415B (zh) * | 2017-11-02 | 2019-06-07 | 厦门市三安光电科技有限公司 | 微元件的封装方法 |
CN108682644B (zh) * | 2018-06-15 | 2024-06-21 | 佛山宝芯智能科技有限公司 | 一种半导体无人工全自动流水线作业生产方法和系统 |
US11245051B2 (en) * | 2018-10-12 | 2022-02-08 | Boe Technology Group Co., Ltd. | Micro light emitting diode apparatus and fabricating method thereof |
US11018089B2 (en) * | 2019-01-08 | 2021-05-25 | Innolux Corporation | Display devices and methods for manufacturing the same |
CN109733493B (zh) * | 2019-02-19 | 2021-09-10 | 上海交通大学 | 一种软体爬行吸附机器人 |
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TWI761895B (zh) * | 2020-07-24 | 2022-04-21 | 錼創顯示科技股份有限公司 | 微型電子元件轉移設備以及微型電子元件轉移方法 |
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JP7368749B2 (ja) * | 2021-07-26 | 2023-10-25 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置の製造方法 |
CN114122089B (zh) * | 2021-11-15 | 2024-08-27 | Tcl华星光电技术有限公司 | 有机发光二极管显示面板及其制造方法 |
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TW201130104A (en) * | 2010-02-22 | 2011-09-01 | Chipmos Technologies Inc | Semiconductor structure |
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TWI597786B (zh) * | 2013-12-19 | 2017-09-01 | 矽品精密工業股份有限公司 | 半導體封裝結構及其製法 |
JP2015216229A (ja) | 2014-05-09 | 2015-12-03 | 日東電工株式会社 | 半導体装置の製造方法及び熱硬化性樹脂シート |
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JP6165686B2 (ja) * | 2014-07-31 | 2017-07-19 | 信越化学工業株式会社 | 支持基材付封止材、封止後半導体素子搭載基板、封止後半導体素子形成ウエハ、半導体装置、及び半導体装置の製造方法 |
CN105895539B (zh) * | 2016-06-08 | 2018-08-10 | 华进半导体封装先导技术研发中心有限公司 | 芯片倒装封装中间结构和倒装封装结构及倒装封装方法 |
CN108039415B (zh) * | 2017-11-02 | 2019-06-07 | 厦门市三安光电科技有限公司 | 微元件的封装方法 |
-
2017
- 2017-11-02 CN CN201711065564.3A patent/CN108039415B/zh active Active
-
2018
- 2018-05-22 KR KR1020207014916A patent/KR102438404B1/ko active IP Right Grant
- 2018-05-22 JP JP2020524355A patent/JP7082264B2/ja active Active
- 2018-05-22 WO PCT/CN2018/087800 patent/WO2019085444A1/zh active Application Filing
- 2018-10-23 TW TW107137383A patent/TWI679681B/zh active
-
2020
- 2020-05-01 US US16/865,186 patent/US11101239B2/en active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2017008285A (ja) | 2015-06-04 | 2017-01-12 | 住友ベークライト株式会社 | 樹脂組成物、接着フィルムおよび回路部材の接続方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20200070375A (ko) | 2020-06-17 |
US11101239B2 (en) | 2021-08-24 |
US20200258861A1 (en) | 2020-08-13 |
JP7082264B2 (ja) | 2022-06-08 |
JP2021501995A (ja) | 2021-01-21 |
TW201919105A (zh) | 2019-05-16 |
WO2019085444A1 (zh) | 2019-05-09 |
TWI679681B (zh) | 2019-12-11 |
CN108039415B (zh) | 2019-06-07 |
CN108039415A (zh) | 2018-05-15 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant |