JPS61263982A - 3,3−ジメチル−スピロ〔インドリノ−2,3′−ナフト〔2,1−b〕(1,4)オキサジン〕系化合物 - Google Patents
3,3−ジメチル−スピロ〔インドリノ−2,3′−ナフト〔2,1−b〕(1,4)オキサジン〕系化合物Info
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- JPS61263982A JPS61263982A JP60012191A JP1219185A JPS61263982A JP S61263982 A JPS61263982 A JP S61263982A JP 60012191 A JP60012191 A JP 60012191A JP 1219185 A JP1219185 A JP 1219185A JP S61263982 A JPS61263982 A JP S61263982A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D513/00—Heterocyclic compounds containing in the condensed system at least one hetero ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for in groups C07D463/00, C07D477/00 or C07D499/00 - C07D507/00
- C07D513/02—Heterocyclic compounds containing in the condensed system at least one hetero ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for in groups C07D463/00, C07D477/00 or C07D499/00 - C07D507/00 in which the condensed system contains two hetero rings
- C07D513/10—Spiro-condensed systems
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/685—Compositions containing spiro-condensed pyran compounds or derivatives thereof, as photosensitive substances
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
- Electrochromic Elements, Electrophoresis, Or Variable Reflection Or Absorption Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、新規な3,3−ジメチル−スピロ〔インドリ
ノーコ、3′−ナフト[u、/−bl(/。
ノーコ、3′−ナフト[u、/−bl(/。
ダ)オキサジン〕系化合物に関するものである。
絆しくは、容積の記録・記憶材料、複写材料、印刷感光
体、レーザー用感光材料、写真植写用感光材料あるいは
光学フィルター、マスキング用材料、光蓄針、ディスプ
レイ用材料として使用し得るフォトクロミック性を壱す
る新規な化合物に関するものである。
体、レーザー用感光材料、写真植写用感光材料あるいは
光学フィルター、マスキング用材料、光蓄針、ディスプ
レイ用材料として使用し得るフォトクロミック性を壱す
る新規な化合物に関するものである。
スピロナフトオキサジン化合物が光の照射により発色又
は消色するフォトクロミック性を有することは知られて
おり、これを使用したフォトクロ2ツク感光駒科が袖々
提案されてしる。
は消色するフォトクロミック性を有することは知られて
おり、これを使用したフォトクロ2ツク感光駒科が袖々
提案されてしる。
例えは、特公昭にオー。2ど♂?−号には、次式の様な
スピロナフトオキサジン系化合物を含有するフォトクロ
ンツク材料が提案されている。
スピロナフトオキサジン系化合物を含有するフォトクロ
ンツク材料が提案されている。
(式中、Uaけ水素原子、・・ロゲン原子、シアノ基、
炭素数/〜lのアルギル基普たはアルコキシ基を示す。
炭素数/〜lのアルギル基普たはアルコキシ基を示す。
)
また、特公昭V2−グJ″t3/号には、次式の様なス
ピロナフトオキサジン糸化合物を渦分子物質中に分散さ
せたフォトクロミック感光材料が提案されている。
ピロナフトオキサジン糸化合物を渦分子物質中に分散さ
せたフォトクロミック感光材料が提案されている。
R″′
(式中、abは+OH,+n0OOH,+OH,−)n
ON jたは+OH1+。0OOR(Rは炭素数/〜
!のアルキル基);RoおよびR6は炭素数7〜jのア
