JPS6131154A - Apparatus for detecting beam shift - Google Patents
Apparatus for detecting beam shiftInfo
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- JPS6131154A JPS6131154A JP15369384A JP15369384A JPS6131154A JP S6131154 A JPS6131154 A JP S6131154A JP 15369384 A JP15369384 A JP 15369384A JP 15369384 A JP15369384 A JP 15369384A JP S6131154 A JPS6131154 A JP S6131154A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、例えば眼科治療用レーザー装置の位置合わせ
に用いられ、焦点合わせ用のエイミングビームと治療用
の主レーザ−ビームとのビームずれを検知するためのビ
ームずれ検知装置に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention is used, for example, to align a laser device for ophthalmic treatment, and is capable of detecting beam deviation between an aiming beam for focusing and a main laser beam for treatment. It is related to the device.
最近、眼科手術用に使用されてきた眼科治療用レーザー
装置は、一般にYAGレーザーのような高エネルギの短
パルス光を治療対象部位に集光し、七の電界によって治
療対象部位の組織を破壊するようにしたものであるが、
より低エネルギで対象組織の破壊とプラズマ発生を促が
して、後部組織への悪影響を除くことが要望されている
。このためには、主レーザ−ビームをより小さなスポッ
ト径に絞り込むことと、その焦点深度をより浅くするこ
とが必要である。Eye treatment laser devices that have recently been used for eye surgery generally focus high-energy, short-pulse light such as a YAG laser on the treatment target area, and destroy the tissue in the treatment target area using an electric field. This is what I did, but
There is a need to destroy target tissues and promote plasma generation with lower energy to eliminate adverse effects on posterior tissues. For this purpose, it is necessary to narrow down the main laser beam to a smaller spot diameter and to make its depth of focus shallower.
従来、治療のための主レーザーとしては、高出力・短パ
ルスのYAGレーザーが一般的に使用されているが、こ
れは目視不可能な光である等の理由からエイミング用に
は不適なため、エイミングビームには可視光であるHe
−Neレーザーが用いられている。そして、治療用の主
レーザ−ビームとエイミングビームとを合致させ、その
内のエイミングビームによって治療対象部位に対するア
ライメントを行った後に、主レーザ−ビームを発光させ
る方式が採られている。この場合に、エイミングビーム
により焦点位置検知が高精度で容易に行えること、エイ
ミングビームと主レーザ−ビームとの合致ずれが無いこ
とが重要な条件となる。Conventionally, high-power, short-pulse YAG lasers have been commonly used as the main laser for treatment, but this is not suitable for aiming because the light is invisible to the naked eye. The aiming beam uses He, which is visible light.
-Ne laser is used. Then, a method is adopted in which the main laser beam for treatment and the aiming beam are made to match, and the aiming beam is used to perform alignment with respect to the treatment target area, and then the main laser beam is emitted. In this case, the important conditions are that the focus position can be easily detected with high precision using the aiming beam, and that there is no misalignment between the aiming beam and the main laser beam.
この中の焦点位置検知については、種々の方法が開発さ
れ実用化されるに至っているが、エイミングビームと主
レーザ−ビームとの合致ずれについては、従来では目視
に近い方法で判断されているに過ぎず、正確にビームず
れを検知することができなかった。Various methods have been developed and put into practical use for detecting the focus position, but conventionally, the mismatch between the aiming beam and the main laser beam has been determined using a method similar to visual inspection. Therefore, it was not possible to accurately detect beam deviation.
