JPS62212379A - Tetrahydrothiazepine derivative - Google Patents
Tetrahydrothiazepine derivativeInfo
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- JPS62212379A JPS62212379A JP5647286A JP5647286A JPS62212379A JP S62212379 A JPS62212379 A JP S62212379A JP 5647286 A JP5647286 A JP 5647286A JP 5647286 A JP5647286 A JP 5647286A JP S62212379 A JPS62212379 A JP S62212379A
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- Nitrogen- Or Sulfur-Containing Heterocyclic Ring Compounds With Rings Of Six Or More Members (AREA)
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
七のW?合成中間体として儒°用なテトラヒドロチアゼ
ピン誘導体に関するものである。[Detailed Description of the Invention] Seven Ws? This invention relates to tetrahydrothiazepine derivatives that can be used as synthetic intermediates.
本発明者等は、血圧降下剤の研究開発を目的として合成
研究を行ない、後記一般式CDを有する新規化合物がア
ンジオテンシン変換酵素に対する阻害活性を有し、筒血
圧症治療剤として有用であることを見出して本発明を完
成した。The present inventors conducted synthetic research for the purpose of research and development of antihypertensive agents, and found that a new compound having the general formula CD described below has inhibitory activity against angiotensin converting enzyme and is useful as a therapeutic agent for cylindrical hypertension. They discovered this and completed the present invention.
本発明は一般式
(式中 R1はアルキA/基、シクロアルキルアルキル
基またはアラルキル基を示し、R2およびR4は同一ま
たは異なって水素原子またはカルボキシ基の保#!!1
基を示し、R3はアリール基または被索堀基を示し、A
は低級アルキレン基を示す。)で表わされる新規なテト
ラヒドロチアゼピン誘導体および七〇薬埋上許容される
塩に関するものである。The present invention relates to the general formula (wherein R1 represents an alkyl A/group, a cycloalkylalkyl group, or an aralkyl group, and R2 and R4 are the same or different and represent a hydrogen atom or a carboxy group!!
group, R3 represents an aryl group or a moat group, A
represents a lower alkylene group. This invention relates to a novel tetrahydrothiazepine derivative represented by
前記一般式CI)で表わされる化合物は、星印(本)で
表わされる位rIL(場合によってはその他の位置)に
不★炭素原子を含有するので、光学的に純粋なジアステ
レオ異性体、ジアステレオ異性体のラセミ体またはジア
ステレオ異性体の混合物が存在し得る。本発明はこれら
立体異性体のいずれの形態も包言することができる。The compound represented by the above general formula CI) contains an un★ carbon atom at the position rIL (in some cases other positions) represented by an asterisk, so it is an optically pure diastereoisomer or diastereoisomer. Racemic stereoisomers or mixtures of diastereoisomers may be present. The present invention can encompass any of these stereoisomeric forms.
次K、前記一般式〔I〕中ノ[e換& R’、 R2,
R’S。Next K, in the general formula [I], [e exchange &R', R2,
R'S.
R4および人について具体的に説明する。R4 and people will be specifically explained.
R1におけるアルキル会としては、 炭素数1乃至9個
のアルキル基であり、例えはメチル。The alkyl group in R1 is an alkyl group having 1 to 9 carbon atoms, such as methyl.
エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イ
ンブチル、tert−ブチル、 ペンチル、ネオペンチ
ル、ヘキシル、オクチル、ノニル等であり、シクロアル
キルアルキル基としては。Examples of cycloalkylalkyl groups include ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, inbutyl, tert-butyl, pentyl, neopentyl, hexyl, octyl, and nonyl.
炭素数5乃至7個のシクロアルキル基な有する炭素数1
乃全2個を有するアルキル基であり、例えはシクロペン
チルメチル、2−シクロペンチルエチル、シクロヘキシ
ルエチル、2−シクロヘキシルエチル、シクロヘプチル
メチル、2−シクロヘプチルエチル等であり、アラルキ
ル基としては例えばベンジル、フェネチル、1−ナフチ
ルメチル、1−ナフチルエチル、2−ナフチルメチル、
2−ナフチルエチル、2−インダニル等があげられる。A cycloalkyl group having 5 to 7 carbon atoms has 1 carbon number
An alkyl group having a total of two atom groups, such as cyclopentylmethyl, 2-cyclopentylethyl, cyclohexylethyl, 2-cyclohexylethyl, cycloheptylmethyl, 2-cycloheptylethyl, etc.; examples of aralkyl groups include benzyl, phenethyl, etc. , 1-naphthylmethyl, 1-naphthylethyl, 2-naphthylmethyl,
Examples include 2-naphthylethyl and 2-indanyl.
これらのシクロアルキル基またはアラルキル基は置換基
を有してもよく、そのような置換基としては、炭素数1
乃至4個の低級アルキル基(例えはメチル、エチル、n
−フロビル、イソプロピル、n−ブチル、インブチル
、ter t−ブチル等)、 炭素数1乃至4個の低級
アルコキシ基(例えはメトキシ、工えはフッ素、塩素、
臭素等)、炭素I!1乃至4個の低級アルキルチオ基(
例えはメチルチオ、エチルチオ等)、があげられ、これ
らの匝挨憂は同一または組合わされて1乃至3個置侠さ
れていてもよい。These cycloalkyl groups or aralkyl groups may have a substituent, and such substituents include those with a carbon number of 1
to 4 lower alkyl groups (e.g. methyl, ethyl, n
-Furovil, isopropyl, n-butyl, imbutyl, tert-butyl, etc.), lower alkoxy groups having 1 to 4 carbon atoms (for example, methoxy, fluorine, chlorine,
bromine, etc.), carbon I! 1 to 4 lower alkylthio groups (
Examples include methylthio, ethylthio, etc.), and 1 to 3 of these may be used the same or in combination.
R2およびR4におけるカルボン酸の保蝕基としては、
有機合成化学において一収に広(知られている保誼基で
あるかまたは薬理学的に生体内においてカルボキシ基に
変換し得るエステル残基のことである。そのような保睦
基としては炭素数1乃至6個のアルキル基(例えばメチ
ル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル
、インブチル、 tert−ブチル、 n−ペンチル
、n−ヘキシル等)、アラルキル基(例え・はベンジル
、ジフェニルメチル、1−インダニル、2−インダニル
、1− (1,2,ふ4−′y″トラヒドロナフチル)
、2− (1,L 3.4−テトラヒドロナフチル)、
フタリジル等)、了り−ル基(例えばフェニル等)、シ
リル基(例えはトリメチルシリル、tert−ブチルジ
メチルシリル等)があげられる。上記保−基には、アル
キル、ハロゲン、ヒドロキシ、アルコキシ、アシルオキ
シ、オキシ、カルボキシ、アルコキシカルボニル、アル
コキシカルボニルオキシ、アシルアミノ、ニトロ、シア
ノ、アミノ、モノアルキルアミノ、ジアルキルアミノ、
アルキルチオ、アリールチオ、アルキルスルホニル、ア
リールスルホニル、2−オキソ−1,3−ジオキソレン
−4−イル基等の置換基が存在してもよく、これらの置
換基は同一または組合わされて1乃至3個置挾されてい
℃もよい。そのような置換基の例としては例えはハロゲ
ンにおいては2.2.2−トリクロルエチル% 2−ヨ
ードエチル等、とドロキシにおいては2−ヒドロキシエ
チル、2.3−ジヒドロキシプロピル等、アルコキシに
おいてはメトキシメチル、2−メトキシエトキシメチル
、p−メトキシベンジル等、アシルオキシにおいてはア
セトキシメチル、1−アセトキシメチル、ピバロイルオ
キシメチル等、オキシにおいてはフェナシル等、アルコ
キシカルボニルにおいてはメトキシカルボニルメチル吟
、アルコキシカルボニルオキシにおいてはエトキシカル
ボニルオキシメチル、1−(エトキシカルボニルオキシ
)エチル等、ニトロにおいてはp−二トロベンジル等、
シアンにおいてはシアンエチル等、アルキルチオにおい
てはメチルチオメチル、エチルチオメチル等、アリール
チオにおいてはフェニルチオメチル等、アルキルスルホ
ニルニオいテハ2−(メタンスルホニル)エチル等、ア
リールスルホニルにおいては2−(ベンゼンスルホニル
)エチル等、2−オキソ−1゜3−ジオキソレン−4−
イルにおいては、(5−メチル−2−オキソ−1,3−
ジオキソレン−4−イル)メチル、(5−フェニル−2
−オキソ−1,3−ジオキソレン−4−イ/I/)メチ
ル等があげられる。これらカルボン酸の保設基は。As the carboxylic acid preservative group in R2 and R4,
It refers to an ester residue that is widely known as a protective group in organic synthetic chemistry or that can be pharmacologically converted into a carboxyl group in vivo.Such a protective group is a carbon Number 1 to 6 alkyl groups (e.g. methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, inbutyl, tert-butyl, n-pentyl, n-hexyl, etc.), aralkyl groups (e.g. benzyl, diphenylmethyl, etc.) , 1-indanyl, 2-indanyl, 1- (1,2, 4-'y''trahydronaphthyl)
, 2-(1,L 3.4-tetrahydronaphthyl),
phthalidyl, etc.), aryl groups (eg, phenyl, etc.), and silyl groups (eg, trimethylsilyl, tert-butyldimethylsilyl, etc.). The above-mentioned carrier groups include alkyl, halogen, hydroxy, alkoxy, acyloxy, oxy, carboxy, alkoxycarbonyl, alkoxycarbonyloxy, acylamino, nitro, cyano, amino, monoalkylamino, dialkylamino,
Substituents such as alkylthio, arylthio, alkylsulfonyl, arylsulfonyl, 2-oxo-1,3-dioxolen-4-yl groups, etc. may be present, and these substituents may be the same or in combination, and may have 1 to 3 substituents. It's sandwiched and the temperature is also good. Examples of such substituents include 2,2,2-trichloroethyl%2-iodoethyl, etc. for halogen, 2-hydroxyethyl, 2,3-dihydroxypropyl, etc. for droxy, and methoxymethyl for alkoxy. , 2-methoxyethoxymethyl, p-methoxybenzyl, etc., acyloxy such as acetoxymethyl, 1-acetoxymethyl, pivaloyloxymethyl, etc., oxy such as phenacyl, alkoxycarbonyl such as methoxycarbonylmethylgin, alkoxycarbonyloxy For nitro, p-nitrobenzyl, etc. are ethoxycarbonyloxymethyl, 1-(ethoxycarbonyloxy)ethyl, etc.
