JPH0980745A - Damping-waterless photosensitive planographic printing plate - Google Patents
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Landscapes
- Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、湿し水を用いない
で印刷が可能な湿し水不要感光性平版印刷版に関し、特
にコンピュータ等のデジタル信号から直接描画できるダ
イレクト製版用の湿し水不要感光性平版印刷版に関す
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a photosensitive lithographic printing plate which does not require fountain solution and can be printed without using fountain solution, and more particularly, a fountain solution for direct plate making which can be directly drawn from digital signals of a computer or the like. No need for photosensitive lithographic printing plate.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年におけるレーザの発展はめざましく
特に近赤外から赤外に発光領域を持つ固体レーザ、半導
体レーザは高出力かつ小型の物が容易に入手できるよう
になってきている。これらのレーザはコンピュータ等の
デジタルデータから直接製版する際の露光光源として非
常に有用である。従来コンピュータのデジタルデータか
ら直接描画できる高感度な湿し水不要感光性平版印刷版
として、特公昭57−3516号公報、特開昭53−5
5211号公報には、シリコーン樹脂からなるインキ反
発層上に、電子写真を利用してトナー画像を形成し画像
部とする印刷版が開示されている。特開昭54−449
05号公報には銀塩乳剤層を積層し、高感度かつ広範囲
な波長光での露光が可能な印刷版が開示されている。ま
た米国特許第4,958,562号には基体上にシリコ
ーンゴム層を積層し、放電破壊によって画像部を形成す
るタイプの印刷版等が開示されている。2. Description of the Related Art In recent years, the development of lasers has been remarkable, and in particular, solid-state lasers and semiconductor lasers having a near-infrared to infrared emission region have been easily available with high output and small size. These lasers are very useful as an exposure light source when directly making a plate from digital data of a computer or the like. As a photosensitive lithographic printing plate which does not require fountain solution and can be directly drawn from digital data of a conventional computer, JP-B-57-3516 and JP-A-53-5.
Japanese Patent No. 5211 discloses a printing plate in which an electrophotographic image is used to form a toner image on an ink repellent layer made of a silicone resin to form an image portion. JP-A-54-449
No. 05 discloses a printing plate in which silver salt emulsion layers are laminated and which can be exposed with light having a wide range of wavelengths with high sensitivity. U.S. Pat. No. 4,958,562 discloses a printing plate of a type in which a silicone rubber layer is laminated on a substrate and an image portion is formed by discharge breakdown.
【0003】しかし、電子写真方式を利用した印刷版は
帯電、露光、現像処理が煩雑であり、更にトナー画像を
画像部として使用する印刷版はインキ反発層と画像部の
接着性と印刷時の地汚れの両立が困難であるという問題
がある。銀塩感材を使用した印刷版は処理が煩雑であり
コストが高くなる欠点を有する。また放電やレーザ光に
よりシリコーンゴム層を破壊するタイプの印刷版は、版
面に残るシリコーン滓を除去しなければならないという
問題がある。このように従来のコンピュータ等のデジタ
ルデータから直接描画できる平版印刷版は十分満足でき
るものではなかった。更にコンピュータのデジタルデー
タをレーザ光により直接製版する際にはポジ型の材料は
かなりの書き込み時間を必要とするため、ネガ型が有利
である。ネガ型の湿し水不要感光性平版印刷版として、
特公昭61−54222号、特公昭61−616号には
支持体に裏打ちされたO−ナフトキノンジアジドからな
る光分解型感光層の上にシリコーンゴム層を設けた湿し
水不要感光性平版印刷版が提案されている。また特開昭
59−17552号、特公平3−56223号には同様
の印刷版を処理方法を調節することによりポジ型及びネ
ガ型両用とすることが提案されている。これらの印刷版
に使用されるキノンジアジド化合物は、感光性平版印刷
版やフォトレジストの分野で広く利用されてきたが十分
な感度を示すものではなく、更に感光波長が固定される
ためレーザ光による直接描画には適さなかった。However, a printing plate using an electrophotographic system is complicated in charging, exposure and development, and a printing plate using a toner image as an image portion has an adhesive property between an ink repellent layer and an image portion and at the time of printing. There is a problem that it is difficult to achieve both soiling. A printing plate using a silver salt sensitive material has the drawbacks of complicated processing and high cost. Further, the printing plate of the type in which the silicone rubber layer is destroyed by electric discharge or laser light has a problem that the silicone residue remaining on the plate surface must be removed. Thus, the conventional lithographic printing plate capable of directly drawing from digital data of a computer or the like has not been sufficiently satisfactory. Further, the negative type is advantageous because the positive type material requires a considerable writing time when the digital data of the computer is directly made by laser light. As a negative type dampening water unnecessary photosensitive lithographic printing plate,
JP-B-61-54222 and JP-B-61-616 disclose that a dampening water-free photosensitive lithographic printing plate having a silicone rubber layer on a photodegradable photosensitive layer made of O-naphthoquinonediazide backed by a support. Is proposed. Further, JP-A-59-17552 and JP-B-3-56223 propose that a similar printing plate can be used as both a positive type and a negative type by adjusting the processing method. The quinonediazide compounds used in these printing plates have been widely used in the fields of photosensitive lithographic printing plates and photoresists, but they do not exhibit sufficient sensitivity, and since the photosensitive wavelength is further fixed, they are directly exposed to laser light. It was not suitable for drawing.
【0004】最近それらに代わるネガ型湿し水不要感光
性平版印刷版として、感光層に、光により酸を発生する
化合物(光酸発生剤)及び酸により加水分解等を生じ溶
解度が変化する化合物、必要に応じてバインダー樹脂等
を含有する組成物が報告されている。例えば特開昭63
−88556号には、支持体上に、光酸発生剤、酸によ
り分解可能なC−O−C結合を有する化合物および水不
溶性バインダーを含有する感光層、さらに無定型ケイ酸
からなる中間層を介しシリコーンゴム層を有する湿し水
不要感光性平版印刷版を、露光した後、現像液を用いて
可溶化した感光層を溶解除去すると同時に、その上のシ
リコーンゴム層も除去し、アルミニウム基板を露出せし
め画像部とする方法が提案されている。しかしながらこ
の場合も感度は低く、この技術において用いられる実用
上有効な光酸発生剤の多くが450nm以下にしか吸収が
ないため、近赤外から赤外に発光領域を持つ固体レー
ザ、半導体レーザによる書き込みには適さなかった。Recently, a negative type fountain solution-free photosensitive lithographic printing plate which replaces them is used as a compound that generates an acid in the photosensitive layer by light (photoacid generator) and a compound that undergoes hydrolysis or the like by an acid to change its solubility. A composition containing a binder resin and the like as required has been reported. For example, JP-A-63
-88556 describes a photosensitive layer containing a photo-acid generator, a compound having an acid-decomposable C-O-C bond and a water-insoluble binder on a support, and an intermediate layer made of amorphous silicic acid. After exposing the photosensitive lithographic printing plate having no silicone fountain solution through the exposure, the photosensitive layer solubilized with a developing solution is dissolved and removed, and at the same time, the silicone rubber layer on it is also removed to remove the aluminum substrate. A method of using an exposed image portion has been proposed. However, in this case as well, the sensitivity is low, and most of the practically effective photoacid generators used in this technology absorb only below 450 nm. Not suitable for writing.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、近赤
外から赤外に発光領域を持つ固体レーザ、半導体レーザ
(熱モード)を用いてコンピュータ等のデジタルデータ
を直接記録することが可能であり、さらにはポジ型また
はネガ型の両方に使用可能なヒートモード書き込み型直
接製版用湿し水不要感光性平版印刷版を提供することで
ある。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to enable direct recording of digital data from a computer or the like using a solid-state laser or semiconductor laser (thermal mode) having an emission region from near infrared to infrared. Furthermore, it is to provide a photosensitive planographic printing plate which does not require a fountain solution for heat mode writing type direct plate making and can be used for both positive type and negative type.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明は、支持体上に、
感光層、シリコーンゴム層をこの順に積層してなり、該
感光層が、(a) 下記一般式(I)で示されるエノールエ
ーテル基を少なくとも2個有する化合物と、(b) 線状高
分子化合物と、(c) 赤外線吸収剤と、(d) 酸前駆体を含
有することを特徴とする湿し水不要感光性平版印刷版で
ある。 (R1 )(R2 ) C=C (R3)−O− (I) (式中、R1 、R2 及びR3 はそれぞれ独立に水素、ア
ルキル基又はアリール基を表す。また、それらの内の2
つが結合して飽和又はオレフィン性不飽和の環を形成し
てもよい。)SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides a method for manufacturing a semiconductor device comprising the steps of:
A photosensitive layer and a silicone rubber layer are laminated in this order, and the photosensitive layer comprises (a) a compound having at least two enol ether groups represented by the following general formula (I), and (b) a linear polymer compound. And (c) an infrared absorber, and (d) an acid precursor, which is a photosensitive lithographic printing plate not requiring a fountain solution. (R 1 ) (R 2 ) C═C (R 3 ) —O— (I) (In the formula, R 1 , R 2 and R 3 each independently represent hydrogen, an alkyl group or an aryl group. 2 of
May combine to form a saturated or olefinically unsaturated ring. )
【0007】[0007]
【発明の実施の形態】本発明の湿し水不要感光性平版印
刷版は、感光性皮膜の作成条件によりポジ型またはネガ
型の湿し水不要感光性平版印刷版となる。支持体上に比
較的低温で感光層を塗布乾燥し、シリコーンゴム層を積
層した場合、感光層中の赤外線吸収剤が赤外線の吸収に
より得た熱エネルギーにより酸前駆体が分解して酸を発
生し、その結果エノールエーテル基含有化合物のカチオ
ン重合が進行すると同時に、シリコーンゴム層との密着
が向上し、ポジ型の湿し水不要平版印刷版となる。一
方、上記感光層を比較的高温で乾燥した場合には、エノ
ールエーテル基含有化合物と酸基を含むバインダーが熱
架橋し、溶剤、アルカリ水溶液等に不溶になる。この組
成物に赤外光を吸収させるとその熱架橋部分は酸前駆体
から発生した酸により加水分解され、シリコーンゴム層
との密着が低下し、ネガ型の湿し水不要感光性平版印刷
版となる。以下、本発明について詳細に説明する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The photosensitive lithographic printing plate not requiring fountain solution of the present invention is a positive or negative type photosensitive lithographic printing plate requiring no fountain solution depending on the conditions for forming a photosensitive film. When a photosensitive layer is coated and dried at a relatively low temperature on a support and a silicone rubber layer is laminated, the infrared precursor in the photosensitive layer decomposes by the thermal energy obtained by the absorption of infrared rays to generate an acid. As a result, the cationic polymerization of the enol ether group-containing compound proceeds, and at the same time, the adhesion with the silicone rubber layer is improved, resulting in a positive type fountain solution-free lithographic printing plate. On the other hand, when the photosensitive layer is dried at a relatively high temperature, the enol ether group-containing compound and the binder containing an acid group are thermally crosslinked and become insoluble in a solvent, an alkaline aqueous solution or the like. When this composition absorbs infrared light, its thermally cross-linked portion is hydrolyzed by the acid generated from the acid precursor, the adhesion with the silicone rubber layer is reduced, and a negative type fountain solution-free photosensitive lithographic printing plate is used. Becomes Hereinafter, the present invention will be described in detail.