本発明の目的は、例えば眼科治療用レーザー装置のエイ
ミングビームと主レーザ−ビームのように、形態の異な
る2種以上のビームを合致させて使用する装置において
、ビームずれを定量的に正確に測定し、それによって適
当な処理ができるようにしたビームずれ検知装置を提供
することにあり、その要旨は、出力形態の異なる2つ以
上のビームを合致させて使用する装置において、ビーム
合致後の光路に配置したビーム位置検出手段と、該ビー
ム位置検出手段中に含まれる位置検知機能を有する光電
変換素子の光電流を積分する積分回路と、異なるビーム
に応じて該積分回路の積分時間を制御する制御回路とを
備えたことを特徴とするものである。An object of the present invention is to quantitatively and accurately measure beam deviation in a device that uses two or more beams of different shapes in alignment, such as the aiming beam and main laser beam of a laser device for ophthalmic treatment. The purpose is to provide a beam deviation detection device that enables appropriate processing.The gist of the device is to provide a beam deviation detection device that can perform appropriate processing. a beam position detecting means disposed in the beam position detecting means, an integrating circuit for integrating a photocurrent of a photoelectric conversion element having a position detecting function included in the beam position detecting means, and controlling an integration time of the integrating circuit according to different beams. The present invention is characterized by comprising a control circuit.
本発明を図示の実施例に基づいて詳細に説明する。The present invention will be explained in detail based on illustrated embodiments.
第1図は本発明を眼科治療用レーザー装置に適用した実
施例を示すものであり、Eは治療を受ける患部であり、
eは施療老眼を表している。この第1図において、対物
レンズlと観察光学系2とで光軸01を有する通常のス
リットランプが構成され、観察光学系2は対物レンズ1
側から像倍率可変光学系3、リレーレンズ4.双眼プリ
ズム5及び接眼レンズ6を有し、観察光学系2の助力に
は施療老眼eを保護するため、レーザービームの反射光
を吸収するフィルタ7が配置されている。FIG. 1 shows an embodiment in which the present invention is applied to a laser device for ophthalmic treatment, where E is the affected area to be treated;
e represents treated presbyopia. In FIG. 1, an ordinary slit lamp having an optical axis 01 is constituted by the objective lens l and the observation optical system 2, and the observation optical system 2 is connected to the objective lens 1.
From the side: variable image magnification optical system 3, relay lens 4. It has a binocular prism 5 and an eyepiece lens 6, and a filter 7 that absorbs the reflected light of the laser beam is arranged to assist the observation optical system 2 in order to protect the treated presbyopia e.
治療のために使用される主レーザ−ビームB1を発射す
る主レーザ−8には、一般にYAGレーザーが使用され
るが、その他の高出力の短パルスが得られるルビー、Y
LF、アレキサンドライトレーザー等も使用することが
できる。また、焦点合わせ用及び位置合わせ用のエイミ
ングを目的とする副レーザ−9には、通常)Is−Ne
レーザーが用いられ、この副レーザ−9から発射される
エイミングビームB2は全反射ミラー10により反射さ
れ、ビーム合致手段11で主レーザ−ビームB1と合致
される。このビーム合致手段11は主レーザ−ビームB
lに対しては数%程度の透過Q残りは反射、エイミング
ビームB2に対しては一部反射のスペクトル特性を持っ
た例えばキューブリフレクタ、ペリクルリフレクタ、ハ
ーフミラ−等が用いられる。The main laser 8 that emits the main laser beam B1 used for treatment is generally a YAG laser, but other lasers such as ruby, Y
LF, alexandrite laser, etc. can also be used. In addition, the sub laser 9 for the purpose of aiming for focusing and positioning is usually) Is-Ne.
A laser is used, and an aiming beam B2 emitted from the sub laser 9 is reflected by a total reflection mirror 10 and matched with the main laser beam B1 by a beam matching means 11. This beam matching means 11 is a main laser beam B.
For example, a cube reflector, a pellicle reflector, a half mirror, etc. is used, which has a spectral characteristic of transmitting Q of about a few percent for 1 and reflecting a portion of the beam for the aiming beam B2.