For cyan, cyanethyl, etc. For alkylthio, methylthiomethyl, ethylthiomethyl, etc. For arylthio, phenylthiomethyl, etc. For alkylsulfonyl, 2-(methanesulfonyl)ethyl, etc. For arylsulfonyl, 2-(benzenesulfonyl) Ethyl, etc., 2-oxo-1゜3-dioxolene-4-
In yl, (5-methyl-2-oxo-1,3-
dioxolen-4-yl)methyl, (5-phenyl-2
-oxo-1,3-dioxolene-4-i/I/)methyl, and the like. What are the retention groups of these carboxylic acids?
保極の目的な遅する限りこの発明の要旨を食更すること
な(広範な変化が可能である。It is the object of the present invention not to modify the spirit of this invention as much as possible (extensive variations are possible).
R5のアリール基としては、フェニル、1−ナフチル、
2−ナフチルがあげられ、複素環基としては、置素原子
、酸素原子若しくは硫黄原子を1乃至3個含有する5ま
たは6徊橡素塩基であり、例えばフリル、チェニル、イ
ミダゾリル、チアゾリル、オキサシリル、インオキサシ
リル、1.3.4−オキサジアゾリル、1.3・4−チ
アジアゾリル、ピリジル、ピリダジニル、ピリミジニル
、ピラジニル等があげられる。As the aryl group of R5, phenyl, 1-naphthyl,
Examples of the heterocyclic group include 5- or 6-hydrogen bases containing 1 to 3 atom atoms, oxygen atoms, or sulfur atoms, such as furyl, chenyl, imidazolyl, thiazolyl, oxasilyl, Examples include inoxasilyl, 1,3,4-oxadiazolyl, 1,3,4-thiadiazolyl, pyridyl, pyridazinyl, pyrimidinyl, pyrazinyl, and the like.
これらのアリール基または複素環基は、置換基を有して
いてもよく、そのような置換基としては、炭素数1乃至
4個の低級アルキルイ(例えはメチル、エチル、n−プ
ロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソグチル、te
rt−グチル等)、アリール基(例えばフェニル、ナフ
チル等)があげられる。These aryl groups or heterocyclic groups may have a substituent, and such substituents include lower alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms (for example, methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, te
rt-butyl, etc.), and aryl groups (eg, phenyl, naphthyl, etc.).
Aの低級アルキレン基としては、炭素数1乃至2個のア
ルキレン基であり、例えはメチレン、エチレン、エチ゛
リデン等があげられる。The lower alkylene group of A is an alkylene group having 1 to 2 carbon atoms, such as methylene, ethylene, ethylidene, and the like.
前記一般式[1〕における好適な化合物としては Bl
がn−グチル、インブチル、n−ペンチル、インペンチ
ル、ネオペンチル、n−ヘキシル、インオクチル、n−
オクチル、n−ノニルのような炭素数4乃至9個を有す
るm釦状若しくは分板鎖状のアルキル基、2−シクロペ
ンチルエチル、2−シクロヘキシルエチルのような五員
若しくは六μシクロアルキルエチル券、ベンジル、フェ
ネチル、1−ナフチルメチル、2−ナフチルメチル、1
−ナフチルエチル、2−ナフチルエチル、2−インドリ
ルのような炭素数T乃至12個を有するアラルキル基で
あり。Suitable compounds in the general formula [1] include Bl
is n-butyl, inbutyl, n-pentyl, inpentyl, neopentyl, n-hexyl, inoctyl, n-
M-button-shaped or split-chain alkyl groups having 4 to 9 carbon atoms such as octyl and n-nonyl; 5-membered or 6-μ cycloalkylethyl groups such as 2-cyclopentylethyl and 2-cyclohexylethyl; Benzyl, phenethyl, 1-naphthylmethyl, 2-naphthylmethyl, 1
- An aralkyl group having T to 12 carbon atoms, such as naphthylethyl, 2-naphthylethyl, and 2-indolyl.
R2が水素原子、またはメチル、エチル、 n −プ
ロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、n−
ペンチル、n−へΦシルのような炭素数1乃至6個を有
する直鎖状若しくは分板鎖状のアルキル基、ベンジルの
ようなアラルキル基、アセトキシメチル、ピバロイルオ
キシメチル、フタリジル、1−(エトキシカルボニルオ
キシ)エチル、(5−メチル−2−オキソ−1゜3−ジ
オキソレン−4−イル)メチルのような生体内で容易に
カルボキシ基にf挾し得る保趨基であり、
R3かフェニル、1−ナフチル、2−ナフチル、2−フ
リル、3−フリル、2−チェニル、3−チェニル、3−
メチルチオフェン−2−イル、5−メチルチオフェン−
2−イル、4−チアゾリル、2−メチルチアゾ−/I/
−4−イル、2−フェニルチアゾール−4−イル12−
ピリジル、3−ピリジル、4−ピリジル、ピラジン−2
−イルのようなアリールまたは複本環基であり、人がメ
チレン基であり、
R4が水素原子、 tert−ブチル、メトキシメチ
ル、2.2.2−トリ/ロルエチル、アリル、ベンジル
、p−ニトロベンジル、p−メトキシベンジル、ジフェ
ニルメチルのような有機合成化学において使用するカル
ボキシ基の保験基またはアセトキシメチル、ピバロイル
オキシメチル、1−(エトキシカルボニルオキシ)エチ
ル、フタリジル、(5−メチル−2−オキソ−1,3−
ジオキソレン−4−イル)メチルのような生体内で容易
にカルボキシ基に俊換し得る保腹基である化合物をあげ
ることができる。R2 is a hydrogen atom, or methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, n-
Straight chain or branched chain alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms such as pentyl, n- to Φyl, aralkyl groups such as benzyl, acetoxymethyl, pivaloyloxymethyl, phthalidyl, 1- (Ethoxycarbonyloxy)ethyl, (5-methyl-2-oxo-1゜3-dioxolen-4-yl)methyl, which can be easily attached to a carboxy group in vivo, and R3 or Phenyl, 1-naphthyl, 2-naphthyl, 2-furyl, 3-furyl, 2-chenyl, 3-chenyl, 3-
Methylthiophene-2-yl, 5-methylthiophene-
2-yl, 4-thiazolyl, 2-methylthiazo-/I/
-4-yl, 2-phenylthiazol-4-yl12-
Pyridyl, 3-pyridyl, 4-pyridyl, pyrazine-2
aryl or multicyclic group such as -yl, where R4 is a methylene group, and R4 is a hydrogen atom, tert-butyl, methoxymethyl, 2.2.2-tri/lolethyl, allyl, benzyl, p-nitrobenzyl , p-methoxybenzyl, diphenylmethyl, or acetoxymethyl, pivaloyloxymethyl, 1-(ethoxycarbonyloxy)ethyl, phthalidyl, (5-methyl-2 -oxo-1,3-
Examples include compounds that are stomach-retaining groups that can be easily converted into carboxy groups in vivo, such as dioxolen-4-yl)methyl.