【0008】本発明に用いる感光層は、上記(a)、
(b)、(c)及び(d)の成分を含有する感光性組成
物である。まず、本発明の成分(a)のエノールエーテ
ル基を含有する化合物について説明する。一般式(I)
のエノールエーテル基において、R1 、R2 及びR3 が
アルキル基を表す場合は、好ましくは炭素原子数1〜2
0の飽和又は不飽和の直鎖、分岐又は脂環のアルキル基
(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピ
ル基、シクロヘキシル基等)を示し、ハロゲン原子、シ
アノ基、エステル基、アルコキシ基、アリールオキシ基
又はアリール基により置換されていてもよい。また、R
1 、R2 及びR3 がアリール基を表す場合は、一般に炭
素原子数6〜20のアリール基(例えばフェニル基、ナ
フチル基、アントリル基、フェナントリル基等)を示
し、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ア
シル基、アシルオキシ基、アルキルメルカプト基、アミ
ノ基、アミノアシル基、カルボアルコキシ基、ニトロ
基、スルホニル基、シアノ基又はハロゲン原子により置
換されていてもよい。また、R1 、R2 及びR3 のいず
れか2つが結合して飽和又はオレフィン性不飽和の環を
形成する場合の例としては、通常3〜8員の環、好まし
くは5又は6員の環、例えば、シクロアルキル基又はシ
クロアルケニル基が挙げられる。The photosensitive layer used in the present invention has the above-mentioned (a),
A photosensitive composition containing the components (b), (c) and (d). First, the compound having an enol ether group as the component (a) of the present invention will be described. General formula (I)
In the enol ether group of, when R 1 , R 2 and R 3 represent an alkyl group, it preferably has 1 to 2 carbon atoms.
0 represents a saturated or unsaturated linear, branched or alicyclic alkyl group (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a cyclohexyl group, etc.), a halogen atom, a cyano group, an ester group, an alkoxy group, It may be substituted with an aryloxy group or an aryl group. Also, R
When 1 , R 2 and R 3 represent an aryl group, they generally represent an aryl group having 6 to 20 carbon atoms (for example, a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a phenanthryl group, etc.), an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group. It may be substituted with an oxy group, an acyl group, an acyloxy group, an alkylmercapto group, an amino group, an aminoacyl group, a carboalkoxy group, a nitro group, a sulfonyl group, a cyano group or a halogen atom. Further, as an example of the case where any two of R 1 , R 2 and R 3 are combined to form a saturated or olefinically unsaturated ring, a ring having usually 3 to 8 members, preferably 5 or 6 members is used. Rings, for example cycloalkyl or cycloalkenyl groups.
【0009】本発明において、一般式(I)のエノール
エーテル基のうち、好ましいものは、R1 、R2 及びR
3 のうちひとつがメチル基、もしくはエチル基で、残り
が水素原子であるエノールエーテル基、更に好ましいも
のはR1 、R2 及びR3 がすべて水素であるビニルエー
テル基である。本発明では2つ以上のエノールエーテル
基を含有する種々の化合物を使用することができるが、
これらは大気圧下で60℃以上の沸点を有する化合物で
あることが好ましい。成分(a)の好ましい化合物とし
ては、下記一般式(II)又は(III)で示すエノールエー
テル化合物を挙げることができる。 A−[−(O−R4 )n−O−CH=CH2 ]m (II) A−[−B−R4 −O−CH=CH2 ]m (III) ここで、Aはm価のアルキレン基、アリーレン基又はヘ
テロ環基を示し、Bは−CO−O−、−NHCOO−又
は−NHCONH−を示し、R4 は炭素原子数1〜10
の直鎖又は分岐のアルキレン基を示す。nは0又は1〜
10の整数、mは2〜6の整数を示す。一般式(II)で
示される化合物は例えば、Stephen. C. Lapin, Polymer
s Paint Colour Journal, 179(4237) 、321(1989) に記
載されている方法、即ち多価アルコールもしくは多価フ
ェノールとアセチレンとの反応、又は多価アルコールも
しくは多価フェノールとハロゲン化アルキルビニルエー
テルとの反応に準じて合成することができる。In the present invention, preferred among the enol ether groups of the general formula (I) are R 1 , R 2 and R.
One of the three is an enol ether group in which one is a methyl group or an ethyl group and the rest are hydrogen atoms, and more preferred is a vinyl ether group in which R 1 , R 2 and R 3 are all hydrogen. Although various compounds containing two or more enol ether groups can be used in the present invention,
These are preferably compounds having a boiling point of 60 ° C. or higher under atmospheric pressure. Preferred examples of the component (a) include enol ether compounds represented by the following general formula (II) or (III). A - [- (O-R 4) n-O-CH = CH 2] m (II) A - [- B-R 4 -O-CH = CH 2] m (III) wherein, A is an m-valent Represents an alkylene group, an arylene group or a heterocyclic group, B represents —CO—O—, —NHCOO— or —NHCONH—, and R 4 has 1 to 10 carbon atoms.
Is a linear or branched alkylene group. n is 0 or 1
The integer of 10 and m show the integer of 2-6. The compound represented by the general formula (II) is, for example, Stephen. C. Lapin, Polymer.
s Paint Color Journal, 179 (4237), 321 (1989), that is, reaction of polyhydric alcohol or polyphenol with acetylene, or polyhydric alcohol or polyphenol with halogenated alkyl vinyl ether. It can be synthesized according to the reaction.
【0010】一般式(II)で示されるエノールエーテル
化合物の具体例として、エチレングリコールジビニルエ
ーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、
1,3−ブタンジオールジビニルエーテル、テトラメチ
レングリコールジビニルエーテル、ネオペンチルグリコ
ールジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビ
ニルエーテル、トリメチロールエタントリビニルエーテ
ル、ヘキサンジオールジビニルエーテル、1,4−シク
ロヘキサンジオールジビニルエーテル、テトラエチレン
グリコールジビニルエーテル、ペンタエリスリトールジ
ビニルエーテル、ペンタエリスリトールトリビニルエー
テル、ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、ソ
ルビトールテトラビニルエーテル、ソルビールペンタビ
ニルエーテル、エチレングリコールジエチレンビニルエ
ーテル、トリエチレングリコールジエチレンビニルエー
テル、エチレングリコールジプロピレンビニルエーテ
ル、トリエチレングリコールジエチレンビニルエーテ
ル、トリメチロールプロパントリエチレンビニルエーテ
ル、トリメチロールプロパンジエチレンビニルエーテ
ル、ペンタエリスリトールジエチレンビニルエーテル、
ペンタエリスリトールトリエチレンビニルエーテル、ペ
ンタエリスリトールテトラエチレンビニルエーテル、
1,2−ジ(ビニルエーテルメトキシ)ベンゼン、1,
2−ジ(ビニルエーテルエトキシ)ベンゼン、並びに以
下のII−1〜II〜41で示される化合物を挙げることが
できるが、これらに限定されるものではない。Specific examples of the enol ether compound represented by the general formula (II) include ethylene glycol divinyl ether, triethylene glycol divinyl ether,
1,3-butanediol divinyl ether, tetramethylene glycol divinyl ether, neopentyl glycol divinyl ether, trimethylolpropane trivinyl ether, trimethylolethane trivinyl ether, hexanediol divinyl ether, 1,4-cyclohexanediol divinyl ether, tetraethylene glycol Divinyl ether, pentaerythritol divinyl ether, pentaerythritol trivinyl ether, pentaerythritol tetravinyl ether, sorbitol tetravinyl ether, sorbitol pentavinyl ether, ethylene glycol diethylene vinyl ether, triethylene glycol diethylene vinyl ether, ethylene glycol dipropylene vinyl ether, triethylene glycol Call diethylene vinyl ether, trimethylolpropane triethylene vinyl ether, trimethylolpropane diethylene vinyl ether, pentaerythritol diethylene vinyl ether,
Pentaerythritol triethylene vinyl ether, pentaerythritol tetraethylene vinyl ether,
1,2-di (vinyl ether methoxy) benzene, 1,
Examples thereof include 2-di (vinyl ether ethoxy) benzene, and compounds represented by the following II-1 to II-41, but are not limited thereto.
【0011】[0011]
【化1】 Embedded image
【0012】[0012]
【化2】 Embedded image
【0013】[0013]
【化3】 Embedded image
【0014】[0014]
【化4】 Embedded image
【0015】[0015]
【化5】 Embedded image
【0016】[0016]
【化6】 [Chemical 6]
【0017】[0017]
【化7】 [Chemical 7]
【0018】[0018]
【化8】 Embedded image
【0019】[0019]
【化9】 Embedded image
【0020】一方、一般式(III)(B=−CO−O−の
場合)で示される化合物は、多価カルボン酸とハロゲン
化アルキルビニルエーテルとの反応により製造すること
ができる。具体例としてはテレフタル酸ジエチレンビニ
ルエーテル、フタル酸ジエチレンビニルエーテル、イソ
フタル酸ジエチレンビニルエーテル、フタル酸ジプロピ
レンビニルエーテル、テレフタル酸ジプロピレンビニル
エーテル、イソフタル酸ジプロピレンビニルエーテル、
マレイン酸ジエチレンビニルエーテル、フマル酸ジエチ
レンビニルエーテル、イタコン酸ジエチレンビニルエー
テル等を挙げることができるが、これらに限定されるも
のではない。On the other hand, the compound represented by the general formula (III) (when B = -CO-O-) can be produced by reacting a polyvalent carboxylic acid with a halogenated alkyl vinyl ether. Specific examples include terephthalic acid diethylene vinyl ether, phthalic acid diethylene vinyl ether, isophthalic acid diethylene vinyl ether, phthalic acid dipropylene vinyl ether, terephthalic acid dipropylene vinyl ether, isophthalic acid dipropylene vinyl ether,
Examples thereof include, but are not limited to, maleic acid diethylene vinyl ether, fumaric acid diethylene vinyl ether, and itaconic acid diethylene vinyl ether.