ビーム合致手段11により合致された合致ビームは、光
軸02上のビーム拡大光学系12によって拡大された後
にフィルタ13を通過し、光軸01上に配置されたダイ
クロイ・、クミラー14で反射され、対物レンズ1によ
って患部Eの治療対像部位Eaに集光される。ここで、
グイクロイックミラー141t主1z−ザービームB1
に対しては全反射、エイミングビームB2に対しては部
分透過、エイミングビームB2以外の可視光に対しては
透過のスペクトル特性を持ったものである。The matched beam matched by the beam matching means 11 is expanded by a beam expansion optical system 12 on the optical axis 02, passes through a filter 13, and is reflected by a dichroic mirror 14 arranged on the optical axis 01. The objective lens 1 focuses the light onto the treatment target area Ea of the affected area E. here,
Guicroic Mirror 141t Main 1z-Ther Beam B1
It has spectral characteristics of total reflection for the aiming beam B2, partial transmission for the aiming beam B2, and transmission for visible light other than the aiming beam B2.
また、フィルタ13はリング状開口を有する固定上板と
、2つ以上の開口を有する回転下板とから成り、かつ主
レーザ−ビームB1に対してはビーム拡大光学系12を
通過する全光束が透過、またエイミングビームB2に対
しては前記2つ以上の開口を通る光束のみが透過するよ
うにしている。ここで、結像点が被検部から外れる程、
前記2つ以上の開口を通過した光束は古きな径の移動軌
跡を持って回転するが、被検部に合致すると移動軌跡は
なくなり、固定点として見えることになる。つまり、対
物レンズ1と観察光学系2とにより患眼Eの治療対象部
位Eaを探し出し、回転して見える複数個のエイミング
ビームB2が1つになり、その回転が消えて停止するよ
うに装置を動かして焦点合わせを行い、その後に主レー
ザ−8をトリガし、散発の主レーザ−ビームB1を発光
させて治療対象部位Eaを破壊するようにしている。The filter 13 consists of a fixed upper plate having a ring-shaped aperture and a rotating lower plate having two or more apertures, and for the main laser beam B1, the total luminous flux passing through the beam expansion optical system 12 is For the aiming beam B2, only the light beams passing through the two or more apertures are transmitted. Here, the farther the imaging point is from the object to be examined, the more
The light flux that has passed through the two or more apertures rotates with a traditional radial locus of movement, but when it coincides with the subject, the locus of movement disappears and it appears as a fixed point. That is, the objective lens 1 and the observation optical system 2 locate the treatment target area Ea of the affected eye E, and the device is configured so that the multiple aiming beams B2 that appear to be rotating become one, and the rotation disappears and stops. After moving and focusing, the main laser 8 is triggered to emit sporadic main laser beams B1 to destroy the treatment target area Ea.
以上は眼科治療用レーザー装置の基本的な構成であるが
1本発明においてはビーム合致手段11によって合致さ
れたエイミングビームB2と主レーザ−ビームBlの各
位置を検知するビーム位置検出手段がビーム合致後の光
学系に設けられている。The above is the basic configuration of the laser device for ophthalmic treatment.1 In the present invention, the beam position detection means detecting each position of the aiming beam B2 and the main laser beam Bl that are matched by the beam matching means 11 is used to match the beams. It is provided in the later optical system.
このビーム位置検出手段の一例として、実施例ではビー
ム合致手段11を透過し、光軸03上に出てくる主レー
ザ−ビームB1のスポット位置を検出する光電変換素子
15、及びこの光電変換素子15に関連する第3図に例
示する回路が用いられている。As an example of this beam position detection means, in the embodiment, a photoelectric conversion element 15 that detects the spot position of the main laser beam B1 that passes through the beam matching means 11 and emerges on the optical axis 03, and this photoelectric conversion element 15 The circuit illustrated in FIG. 3 related to this is used.
光電変換素子15は例えば第2図に示すような四菱状に
分割されたセクション15a〜15dを有し、光軸03
と一致する中心を原点としてx、 y座標をとれば、主
レーザ−8の矢印方向の回転変移が光電変換素子工5上
ではy方向の移動となる。ビーム合致手段llとしてキ
ューブリフレクタ又はペリクルミラーを用いれば、光軸
02上でのビームずれと光軸03上でのビームずれは一
致することになる。The photoelectric conversion element 15 has, for example, sections 15a to 15d divided into four rhomboids as shown in FIG.