このような本発明の新規化合物CI)は、常法に従って
酸または塩基で処理することにより、薬埋上許谷し得る
塩に質えることができる。このような度付加塩の例とし
ては、無憬酸、例えばハロゲン化水素酸(例えは繊酸、
臭化水素酸等)、硫酸、リン酸および硝酸等の塩、およ
び有*識(例えばシュ’7J、マレイン酸、フマル酸、
龍石酸、クエン酸、メタンスルホン酸およびベンゼンス
ルホン酸等)などによる付加塩があけられる。また塩基
による塩としては、アルカリ金属水酸化物(例えば力性
ソーダ、水酸化カリウム等)、アルカリ土類金属水酸化
物(例えば水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム等)
、水酸化アンモニウム、水酸化アルミニウムおよび有機
塩が(例えばトリエチルアミン、ジシクロヘキシルアミ
ン、シンコニン、グアニジン、キニーネ等)、塩基性ア
ミノ酸(例えばリジン、アルキニン等)などによる塩が
あげられる。The novel compound CI) of the present invention can be converted into a pharmaceutically acceptable salt by treatment with an acid or base according to a conventional method. Examples of such polyaddition salts include non-acidic acids, such as hydrohalic acids (e.g.
hydrobromic acid, etc.), salts of sulfuric acid, phosphoric acid, nitric acid, etc.;
Addition salts such as pyrochloric acid, citric acid, methanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, etc.) are available. In addition, as salts with bases, alkali metal hydroxides (e.g., sodium hydroxide, potassium hydroxide, etc.), alkaline earth metal hydroxides (e.g., calcium hydroxide, magnesium hydroxide, etc.)
, ammonium hydroxide, aluminum hydroxide, organic salts (eg, triethylamine, dicyclohexylamine, cinchonine, guanidine, quinine, etc.), salts with basic amino acids (eg, lysine, alkynine, etc.), and the like.
本発明の前記一般式〔I〕で表わされる具体的化合物と
して、以下に記載する化合物を例示す(式中、R’、
R2,15,R4およびAは前述したものと同意義を示
し、Xはハロゲン原子またはスルホニルオキシ基を示す
。)
一般式〔■〕におけるXのハロゲン原子トしては、塩素
、臭素および沃素があげられ、スルボニルオキシ基とし
てはメタンスルホニルオキシ、エタンスルホニルオキシ
、トリフルオロメタンスルホニルオキシ等のような置換
されているかまたは置換されていない低級アルカンスル
ボニルオキシ基およびペンセンスルホニルオキシ、p−
トルエンスルホニルオキシ、p−ニトロベンセンスルホ
ニルオキシ、m−ニトロベンゼンスルホニルオキシ等の
置換されているがまたは置換されていない芳香族スルホ
ニルオキシ基かあげられる。As specific compounds represented by the general formula [I] of the present invention, the compounds described below are exemplified (in the formula, R',
R2, 15, R4 and A have the same meanings as described above, and X represents a halogen atom or a sulfonyloxy group. ) In the general formula [■], examples of the halogen atom of substituted or unsubstituted lower alkanesulfonyloxy groups and pencenesulfonyloxy, p-
Examples include substituted or unsubstituted aromatic sulfonyloxy groups such as toluenesulfonyloxy, p-nitrobenzenesulfonyloxy, and m-nitrobenzenesulfonyloxy.
化合物〔■〕と化合物〔瓜〕との動台反応は、本反応を
1対置しない適当な溶媒中、塩基の存在下に行なわれる
。溶媒としては、ヘキサン、ベンゼンのような炭化水素
類、ジクロルメタン、1゜2−ジクロルエタンのような
ハロゲン化炭化水素類、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ンのようなエーテル類、酢酸エチルのようなエステル類
、アセトンのようなケトン類、N、N−ジメチルホルム
アミド、N、N−ジメチルアセトアミド、ヘキサメチル
ホスホルアミドのよ5なアミド類、ジメチルスルホキシ
ド等があげられる。使用される塩基としては特に限定は
ないが、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウ
ム等のアルカリ若しくはアルカリ土類金属炭酸塩、Mf
l。The reaction between compound [■] and compound [melon] is carried out in the presence of a base in a suitable solvent that does not support this reaction. Examples of solvents include hydrocarbons such as hexane and benzene, halogenated hydrocarbons such as dichloromethane and 1゜2-dichloroethane, ethers such as tetrahydrofuran and dioxane, esters such as ethyl acetate, and acetone. Examples include ketones, amides such as N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, hexamethylphosphoramide, and dimethylsulfoxide. There are no particular limitations on the base used, but alkali or alkaline earth metal carbonates such as sodium carbonate, potassium carbonate, calcium carbonate, Mf
l.
重炭酸カリウム等のアルカリ金属重炭酸塩、フッ化カリ
ウム、フッ化セシウム等の金属フッ化物、水素化ナトリ
ウム、水素化リチウム等の水素化アルカリ金、属、トリ
エチルアミン、ピリジン、ピコリン、テトラエチルアン
モニウムヒドロキシド等の有機4基があげられる。また
テトラn−ブチルアンモニウムブロマイド、ペンジルト
リエチルアンモニウムヨーダイド等のような相〜j移動
触媒を用い、ジクロルメタン、クロロホルム等のような
水に不浴の溶媒と水との二層系において本反応を行なう
時には、力性ソーダ、力性カリのような水酸化アルカリ
金属を使うこともできる。反応温度は通常0〜120℃
で行われ、反応時間は溶媒、塩基の#を類等によって異
なるが、通常は1時間乃至3日間である。Alkali metal bicarbonates such as potassium bicarbonate, metal fluorides such as potassium fluoride, cesium fluoride, alkali metal hydrides such as sodium hydride, lithium hydride, triethylamine, pyridine, picoline, tetraethylammonium hydroxide. There are four organic groups such as In addition, this reaction can be carried out in a two-layer system of water and a water-insoluble solvent such as dichloromethane, chloroform, etc., using a phase-j transfer catalyst such as tetra-n-butylammonium bromide, penzyltriethylammonium iodide, etc. When doing this, an alkali metal hydroxide such as hydric soda or hydric potash can also be used. Reaction temperature is usually 0-120℃
The reaction time varies depending on the type of solvent and base used, but is usually 1 hour to 3 days.
反応終了後、本反応の目的化合物は常法に従って反応混
合物より採取することができる。例えは反応混合物に酢
酸エチルのような有機溶媒を加え、有機醪媒膚を水で洗
浄し、乾燥後、溶媒を留去することにより得ることがで
き、必要ならは再結晶、カラムクロマトグラフィー等で
精製できる。After completion of the reaction, the target compound of this reaction can be collected from the reaction mixture according to a conventional method. For example, it can be obtained by adding an organic solvent such as ethyl acetate to the reaction mixture, washing the organic mortar with water, drying, and then distilling off the solvent. If necessary, recrystallization, column chromatography, etc. It can be refined with
化合物〔…〕と化合物[N)との反応における還元的条
件としては、例えは白金、ベラジウム、ラネーニッケル
、ロジウム等の金属やそれらとの任意の担体との混合物
を触媒とする接触還元、例えば水素化リチウムアルミニ
ウム、水素化硼素リチウム、水素化シアン硼素ナトリウ
ム、水素化硅素す) IJウム、水素化硼素カリウム等
の水素化金属類による還元、金属す) IJウム、金属
マグネシウム等とメタノール、エタノール等のアルコー
ル類による還元、鉄、亜鉛等の金属と塩酸、酢酸等の酸
による還元等の反応条件をあげることができる。上記反
応は通常水または有機溶媒(例えばメタノール、エタノ
ール、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジオキ
サン、ジクロルメタン、クロロホルム、酢酸エチル、ベ
ンゼン、トルエン、ジメチルホルムアミド、ジメチルア
セトアミド、酢酸等)の存在下に行なわれ、反応温度は
還元手段により異なるが、一般には一20〜100℃程
度が好ましい。Reductive conditions for the reaction between compound [...] and compound [N) include, for example, catalytic reduction using a metal such as platinum, veradium, Raney nickel, rhodium, or a mixture thereof with an arbitrary carrier as a catalyst, such as hydrogen. Lithium aluminum oxide, lithium boron hydride, sodium cyanoboron hydride, silicon hydride) IJium, reduction with metal hydrides such as potassium borohydride, metal magnesium) IJium, metal magnesium, etc. and methanol, ethanol, etc. Examples of reaction conditions include reduction with alcohols, and reduction with metals such as iron and zinc and acids such as hydrochloric acid and acetic acid. The above reaction is usually carried out in the presence of water or an organic solvent (for example, methanol, ethanol, tetrahydrofuran, diethyl ether, dioxane, dichloromethane, chloroform, ethyl acetate, benzene, toluene, dimethylformamide, dimethylacetamide, acetic acid, etc.), and the reaction temperature is varies depending on the reducing means, but is generally preferably about -20 to 100°C.