【0021】更に本発明において好適に用いられるビニ
ルエーテル基含有化合物としては、下記一般式(IV)、
(V)および(VI)等で示される活性水素を有するビニ
ルエーテル化合物とイソシアネート基を有する化合物と
の反応により合成されるビニルエーテル基含有化合物を
挙げることができる。 CH2 =CH−O−R5 −OH (IV) CH2 =CH−O−R5 −COOH (V) CH2 =CH−O−R5 −NH2 (VI) ここで、R5 は炭素原子数1〜10の直鎖又は分岐のア
ルキレン基を示す。イソシアネート基を含有する化合物
としては、例えば架橋剤ハンドブック(大成社刊、19
81年発行)に記載の化合物を用いることができる。Further, as the vinyl ether group-containing compound preferably used in the present invention, the following general formula (IV):
Examples thereof include vinyl ether group-containing compounds synthesized by reacting a vinyl ether compound having active hydrogen represented by (V) and (VI) with a compound having an isocyanate group. CH 2 ═CH—O—R 5 —OH (IV) CH 2 ═CH—O—R 5 —COOH (V) CH 2 ═CH—O—R 5 —NH 2 (VI) where R 5 is carbon. A linear or branched alkylene group having 1 to 10 atoms is shown. Examples of the compound containing an isocyanate group include cross-linking agent handbook (published by Taiseisha, 19
Compounds published in 1981) can be used.
【0022】具体的には、トリフェニルメタントリイソ
シアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、トリ
レンジイソシアネート、2,4−トリレンジイソシアネ
ートの二量体、ナフタレン−1,5−ジイソシアネー
ト、o−トリレンジイソシアネート、ポリメチレンポリ
フェニルイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネ
ート等のポリイソシアネート型、トリレンジイソシアネ
ートとトリメチロールプロパンの付加体、ヘキサメチレ
ンジイソシアネートと水との付加体、キシレンジイソシ
アネートとトリメチロールプロパンとの付加体等のポリ
イソシアネートアダクト型等を挙げることができる。上
記イソシアネート基含有化合物と活性水素含有ビニルエ
ーテル基含有化合物とを反応させることにより末端にビ
ニルエーテル基をもつ種々の化合物を製造することがで
きる。このような化合物の例を以下に列挙するが、本発
明の範囲はこれらに限定されるものではない。Specifically, triphenylmethane triisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, tolylene diisocyanate, dimer of 2,4-tolylene diisocyanate, naphthalene-1,5-diisocyanate, o-tolylene diisocyanate, polymethylene polyisocyanate. Polyisocyanate type such as phenyl isocyanate, hexamethylene diisocyanate, adduct of tolylene diisocyanate and trimethylolpropane, adduct of hexamethylene diisocyanate and water, polyisocyanate adduct of xylene diisocyanate and trimethylolpropane, etc. Can be mentioned. By reacting the isocyanate group-containing compound with the active hydrogen-containing vinyl ether group-containing compound, various compounds having a vinyl ether group at the terminal can be produced. Examples of such compounds are listed below, but the scope of the present invention is not limited thereto.
【0023】[0023]
【化10】 Embedded image
【0024】[0024]
【化11】 Embedded image
【0025】[0025]
【化12】 [Chemical 12]
【0026】以上説明したエノールエーテル基を少なく
とも2個含有する化合物は単一で使用できるが、数種の
混合物として使用してもよい。感光性組成物中のエノー
ルエーテル基を含有する化合物の添加量は感光性組成物
の全固形分に対し1〜80重量%、好ましくは5〜50重量
%の範囲である。この範囲であると、ポジ型の場合、露
光部のカチオン重合が効率よく起こりシリコーンゴム層
の密着性が向上する。ネガ型の場合には皮膜形成時の熱
架橋が十分になされ未露光部を強度に優れた皮膜とする
ことができる。The compounds containing at least two enol ether groups described above can be used alone, but may be used as a mixture of several kinds. The addition amount of the compound containing an enol ether group in the photosensitive composition is in the range of 1 to 80% by weight, preferably 5 to 50% by weight based on the total solid content of the photosensitive composition. Within this range, in the case of the positive type, the cationic polymerization of the exposed area efficiently occurs and the adhesion of the silicone rubber layer is improved. In the case of the negative type, the thermal cross-linking at the time of film formation is sufficient and the unexposed portion can be made into a film excellent in strength.
【0027】本発明で使用される線状高分子(b)は、
重合可能なエノールエーテル基を少なくとも2個有する
化合物(a)と相溶性を有している物の中より任意に選
択して用いることができる。ポジ型の湿し水不要感光性
平版印刷版を作成する場合、線状高分子としては、以下
に例示する、フィルム形成能を有するものの中から任意
に選択することができる。 (1)ビニルポリマー、例えばポリ酢酸ビニル、ポリビ
ニルアルコール、ポリビニルブチラール、ポリビニルメ
チルエーテル、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン等、およ
びこれらのコポリマー。 (2)(メタ)アクリル酸エステルポリマーおよびアル
キル(メタ)アクリルアミドポリマー、例えばポリ(メ
タ)アクリル酸エチル、ポリ(メタ)アクリル酸ブチ
ル、ポリt−ブチルアクリルアミド、ポリジアセトンア
クリルアミド等、およびこれらのコポリマー。 (3)未加硫ゴム、例えば天然ゴム、ポリブタジエン、
ポリイソブチレン、ポリネオプレン等、およびこれらの
コポリマー。 (4)ポリエーテル、例えばポリエチレンオキシド、ポ
リプロピレンオキシド等。 (5)ポリアミド、次に示すモノマー類のコポリマー、
例えば、カプロラクタム、ラウロラクタム、ヘキサメチ
レンジアミン、4,4’−ビス−アミノシクロヘキシル
メタン、2,4,4−トリメチルヘキサメチレンジアミ
ン、イソホロンジアミン、ジグリコール類、イソフタル
酸、アジピン酸、セバシン酸等。 (6)ポリエステル、例えばテレフタル酸、アジピン酸
等とエチレングリコール、1,4−ブタンジオール等と
の縮合物。 (7)ポリウレタン、例えばヘキサメチレンジイソシア
ネート、トルエンジイソシアネート、ナフタレン−1,
5−ジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート等
とエチレングリコール、1,4−ブタンジオール、ポリ
エステルとのポリウレタン。また、鎖延長剤としてイソ
ホロンジアミン、ヘキサメチレンジアミン等を用いても
良い。The linear polymer (b) used in the present invention is
The compound (a) having at least two polymerizable enol ether groups can be arbitrarily selected and used from those having compatibility with the compound (a). When a positive-type fountain solution-free photosensitive lithographic printing plate is prepared, the linear polymer can be arbitrarily selected from those having film-forming ability as exemplified below. (1) Vinyl polymers such as polyvinyl acetate, polyvinyl alcohol, polyvinyl butyral, polyvinyl methyl ether, polyvinyl chloride, polyethylene and the like, and copolymers thereof. (2) (Meth) acrylic acid ester polymers and alkyl (meth) acrylamide polymers such as ethyl poly (meth) acrylate, butyl poly (meth) acrylate, poly t-butyl acrylamide, poly diacetone acrylamide, etc., and copolymers thereof. . (3) Unvulcanized rubber, for example natural rubber, polybutadiene,
Polyisobutylene, polyneoprene, etc., and copolymers thereof. (4) Polyethers such as polyethylene oxide and polypropylene oxide. (5) Polyamide, a copolymer of the following monomers,
For example, caprolactam, laurolactam, hexamethylenediamine, 4,4′-bis-aminocyclohexylmethane, 2,4,4-trimethylhexamethylenediamine, isophoronediamine, diglycols, isophthalic acid, adipic acid, sebacic acid and the like. (6) Polyester, for example, a condensate of terephthalic acid, adipic acid and the like with ethylene glycol, 1,4-butanediol and the like. (7) Polyurethane, such as hexamethylene diisocyanate, toluene diisocyanate, naphthalene-1,
Polyurethane of 5-diisocyanate, isophorone diisocyanate, etc. and ethylene glycol, 1,4-butanediol, polyester. Further, isophoronediamine, hexamethylenediamine, or the like may be used as the chain extender.
【0028】更に、フィルム形成能を有する高分子化合
物として、側鎖に光重合可能な又は光架橋可能なオレフ
ィン性不飽和二重結合基を有する高分子化合物を使用す
ることができるが、これらに限定されるものではない。
これらのポジ型の湿し水不要感光性平版印刷版を作成す
るのに用いられる線状有機高分子重合体は、単一で使用
できるが、数種の混合物として使用しても良く、感光性
組成物中に任意な量を混和させることができる。しかし
感光性組成物の全固形分に対し90重量%を越える場合
は、形成される画像強度等の点で好ましい結果を与えな
い。好ましくは30〜85重量%である。また光重合可
能なビニルエーテル化合物と線状有機高分子重合体は重
量比で10:90〜70:30の範囲とするのが好まし
い。より好ましい範囲は30:70〜50:50であ
る。Further, as the polymer compound capable of forming a film, a polymer compound having a photopolymerizable or photocrosslinkable olefinic unsaturated double bond group in its side chain can be used. It is not limited.
The linear organic high molecular weight polymer used for preparing these positive type fountain solution-free photosensitive lithographic printing plates can be used alone, but may be used as a mixture of several kinds, Any amount can be incorporated into the composition. However, when it exceeds 90% by weight based on the total solid content of the photosensitive composition, preferable results are not obtained in terms of the strength of the image formed. It is preferably 30 to 85% by weight. The weight ratio of the photopolymerizable vinyl ether compound to the linear organic polymer is preferably 10:90 to 70:30. A more preferable range is 30:70 to 50:50.
【0029】一方ネガ型の湿し水不要感光性平版印刷版
を作成する場合の線状高分子としては、エノールエーテ
ル基含有化合物と熱的に反応し3次元架橋樹脂を形成す
る酸基を有し、その架橋部が酸により効率よく分解する
ものであれば任意に選択して用いることができる。上記
線状高分子は一般に線状高分子を得る公知の方法により
合成できるが、例えば、酸基、好ましくはカルボン酸
基、スルホン酸基、リン酸基、スルホンアミド基等を有
するビニルモノマーとそれらと共重合可能な他のビニル
モノマーを共重合することによって得ることができる。
酸基を含有するビニルモノマーとしては、例えばアクリ
ル酸、メタクリル酸、マレイン酸、イタコン酸、クロト
ン酸、イソクロトン酸、p−ビニル安息香酸、p−ビニ
ルベンゼンスルホン酸、p−ビニル桂皮酸、マレイン酸
モノメチルエーテル、マレイン酸モノエチルエーテル、
2−(アクリルアミド)−2−メチルプロパンスルホン
酸等が挙げられるが、これらに限定されるものではな
い。On the other hand, in the case of producing a negative-working photosensitive lithographic printing plate not requiring fountain solution, the linear polymer has an acid group capable of thermally reacting with an enol ether group-containing compound to form a three-dimensional crosslinked resin. However, it can be arbitrarily selected and used as long as its crosslinked portion is efficiently decomposed by an acid. The linear polymer can be generally synthesized by a known method for obtaining a linear polymer. For example, a vinyl monomer having an acid group, preferably a carboxylic acid group, a sulfonic acid group, a phosphoric acid group, a sulfonamide group, or the like and those It can be obtained by copolymerizing another vinyl monomer copolymerizable with
Examples of the vinyl monomer containing an acid group include acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, p-vinylbenzoic acid, p-vinylbenzenesulfonic acid, p-vinylcinnamic acid, maleic acid. Monomethyl ether, maleic acid monoethyl ether,
Examples thereof include 2- (acrylamido) -2-methylpropanesulfonic acid, but are not limited thereto.