If the x and y coordinates are taken with the center coincident with the origin as the origin, the rotational displacement of the main laser 8 in the direction of the arrow becomes a movement in the y direction on the photoelectric conversion element 5. If a cube reflector or a pellicle mirror is used as the beam matching means 11, the beam deviation on the optical axis 02 and the beam deviation on the optical axis 03 will match.
また、ビーム合致手段11として厚みを有するミラーを
用いても、予め補正しておけばビームずれは一致する。Furthermore, even if a thick mirror is used as the beam matching means 11, the beam deviations will match if corrected in advance.
ビーム合致手段11のスペクトル特性はエイミングビー
ムB2と主レーザ−ビーム81のパワー及び光電変換素
子15の感度に応じてその反射透過率を決めることがで
きる。As for the spectral characteristics of the beam matching means 11, its reflection transmittance can be determined according to the powers of the aiming beam B2 and the main laser beam 81 and the sensitivity of the photoelectric conversion element 15.
光電変換素子15によるスポット位置検知原理は従来か
ら広く知られているが、一応その原理を第2図〜第4図
によって説明する。第2図の光電変換素子工5の対称位
置のセクション15aと15c、15bと15dの出力
の差を、各出力Ia、 Ib、Ic、 Idの和で規格
化した値からスポットの座標(x、y)が得られる。な
お、調整時の双方のスポット位置を記憶しておけば、必
ずしも両スポット位置が光電変換素子15上で一致して
いる必要はない、調整時には、他方のビームをブロック
して個別にビーム位置を測定できるが、実際の作動時に
は以下に述べるようにして測定がなされる。即ち、減算
回路16.17でそれぞれ2人力の差1a−1c、 I
b−Idを算出すると共に、加算回路18で4人力の和
1a+ Ib+ Ic+ Idを算出し、それぞれ積分
・サンプルホールド回路19゜20.21へ出力する。Although the principle of spot position detection using the photoelectric conversion element 15 has been widely known, the principle will be explained with reference to FIGS. 2 to 4. The spot coordinates (x, y) is obtained. Note that if both spot positions are memorized during adjustment, it is not necessary that the two spot positions match on the photoelectric conversion element 15. During adjustment, the other beam can be blocked and the beam positions can be determined individually. However, during actual operation, measurements are performed as described below. That is, the difference in the power of two people 1a-1c, I in the subtraction circuits 16 and 17, respectively.
At the same time as calculating b-Id, the addition circuit 18 calculates the sum of the four human forces 1a+Ib+Ic+Id, and outputs them to the integral/sample hold circuit 19°20.21.
ここで後に詳述するように、積分期間はエイミングビー
ム82と主レーザ−ビームBlとで異なる時間幅とする
が、この時間幅はタイミングコントローラ22からの信
号Sによって制御される。As will be described in detail later, the integration period has different time widths for the aiming beam 82 and the main laser beam B1, and this time width is controlled by the signal S from the timing controller 22.
積分・サンプルホールド回路19.20.21でボール
ドされた出力は、マルチプレクサ23で時系列化され、
A/D変換回路24でデジタル信号に変換されCPU2
5に取り込まれる。CPU25では演算判別処理が行わ
れ、その結果が表示装置26により表示される。その表
示方法としては、ビームの絶対位置、ビームの調整時か
らのずれ、2つのビームB1、B2の相対的なずれ、そ
の相対的なずれの経時変化或いは相対的ずれの基準値を
超えた場合の警告表示等、様々な形態を採ることができ
る。The bolded outputs of the integration/sample-and-hold circuits 19, 20, and 21 are converted into time series by the multiplexer 23,
It is converted into a digital signal by the A/D conversion circuit 24 and sent to the CPU 2.
It will be incorporated into 5. The CPU 25 performs calculation and determination processing, and the result is displayed on the display device 26. The display methods include the absolute position of the beam, the deviation from the time of beam adjustment, the relative deviation of the two beams B1 and B2, the change over time of the relative deviation, or the case where the relative deviation exceeds the reference value. This can take various forms, such as a warning display.