ルキル基:R8け水素原子、炭素数7〜5個のアルキル
基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアン基、炭素数−〜3
個のアルコキシカルボニル基または炭素数/−j個のア
ルコキシ基を示す。) また、特開昭61−jご、2と7号には、次式の様なフ
ォトクロミック化合物が提案されている。
ON jたは+OH1+。0OOR(Rは炭素数/〜
!のアルキル基);RoおよびR6は炭素数7〜jのア
ルキル基:R8け水素原子、炭素数7〜5個のアルキル
基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアン基、炭素数−〜3
個のアルコキシカルボニル基または炭素数/−j個のア
ルコキシ基を示す。) また、特開昭61−jご、2と7号には、次式の様なフ
ォトクロミック化合物が提案されている。
an。
低級アルキル、低級アルコキシ、又はハロゲンを示す。
)
また、USP グ83ダ一、6に♂には、次式の様なフ
ォトクロミック化合物が提案されている。
ォトクロミック化合物が提案されている。
h”1
(式中、RjとRkの一つはハロゲン又は低級アルコキ
シで、他の一つは水素、また R1とR′″は水素、低
級アルキル、低級アルコキ7、又はハロゲンを示し、♂
け炭素数−から/θまでのアルキル基を示す。) 通常、フォトクロミック感光材料は、上述の様に高分子
化合物にスピロナフトオキサジン化合物を分散させた奄
のをフィルム状に製膜して使用される。
シで、他の一つは水素、また R1とR′″は水素、低
級アルキル、低級アルコキ7、又はハロゲンを示し、♂
け炭素数−から/θまでのアルキル基を示す。) 通常、フォトクロミック感光材料は、上述の様に高分子
化合物にスピロナフトオキサジン化合物を分散させた奄
のをフィルム状に製膜して使用される。
しかし、従来のスピロナフトオキサジン化合物の場合、
高分子化合物に幻する和解性・婢解性が必ずしも十分で
はな込ので、スピロナフトオキサジン化合物の漉度をあ
まり高くできず、従って、コントラストが良好で大きな
発色濃度−4= を示すフォトクロミック感光材料が得られない。
高分子化合物に幻する和解性・婢解性が必ずしも十分で
はな込ので、スピロナフトオキサジン化合物の漉度をあ
まり高くできず、従って、コントラストが良好で大きな
発色濃度−4= を示すフォトクロミック感光材料が得られない。
すなわち、本発明は、一般式〔■〕
(0,H,0)nR1
(式中、nは/〜ダの整数を衆わし、R1はアルキル基
を示し、R2、R3、R′、R5け水素原子、)・ロゲ
ン原子、アルキル基、アルコキシ基またはアルコキシカ
ルボニル基を示す。) で表わされる3、3−ジメチル−スピロ〔インドリノー
コ、3′−ナフト[,2,/ −1) :] (/β)
オキサジン〕重化合物に存する。
を示し、R2、R3、R′、R5け水素原子、)・ロゲ
ン原子、アルキル基、アルコキシ基またはアルコキシカ
ルボニル基を示す。) で表わされる3、3−ジメチル−スピロ〔インドリノー
コ、3′−ナフト[,2,/ −1) :] (/β)
オキサジン〕重化合物に存する。
本発明のスピロナフトオキサジン糸化合物は前記一般式
〔I〕で衣わされるものである。
〔I〕で衣わされるものである。
□式中 R1は0.〜1.のアルキル基等のアルキル基
を示し、R2、R1、R′、R5は水率原子;塩素原子
、臭素原子、ヨウ素原子等のノ・ロゲン原子;01〜.
のアルキル基等のアルキル基; 0□〜、のアルコキシ
基尋のアルコキシ基、または、OI〜6のアルコキシカ
ルボニル基等のアルコキシカルボニル基を示す。
を示し、R2、R1、R′、R5は水率原子;塩素原子
、臭素原子、ヨウ素原子等のノ・ロゲン原子;01〜.
のアルキル基等のアルキル基; 0□〜、のアルコキシ
基尋のアルコキシ基、または、OI〜6のアルコキシカ
ルボニル基等のアルコキシカルボニル基を示す。
本発明の化合物は、例えば、次のようにして製造するこ
とがでさる。すなわち、下記一般式[11 (式中、R2及びHaは前記定義に同じ。)で表わされ
る一、!、! −)リメチルインドレニン肪尋体に下記
一般式[111〕 (式中 R1及びnは前記定義に同じ。)で表わされる
p−)ルエンスルホン酸エステル[1応させ、次すで下
記一般式[IV) (式中 R4及びR6は前記定義に同じ。)で衣わされ
る/−ニトロソーコーナフトール誘導体を反応させるこ
とによって製造することができる。
とがでさる。すなわち、下記一般式[11 (式中、R2及びHaは前記定義に同じ。)で表わされ
る一、!、! −)リメチルインドレニン肪尋体に下記
一般式[111〕 (式中 R1及びnは前記定義に同じ。)で表わされる
p−)ルエンスルホン酸エステル[1応させ、次すで下
記一般式[IV) (式中 R4及びR6は前記定義に同じ。)で衣わされ
る/−ニトロソーコーナフトール誘導体を反応させるこ