本反応は常圧で光分目的を達成できるが、場合によって
は加圧あるいは減圧下に反応を行なってもよい。Although the purpose of this reaction can be achieved under normal pressure, the reaction may be carried out under increased pressure or reduced pressure depending on the case.
このようにして製造される化合物CDの内、R2がエス
テル残基、R4が水系原子または塩で示されるモノエス
テルモノカルボン酸化合物およびB2. R4が共に享
索原子または塩であるジカルボン酸は医桑品上重要な化
合物である。上記のモノエステルモノカルボン酸化合物
はR2およびR4がともにエステル残基、基である−奴
式CI〕で示されるジエステル化合物の選択的なエステ
ル残基R4の脱保論により製造できるか、または一般式
CIl”lにおいて84が水素原子であるアミノ酸化合
物とケトエステルcy〕(12&まエステル残基)との
還元的縮合反応により製造できる。Among the compounds CD produced in this way, monoester monocarboxylic acid compounds in which R2 is an ester residue and R4 is an aqueous atom or salt, and B2. Dicarboxylic acids in which both R4's are carboxylic atoms or salts are important compounds in medicine. The above monoester monocarboxylic acid compound can be produced by selective removal of the ester residue R4 of a diester compound represented by the formula CI] in which R2 and R4 are both ester residues or groups, or by general It can be produced by a reductive condensation reaction between an amino acid compound in which 84 is a hydrogen atom in the formula CIl''l and a ketoester cy] (12&m ester residue).
また、上記の82およびR4が共に水素原子であるジカ
ルボン酸化合物は、上記の反応によって得られるジエス
テル化合物またはモノエステル化合物〔I〕を常法に従
って、酸または塩基による加水分解法またはエステル基
の還元的除去法によっても製造することができる。その
反応条件は後述する化合物〔■〕におけるカルボン酸の
保i基R7の脱保護の場合と同様である。In addition, the dicarboxylic acid compound in which both 82 and R4 are hydrogen atoms can be obtained by hydrolyzing the diester compound or monoester compound [I] obtained by the above reaction using an acid or base, or by reducing the ester group. It can also be produced by a target removal method. The reaction conditions are the same as those for the deprotection of the carboxylic acid retaining group R7 in the compound [■] described below.
一般式[11)で表わされる原料化合物、すなわち一般
式
(式中、R3,RAおよびAは前述したものと同意義を
有する。)で表わされる化合物は例えは次に示す反応式
により製造できる。The raw material compound represented by the general formula [11], that is, the compound represented by the general formula (wherein R3, RA and A have the same meanings as described above), can be produced, for example, by the reaction formula shown below.
(式中 13. R4およびAは前述したものと同意義
を有し、R5およびR6は水素原子またはアミノ基の保
護基な示す。)
上記式中、R5およびR6で表わされるアミノ基の保護
基は有様合成化学で一般によく知られている保護基であ
り、例えは2,2.2−)リクロルエトキシカルボニル
、2−ヨードエトキシカtり1)
ルポニル、トリメチルシリルエトキシカルボニル、2−
(p−トルエンスルホニル)エトキシカルボニル、
tert−ブトキシカルボニル、 アリルオキシカルボ
ニル、ベンジルオキシカルボニル、p−メトキシベンジ
ルオキシカルボニル、p−ニトロペンジルオキシカルボ
ニル等のようなアルコキシカルボニル基、ホルミル、ア
セチル、ベンゾイル、クロルアセチル、トリフルオロア
セチル等のアシル基、N−フタロイル、N−2,3−ジ
フェニルマレイニル等の環式ジアシル基、メトキシメチ
ル、ベンジルオキシメチル、ベンジル、3.4−ジメト
キシベンジル、トリチル等のlkmメチル基、イソプロ
ピリデン、ベンジリデン、サリチリデン等のアルキリデ
ンまたはアラルキリデン基、1−メチル−2−アセチル
ビニル、1−メチル−2−ベンゾイルビニル等ノアシル
ビニル基およびトリメチルシリル。(In the formula 13. R4 and A have the same meanings as described above, and R5 and R6 represent a hydrogen atom or a protecting group for an amino group.) In the above formula, a protecting group for an amino group represented by R5 and R6 is a protecting group that is generally well known in general synthetic chemistry, such as 2,2.2-)lychloroethoxycarbonyl, 2-iodoethoxycarbonyl, 2-)luponyl, trimethylsilylethoxycarbonyl, 2-
(p-toluenesulfonyl)ethoxycarbonyl,
Alkoxycarbonyl groups such as tert-butoxycarbonyl, allyloxycarbonyl, benzyloxycarbonyl, p-methoxybenzyloxycarbonyl, p-nitropenzyloxycarbonyl, etc., acyl groups such as formyl, acetyl, benzoyl, chloroacetyl, trifluoroacetyl, etc. , N-phthaloyl, cyclic diacyl groups such as N-2,3-diphenylmaleinyl, lkm methyl groups such as methoxymethyl, benzyloxymethyl, benzyl, 3,4-dimethoxybenzyl, trityl, isopropylidene, benzylidene, salicylidene alkylidene or aralkylidene groups such as, noacylvinyl groups such as 1-methyl-2-acetylvinyl, 1-methyl-2-benzoylvinyl, and trimethylsilyl.
ter t−グチルジメチルシリル等のシリル基などが
あげられるが、これらアミノ基の保護基は、保調の目的
を迫する眠り(l’lら制限するものではない。Examples include silyl groups such as tert-butyldimethylsilyl, but these protecting groups for amino groups are not intended to be limiting.
本反応式の出発化合物〔v〕は、本出願の発明者等によ
り既に出願された製許(特開昭60−215678号お
よび特願昭60−291445号)明細曹に記載されて
いる化合物である。The starting compound [v] of this reaction formula is a compound described in the patent specifications (Japanese Patent Laid-Open No. 60-215678 and Japanese Patent Application No. 60-291445) already filed by the inventors of the present application. be.
化合物[V]のハロゲン化剤による酸化による化合物C
M)の反応は、本反応を阻害しない適当な溶媒中、反応
温度−80′c乃至100℃1反応時間30分乃至24
時間で行われる。本反応で用いられるハロゲン化剤とし
ては次亜塩素c#!1−ブチル、N−クロルサクシイミ
ド、N−ブロムサクシイミド叫があげられ、溶媒として
はn−ヘキサン、シクロヘキサン、ベンセン、トルエン
等の炭化水素類、ジクロルメタン、クロロホルム等のハ
ロゲン化炭化水素類、テトラヒドロフラン、ジオキサン
等のエーテル類、酢はエチル、酢1’1dn−ブチル等
のエステル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセト
アミド等のアミド類があけられる。本反応は例えはピリ
ジン、N −メチルモルホリン、トリエチルアミン、亘
留、炭酸ナトリウム等のような塩基の共存下、反応させ
ることにより化合物〔■〕の収率が向上することがある
。反応終了後、本反応の目的化合物は常法に従って反応
混合物より採取できる。例えは反応混合物に酢酸エチル
またはジクロルメタンのような有機溶媒を加え、有機溶
媒層を水洗体、乾燥し、溶媒を餉云することにより得る
ことができ、必要ならP+結晶、カラムクロマトされる
スルホキシド化合物〔■l’km無水物と力p熱するこ
とによっても製造することができる。Compound C by oxidation of compound [V] with a halogenating agent
The reaction M) is carried out in an appropriate solvent that does not inhibit this reaction, at a reaction temperature of -80'C to 100'C, for a reaction time of 30 minutes to 240°C.
done in time. The halogenating agent used in this reaction is hypochlorine C#! Examples of solvents include 1-butyl, N-chlorosuccinimide, and N-bromsuccinimide; solvents include hydrocarbons such as n-hexane, cyclohexane, benzene, and toluene; halogenated hydrocarbons such as dichloromethane and chloroform; and tetrahydrofuran. , ethers such as dioxane, ethyl vinegar, esters such as 1'1dn-butyl vinegar, and amides such as dimethylformamide and dimethylacetamide. In this reaction, the yield of compound [■] may be improved by carrying out the reaction in the presence of a base such as pyridine, N-methylmorpholine, triethylamine, Wataru, sodium carbonate, etc. After completion of the reaction, the target compound of this reaction can be collected from the reaction mixture according to a conventional method. For example, the sulfoxide compound can be obtained by adding an organic solvent such as ethyl acetate or dichloromethane to the reaction mixture, washing the organic solvent layer with water, drying, and evaporating the solvent. [■ It can also be produced by heating with l'km anhydride.