第4図は各出力の総和の!%披形の例を示すものであり
、エイミングビームB2のパワーPaと主レーザ−ビー
ムB1のパワーpマとはレベルが108程度異なる。ま
た、エイミングビームB2が連続光であるのに対し、主
レーザーど−ムB1はパルス幅が10−8秒程度のパル
ス光で短発と見なせる光である。そのために、ビームB
1. B2に対しては同じ回路を用いて同程度のS/N
で測定するには、光電変換素子15の出力を積分し、そ
の出力を同程度の大きさとする必要があり、これは端分
時開丁aとTYをビームBl、 B2のパワー比程変に
選択中ればよい。Figure 4 shows the sum of each output! This shows an example of a %radial shape, and the power Pa of the aiming beam B2 and the power Pma of the main laser beam B1 differ by about 108 in level. Furthermore, while the aiming beam B2 is a continuous beam, the main laser beam B1 is a pulsed beam with a pulse width of about 10@-8 seconds, which can be considered to be a short emitted beam. For that purpose, beam B
1. For B2, the same circuit is used and the S/N is the same.
To measure this, it is necessary to integrate the output of the photoelectric conversion element 15 and make the outputs similar in magnitude. It is fine as long as it is selected.
タイミングコントローラ22はCPU25の指令を受け
て各回路へタイミングパルスを与えるが、通常光電変換
素子15はエイミングビームB2をモニタしているので
、タイミングコントローラ22の信号Sはエイミングビ
ームB2の積分時間Taとなっている。主レーザ−ビー
ムBlを発光させる指令を受けたとき、主レーザ−ビー
ムBlの発光のための143図に示す回路27に第4図
に示すようにトリガ信号tを出力した後、信号Sを積分
時間TVに変更する。そして、エイミングビームB2と
主レーザ−ビームBlとで時間的に分離した測定を行う
のである。The timing controller 22 receives a command from the CPU 25 and gives a timing pulse to each circuit, but since the photoelectric conversion element 15 normally monitors the aiming beam B2, the signal S from the timing controller 22 is equal to the integration time Ta of the aiming beam B2. It has become. When a command to emit the main laser beam Bl is received, a trigger signal t is output as shown in Fig. 4 to the circuit 27 shown in Fig. 143 for emitting the main laser beam Bl, and then the signal S is integrated. Change to time TV. Then, the aiming beam B2 and the main laser beam B1 are measured separately in time.
以上に述べた実施例では、四菱状に分割された光電変換
素子15による位置検知例を示したが、光電変換素子1
5の代りに位置検知機能を有する例えばポジションセン
サとか二次元COD等を用いてもよい。In the embodiment described above, an example of position detection using the photoelectric conversion element 15 divided into four rhomboids was shown, but the photoelectric conversion element 1
For example, a position sensor or a two-dimensional COD having a position detection function may be used instead of the sensor 5.
第5図は第2の実施例を示すものであり、ここで第1図
と同一の符号は同−又は同等の部材を表している。この
実施例では、ビーム合致手段11による合致後に、光軸
02上に配置された別のハーフミラ−28を用いて光の
一部を光電変換素子15へ導くようにしている。この場
合に、ビーム合致手段11はエイミングビームB2を透
過、主レーザ−ビームBlを全反射する特性のもの、ま
たハーフミラ−28は両者を部分反射する特性のものが
用いられる。通常、ビームの合致はミラー10及びビー
ム合致手段11を回転して調整されるが、第5図におい
ては第1図の場合に比較し、てビーム合致手段11の回
転によるエイミングビームB2の偏位が小さいため、調
整し易いという利点を有している。FIG. 5 shows a second embodiment, in which the same reference numerals as in FIG. 1 represent the same or equivalent members. In this embodiment, after matching by the beam matching means 11, a part of the light is guided to the photoelectric conversion element 15 using another half mirror 28 arranged on the optical axis 02. In this case, the beam matching means 11 has a characteristic of transmitting the aiming beam B2 and totally reflecting the main laser beam B1, and the half mirror 28 has a characteristic of partially reflecting both beams. Normally, beam matching is adjusted by rotating the mirror 10 and the beam matching means 11, but in FIG. 5, compared to the case of FIG. Since it is small, it has the advantage of being easy to adjust.