とによって製造することができる。
p−)ルエンスルポン酸エステルによるフルキル化反応
は無溶媒あるいはクロロベンゼン、ジクロロベンゼンな
どの芳香族系溶媒などの非極性情媒中、10〜−00℃
の反応温度で実施される。好ましくは無溶媒で73θ〜
/!θ℃で円滑に実施できる。
は無溶媒あるいはクロロベンゼン、ジクロロベンゼンな
どの芳香族系溶媒などの非極性情媒中、10〜−00℃
の反応温度で実施される。好ましくは無溶媒で73θ〜
/!θ℃で円滑に実施できる。
次いで、/−ニトロソ一一−ナフトール誘導体との反応
は、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン等の塩基性触
媒の存在下、メタノール、エタノール、プロパツール、
ブ・タノールなどのアルコール系溶媒、アセトン、メチ
ルエチルケトンなどのケトン系溶媒、ジクロロメタン、
ト−マ − リクロpエタンなどのハロゲン化炭化水系系溶媒などの
極性又は非極性の溶媒の存在下に実施される。反応温度
はo−,2oocの範囲で実施される。好ましくは、エ
タノール、メチルエチルケトン、アセトン中、ピペリジ
ン触媒の存在下yo℃〜/、20℃で円滑に実施できる
。
は、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン等の塩基性触
媒の存在下、メタノール、エタノール、プロパツール、
ブ・タノールなどのアルコール系溶媒、アセトン、メチ
ルエチルケトンなどのケトン系溶媒、ジクロロメタン、
ト−マ − リクロpエタンなどのハロゲン化炭化水系系溶媒などの
極性又は非極性の溶媒の存在下に実施される。反応温度
はo−,2oocの範囲で実施される。好ましくは、エ
タノール、メチルエチルケトン、アセトン中、ピペリジ
ン触媒の存在下yo℃〜/、20℃で円滑に実施できる
。
本発明の化合物は、例えば、次のようにしても!Ill
造することができる。すなわち、下記一般式〔■〕 (式中、R1、R2、R8及び、nは前記定義に同IA
)で衆わされる化合物と下記一般式[VI]N。
造することができる。すなわち、下記一般式〔■〕 (式中、R1、R2、R8及び、nは前記定義に同IA
)で衆わされる化合物と下記一般式[VI]N。
(式中、R4及びR5は前記定義に同じ。)で表わされ
る/−ニトロソーーーす7ト一ル訪導体と反応させるこ
とによって製造することができる。
る/−ニトロソーーーす7ト一ル訪導体と反応させるこ
とによって製造することができる。
反応は通常、メタノール、エタノール、プロパツール、
ブタノールなどのアルコール系溶媒、アセトン、メチル
エチルケトンなどのケトン系溶媒、ジクロロメタン、ト
リクロロエタン−1どのハロゲン化炭化水素系溶媒など
の極性又は非極性$tsの存在下に実施される。反応温
度は、θ℃〜−200℃の範囲で実施され、好ましくは
、4to℃〜/、20℃で円滑に実施できる。
ブタノールなどのアルコール系溶媒、アセトン、メチル
エチルケトンなどのケトン系溶媒、ジクロロメタン、ト
リクロロエタン−1どのハロゲン化炭化水素系溶媒など
の極性又は非極性$tsの存在下に実施される。反応温
度は、θ℃〜−200℃の範囲で実施され、好ましくは
、4to℃〜/、20℃で円滑に実施できる。
本発明の化合@は新規な色票であり、ホトクロミズムを
示す化合物である。すなわち、本化合物は紫外縁照射に
より発色し、次に可視光を照射するか、あるいは10℃
以上に加熱すると元の無色の状態になり、この変化をく
り返すことができる。
示す化合物である。すなわち、本化合物は紫外縁照射に
より発色し、次に可視光を照射するか、あるいは10℃
以上に加熱すると元の無色の状態になり、この変化をく
り返すことができる。
本発明の化合物は、特に、^分子化合物に対する相溶性
・溶解性にすぐれるため、−色でしかも保存安定性が良
好で発色・消色のくり返し安定性の良好な組成物を得る
ことができる。
・溶解性にすぐれるため、−色でしかも保存安定性が良
好で発色・消色のくり返し安定性の良好な組成物を得る
ことができる。
このような本化合物は各棟の記録・記憶材料、複写材料
、印刷感光体、レーザー用感光材料、写真植字用感光材
料あるいけ光学フィルター、マスキング用材料、光量針
、ディスプレイ用材料として使用される。
、印刷感光体、レーザー用感光材料、写真植字用感光材
料あるいけ光学フィルター、マスキング用材料、光量針
、ディスプレイ用材料として使用される。
次に、本発明を実施例によ)、更に具体的に説明する。
実施例/
下記構造式
で表わされる2、3.3− )リメチルインドレーン/
j、? ?および下記構造式 でxわされるp−)ルエンスルホン酸メトキシエチルエ
ステル23.Ofの混合物を/り0℃で3時間反応させ
、室温まで冷却後、メチルエチルケトン3θO−を加え
、還流し、還流下、下記構造式 で表わされる/−ニトロソ−一−ナフトール/♂2のメ
チルエチルケトン100−の懸濁液およびピペリジン?