化合物〔v〕から化合物〔■〕への酸化は、有機合成化
学でよく知られている方法であり、過安息香酸、m−ク
ロル過安息香酸、過酢酸等の過酸を、n−へキサン、シ
クロヘキサン、ベンゼン、ジクロルメタン、クロロホル
ム、テトラヒドロフラン、ジオキサン、酢酸等の溶媒中
で処理することにより行われる。反応温度は一30℃乃
至30℃であり、反応時間は1時間乃至24時間である
。反応終了後、スルホキシド〔■〕は常法に従って反応
混合物より採取できる。例えば反応混合物に酢酸エチル
またはジクロルメタンのような有機溶媒を加え、有機溶
媒層を重四水で洗浄後、乾燥し、溶媒を留去することに
より得ることかでき、必要なら再結晶、カラムクロマト
グラフィーで梢製できる。化合物〔■〕から化合物CI
IIへの酸無水物との加熱による変換は、本質的にブメ
ラー転位として知られている反応と同一であり、用いら
れる代表的な酸無水物は無水酢酸である。本反応は無水
酢酸を溶媒としても用いることができるが、トルエン、
ジオキサン、1.2−ジクロルエタン、ジメチルホルム
アミド、ジメチルアセトアミド等の溶媒を使用してもよ
い。反応温度は80℃乃至150℃であり、反応時間は
1時間乃至24時間である。 目的化合物([1は通常
の方法により反応混合物から採取できることはすでに述
べた。Oxidation of compound [v] to compound [■] is a well-known method in organic synthetic chemistry, in which a peracid such as perbenzoic acid, m-chloroperbenzoic acid, peracetic acid, etc. , cyclohexane, benzene, dichloromethane, chloroform, tetrahydrofuran, dioxane, acetic acid, or the like. The reaction temperature is -30°C to 30°C, and the reaction time is 1 hour to 24 hours. After the reaction is completed, the sulfoxide [■] can be collected from the reaction mixture according to a conventional method. For example, it can be obtained by adding an organic solvent such as ethyl acetate or dichloromethane to the reaction mixture, washing the organic solvent layer with deuterium chloride water, drying, and distilling off the solvent. If necessary, it can be obtained by recrystallization and column chromatography. Can be made from treetops. Compound CI from compound [■]
The conversion to II by heating with an acid anhydride is essentially the same as the reaction known as the Bumeller rearrangement, and the typical acid anhydride used is acetic anhydride. This reaction can use acetic anhydride as a solvent, but toluene,
Solvents such as dioxane, 1,2-dichloroethane, dimethylformamide, dimethylacetamide, etc. may be used. The reaction temperature is 80°C to 150°C, and the reaction time is 1 hour to 24 hours. It has already been mentioned that the target compound ([1] can be collected from the reaction mixture by conventional methods.
化合物〔■〕のB5. B6で表わされるアミノ基の保
諌基の脱保護は、有機合成化学でよく知られている方法
であり、例えば水酸化リチウム、力性ソーダ、水酸化カ
リウム等のアルカリによる脱保護〔例えばR5がトリフ
ルオロアセチル、2−(p−トルエンスルホニル)エト
キシカルボニル、2−メタンスルホニルエトキシカルボ
ニル等〕、塩酸、臭化水素酸、トリフルオロ酢酸、塩化
アルミニワム等の酸による脱保護(例えばR5がter
t−ブトキシカルボニル、p−メトキシベンジルオキシ
カルボニル、トリチル。B5 of compound [■]. Deprotection of the protective group of the amino group represented by B6 is a well-known method in organic synthetic chemistry. (e.g., R5 is
t-butoxycarbonyl, p-methoxybenzyloxycarbonyl, trityl.
tert−ブチルジメチルシリル等)、 亜鉛末−酸に
よる脱保護(例えばR5が2.2.2− )リクロルエ
トキシカルボニル、2−ヨードエトキシカルホニル等)
、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(
O)′ftPB1媒とする脱保護(例えばR5がアリル
オキシカルボニル等)、接触還元による脱保護(例えば
R5がベンジルオキシカルボニル、p−ニトロベンジル
オキシカルボニル等)、ヒドラジン、メチルヒドラジン
寺のヒドラジン類による親株i(例んはR2R6かフタ
ロイル等)などがあげられる。tert-butyldimethylsilyl, etc.), deprotection with zinc dust-acid (for example, R5 is 2.2.2-) lychloroethoxycarbonyl, 2-iodoethoxycarbonyl, etc.)
, tetrakis(triphenylphosphine)palladium (
O)'ftPB1 medium deprotection (e.g., R5 is allyloxycarbonyl, etc.), deprotection by catalytic reduction (e.g., R5 is benzyloxycarbonyl, p-nitrobenzyloxycarbonyl, etc.), hydrazine, methylhydrazine, etc. Examples include parent strain i (for example, R2R6 or phthaloyl).
親株り反応において使用される溶媒は脱保護方法により
異なるが、水、酢酸、ギ酸等の種類、メタノール、エタ
ノール等のアルコール類、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン、アニソール等のエーテル類、アセトン等のケトン
類、ジクロルメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化
水素類、ベンゼン、トルエン等の炭化水素類等が用いら
れる。反応温度および反応時間は脱保護方法により異な
るが、一般に一10℃乃至100℃、30分乃至−登板
である。The solvents used in parent stock reactions vary depending on the deprotection method, but include water, acetic acid, formic acid, etc., alcohols such as methanol and ethanol, ethers such as tetrahydrofuran, dioxane, and anisole, ketones such as acetone, and dichloromethane. , halogenated hydrocarbons such as chloroform, and hydrocarbons such as benzene and toluene. The reaction temperature and reaction time vary depending on the deprotection method, but are generally from -10°C to 100°C for 30 minutes to -100°C.
このようにして製造される一般式〔I〕で衣わされる化
合物は、分子内に小角炭素原子を有するため、初数個の
光学異性体か存在することをすでに述べたが、F9r望
によってはこれらの異性体を別個に製造することもでき
る。すなわち予め光学分割された原料化合物のそれぞれ
一万の光学異性体を用いて上記の反応を行なうことによ
り対応する化合物CI)の光学異性体を得ることができ
る。原料化合物の少くとも一万がラセミ体の場合には、
化合物〔I〕は通常、真性体の混合物として得られるが
、この異性体混合物を所望により妙常の分離方法、例え
ば光学活性塩基(例文ばシンコニン、シンコニジン、キ
ニーネ、キニジン等)、光学活性有機酸(例えば!−カ
ンファースルホン酸、d−カンファースルホン酸等)と
の塩を生成させる方法や、各種のクロマトグラフィー、
分別再結晶等を用いて処理することによってそれぞれの
異性体を分離することもできる。It has already been mentioned that the compound represented by the general formula [I] produced in this way has a small angle carbon atom in the molecule, so it exists in the first few optical isomers. These isomers can also be prepared separately. That is, by carrying out the above reaction using 10,000 optical isomers of each of the raw material compounds that have been optically resolved in advance, the corresponding optical isomers of compound CI) can be obtained. If at least 10,000 of the raw material compounds are racemic,
Compound [I] is usually obtained as a mixture of true isomers, but this isomer mixture can be separated, if desired, by a conventional separation method, such as an optically active base (for example, cinchonine, cinchonidine, quinine, quinidine, etc.), an optically active organic acid, etc. (for example, !-camphorsulfonic acid, d-camphorsulfonic acid, etc.), various chromatography methods,
Each isomer can also be separated by treatment using fractional recrystallization or the like.
発明の効果
本発明の化合物CI]は、アンジオテ/シンlケアンジ
オテンシンlへ変換する酵素(以下、ACEと略す)の
活性を1JE11″4する作用を有する。Effects of the Invention Compound CI of the present invention has the effect of reducing the activity of the enzyme (hereinafter abbreviated as ACE) that converts angiothe/synl to angiotensin l.