また第1図、第5図の実施例において、ミラー10及び
ビーム合致手段11を電動調整ir能な機構にすれば、
両ビームB1、B2のずれに応じて得られるずれ情報に
よって、これらを回動してずれの自動補正が可能になる
。光電変換素子15−Fでのビームスポットのずれ量は
、そのずれの原因となった部分から光電変換素子15ま
での距離に依存するから、装置をコンパクトにまとめる
ためには、ビーム合致手段11又はハーフミラ−28が
ら光電変換素子15に至るまでの距離を大きくすること
ができず、充分な分解能が得られなくなる可能性がある
。Furthermore, in the embodiments shown in FIGS. 1 and 5, if the mirror 10 and the beam matching means 11 are electrically adjustable mechanisms,
By using the displacement information obtained according to the displacement of both beams B1 and B2, it is possible to automatically correct the displacement by rotating these beams. Since the amount of deviation of the beam spot in the photoelectric conversion element 15-F depends on the distance from the part that caused the deviation to the photoelectric conversion element 15, in order to make the device compact, it is necessary to The distance from the half mirror 28 to the photoelectric conversion element 15 cannot be increased, and there is a possibility that sufficient resolution cannot be obtained.
この問題を改善するためには、第6図に示すようにビー
ム合致手段11又はハーフミラ−28と光電変換素子1
5の間に縮小光学系29を配置すれば、ずれ角αはβに
拡大されるから、分解能を上げて距離りを縮小すること
ができる。この場合に、α/β=縮小率の関係となる。In order to improve this problem, as shown in FIG.
If the reduction optical system 29 is disposed between the angles 5 and 5, the deviation angle α is enlarged to β, so that the resolution can be increased and the distance can be reduced. In this case, the relationship α/β=reduction ratio is established.
更に、光電変換素子15で得られる出力の総和1a+
Ic+ Ib+ Idはビームの出力に比例するため、
ビームの出力エネルギのモニタとしても利用することが
できる。Furthermore, the total output 1a+ obtained by the photoelectric conversion element 15
Since Ic+ Ib+ Id is proportional to the beam output,
It can also be used to monitor the beam output energy.
以上に示す実施例は本発明を眼科治療用レーザー装置に
適用した場合を示したが、一般的には2種以上の出力形
態、例えばパルスと連続光、或いはパルス光同志であれ
ばそのパルス幅やタイミングの異なるビームを合致させ
て使用する種々の装置に本発明を適用できることは云う
までもない。The embodiments described above show the case where the present invention is applied to a laser device for ophthalmic treatment, but generally two or more types of output formats are used, for example, pulsed light and continuous light, or if the pulsed light is both pulsed light, the pulse width It goes without saying that the present invention can be applied to various devices that use beams with different timings.
このように本発明に係るビームずれ検知装置によれば、
例えば眼科治療用レーザー装置においてエイミングビー
ムと主レーザ−ビームとのビームずれの程度を定量的に
正確に検知することができ、その結果として自動的にビ
ームずれに関する判断が可能となる。例えば、経時変化
や装置が受けた振動等によって生ずるビームずれをモニ
タして警告を与えたり、或いはビーム合致用のミラーや
ビーム合致手段を電動調整して、ビームずれを自動補正
することも可能である。As described above, according to the beam shift detection device according to the present invention,
For example, in a laser device for ophthalmic treatment, the degree of beam deviation between the aiming beam and the main laser beam can be quantitatively and accurately detected, and as a result, it becomes possible to automatically determine the beam deviation. For example, it is possible to monitor and issue a warning for beam deviations caused by changes over time or vibrations received by the device, or to automatically correct beam deviations by electrically adjusting the beam matching mirror or beam matching means. be.