―を加え、/時間遠流下反応させた。冷却後、い過し、
′#!媒を留去、残渣をアセトンコθθ―に溶解、メタ
ノールタo。
j、? ?および下記構造式 でxわされるp−)ルエンスルホン酸メトキシエチルエ
ステル23.Ofの混合物を/り0℃で3時間反応させ
、室温まで冷却後、メチルエチルケトン3θO−を加え
、還流し、還流下、下記構造式 で表わされる/−ニトロソ−一−ナフトール/♂2のメ
チルエチルケトン100−の懸濁液およびピペリジン?
―を加え、/時間遠流下反応させた。冷却後、い過し、
′#!媒を留去、残渣をアセトンコθθ―に溶解、メタ
ノールタo。
−を加えて冷凍庫に一伏放直、析出結晶をP取し、粗生
成物/θtを得た。薄層クロマトグラフィー(展開%a
Eベンゼンニn−へキー9−ンー/:/)上で分離・鞘
製し、融点736〜/3r℃の無色結晶を得た。
成物/θtを得た。薄層クロマトグラフィー(展開%a
Eベンゼンニn−へキー9−ンー/:/)上で分離・鞘
製し、融点736〜/3r℃の無色結晶を得た。
0□H,OOH。
本化合物ダvを用い、熱可塑性ポリエステル樹脂70v
(東洋紡社製バイロンーー〇〇)、溶媒メチルエチルケ
トン/θθ2からなる溶液をポリエステルフィルム(ダ
イヤホイル社製、厚さ/θOμ)バーコーターI63を
用すて塗布し、り1℃、70分乾燥した。得られた試料
は通常の状態では無色であるが、紫外線照射すると濃度
の1SIbt色(λmaw m≦Ojnm)に発色した
。
(東洋紡社製バイロンーー〇〇)、溶媒メチルエチルケ
トン/θθ2からなる溶液をポリエステルフィルム(ダ
イヤホイル社製、厚さ/θOμ)バーコーターI63を
用すて塗布し、り1℃、70分乾燥した。得られた試料
は通常の状態では無色であるが、紫外線照射すると濃度
の1SIbt色(λmaw m≦Ojnm)に発色した
。
次に、可視光f照射するか、あるいJdjθ℃以上に加
熱すると元の無色の状態に−なった。この変化はくり返
し行なうことができた。
熱すると元の無色の状態に−なった。この変化はくり返
し行なうことができた。
実施例コ
実施例/に於けるp−)ルエンスルホン酸メトキシエチ
ルエステル23.02の代t) K p −)ルエ/ス
ルホン酸メトキシエトキシエチルエステル、2に、2
fを用い、他は実施例/と同様にして、下記化合物を得
た。
ルエステル23.02の代t) K p −)ルエ/ス
ルホン酸メトキシエトキシエチルエステル、2に、2
fを用い、他は実施例/と同様にして、下記化合物を得
た。
U、H,00□H,OOH。
本化合物を用い、実施例/と同様にポリエステルフィル
ムに葦布したところ、紮外線照射により磯色の青色(λ
max−≦θt nm )に発色した。次に可視光’t
t照射するか、あるいは10℃以上に加熱すると元の無
色の状態になった。この変化は〈プ返し行なうことがで
きだ。
ムに葦布したところ、紮外線照射により磯色の青色(λ
max−≦θt nm )に発色した。次に可視光’t
t照射するか、あるいは10℃以上に加熱すると元の無
色の状態になった。この変化は〈プ返し行なうことがで
きだ。
実施例3
下記構造式
0、H,006H,、(ロ)
で懺わされる化合物2 J’、7 fをエタノールzo
o耐に泗解し、下記格造式 で表わされる化合物/ 7.j tを加え、速流下λ時
間反応させた。室温まで冷却し、溶媒を留去し、カラム
クルマドグラフィー(便用齢媒ベンゼン)で分陰・梢表
し、下記化合物f得た。
o耐に泗解し、下記格造式 で表わされる化合物/ 7.j tを加え、速流下λ時
間反応させた。室温まで冷却し、溶媒を留去し、カラム
クルマドグラフィー(便用齢媒ベンゼン)で分陰・梢表
し、下記化合物f得た。
0*Ha00aH+5(n)
本化合物をm−、実施例/と同様にポリエステルフィル
ムに塗布したところ、紫外線照射によ如、−色の青色(
λmax = 1.O6nm )に発色した。次に可視
光を照射するか、あるいは10℃以上に加熱すると元の
無色の状態になった。
ムに塗布したところ、紫外線照射によ如、−色の青色(
λmax = 1.O6nm )に発色した。次に可視
光を照射するか、あるいは10℃以上に加熱すると元の
無色の状態になった。
この変化はく)返し行なうことができた。
実施例ダ
実施例7〜3に準じた方法によ如、下iピ一般式[1]
て示される化合物を合成した。ポリエステルフィルム上
に撒布し、紫外WM■射したところ各々第7表に示す色
調、λmaxに発色した。
て示される化合物を合成した。ポリエステルフィルム上
に撒布し、紫外WM■射したところ各々第7表に示す色
調、λmaxに発色した。
次に可視光を照射するか、ある騒は!θ℃以上に加熱す
ると元の無色の状態になった。この変化け〈シ返して行
なうことができた。
ると元の無色の状態になった。この変化け〈シ返して行
なうことができた。
第1表
比較例/
第2衣にかしたスピロナフトオキサジン化合物を所定蓋
1史川するほかけ、実施例/と同様にしてポリエステル
フィルム上に塗布して試料を得た。この試料に紫外線を
照射し、発色した試料の色一度を第2衆に示した。
1史川するほかけ、実施例/と同様にしてポリエステル
フィルム上に塗布して試料を得た。この試料に紫外線を
照射し、発色した試料の色一度を第2衆に示した。
同様に、笑抛例/および実施例コのスピロナフトオキサ
ジン化合@′frit用した場合の色一度についても第
一六に示した。
ジン化合@′frit用した場合の色一度についても第
一六に示した。
第2衣
比較例/の色濃度f10θとした本発明化合物の芭鉦度
は上iピ六の通りであり、紫外線照射時磯色に発色する