アンジオテンシン■は血、圧上奸活性物質であり。Angiotensin ■ is a blood pressure stimulant active substance.
人を含む哺乳動物の昼血圧の原因になる物質として閑製
が屁る。ACKはこのアンジオテンシン■の産生に関与
する他に、血′#仏張因子物質プラジキニンの代謝にも
関与しており、ブラジキニンを不活性**に変換させる
作用を表わす。Fart is a substance that causes daytime blood pressure in mammals including humans. In addition to being involved in the production of angiotensin, ACK is also involved in the metabolism of bradykinin, a blood factor substance, and has the effect of converting bradykinin into an inactive form.
本発明の化合物〔l〕の生理活性の計画は、生体外(i
n vitro )において、ACE活性を50%抑制
するに必要な化合物CI)の一度(工C3o)を例えば
1)0w、 Cushman等CBiochemica
l Pharmaco −10gys 20巻、 1
637頁(1971年)〕の方法によACEおよび基質
としてヒブリルヒスチジルロイシンを、食塩を含むpH
8,3の硼酸綾伽液とし、37″C130分間酵素反応
させた後、IN塩酸で反応を停止させ、生成する馬尿酸
(ヒプリツクアシド)を酢酸エチルで抽出し、ついで酢
酸エチルを留去し、JAwの馬尿酸を水に溶かし、22
8mμにおけるUV吸収率から馬尿酸の童を測定する。The biological activity of the compound [l] of the present invention is planned in vitro (i.
C Biochemica Cushman et al.
l Pharmaco-10gys Volume 20, 1
637 (1971)], ACE and hybril histidyl leucine as a substrate were added to the pH solution containing sodium chloride.
After making an ayaga borate solution of 8,3 and enzymatically reacting at 37"C for 130 minutes, the reaction was stopped with IN hydrochloric acid, the produced hippuric acid was extracted with ethyl acetate, and then the ethyl acetate was distilled off and JAw Dissolve hippuric acid in water, 22
Hippuric acid content is determined from the UV absorption rate at 8 mμ.
この餉°を化合物〔l〕の祷度に、対する白駒としてグ
ラフ表示し、化合物CI)を含まない時に生成する馬尿
酸の半jtt生成させる時の化合物のCI)の一度をグ
ラフから読むことによりI Csoが求められた。この
ようにして求められたIC5oを第1表に示す。By displaying this graph as a white piece against the degree of compound [l], and reading from the graph the half of hippuric acid produced when compound CI) is not included, and the once of CI) of the compound when it is produced, I Cso was determined. The IC5o thus determined is shown in Table 1.
第 1 表
実施例3化合物 3.I X 1G−9従ってAC
E活性を阻害する本発明化合物〔I〕およびその薬理学
的に許容される塩類は、高血圧症の診断、予防または治
療剤として有用である。化合物〔I〕およびその薬理学
的に許容される1類を上記の医薬として用いる場合、そ
れ自体あるいは適宜の薬理学的に許容される担体、賦形
剤、希釈剤等と混合し、散剤、顆粒剤、錠剤、カプセル
剤、庄射剤等の医薬組成物として経口的または非経口的
に投与することができる。Table 1 Example 3 Compound 3. I X 1G-9 Therefore AC
The compound [I] of the present invention and its pharmacologically acceptable salts which inhibit E activity are useful as agents for diagnosis, prevention or treatment of hypertension. When compound [I] and its pharmacologically acceptable class 1 are used as the above-mentioned medicament, they can be prepared by themselves or mixed with appropriate pharmacologically acceptable carriers, excipients, diluents, etc., and prepared as powders, It can be administered orally or parenterally in the form of pharmaceutical compositions such as granules, tablets, capsules, and ejectables.
投与量は対象扶患の状態、投与方法により異なるが、例
えは高血圧症の治療の目的で成人患者に投与する場合、
経口投与では通常1回量0.5〜toooq、とりわけ
約1〜100η程度が、静脈内投与では1目量約0.5
〜100η、とりわけ約0.5〜10■程度が好ましく
、 これらの薬用菫を症状に応じて1日1回乃至3回投
与するのが望ましい。The dosage varies depending on the condition of the patient and the administration method, but for example, when administered to an adult patient for the purpose of treating hypertension,
For oral administration, one dose is usually 0.5 to toooq, particularly about 1 to 100η, and for intravenous administration, one dose is about 0.5
~100η, especially about 0.5~10μ is preferable, and it is desirable to administer these medicinal violets once to three times a day depending on the symptoms.
以下に実施例および参考例を示して本発明をさらに詳細
に説明するが、本発明の範囲はこれらに限定されるもの
ではない。EXAMPLES The present invention will be explained in more detail with reference to Examples and Reference Examples below, but the scope of the present invention is not limited thereto.
実施例1゜
2 (R)−ヒドロキシ−4−フェニル目6酸エチル0
.50 gの無水メチレンクロライド4露を溶故に水浴
で冷却しながら、ピリジン0.191ついでトリフルオ
ロメタンスルホン酸無水物Q、47 mlを1闇加した
口直合物を40分(−件後、シクロヘキサン3.8翼l
を加え、沈澱物を1去した。1液を瀞弊し、残留物を酢
酸エチル−シクロヘキサン1:10を溶媒系とする短い
シリカゲルカラムクロマトグラフィにかけて、4−フェ
ニル−2(R)−トリフルオロメタンスルホニルオキシ
醋酸エチル075gをシロップとして得た。これをα−
[8(R)−アミノ−5−オキソ−4,5,6,7−チ
トラヒドロー2−(2−チェニル) −1,4−チアゼ
ピン−4−イル〕酢酸tert−ブチルエステル0.6
5yとトリエチルアミン0.30−のメチレンクロライ
ド5耐f&液に加え、室温で16時時間化留去後、残留
物を酢酸エチル−シクロヘキサン1:4のシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィでfit Hして、ガム状の目的
化合物1.01Fを慢だ。Example 1゜2 Ethyl (R)-hydroxy-4-phenyl hexate 0
.. While cooling in a water bath to dissolve 50 g of anhydrous methylene chloride, a mixture of 0.191 pyridine and 47 ml of trifluoromethanesulfonic anhydride Q was added for 40 minutes. 3.8 wings l
was added and the precipitate was removed. 1 solution was evaporated, and the residue was subjected to short silica gel column chromatography using a 1:10 ethyl acetate-cyclohexane solvent system to obtain 075 g of ethyl 4-phenyl-2(R)-trifluoromethanesulfonyloxyacetate as a syrup. This is α−
[8(R)-amino-5-oxo-4,5,6,7-titrahydro-2-(2-chenyl)-1,4-thiazepin-4-yl]acetic acid tert-butyl ester 0.6
5y and triethylamine 0.30-methylene chloride was added to a 5-proof solution of methylene chloride, and after evaporation for 16 hours at room temperature, the residue was subjected to fit H on a silica gel column chromatography using ethyl acetate-cyclohexane 1:4 to obtain a gum-like product. The target compound is 1.01F.
〔α]25−296.8°(cl、DMF)。[α] 25-296.8° (cl, DMF).
NMR(CDCj3)δ(ppm) :1.20 (3
H,t、 C02CH2C1i3)。NMR (CDCj3) δ (ppm): 1.20 (3
H, t, C02CH2C1i3).
1.47 (9H,s、 tert−Bu )。1.47 (9H, s, tert-Bu).
1.8−2.2 (2H,m、 PhCH2CH2)。1.8-2.2 (2H, m, PhCH2CH2).
2.3−3.0 (3H,m、 PhCH2CH2
,NH)。2.3-3.0 (3H, m, PhCH2CH2
,NH).
3.0−4.52 C8H,C−14(Co2(4,C
H5)−N。3.0-4.52 C8H,C-14(Co2(4,C
H5)-N.
N−CH2−Co、チアゼピン環6およびT位プロトン
〕。N-CH2-Co, thiazepine ring 6 and T-position proton].
688 (I H# S−チアゼピン環3位プロト
ン)。688 (I H# S-thiazepine ring 3-position proton).
6.8−7.4 (3H,m、 チオフェン環プロト
ン)。6.8-7.4 (3H, m, thiophene ring proton).
7.21 (SR,s、フェニル基プロトン)。7.21 (SR, s, phenyl group proton).