【0030】上記モノマーと共重合可能な他のモノマー
としては、例えばアクリロニトリル、アクリルアミド、
メタクリルアミド、メチルアクリレート、エチルアクリ
レート、プロピルアクリレート、ブチルアクリレート、
メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピ
ルメタクリレート、ブチルメタクリレート、ベンジルア
クリレート、ベンジルメタクリレート、ビニルベンゾエ
ート、塩化ビニル、ビニリデンクロライド、スチレン、
酢酸ビニル、N−(4−スルファモイルフェニル)メタ
クリルアミド、N−フェニルホスホニルメタクリルアミ
ド、ブタジエン、クロロプレン、イソプレン、2−ヒド
ロキシエチルスチレン、2−ヒドロキシエチルアクリレ
ート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、p−2−
ヒドロキシエチルスチレン、p−ヒドロキシスチレン、
3−メルカプトエチルアクリレート、2−メルカプトエ
チルメタクリレート等を挙げることができるが、これら
に限定されるものではない。Other monomers copolymerizable with the above monomers include, for example, acrylonitrile, acrylamide,
Methacrylamide, methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate,
Methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate, benzyl acrylate, benzyl methacrylate, vinyl benzoate, vinyl chloride, vinylidene chloride, styrene,
Vinyl acetate, N- (4-sulfamoylphenyl) methacrylamide, N-phenylphosphonylmethacrylamide, butadiene, chloroprene, isoprene, 2-hydroxyethylstyrene, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, p- 2-
Hydroxyethylstyrene, p-hydroxystyrene,
Examples thereof include 3-mercaptoethyl acrylate and 2-mercaptoethyl methacrylate, but are not limited thereto.
【0031】酸基を含有するビニルモノマーと他の共重
合可能なモノマーとは任意の組合せでかつ任意の数のモ
ノマーを共重合させることができるが、酸基を含有する
ビニルモノマーと他の共重合可能なモノマーの比率とし
ては、重量%で2:98〜80:20の範囲が適当であ
り、好ましい範囲としては5:95〜50:50、より
好ましい範囲は5:95〜30:70である。また酸基
を有する線状高分子(b)は、酸基を有するジヒドロキ
シ化合物とジイソシアネート化合物との反応、酸基を有
するジヒドロキシ化合物とジカルボン酸化合物との共縮
合等により得ることができる。Although the vinyl monomer containing an acid group and the other copolymerizable monomer can be copolymerized in any combination and in any number of monomers, the vinyl monomer containing an acid group and another copolymerizable monomer can be copolymerized. The proportion of the polymerizable monomer is appropriately in the range of 2:98 to 80:20 by weight%, the preferable range is 5:95 to 50:50, and the more preferable range is 5:95 to 30:70. is there. The linear polymer (b) having an acid group can be obtained by a reaction between a dihydroxy compound having an acid group and a diisocyanate compound, a cocondensation of a dihydroxy compound having an acid group and a dicarboxylic acid compound, and the like.
【0032】例えば3,5−ジヒドロキシ安息香酸、
2,2−ビス(ヒドロキシメチル)プロピオン酸、2,
2−ビス(2−ヒドロキシエチル)プロピオン酸、2,
2−ビス(3−ヒドロキシプロピル)プロピオン酸、ビ
ス(ヒドロキシメチル)酢酸、ビス(4−ヒドロキシフ
ェニル)酢酸、4,4−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)ペンタン酸、酒石酸等の酸基を有するジヒドロキシ
化合物と、2,4−トリレンジイソシアネート、2,4
−トリレンジイソシアネートの2量体、4,4′−ジフ
ェニルメタンジイソシアネート、1,5−ナフチレンジ
イソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ト
リメチルヘキサメチレンジイソシアネート、4,4′−
メチレンビス(シクロヘキシルイソシアネート)等のジ
イソシアネート化合物を等当量で反応させることによ
り、カルボキシル基を含有する線状ポリウレタン樹脂が
得られる。又更にカルボキシル基を有せず、イソシアネ
ートと反応しない他の置換基を有しても良いジオール化
合物を併用しても良い。例えば、エチレングリコール、
ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ネオ
ペンチルグリコール、1,3−ブチレングリコール、ビ
スフェノールA、水添ビスフェノールA、水添ビスフェ
ノールF、ビスフェノールAのエチレンオキサイド付加
体等を挙げることができるが、これらに限定されるもの
ではない。For example, 3,5-dihydroxybenzoic acid,
2,2-bis (hydroxymethyl) propionic acid, 2,
2-bis (2-hydroxyethyl) propionic acid, 2,
Dihydroxy having an acid group such as 2-bis (3-hydroxypropyl) propionic acid, bis (hydroxymethyl) acetic acid, bis (4-hydroxyphenyl) acetic acid, 4,4-bis (4-hydroxyphenyl) pentanoic acid, tartaric acid Compound and 2,4-tolylene diisocyanate, 2,4
Dimer of tolylene diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, 1,5-naphthylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, 4,4'-
A linear polyurethane resin containing a carboxyl group is obtained by reacting a diisocyanate compound such as methylenebis (cyclohexylisocyanate) in an equivalent amount. Further, a diol compound which does not have a carboxyl group and may have another substituent which does not react with isocyanate may be used in combination. For example, ethylene glycol,
Examples thereof include, but are not limited to, diethylene glycol, triethylene glycol, neopentyl glycol, 1,3-butylene glycol, bisphenol A, hydrogenated bisphenol A, hydrogenated bisphenol F, and an ethylene oxide adduct of bisphenol A. Not a thing.
【0033】また線状高分子(b)は上記酸基を有する
ジオール、必要に応じて、上記他のジオールと2官能の
カルボン酸、例えばフタル酸、イソフタル酸、テレフタ
ル酸、フマル酸、イタコン酸、アジピン酸等と共縮合す
ることにより得ることができる。酸基を含有するジオー
ルと他のモノマー単位との比率としては、重量%で2:
98〜80:20の範囲が適当であり、好ましい範囲と
しては5:95〜50:50、より好ましい範囲は、
5:95〜30:70である。また本発明で使用される
酸基を有する線状高分子(b)として、フェノール性水
酸基を含有する樹脂を挙げることができる。具体的に
は、フェノールホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾール
ホルムアルデヒド樹脂、p−クレゾールホルムアルデヒ
ド樹脂、o−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、m−/
p−混合クレゾールホルムアルデヒド樹脂、フェノール
/クレゾールホルムアルデヒド樹脂等のノボラック樹
脂、レゾール型のフェノール樹脂類、フェノール変性キ
シレン樹脂、ポリヒドロキシスチレン、ポリハロゲン化
ヒドロキシスチレン、フェノール性水酸基を有するアク
リル樹脂等を挙げることができるが、これらに限定され
るものではない。The linear polymer (b) is a diol having the above-mentioned acid group, and, if necessary, the above-mentioned other diol and a difunctional carboxylic acid such as phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, fumaric acid or itaconic acid. , Adipic acid, and the like can be obtained. The ratio of the diol containing an acid group to the other monomer unit is 2:% by weight.
A range of 98 to 80:20 is suitable, a preferable range is 5:95 to 50:50, and a more preferable range is
It is 5:95 to 30:70. As the linear polymer (b) having an acid group used in the present invention, a resin containing a phenolic hydroxyl group can be mentioned. Specifically, phenol formaldehyde resin, m-cresol formaldehyde resin, p-cresol formaldehyde resin, o-cresol formaldehyde resin, m- /
P-mixed cresol formaldehyde resin, novolac resin such as phenol / cresol formaldehyde resin, resol type phenol resin, phenol-modified xylene resin, polyhydroxystyrene, polyhalogenated hydroxystyrene, acrylic resin having phenolic hydroxyl group, etc. However, the present invention is not limited to these.
【0034】これらの線状高分子の分子量は1,000 〜1,
000,000 、好ましくは1,500 〜200,000 である。これら
のうち好適に用いられる線状高分子としては酸基を含有
するモノマーとヒドロキシル基またはメルカプト基を含
有するモノマーを一定の割合で含有した共重合体を挙げ
ることができる。共重合体の酸基を含むモノマーの含有
率が2〜80重量%、好ましくは5〜50重量%、より
好ましくは5〜30重量%であり、ヒドロキシル基また
はメルカプト基を含むモノマーの含有率が2〜80重量
%、好ましくは5〜50重量%、より好ましくは5〜3
0重量%の線状高分子が特に好適に用いられる。これら
ネガ型の湿し水不要感光性平版印刷版を作成するのに用
いられる線状高分子は単一で使用できるが、数種の混合
物として使用してもよい。感光性組成物中の線状高分子
の添加量は感光性組成物の全固形分に対し、1〜90重
量%、好ましくは20〜90重量%、より好ましくは3
0〜85重量%の範囲であり、この範囲であると画像形
成性が良好である。The molecular weight of these linear polymers is 1,000 to 1,
It is, 000,000, preferably 1,500 to 200,000. Among these, linear polymers preferably used include copolymers containing a monomer containing an acid group and a monomer containing a hydroxyl group or a mercapto group in a fixed ratio. The content of the monomer containing an acid group in the copolymer is 2 to 80% by weight, preferably 5 to 50% by weight, more preferably 5 to 30% by weight, and the content of the monomer containing a hydroxyl group or a mercapto group is 2-80% by weight, preferably 5-50% by weight, more preferably 5-3
0% by weight of linear polymer is particularly preferably used. The linear polymers used for preparing the negative-type photosensitive lithographic printing plates requiring no fountain solution may be used alone, or may be used as a mixture of several kinds. The amount of linear polymer added to the photosensitive composition is 1 to 90% by weight, preferably 20 to 90% by weight, and more preferably 3% by weight based on the total solid content of the photosensitive composition.
It is in the range of 0 to 85% by weight, and the image forming property is good in this range.