フィルムが得られた。
は上iピ六の通りであり、紫外線照射時磯色に発色する
フィルムが得られた。
出 願 人 三菱化成工業株式会社
代 理 人 弁理士 長谷用 −
ほか7名
Claims (1)
- (1)一般式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・〔 I 〕 (式中、nは1〜4の整数を表わし、R^1はアルキル
基を示し、R^2、R^3、R^4、R^5は水素原子
、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基またはアル
コキシカルボニル基を示す。) で表わされる3,3−ジメチル−スピロ〔インドリノ−
2,3′−ナフト〔2,1−b〕(1,4)オキサジン
〕系化合物。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60012191A JPS61263982A (ja) | 1985-01-25 | 1985-01-25 | 3,3−ジメチル−スピロ〔インドリノ−2,3′−ナフト〔2,1−b〕(1,4)オキサジン〕系化合物 |
GB08601533A GB2171404B (en) | 1985-01-25 | 1986-01-22 | Spiroxazine compounds and photochromic composition containing the same |
CH281/86A CH667928A5 (de) | 1985-01-25 | 1986-01-24 | Spiroxazin-verbindungen und photochromatische zusammensetzung, welche diese enthaelt. |
DE3602087A DE3602087C2 (de) | 1985-01-25 | 1986-01-24 | Spiroxazin-Verbindungen und fotochrome Zusammensetzung, die diese enthält |
US06/822,449 US4719296A (en) | 1985-01-25 | 1986-01-27 | Spiroxazine compounds |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60012191A JPS61263982A (ja) | 1985-01-25 | 1985-01-25 | 3,3−ジメチル−スピロ〔インドリノ−2,3′−ナフト〔2,1−b〕(1,4)オキサジン〕系化合物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61263982A true JPS61263982A (ja) | 1986-11-21 |
JPH0481996B2 JPH0481996B2 (ja) | 1992-12-25 |
Family
ID=11798509
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP60012191A Granted JPS61263982A (ja) | 1985-01-25 | 1985-01-25 | 3,3−ジメチル−スピロ〔インドリノ−2,3′−ナフト〔2,1−b〕(1,4)オキサジン〕系化合物 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
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JP (1) | JPS61263982A (ja) |
CH (1) | CH667928A5 (ja) |
DE (1) | DE3602087C2 (ja) |
GB (1) | GB2171404B (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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US6296785B1 (en) | 1999-09-17 | 2001-10-02 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Indeno-fused photochromic naphthopyrans |
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-
1985
- 1985-01-25 JP JP60012191A patent/JPS61263982A/ja active Granted
-
1986
- 1986-01-22 GB GB08601533A patent/GB2171404B/en not_active Expired
- 1986-01-24 CH CH281/86A patent/CH667928A5/de not_active IP Right Cessation
- 1986-01-24 DE DE3602087A patent/DE3602087C2/de not_active Expired - Fee Related
- 1986-01-27 US US06/822,449 patent/US4719296A/en not_active Expired - Lifetime
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