実加j例2
α−(6(R)−[1(S)−エトキシカルボニル−3
−フェニルプロピルアミノ]−S=オキソ−4,5,8
,7−チトラヒドロー2−(2−チェニル’)−1,4
−fアゼピン−4−イル)酢[ter t−ブチルエス
テル1.0gのアニソール5 d溶液にトリフルオロ酢
酸Q mlを加え、室温で3.5時間放酋した。茶色別
色溶液を減圧m動し、残留物を酢酸エチルIQ1111
に浴がし、水18s+lを加え、攪拌しながら1薯を加
えてpH7にした。Actual addition example 2 α-(6(R)-[1(S)-ethoxycarbonyl-3
-phenylpropylamino]-S=oxo-4,5,8
,7-titrahydro-2-(2-chenyl')-1,4
Q ml of trifluoroacetic acid was added to a solution of 1.0 g of tert-butyl ester (f-azepin-4-yl) vinegar in anisole 5d, and the mixture was allowed to stand at room temperature for 3.5 hours. The brown colored solution was moved under reduced pressure, and the residue was dissolved in ethyl acetate IQ1111.
After bathing, 18 s+l of water was added, and while stirring, 1 yam was added to adjust the pH to 7.
5分間(舞″拌後、3N塩酸でpH2,7にして酢酸エ
チルで佃出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒
を留去し、残留物をメタノール−メチレンクロライド1
:20のシリカゲルカラムクロマトグラフィで梢製し、
少量のジクロルメチレンと・ンイソプロビルエーテルか
ら結晶化させて、目的化合物0.311を得た。After stirring for 5 minutes, the pH was adjusted to 2.7 with 3N hydrochloric acid, extracted with ethyl acetate, and dried over anhydrous magnesium sulfate.The solvent was distilled off, and the residue was dissolved in methanol-methylene chloride 1.
: 20 silica gel column chromatography,
Crystallization from a small amount of dichloromethylene and isopropyl ether gave the desired compound 0.311.
融点 146−148℃ 〔α]D−506,1° (C1,DMF)。Melting point: 146-148℃ [α] D-506, 1° (C1, DMF).
NMR(CDCJ3)δ(ppm) :1.16 (3
H,s、 C02CH2C5)。NMR (CDCJ3) δ (ppm): 1.16 (3
H, s, C02CH2C5).
1.6 2.2 (2H,m、 PhCH2CH2)。1.6 2.2 (2H, m, PhCH2CH2).
2.4−λ9 (2H* rn、 PhCH2CH2)
。2.4-λ9 (2H*rn, PhCH2CH2)
.
3.0−4.62 [8H,C−Cf1(Co2CH,
2CH5)−N。3.0-4.62 [8H,C-Cf1(Co2CH,
2CH5)-N.
N−CH2−Co 、 チアゼピン環6およびT位プ
ロトン〕。N-CH2-Co, thiazepine ring 6 and T-position proton].
s、a4(IHe s、チアゼピン環3位プロトン)
。s, a4 (IHe s, proton at 3-position of thiazepine ring)
.
6.7−7.4 (3H,m、 チオフェンがプロ
トン)。6.7-7.4 (3H, m, thiophene is proton).
7.14 (SR,S、フェニル基プロトン)。7.14 (SR, S, phenyl group proton).
実施例λ
α−(s (R) −C1(S)−エトキシカルボニル
−3−フェニルプロピルアミ/]−5−オキソ−4,5
,6,7−チトラヒドロー2−(2−チェニル) −1
,4−+7ゼビンー4−イル)酢酸0.16Fの1N力
性ソーダ水浴液1.8ml溶液を5時間室温で指拌抜、
IN塩酸を加えて、pH2,7K調整した。析出した目
的化合物なr取し、風乾した。収量125 tq!。融
点215−217℃。Example λ α-(s (R) -C1(S)-ethoxycarbonyl-3-phenylpropylami/]-5-oxo-4,5
,6,7-titrahydro-2-(2-chenyl)-1
, 4-+7zebin-4-yl) acetic acid 0.16F in 1N sodium hydroxide water bath solution (1.8 ml) was stirred with fingers at room temperature for 5 hours.
IN hydrochloric acid was added to adjust the pH to 2.7K. The precipitated target compound was collected and air-dried. Yield 125 tq! . Melting point 215-217°C.
〔α]D−517° (CI、DMF)。[α]D-517° (CI, DMF).
NMR(DMSO−d、5 ) δ(ppm) :1
.65 2.0 (21,’m、 PhCH2CH
2)。NMR (DMSO-d, 5) δ (ppm): 1
.. 65 2.0 (21,'m, PhCH2CH
2).
7.4−2.11 (2H,m、 PhCH2CH2)
。7.4-2.11 (2H, m, PhCH2CH2)
.
3G −3,4(2H1rne CM CH2S )。3G -3,4 (2H1rne CM CH2S).
− リ
3.5−4.0 (2H,m、 PhCH2CH2CH
−N、チアゼピン環6位プロトン)。- 3.5-4.0 (2H, m, PhCH2CH2CH
-N, thiazepine ring 6-position proton).
4.24 (2H,ABq、Δδ=0.33ppm、
J=17Hz。4.24 (2H, ABq, Δδ=0.33ppm,
J=17Hz.
N CR2Co L
7.0−7.55 (4H,m、チオフェン域プロト
ン、チアゼピン環3位プロトン)。N CR2Co L 7.0-7.55 (4H, m, thiophene range proton, thiazepine ring 3-position proton).
7.23 (5H,S、 フェニル基プロトン)。7.23 (5H, S, phenyl group proton).
参考例1゜
α−〔5−オキソ−6@)−フタルイミド−2−(2−
−F−エニル)ベルヒドロ−1,4−チアゼピン−4−
イル〕酢酸tert −ブチルエステル2、Ogの無水
メチレンクロライド20 ml 浴故に、塁索ガス気流
中、−50℃で次亜−索@ tert −ブチル0.4
8耐を少しずつ加えた。30分間、−50℃で攪拌後、
室温に尻し、崖1水で洗紗した。Reference example 1゜α-[5-oxo-6@)-phthalimide-2-(2-
-F-enyl)berhydro-1,4-thiazepine-4-
Acetic acid tert-butyl ester 2, Og anhydrous methylene chloride 20 ml.
I added 8 hours little by little. After stirring for 30 minutes at -50°C,
It was brought to room temperature and washed with Kagami 1 water.
無水詭酸マグネシウムで乾燥後、俗媒を餉去し。After drying with anhydrous magnesium sulfate, remove the common medium.
残留物をシクロヘキサン−酢酸エチル2:1を溶媒系と
するシリカゲルカラムクロマトにかけて、ガラス状の目
的化合物0.351を得た。The residue was subjected to silica gel column chromatography using cyclohexane-ethyl acetate 2:1 as a solvent system to obtain 0.351 of the target compound in the form of a glass.
〔α〕甘せ336°(CI、DMF)。[α] Sweet 336° (CI, DMF).
NMR(cpcj5)δ(ppm) :1、aa (9
a、 at tert−Bu )。NMR (cpcj5) δ (ppm): 1, aa (9
a, at tert-Bu).
3.62 (IH,d、d、 J==6.11.5Hz
、 −’AsH−s )。3.62 (IH, d, d, J==6.11.5Hz
, -'AsH-s).
4.15 (2H,S、 N−CH2−Co )。4.15 (2H, S, N-CH2-Co).
4.66 (IH,t、 J=11.5Hz、 −CH
,H−8)。4.66 (IH, t, J=11.5Hz, -CH
, H-8).
s、4s < IH,a、d、 J=6.11.5Hz
、 N−cu−co >。s, 4s < IH, a, d, J=6.11.5Hz
, N-cu-co>.
6.93 (IH,S、>c=cH< )。6.93 (IH, S, >c=cH<).
6.9−7.4 (3Ho me チオ7:17B
lプロトン)。6.9-7.4 (3Home Thio 7:17B
l proton).
7.6−8.0 (AH,m、フタロイル基プロトン
)。7.6-8.0 (AH, m, phthaloyl group proton).