【0035】本発明において赤外線吸収剤(c)として
は、公知である種々の顔料もしくは染料が用いられる。
赤外光を吸収する顔料としてはカーボンブラックが好適
に用いられる。赤外光を吸収する染料としてはシアニン
系、メロシアニン系、フタロシアニン系、スクアリリウ
ム系、金属ジチオレン類、ナフトキノン系、ピリリウム
系等の染料があげられ、例えば特開昭58−12524
6号、同59−84356号、同59−202829
号、同60−78787号等に記載されているシアニン
染料、特開昭58−173696号、同58−1816
90号、同58−194595号等に記載されているメ
チン染料、特開昭58−112793号、同58−22
4793号、同59−48187号、同59−7399
6号、同60−52940号、同60−63744号等
に記載されているナフトキノン染料、特開昭58−11
2792号等に記載されているスクアリリウム色素、英
国特許434,875号記載のシアニン染料等が好適に
用いられる。また米国特許第5,156,938号記載
の近赤外吸収剤、米国特許第3,881,924号記載
の置換されたアリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特
開昭57−142645号記載のトリメチンチオピリリ
ウム塩、特開昭58−181051号、同58−220
143号、同59−41363号、同59−84248
号、同59−84249号、同59−146063号、
同59−146061号記載のピリリウム系化合物、特
開昭59−216146号記載のシアニン色素、米国特
許第4,283,475号記載のペンタメチンチオピリ
リウム塩や特公平5−13514号、同5−19702
号公報に開示されているピリリウム化合物は特に好まし
く用いられる。また特に好ましい別の例として、米国特
許4,756,993号明細書中に式(I)、(II) と
して記載されている近赤外吸収染料をあげることができ
る。これらの顔料もしくは染料は、感光層組成物全固形
分に対し、0.01〜50重量%、好ましくは0.1〜
20重量%の割合で添加することができる。In the present invention, various known pigments or dyes are used as the infrared absorber (c).
Carbon black is preferably used as a pigment that absorbs infrared light. Examples of the dye that absorbs infrared light include cyanine dyes, merocyanine dyes, phthalocyanine dyes, squarylium dyes, metal dithiolenes, naphthoquinone dyes, and pyrylium dyes. For example, JP-A-58-12524.
No. 6, No. 59-84356, No. 59-202829.
Nos. 60-78787 and the like, cyanine dyes described in JP-A Nos. 58-173696 and 58-1816.
90, 58-194595 and the like, methine dyes described in JP-A Nos. 58-112793 and 58-22.
No. 4793, No. 59-48187, No. 59-7399.
6, naphthoquinone dyes described in JP-A Nos. 60-52940 and 60-63744, and JP-A-58-11.
The squarylium dyes described in 2792 and the like, the cyanine dyes described in British Patent 434,875, and the like are preferably used. Further, near-infrared absorbers described in US Pat. No. 5,156,938, substituted arylbenzo (thio) pyrylium salts described in US Pat. No. 3,881,924, and trimer described in JP-A-57-142645. Chinthiopyrylium salt, JP-A-58-181051, 58-220
No. 143, No. 59-41363, No. 59-84248.
No. 59-84249, No. 59-146063,
Pyrylium compounds described in JP-A-59-146061, cyanine dyes described in JP-A-59-216146, pentamethinethiopyrylium salts described in U.S. Pat. No. 4,283,475, and JP-B-5-13514, JP-A-5-13514. -19702
The pyrylium compound disclosed in the publication is particularly preferably used. Another particularly preferable example is the near infrared absorbing dyes described as formulas (I) and (II) in US Pat. No. 4,756,993. These pigments or dyes are contained in an amount of 0.01 to 50% by weight, preferably 0.1 to 50% by weight, based on the total solid content of the photosensitive layer composition.
It can be added in a proportion of 20% by weight.
【0036】本発明で使用される酸前駆体(d)として
は、光カチオン重合の光開始剤、光ラジカル重合の光開
始剤、色素類の光消色剤、光変色剤、あるいはマイクロ
レジスト等に使用されている公知の酸を発生する化合
物、及びそれらの混合物を適宜に選択して使用すること
ができる。例えば S. I. Schlesinger, Photogr. Sci.
Eng., 18, 387(1974) 、T. S. Bal et al, Polymer, 2
1, 423 (1980)に記載のジアゾニウム塩、米国特許第4,0
69,055 号、同4,069,056 号、特開平4-365049号に記載
のアンモニウム塩、D. C. Necker et al, Macromolecul
es, 17, 2468 (1984) 、C. S. Wen et al, Teh, Proc.
Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988)、米
国特許第4,069,055 号、同4,069,056 号に記載のホスホ
ニウム塩、J. V. Crivello et al, Macromolecules, 10
(6), 1307 (1977)、Chem. & Eng. News, Nov. 28, p31
(1988)、欧州特許第104,143 号、米国特許第339,049
号、同第410,201 号、特開平2-150848号、特開平2-2965
14号に記載のヨードニウム塩、J. V. Crivello et al,
Polymer J.17, 73 (1985)、J. V. Crivello et al. J.
Org. Chem., 43, 3055 (1978)、W.R. Watt et al, J. P
olymer Sci., Polymer Chem. Ed., 22, 1789 (1984) 、
J.V. Crivello et al, Polymer Bull., 14, 279 (1985)
、J. V. Crivello et al, Macromolecules, 14(5), 11
41 (1981)、J. V. Crivello et al, J. Polymer Sci.,
Polymer Chem. Ed., 17, 2877 (1979) 、欧州特許第37
0,693 号、同233,567 号、同297,443 号、同297,442
号、米国特許第4,933,377 号、同4,760,013 号、同4,73
4,444 号、同2,833,827 号、独国特許第2,904,626 号、
同3,604,580 号、同3,604,581 号に記載のスルホニウム
塩、Examples of the acid precursor (d) used in the present invention include photoinitiators for photocationic polymerization, photoinitiators for photoradical polymerization, photobleaching agents for dyes, photochromic agents, micro resists, and the like. The known acid-generating compounds used in (1) and mixtures thereof can be appropriately selected and used. For example SI Schlesinger, Photogr. Sci.
Eng., 18, 387 (1974), TS Bal et al, Polymer, 2
1,423 (1980) diazonium salts, U.S. Pat.
69,055, 4,069,056, ammonium salts described in JP-A-4-365049, DC Necker et al, Macromolecul
es, 17, 2468 (1984), CS Wen et al, Teh, Proc.
Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988), U.S. Pat.Nos. 4,069,055 and 4,069,056, phosphonium salts, JV Crivello et al, Macromolecules, 10
(6), 1307 (1977), Chem. & Eng. News, Nov. 28, p31.
(1988), European Patent 104,143, U.S. Patent 339,049.
No. 410,201, JP-A No. 2-150848, and JP-A No. 2-2965.
No. 14, iodonium salt, JV Crivello et al,
Polymer J. 17, 73 (1985), JV Crivello et al. J.
Org. Chem., 43, 3055 (1978), WR Watt et al, J. P.
olymer Sci., Polymer Chem. Ed., 22, 1789 (1984),
JV Crivello et al, Polymer Bull., 14, 279 (1985)
, JV Crivello et al, Macromolecules, 14 (5), 11
41 (1981), JV Crivello et al, J. Polymer Sci.,
Polymer Chem. Ed., 17, 2877 (1979), European Patent 37
0,693, 233,567, 297,443, 297,442
U.S. Pat.Nos. 4,933,377, 4,760,013 and 4,73
4,444, 2,833,827, German Patent 2,904,626,
Sulfonium salts described in 3,604,580 and 3,604,581,
【0037】J. V. Crivello et al, Macromolecules,
10(6), 1307 (1977)、J. V. Crivelloet al, J. Polyme
r Sci., Polymer Chem. Ed., 17, 1047 (1979) に記載
のセレノニウム塩、C. S. Wen et al, Teh, Proc. Con
f. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988)に記載
のアルソニウム塩等のオニウム塩、米国特許第3,905,81
5号、特公昭46-4605 号、特開昭48-36281号、特開昭55-
32070号、特開昭60-239736 号、特開昭61-169835 号、
特開昭61-169837 号、特開昭62-58241号、特開昭62-212
401 号、特開昭63-70243号、特開昭63-298339 号に記載
の有機ハロゲン化合物、K. Meier et al, J. Rad. Curi
ng, 13(4), 26 (1986)、T. P. Gill et al,Inorg. Che
m., 19, 3007 (1980) 、D. Astruc, Acc. Chem. Res.,
19(12), 377(1896)、特開平2-161445号に記載の有機金
属/有機ハロゲン化物、S. Hayase etal, J. Polymer S
ci., 25, 753 (1987)、E. Reichmanis et al, J. Polym
er Sci., Polymer Chem. Ed., 23, 1 (1985) 、Q. Q. Z
hu et al, J. Photochem., 36, 85, 39, 317 (1987)、
B. Amit et al, Tetrahedron Lett., (24) 2205 (197
3), D. H. R. Barton et al, J. Chem Soc., 3571 (196
5)、P. M. Collins et al,J. Chem. Soc., Perkin I, 1
695 (1975) 、M. Rudinstein et al, TetrahedronLet
t., (17), 1445 (1975) 、J. W. Walker et al, J. Am.
Chem. Soc., 110,7170 (1988) 、S. C. Busman et al,
J. Imaging Technol., 11(4), 191 (1985)、H. M. Hou
lihan et al, Macoromolecules, 21, 2001 (1988)、P.
M. Collinset al, J. Chem. Soc., Chem. Commun., 532
(1972) 、S. Hayase et al, Macromolecules, 18, 179
9 (1985)、E. Reichmanis et al, J. Electrochem. So
c., Solid State Sci. Technol., 130(6)、F. M. Houli
han et al, Macromolecules,21, 2001 (1988) 、欧州特
許第0290,750号、同046,083 号、同156,535 号、同271,
851 号、同0,388,343 号、米国特許第3,901,710 号、同
4,181,531 号、特開昭60-198538 号、特開昭53-133022
号に記載のo−ニトロベンジル型保護基を有する光酸発
生剤、M. Tunooka et al, Polymer Preprints Japan, 3
8(8)、G. Berner et al, J. Rad. Curing, 13(4)、W.
J. Mijs et al, Coating Technol., 55(697), 45 (198
3)、Akzo, H. Adachi et al, Polymer Preprints, Japa
n, 37(3)、欧州特許第0199,672号、同84,515号、同199,
672 号、同044,115 号、同0101,122号、米国特許第4,61
8,564 号、同4,371,605 号、同4,431,774 号、特開昭64
-18143号、特開平2-245756号、特開平4-365048号に記載
のイミノスルフォネート等に代表される、光分解してス
ルホン酸を発生する化合物、特開昭61-166544 号に記載
のジスルホン化合物を挙げることができる。JV Crivello et al, Macromolecules,
10 (6), 1307 (1977), JV Crivelloet al, J. Polyme.
r Sci., Polymer Chem. Ed., 17, 1047 (1979), selenonium salt, CS Wen et al, Teh, Proc. Con.
f. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Onium salts such as arsonium salts described in Oct (1988), U.S. Pat.No. 3,905,81
5, JP-B-46-4605, JP-A-48-36281, JP-A-55-
32070, JP-A-60-239736, JP-A-61-169835,
JP-A-61-169837, JP-A-62-58241, JP-A-62-212
401, organic halogen compounds described in JP-A-63-70243 and JP-A-63-298339, K. Meier et al, J. Rad. Curi
ng, 13 (4), 26 (1986), TP Gill et al, Inorg. Che
m., 19, 3007 (1980), D. Astruc, Acc. Chem. Res.,
19 (12), 377 (1896), organic metal / organic halides described in JP-A-2-161445, S. Hayase et al, J. Polymer S
ci., 25, 753 (1987), E. Reichmanis et al, J. Polym
er Sci., Polymer Chem. Ed., 23, 1 (1985), QQ Z
hu et al, J. Photochem., 36, 85, 39, 317 (1987),
B. Amit et al, Tetrahedron Lett., (24) 2205 (197
3), DHR Barton et al, J. Chem Soc., 3571 (196
5), PM Collins et al, J. Chem. Soc., Perkin I, 1
695 (1975), M. Rudinstein et al, TetrahedronLet
t., (17), 1445 (1975), JW Walker et al, J. Am.