図面は本発明に係るビームずれ検知装置の実施例を示す
ものであり、第1図は第1の実施例の光学系配置図、第
2図は光電変換素子の正面図、第3図は電気回路のブロ
ック回路構成図、第4図は出力波形図、第5図、第6図
はそれぞれ他の実施例の要部構成図である。
符号1は対物レンズ、2は観察光学系、8は主レーザ−
,9は副レーザ−,10は全反射ミラー、11はビーム
合致手段、12はビーム拡大光学系、13はフィルタ、
14はグイクロックミラー、15は光電変換素子、19
.20.21は積分書サンプルホールド回路、22はタ
イミングコントローラ、23はマルチプレクサ、24は
A/D変換回路、25はCPU、26は表示装置、28
はハーフミラ−129は縮小光学系である。
特許出願人 キャノン株式会社
第1図
第2図The drawings show an embodiment of the beam shift detection device according to the present invention, and FIG. 1 is an optical system layout diagram of the first embodiment, FIG. 2 is a front view of a photoelectric conversion element, and FIG. 3 is an electrical FIG. 4 is a block circuit diagram of the circuit, FIG. 4 is an output waveform diagram, and FIGS. 5 and 6 are diagrams of essential parts of other embodiments. Reference numeral 1 is an objective lens, 2 is an observation optical system, and 8 is a main laser.
, 9 is a sub laser, 10 is a total reflection mirror, 11 is a beam matching means, 12 is a beam expansion optical system, 13 is a filter,
14 is a quick clock mirror, 15 is a photoelectric conversion element, 19
.. 20. 21 is an integral book sample hold circuit, 22 is a timing controller, 23 is a multiplexer, 24 is an A/D conversion circuit, 25 is a CPU, 26 is a display device, 28
The half mirror 129 is a reduction optical system. Patent applicant Canon Co., Ltd. Figure 1 Figure 2
Claims (1)
用する装置において、ビーム合致後の光路に配置したビ
ーム位置検出手段と、該ビーム位置検出手段中に含まれ
る位置検知機能を有する光電変換素子の光電流を積分す
る積分回路と、異なるビームに応じて該積分回路の積分
時間を制御する制御回路とを備えたことを特徴とするビ
ームずれ検知装置。 2、前記ビーム合致手段と前記ビーム位置検出手段との
間にビームずれ拡大手段を配置した特許請求の範囲第1
項に記載のビームずれ検知装置。 3、前記ビーム位置検出手段がビームエネルギ検知手段
を兼ねるようにした特許請求の範囲第1項に記載のビー
ムずれ検知装置。[Claims] 1. In a device that uses two or more beams with different output formats by matching them, a beam position detecting means disposed in the optical path after the beams match, and a position included in the beam position detecting means. A beam shift detection device comprising: an integrating circuit that integrates a photocurrent of a photoelectric conversion element having a detection function; and a control circuit that controls the integration time of the integrating circuit according to different beams. 2. Claim 1, wherein a beam deviation enlarging means is disposed between the beam matching means and the beam position detecting means.
Beam deviation detection device described in . 3. The beam shift detection device according to claim 1, wherein the beam position detection means also serves as beam energy detection means.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15369384A JPS6131154A (en) | 1984-07-24 | 1984-07-24 | Apparatus for detecting beam shift |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15369384A JPS6131154A (en) | 1984-07-24 | 1984-07-24 | Apparatus for detecting beam shift |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6131154A true JPS6131154A (en) | 1986-02-13 |
Family
ID=15568069
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15369384A Pending JPS6131154A (en) | 1984-07-24 | 1984-07-24 | Apparatus for detecting beam shift |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6131154A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008505696A (en) * | 2004-07-09 | 2008-02-28 | ヴィスクス インコーポレイテッド | Laser pulse position monitor for scanning laser eye surgery equipment |
-
1984
- 1984-07-24 JP JP15369384A patent/JPS6131154A/en active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008505696A (en) * | 2004-07-09 | 2008-02-28 | ヴィスクス インコーポレイテッド | Laser pulse position monitor for scanning laser eye surgery equipment |
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