ン考例2゜
α−〔5−オキノー6(R)−フタルイミド−2−(2
−チェニル)ベルヒドロ−1,4−チアゼピン−4−イ
ル] 6酸tert−ブチルエステル2.36 fリメ
チレンクロライド20耐浴叡に一3Q℃で、m−クロル
過安息香酸(純度95%以上)0.879のメチレンク
ロライド30mt浴1を滴加した。1時間(臂拌佐、反
応浴液をl留水で洗浄し、無水懺鈑マグネシウムで乾燥
し、溶媒を留去して、粉末状のα−〔5−オキノー6(
R)−フタル(ミ)’−2−(2−チェニル)ベルヒド
ロ−1,4−チアゼピン−4−イル〕酢酸ter t−
ブチルエステルのS−オキシド2.521を得た。Example 2 α-[5-okino6(R)-phthalimide-2-(2
-thenyl)berhydro-1,4-thiazepin-4-yl] 6-acid tert-butyl ester 2.36 f-rimethylene chloride m-chloroperbenzoic acid (purity 95% or more) A 30 mt bath 1 of 0.879 methylene chloride was added dropwise. The reaction bath was washed with distilled water for 1 hour, dried over anhydrous magnesium, and the solvent was distilled off to obtain powdered α-[5-okino 6(
R)-phthal(mi)'-2-(2-chenyl)berhydro-1,4-thiazepin-4-yl]acetic acid tert-
2.521 S-oxides of butyl esters were obtained.
この化合物0.61を無水酢酸5 mlに浴かし、13
0℃の油浴中、4時間攪拌したのち、溶液を減圧製編し
、残留物をシクロヘキサン−酢酸エチル2:1のシリカ
ゲルカラムクロマトにかけて、ガラス状の固体0.10
fを得た。 この固体の旋光度、NMRスペクトルは参
考例1で得られたもののそれらと一致した。0.61 of this compound was bathed in 5 ml of acetic anhydride, and 13
After stirring for 4 hours in an oil bath at 0°C, the solution was worked up under reduced pressure, and the residue was subjected to silica gel column chromatography using cyclohexane-ethyl acetate 2:1 to obtain a glassy solid of 0.10%.
I got f. The optical rotation and NMR spectrum of this solid matched those obtained in Reference Example 1.
参考例ふ
エステル
α−〔5−オキソ−6(R)−フタルイミド−4,5,
6,7−チトラヒドロー2−(2−チェニル)−1,4
−チアゼピン−4−イル〕酢酸tert−グチルエステ
ル1.42のメタノール2G+w/溶液にヒドラジン・
1水オロ物0.44g+/を加え、室温で4日間攪拌し
た。沈l〜物を戸云し、P液を績給し、残留物を酢酸エ
チル−メタノール10:1 のシリカゲルカラムクロマ
トにかけて、ガム状の目的化合物0.66gを得た。Reference example Phester α-[5-oxo-6(R)-phthalimide-4,5,
6,7-titrahydro-2-(2-chenyl)-1,4
-thiazepin-4-yl] hydrazine/
0.44 g+/ of monohydrate was added, and the mixture was stirred at room temperature for 4 days. The precipitate was removed, P solution was added, and the residue was subjected to silica gel column chromatography using ethyl acetate-methanol (10:1) to obtain 0.66 g of the target compound in the form of a gum.
〔α”)D−517,5°(C1,0,DMF)。[α”) D-517,5° (C1,0, DMF).
NMR(CDcJ3 )δ(ppm) :1.47
(9H,s、 tert−ブチル)。NMR (CDcJ3) δ (ppm): 1.47
(9H,s, tert-butyl).
IJ2 (2H1s、 NH2)。IJ2 (2H1s, NH2).
3.02 (IH,t、 J=IQ、5Hz、 −〇)
I、H−8)。3.02 (IH, t, J=IQ, 5Hz, -〇)
I, H-8).
3.64 (i)t、 d、d、 J=6. IQ、5
Hz、 −CH,H−8)。3.64 (i) t, d, d, J=6. IQ, 5
Hz, -CH,H-8).
、−
4,0Q (Im(、d、d、 J=6. IQ、5H
z、 N−CH−C0)。, - 4,0Q (Im(, d, d, J=6. IQ, 5H
z, N-CH-C0).
4.16 (2H,ABq、Δδ=Q、42 pprn
* J =I T−5Hz IN−0M2−CO)。4.16 (2H, ABq, Δδ=Q, 42 pprn
*J = IT-5Hz IN-0M2-CO).
6、H(IH,s、 ;c=c4’:、 C6,9−7
,4(3I(、S、チオフェン環プロトン)。6, H(IH,s, ;c=c4':, C6,9-7
,4(3I(,S,thiophene ring proton).
−考例4゜
α−C6(R) −tert−ブトキシカルボニルアミ
ノ−5−オキソ−2−(2−チェニル)ベルヒドロ−1
,4−チアゼピン−4−イル〕酢版tert−ブチルエ
ステル500T1gのトルエンIs d浴伶に塁素ガス
気流中、−50℃でN−メチルモルホリン135μ!、
ついで次亜塩素酸tert−、yチル132μjを加え
、−45〜−50℃で3時間、つさ゛に室温で3時間攪
拌した。反応液に酢酸エチルを加え、水洗後、無水蝋酸
マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去した。残留物をシク
ロへキサン−酢酸エチル4:1を溶媒糸とするシリカゲ
ルカラムクロマトにかけて、ガラス状の目的化金物35
7■を得た。- Example 4 α-C6(R) -tert-butoxycarbonylamino-5-oxo-2-(2-chenyl)berhydro-1
, 4-thiazepin-4-yl] vinegar version tert-butyl ester 500T1g in a toluene Isd bath in a chlorine gas stream at -50°C, 135μ of N-methylmorpholine! ,
Then, 132 μj of tert-,y-thiol hypochlorous acid was added, and the mixture was stirred at -45 to -50°C for 3 hours and briefly at room temperature for 3 hours. Ethyl acetate was added to the reaction solution, washed with water, dried over anhydrous magnesium waxate, and the solvent was distilled off. The residue was subjected to silica gel column chromatography using cyclohexane-ethyl acetate 4:1 as a solvent thread to obtain a glassy target metal 35.
I got 7■.
〔α片−603,5°(CI、 DMF)。[α piece -603,5° (CI, DMF).
NMR(CDCJ5)δ(ppm) :1.43 (9
H,s、 tert−nu )el、46 (9)L、
s、 tert−flu )。NMR (CDCJ5) δ (ppm): 1.43 (9
H, s, tert-nu) el, 46 (9) L,
s, tert-flu).
3.13 (IH,t、 J==11t(z、 −〇に
、)I−8)。3.13 (IH, t, J==11t(z, -〇,)I-8).
3.82 (11(、d、d、 J=5.5Hz、 −
C)1,1(−8)。3.82 (11(, d, d, J=5.5Hz, -
C) 1,1(-8).
4.1? (2J ABq、Δδ=0.30ppm、
J=18Hz。4.1? (2J ABq, Δδ=0.30ppm,
J=18Hz.
N−Cユ2−co)。N-C Yu2-co).
4.88 (11I、 d、d、d、 J=5.5.
B、 11Hz。4.88 (11I, d, d, d, J=5.5.
B. 11Hz.
N−C)l−Co )t 5.64 (IH,d、 J=8Hz、 NH)。N-C)l-Co)t 5.64 (IH, d, J=8Hz, NH).
6.82 (1HI S、 〉C=C旦ぐ)I6.
9−7.4 (3H,m、 チオフェン環プロトン)
。6.82 (1HIS, 〉C=Cdangu)I6.
9-7.4 (3H, m, thiophene ring proton)
.
参考例5゜ エステルReference example 5゜ ester
Claims (1)
ル基またはアラルキル基を示し、R^2およびR^4は
同一または異なつて水素原子またはカルボキシ基の保護
基を示し、R^3はアリール基または複素環基を示し、
Aは低級アルキレン基を示す。)を有するテトラヒドロ
チアゼピン誘導体。[Claims] ▲ Numerical formulas, chemical formulas, tables, etc. represents a protecting group for an atom or carboxy group, R^3 represents an aryl group or a heterocyclic group,
A represents a lower alkylene group. ) is a tetrahydrothiazepine derivative.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5647286A JPS62212379A (en) | 1986-03-14 | 1986-03-14 | Tetrahydrothiazepine derivative |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5647286A JPS62212379A (en) | 1986-03-14 | 1986-03-14 | Tetrahydrothiazepine derivative |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62212379A true JPS62212379A (en) | 1987-09-18 |
Family
ID=13028045
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5647286A Pending JPS62212379A (en) | 1986-03-14 | 1986-03-14 | Tetrahydrothiazepine derivative |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62212379A (en) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60215678A (en) * | 1984-04-10 | 1985-10-29 | Sankyo Co Ltd | 6-amino-4-aza-5-oxo-1-thiacycloheptane derivative |
-
1986
- 1986-03-14 JP JP5647286A patent/JPS62212379A/en active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60215678A (en) * | 1984-04-10 | 1985-10-29 | Sankyo Co Ltd | 6-amino-4-aza-5-oxo-1-thiacycloheptane derivative |
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