Chem. Soc., 110,7170 (1988), SC Busman et al,
J. Imaging Technol., 11 (4), 191 (1985), HM Hou
lihan et al, Macoromolecules, 21, 2001 (1988), P.
M. Collinset al, J. Chem. Soc., Chem. Commun., 532
(1972), S. Hayase et al, Macromolecules, 18, 179.
9 (1985), E. Reichmanis et al, J. Electrochem. So
c., Solid State Sci. Technol., 130 (6), FM Houli
han et al, Macromolecules, 21, 2001 (1988), European Patent Nos. 0290,750, 046,083, 156,535 and 271,
Nos. 851, 0,388,343, U.S. Pat.
4,181,531, JP-A-60-198538, JP-A-53-133022
, A photoacid generator having an o-nitrobenzyl type protecting group, M. Tunooka et al, Polymer Preprints Japan, 3
8 (8), G. Berner et al, J. Rad. Curing, 13 (4), W.
J. Mijs et al, Coating Technol., 55 (697), 45 (198
3), Akzo, H. Adachi et al, Polymer Preprints, Japa
n, 37 (3), European Patents 0199,672, 84,515, 199,
672, 044,115, 0101,122, U.S. Pat.
8,564, 4,371,605, 4,431,774, JP-A-64
-18143, JP-A-2-245756, JP-A-4-365048 and other iminosulfonates and the like, compounds which photolyze to generate sulfonic acid, JP-A-61-166544 The disulfone compound can be mentioned.
【0038】またこれらの光により酸を発生する基、あ
るいは化合物をポリマーの主鎖又は側鎖に導入した化合
物、例えば、M. E. Woodhouse et al, J. Am. Chem. So
c.,104, 5586 (1982)、S. P. Pappas et al, J. Imagin
g Sci., 30(5),218 (1986)、S. Kondo et al. Makromo
l. Chem., Rapid Commun., 9,625 (1988)、Y. Yamada e
t al, Makromol. Chem., 152, 153, 163 (1972)、J. V.
Crivello et al. J.Polymer Sci., Polymer Chem. E
d., 17, 3845 (1979) 、米国特許第3,849,137号、独国
特許第3,914,407 、特開昭63-26653号、特開昭55-16482
4 号、特開昭62-69263号、特開昭63-1460387、特開昭63
-163452 号、特開昭62-153853 号、特開昭63-146029 号
に記載の化合物を用いることができる。更に、V. N. R.
Pillai, Synthesis, (1), 1(1980)、A. Abad et al, T
etrahedron Lett., (47)4555 (1971) 、D. H. R. Barto
n et al, J. Chem. Soc., (C),329 (1970)、米国特許第
3,779,778 号、欧州特許第126,712 号に記載の光により
酸を発生する化合物も使用することができる。A group in which an acid-generating group or a compound is introduced into the main chain or side chain of a polymer, for example, ME Woodhouse et al, J. Am. Chem. So.
c., 104, 5586 (1982), SP Pappas et al, J. Imagin
g Sci., 30 (5), 218 (1986), S. Kondo et al. Makromo
l. Chem., Rapid Commun., 9,625 (1988), Y. Yamada e
t al, Makromol. Chem., 152, 153, 163 (1972), JV
Crivello et al. J. Polymer Sci., Polymer Chem. E
d., 17, 3845 (1979), U.S. Pat.No. 3,849,137, German Patent No. 3,914,407, JP-A-63-26653, JP-A-55-16482.
4, JP-A-62-69263, JP-A-63-1460387, JP-A-63
The compounds described in JP-A-163452, JP-A-62-153853 and JP-A-63-146029 can be used. Furthermore, VNR
Pillai, Synthesis, (1), 1 (1980), A. Abad et al, T
etrahedron Lett., (47) 4555 (1971), DHR Barto
n et al, J. Chem. Soc., (C), 329 (1970), U.S. Pat.
The compounds capable of generating an acid by light described in 3,779,778 and EP 126,712 can also be used.
【0039】上記酸前駆体の中で、特に有効に用いられ
るものについて以下に説明する。 (1) トリハロメチル基が置換した下記一般式(VII)で
表されるオキサゾール誘導体又は下記一般式(VIII) で
表されるS−トリアジン誘導体。Among the above-mentioned acid precursors, those which are particularly effectively used will be described below. (1) An oxazole derivative represented by the following general formula (VII) substituted with a trihalomethyl group or an S-triazine derivative represented by the following general formula (VIII).
【0040】[0040]
【化13】 Embedded image
【0041】式中、R6 は置換もしくは未置換のアリー
ル基又はアルケニル基であり、R7は置換もしくは未置
換のアリール基、アルケニル基、アルキル基又は−CY
3 を表す。Yは塩素原子又は臭素原子を示す。上記オキ
サゾール誘導体(VII)及びS−トリアジン誘導体(VII
I) の具体例としては、以下の VII−1〜 VII−8及びV
III−1〜VIII−10の化合物を挙げることができる
が、これらに限定されるものではない。In the formula, R 6 is a substituted or unsubstituted aryl group or alkenyl group, and R 7 is a substituted or unsubstituted aryl group, alkenyl group, alkyl group or --CY.
Represents 3 . Y represents a chlorine atom or a bromine atom. The oxazole derivative (VII) and the S-triazine derivative (VII
Specific examples of I) include the following VII-1 to VII-8 and V
Examples thereof include compounds III-1 to VIII-10, but are not limited thereto.
【0042】[0042]
【化14】 Embedded image
【0043】[0043]
【化15】 [Chemical 15]
【0044】[0044]
【化16】 Embedded image
【0045】[0045]
【化17】 Embedded image
【0046】[0046]
【化18】 Embedded image
【0047】(2) 下記一般式(IX) で表されるヨード
ニウム塩又は下記一般式(X)で表されるスルホニウム
塩。(2) An iodonium salt represented by the following general formula (IX) or a sulfonium salt represented by the following general formula (X).
【0048】[0048]
【化19】 Embedded image
【0049】式中、Ar1 及びAr2 は各々独立に置換もし
くは未置換のアリール基を示す。好ましい置換基として
は、アルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基、
アリール基、アルコキシ基、ニトロ基、カルボキシル
基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシ基、メルカプ
ト基及びハロゲン原子が挙げられる。R8 、R9 及びR
10は各々独立に、置換もしくは未置換のアルキル基又は
アリール基を示す。好ましくは炭素原子数6〜14のア
リール基、炭素原子数1〜8のアルキル基又はそれらの
置換誘導体である。好ましい置換基は、アリール基に対
しては炭素原子数1〜8のアルコキシ基、炭素原子数1
〜8のアルキル基、ニトロ基、カルボキシル基、ヒドロ
キシ基又はハロゲン原子であり、アルキル基に対しては
炭素原子数1〜8のアルコキシ基、カルボキシル基、ア
ルコキシカルボニル基である。Z- は対アニオンを示
し、例えば BF4 - 、AsF6 - 、PF6 - 、SbF6 - 、SiF6 - 、
ClO4 - 、CF3SO - 、BPh4 - 、(Ph=フェニル)、ナフタ
レン−1−スルホン酸アニオン、アントラキノンスルホ
ン酸アニオン等の縮合多核芳香族スルホン酸アニオン、
スルホン酸基含有染料等を挙げることができるが、これ
らに限定されるものではない。また、R8 、R9 及びR
10のうちの2つ並びにAr1 及びAr2 はそれぞれ単結
合又は置換基を介して結合してもよい。In the formula, Ar 1 and Ar 2 each independently represent a substituted or unsubstituted aryl group. Preferred substituents include an alkyl group, a haloalkyl group, a cycloalkyl group,
Examples thereof include an aryl group, an alkoxy group, a nitro group, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, a hydroxy group, a mercapto group and a halogen atom. R 8 , R 9 and R
Each 10 independently represents a substituted or unsubstituted alkyl group or aryl group. It is preferably an aryl group having 6 to 14 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or a substituted derivative thereof. Preferred substituents are an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, and an aryl group having 1 carbon atom.
Is an alkyl group, a nitro group, a carboxyl group, a hydroxy group or a halogen atom having 8 to 8 carbon atoms, and an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, a carboxyl group or an alkoxycarbonyl group with respect to the alkyl group. Z − represents a counter anion, for example, BF 4 − , AsF 6 − , PF 6 − , SbF 6 − , SiF 6 − ,
ClO 4 -, CF 3 SO - , BPh 4 -, (Ph = phenyl), naphthalene-1-sulfonic acid anion, condensed polynuclear aromatic sulfonic acid anion such as anthraquinone sulfonic acid anion,
Examples thereof include, but are not limited to, sulfonic acid group-containing dyes. Also, R 8 , R 9 and R
Two of the ten and Ar 1 and Ar 2 may each be bonded via a single bond or a substituent.
【0050】一般式(IX)及び(X)で示される上記オ
ニウム塩は公知であり、例えばJ. W. Knapczyk et al,
J. Am. Chem. Soc., 91, 145 (1969) 、A. L. Maycok e
t al, J. Org. Chem., 35, 2532 (1970)、E. Goethas e
t al, Bull. Soc. Chem. Belg., 73, 546, (1964) 、H.
M. Leicester, J. Am. Chem. Soc., 51, 3587 (1929)
、J. B. Crivello et al, J. Polym. Chem. Ed., 18,
2677 (1980)、米国特許第2,807,648 号及び同4,247,473
号、特開昭53-101331 号に記載の方法により合成する
ことができる。一般式(IX)及び(X)のオニウム化合
物の具体例としては、以下に示す化合物IX−1〜IX−2
0及びX−1〜X−34が挙げられるが、これに限定さ
れるものではない。The onium salts represented by the general formulas (IX) and (X) are known, and for example, JW Knapczyk et al,
J. Am. Chem. Soc., 91, 145 (1969), AL Maycok e
t al, J. Org. Chem., 35, 2532 (1970), E. Goethas e
t al, Bull. Soc. Chem. Belg., 73, 546, (1964), H.
M. Leicester, J. Am. Chem. Soc., 51, 3587 (1929)
, JB Crivello et al, J. Polym. Chem. Ed., 18,
2677 (1980), U.S. Pat.Nos. 2,807,648 and 4,247,473.
And the method described in JP-A-53-101331. Specific examples of the onium compounds of the general formulas (IX) and (X) include compounds IX-1 to IX-2 shown below.
0 and X-1 to X-34, but the present invention is not limited thereto.
【0051】[0051]
【化20】 Embedded image
【0052】[0052]
【化21】 [Chemical 21]
【0053】[0053]
【化22】 Embedded image
【0054】[0054]
【化23】 Embedded image
【0055】[0055]
【化24】 Embedded image
【0056】[0056]
【化25】 Embedded image
【0057】[0057]
【化26】 [Chemical formula 26]
【0058】[0058]
【化27】 Embedded image
【0059】[0059]
【化28】 Embedded image
【0060】[0060]
【化29】 [Chemical 29]
【0061】[0061]
【化30】 Embedded image
【0062】[0062]
【化31】 [Chemical 31]
【0063】[0063]
【化32】 Embedded image
【0064】[0064]
【化33】 [Chemical 33]
【0065】[0065]
【化34】 Embedded image
【0066】(3) 下記一般式(XI) で表されるジスル
ホン誘導体又は下記一般式(XII)で表されるイミノスル
ホネート誘導体。(3) A disulfone derivative represented by the following general formula (XI) or an iminosulfonate derivative represented by the following general formula (XII).
【0067】[0067]
【化35】 Embedded image
【0068】式中、Ar3 及びAr4 は各々独立に置換もし
くは未置換のアリール基を示す。R 11は置換もしくは未
置換のアルキル基又はアリール基を表す。A1 は置換も
しくは未置換のアルキレン基、アルケニレン基又はアリ
ーレン基を示す。一般式(XI) 及び(XII)で示される化
合物の具体例としては、以下に示す化合物XI−1〜XI−
12及び XII−1〜 XII−12が挙げられるが、これら
に限定されるものではない。In the formula, ArThreeAnd ArFourAre each independently substituted
Or an unsubstituted aryl group. R 11Is replaced or not
It represents a substituted alkyl group or aryl group. A1Is also a replacement
Or an unsubstituted alkylene group, alkenylene group or ari
Represents a len group. Compounds represented by the general formulas (XI) and (XII)
Specific examples of the compound include compounds XI-1 to XI- shown below.
12 and XII-1 to XII-12.
However, the present invention is not limited to this.
【0069】[0069]
【化36】 Embedded image
【0070】[0070]
【化37】 Embedded image
【0071】[0071]
【化38】 Embedded image
【0072】[0072]
【化39】 Embedded image
【0073】[0073]
【化40】 [Chemical 40]
【0074】[0074]
【化41】 Embedded image
【0075】[0075]
【化42】 Embedded image
【0076】[0076]
【化43】 Embedded image
【0077】これらの酸前駆体の添加量は感光性組成物
の全固形分を基準として0.001 〜40重量%の範囲であ
り、好ましくは0.1〜20重量%の範囲である。酸前駆体
の添加量が少なすぎると感度が低下し、また多すぎても
感度は一定以上あがらずコストの面で不利である。The addition amount of these acid precursors is in the range of 0.001 to 40% by weight, preferably 0.1 to 20% by weight, based on the total solid content of the photosensitive composition. If the amount of the acid precursor added is too small, the sensitivity is lowered, and if it is too large, the sensitivity does not rise above a certain level, which is disadvantageous in cost.
【0078】露光後直ちに可視画像を得るための焼出し
剤として、露光による熱によって酸を放出する化合物と
塩を形成しうる有機染料との組合せを挙げることができ
る。具体的には特開昭50−36209号公報、特開昭
53−8128号公報記載のo−ナフトキノンジアジド
−4−スルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の組合
せや特開昭53−36223号公報、特開昭54−74
728号公報記載のトリハロメチル化合物と塩形成性有
機染料の組合せを挙げることができる。画像の着色剤と
して前記の塩形成性有機染料以外の染料も用いることが
できる。塩形成性有機染料も含めて好適な染料としては
油溶性染料又は塩基性染料がある。具体的には、例えば
オイルイエロー#101、オイルイエロー#130、オ
イルピンク#312、オイルグリーンBG、オイルブル
ーBOS、オイルブラックBY、オイルブラックBS、
オイルブラックT−505(以上オリエンタル化学工業
(株)製)、クリスタルバイオレット(CI4255
5)、メチルバイオレット(CI42535)、ローダ
ミンB(CI45170B)、マラカイトグリーン(C
I42000)、メチレンブルー(CI52015)な
どを挙げることができる。これらの染料は、感光性組成
物の全固形分に対し、0.01〜10重量%、好ましくは
0.1〜3重量%の割合で感光性組成物中に添加すること
ができる。なお本発明の赤外線吸収剤により十分な濃度
の可視画像が得られる場合、このような染料を添加する
必要はない。As a printing-out agent for obtaining a visible image immediately after exposure, there may be mentioned a combination of a compound which releases an acid by the heat of exposure and an organic dye capable of forming a salt. Specifically, a combination of an o-naphthoquinonediazide-4-sulfonic acid halogenide and a salt-forming organic dye described in JP-A-50-36209 and JP-A-53-8128, and JP-A-53-36223. , JP-A-54-74
A combination of a trihalomethyl compound and a salt-forming organic dye described in Japanese Patent No. 728 can be mentioned. As the image colorant, dyes other than the above-mentioned salt-forming organic dyes can be used. Suitable dyes including salt-forming organic dyes are oil-soluble dyes or basic dyes. Specifically, for example, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 130, Oil Pink # 312, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Black BY, Oil Black BS,
Oil Black T-505 (all manufactured by Oriental Chemical Co., Ltd.), Crystal Violet (CI4255)
5), methyl violet (CI42535), rhodamine B (CI45170B), malachite green (C
I42000), methylene blue (CI52015) and the like. These dyes are 0.01 to 10% by weight, preferably 0.01 to 10% by weight, based on the total solid content of the photosensitive composition.
It can be added to the photosensitive composition in a proportion of 0.1 to 3% by weight. If a visible image having a sufficient density can be obtained by the infrared absorbent of the present invention, it is not necessary to add such a dye.
【0079】また本発明の感光性組成物には必要に応じ
て塗布性を改良するためのアルキルエーテル類(例えば
エチルセルロース、メチルセルロース)、シリコーン系
界面活性剤、フッ素系界面活性剤やフッ素系表面配向
剤、膜の柔軟性や耐摩耗性を付与するための可塑剤(例
えばトリクレジルホスフェート、ジメチルフタレート、
リン酸トリオクチル、リン酸トリブチル、クエン酸トリ
ブチル、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリ
コール等)及び追加の増感剤などを添加することができ
る。更にシリコーンゴム層との接着性を強化するためシ
ランカップリング剤、チタンカップリング剤等を添加し
ても良い。添加量はその使用目的によって異なるが、一
般には感光性組成物の全固形分に対して0.3 〜30重量%
である。In the photosensitive composition of the present invention, if necessary, alkyl ethers (for example, ethyl cellulose, methyl cellulose), silicone-based surfactants, fluorine-based surfactants and fluorine-based surface alignments for improving coating properties are added. Agents, plasticizers for imparting film flexibility and abrasion resistance (eg tricresyl phosphate, dimethyl phthalate,
Trioctyl phosphate, tributyl phosphate, tributyl citrate, polyethylene glycol, polypropylene glycol, etc.) and additional sensitizers can be added. Further, a silane coupling agent, a titanium coupling agent, or the like may be added to enhance the adhesiveness with the silicone rubber layer. The addition amount varies depending on the purpose of use, but generally 0.3 to 30% by weight based on the total solid content of the photosensitive composition.
It is.
【0080】本発明の感光性組成物は上記各成分を溶解
する溶剤に溶解し、塗布される。ここで使用する溶媒と
しては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メ
チルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノ
ール、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−メ
トキシ−2−プロパノール、エチレングリコールモノエ
チルエーテル、2−メトキシエチルアセテート、1−メ
トキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、
乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミ
ド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレ
ア、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ス
ルホラン、γ−ブチロラクトン、トルエン、酢酸エチ
ル、ジオキサンなどがあり、これらの溶媒を単独あるい
は混合して使用する。溶媒中の上記成分(添加物を含む
全固形分)の濃度は、好ましくは2〜50重量%であ
る。また塗布量は一般的に固形分として好ましくは0.2
〜5.0 g/m2であるが、より好ましくは0.3 〜3.0 g/
m2である。The photosensitive composition of the present invention is applied by dissolving it in a solvent that dissolves each of the above components. As the solvent used here, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, ethylene glycol monoethyl ether, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy- 2-propyl acetate, dimethoxyethane,
There are methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethylsulfoxide, sulfolane, γ-butyrolactone, toluene, ethyl acetate, dioxane, and the like. Solvents may be used alone or as a mixture. The concentration of the above components (total solids including additives) in the solvent is preferably 2 to 50% by weight. Further, the coating amount is generally preferably 0.2 as solid content.
~ 5.0 g / m 2 , but more preferably 0.3 to 3.0 g / m 2.
m 2 .
【0081】上記の塗布用溶液は公知の塗布技術を用い
て支持体上に塗布される。塗布技術の例としては、回転
塗布法、ワイヤーバー塗布法、ディップ塗布法、エアー
ナイフ塗布法、ロール塗布法、ブレード塗布法、カーテ
ン塗布法及びスプレー塗布法等を挙げることができる。
上記のようにして塗布された感光性組成物の層は、熱風
乾燥機、赤外線乾燥機等を用いて30秒〜10分間、乾
燥される。ポジ型の湿し水不要感光性平版印刷版を作成
する場合は、50〜100℃で乾燥させることが望まし
い。一方ネガ型の湿し水不要感光性平版印刷版を作成す
る場合は、成分(a)と成分(b)との架橋を行わせる
ため100〜150℃で乾燥させることが好適である
が、塗布乾燥後の感光性組成物に改めて熱をかける方法
等を用いても良い。The above-mentioned coating solution is coated on the support using a known coating technique. Examples of the coating technique include a spin coating method, a wire bar coating method, a dip coating method, an air knife coating method, a roll coating method, a blade coating method, a curtain coating method and a spray coating method.
The layer of the photosensitive composition applied as described above is dried for 30 seconds to 10 minutes using a hot air dryer, an infrared dryer or the like. When a positive type fountain solution-free photosensitive lithographic printing plate is prepared, it is preferably dried at 50 to 100 ° C. On the other hand, in the case of producing a negative type photosensitive lithographic printing plate that does not require fountain solution, it is preferable to dry at 100 to 150 ° C. in order to crosslink the component (a) and the component (b). You may use the method etc. which heats the photosensitive composition after drying anew.
【0082】本発明で用いられる支持体は、通常の印刷
機にセットできる程度のたわみ性と印刷時にかかる荷重
とに耐えるものでなければならない。従って代表的な支
持体としては、コート紙、アルミニウムのような金属
板、ポリエチレンテレフタレートのようなプラスチック
フィルム、ゴム、あるいはそれらを複合させたものを挙
げることができ、より好ましくはアルミニウムおよびア
ルミニウム含有合金(例えばケイ素、銅、マンガン、マ
グネシウム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケルな
どの金属とアルミニウムとの合金)合金である。The support used in the present invention must be flexible enough to be set in an ordinary printing machine and capable of withstanding the load applied during printing. Therefore, as a typical support, coated paper, a metal plate such as aluminum, a plastic film such as polyethylene terephthalate, rubber, or a composite thereof can be mentioned, and more preferably aluminum and an aluminum-containing alloy. (For example, an alloy of a metal such as silicon, copper, manganese, magnesium, chromium, zinc, lead, bismuth, and nickel with aluminum) is an alloy.
【0083】本発明においては、支持体と感光層との間
にプライマー層を設けても良い。本発明に用いられるプ
ライマー層としては、基板と感光層間の接着性向上、ハ
レーション防止、画像の染色や印刷特性向上のために種
々のものを使用することができる。例えば特開昭60−
22903号公報に開示されているような種々の感光性
ポリマーを感光層を積層する前に露光して硬化せしめた
もの、特開昭62−50760号公報に開示されている
エポキシ樹脂を熱硬化せしめたもの、特開昭63−13
3151号公報に開示されているゼラチンを硬膜せしめ
たもの、さらに特開平3−200965号公報に開示さ
れているウレタン樹脂とシランカップリング剤を用いた
ものや特開平3−273248号公報に開示されている
ウレタン樹脂を用いたものなどを挙げることができる。
この他ゼラチンまたはカゼインを硬膜させたものも有効
である。更にプライマー層を柔軟化させる目的で、前記
のプライマー層中にガラス転移温度が室温以下であるポ
リウレタン、ポリアミド、スチレン/ブタジエンゴム、
カルボキシ変性スチレン/ブタジエンゴム、アクリロニ
トリル/ブタジエンゴム、カルボン酸変性アクリロニト
リル/ブタジエンゴム、ポリイソプレン、アクリレート
ゴム、ポリエチレン、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリ
プロピレン等のポリマーを添加しても良い。その添加割
合は任意でありフィルム層を形成できる範囲であれば添
加剤だけでプライマー層を形成しても良い。またこれら
のプライマー層には前記の目的に沿って染料、pH指示
薬、焼き出し剤、光重合開始剤、接着助剤(例えば重合
性モノマー、ジアゾ樹脂、シランカップリング剤、チタ
ネートカップリング剤やアルミニウムカップリング
剤)、顔料、シリカ粉末や酸化チタン粉末等の添加剤を
含有させることもできる。また塗布後、露光によって硬
化させることもできる。一般にプライマー層の塗布量は
0.1〜20g/m2 の範囲が適当であり、好ましくは
1〜10g/m2 であり、より好ましくは1〜5g/m
2 である。In the present invention, a primer layer may be provided between the support and the photosensitive layer. As the primer layer used in the present invention, various types can be used for improving the adhesion between the substrate and the photosensitive layer, preventing halation, dyeing an image and improving printing characteristics. For example, JP-A-60-
Various photosensitive polymers as disclosed in JP-A No. 22903, which are exposed and cured before laminating a photosensitive layer, and an epoxy resin disclosed in JP-A-62-50760, which is thermally cured. , Japanese Patent Laid-Open No. 63-13
The gelatin disclosed in Japanese Patent No. 3151, which has a hardened film, the one using a urethane resin and the silane coupling agent disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 3-200965, and the one disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 3-273248. It is possible to cite, for example, those using a urethane resin that is used.
In addition to these, those obtained by hardening gelatin or casein are also effective. Further, for the purpose of softening the primer layer, polyurethane, polyamide, styrene / butadiene rubber having a glass transition temperature of room temperature or lower in the primer layer,
Polymers such as carboxy-modified styrene / butadiene rubber, acrylonitrile / butadiene rubber, carboxylic acid-modified acrylonitrile / butadiene rubber, polyisoprene, acrylate rubber, polyethylene, chlorinated polyethylene, and chlorinated polypropylene may be added. The addition ratio is arbitrary, and the primer layer may be formed only with the additive as long as the film layer can be formed. Further, in these primer layers, a dye, a pH indicator, a printing-out agent, a photopolymerization initiator, an adhesion aid (for example, a polymerizable monomer, a diazo resin, a silane coupling agent, a titanate coupling agent or aluminum) is used according to the above purpose. (Coupling agent), pigments, and additives such as silica powder and titanium oxide powder can also be included. Further, after coating, it can be cured by exposure. Generally, the coating amount of the primer layer is appropriately in the range of 0.1 to 20 g / m 2 , preferably 1 to 10 g / m 2 , and more preferably 1 to 5 g / m 2.
2
【0084】本発明において用いられる架橋を行ったシ
リコーンゴム層は、下記組成物A、またはBを硬化して
形成した皮膜である。 組成物A ジオルガノポリシロキサン (数平均分子量が3,000 〜40,000) 100重量部 縮合型架橋剤 3〜70重量部 触媒 0.01〜40重量部 前記成分のジオルガノポリシロキサンは、下記一般式
で示されるような繰り返し単位を有するポリマーで、R
12およびR13は炭素原子数1〜10のアルキル基、ビニ
ル基、アリール基であり、またその他の適当な置換基を
有していても良い。一般的には、R12およびR13の60
%以上がメチル基、あるいはハロゲン化ビニル基、ハロ
ゲン化フェニル基などであるものが好ましい。 −SiR12R13−O− このようなジオルガノポリシロキサンは両末端に水酸基
を有するものを用いるのが好ましい。また前記成分
は、数平均分子量が3,000 〜40,000であり、より好まし
くは5,000 〜36,000である。The crosslinked silicone rubber layer used in the present invention is a film formed by curing the following composition A or B. Composition A Diorganopolysiloxane (Number average molecular weight is 3,000 to 40,000) 100 parts by weight Condensation type cross-linking agent 3 to 70 parts by weight Catalyst 0.01 to 40 parts by weight The diorganopolysiloxane as the component is represented by the following general formula. R having a repeating unit such as
12 and R 13 are alkyl groups having 1 to 10 carbon atoms, vinyl groups, aryl groups, and may have other appropriate substituents. Generally, 60 for R 12 and R 13
Those in which% or more is a methyl group, a vinyl halide group, a halogenated phenyl group or the like are preferable. —SiR 12 R 13 —O— It is preferable to use such a diorganopolysiloxane having a hydroxyl group at both ends. The above-mentioned component has a number average molecular weight of 3,000 to 40,000, more preferably 5,000 to 36,000.
【0085】また成分は縮合型のものであればいずれ
であっても良いが、次の一般式で示されるようなものが
好ましい。 R14m・ Si・Xn (m+n=4,nは2以上) ここでR14は先に説明したR12と同じ意味であり、X
は、Cl,Br,Iなどのハロゲン;HまたはOH;O
COR15, OR15, −O−N=CR16R17, −NR16R
17などの有機置換基を示す。ここでR15は炭素原子数1
〜10のアルキル基および炭素原子数6〜20のアリー
ル基、R16、R17は炭素原子数1〜10のアルキル基を
示す。成分は錫、亜鉛、鉛、カルシウム、マンガンな
どの金属カルボン酸塩、例えばラウリン酸ジブチル、オ
クチル酸鉛、ナフテン酸鉛など、あるいは塩化白金酸の
ような公知の触媒があげられる。Any component may be used as long as it is a condensation type, but those represented by the following general formula are preferable. R 14 m · Si · Xn (m + n = 4, n is 2 or more) Here, R 14 has the same meaning as R 12 described above, and X
Is halogen such as Cl, Br, I; H or OH; O
COR 15, OR 15, -O- N = CR 16 R 17, -NR 16 R
An organic substituent such as 17 is shown. Where R 15 is 1 carbon atom
An alkyl group having 10 to 10 and an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, and R 16 and R 17 each represent an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. The components include metal carboxylates of tin, zinc, lead, calcium, manganese, etc., such as dibutyl laurate, lead octylate, lead naphthenate, etc., or known catalysts such as chloroplatinic acid.
【0086】 組成物B 付加反応性官能基を有するジオルガノポリシロキサン (数平均分子量が3,000 〜100,000) 100重量部 オルガノハイドロジェンポリシロキサン 0.1〜10重量部 付加触媒 0.00001〜1重量部 上記の付加反応性官能基を有するジオルガノポリシロ
キサンとは、1分子中にケイ素原子に直接結合したアル
ケニル基(より好ましくはビニル基)を少なくとも2個
有するオルガノポリシロキサンで、アルケニル基は分子
鎖末端、中間いずれにあってもよく、アルケニル基以外
の有機基としては、置換もしくは非置換の炭素原子数1
〜10のアルキル基、アリール基である。また成分に
は水酸基を微量有することも任意である。成分の数平
均分子量は、3,000 〜40,000であり、より好ましくは5,
000 〜36,000である。Composition B Diorganopolysiloxane having an addition-reactive functional group (number average molecular weight is 3,000 to 100,000) 100 parts by weight Organohydrogenpolysiloxane 0.1 to 10 parts by weight Addition catalyst 0.00001 to 1 part by weight The above-mentioned diorganopolysiloxane having an addition-reactive functional group is an organopolysiloxane having at least two alkenyl groups (more preferably vinyl groups) directly bonded to a silicon atom in one molecule, and the alkenyl group has a molecular chain. The organic group other than the alkenyl group, which may be at the terminal or in the middle, has 1 or less carbon atoms, which may be substituted or unsubstituted.
10 are alkyl groups and aryl groups. It is also optional that the component has a small amount of hydroxyl groups. The number average molecular weight of the component is 3,000 to 40,000, more preferably 5,
It is 000 to 36,000.
【0087】成分としては、両末端水酸基のポリジメ
チルシロキサン、α、ω−ジメチルポリシロキサン、両
末端メチル基の(メチルシロキサン)(ジメチルシロキ
サン)共重合体、環状ポリメチルシロキサン、両末端ト
リメチルシリル基のポリメチルシロキサン、両末端トリ
メチルシリル基の(ジメチルシロキサン)(メチルシロキ
サン)共重合体などが例示される。成分としては、公
知のものの中から任意に選ばれるが、特に白金系の化合
物が望ましく、白金単体、塩化白金、塩化白金酸、オレ
フィン配位白金などが例示される。これらの組成物の硬
化速度を制御する目的で、テトラシクロ(メチルビニ
ル)シロキサンなどのビニル基含有のオルガノポリシロ
キサン、炭素−炭素三重結合含有のアルコール、アセト
ン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プ
ロピレングリコールモノメチルエーテルなどの架橋抑制
剤を添加することも可能である。The components include polydimethylsiloxane having hydroxyl groups at both ends, α, ω-dimethylpolysiloxane, (methylsiloxane) (dimethylsiloxane) copolymer having methyl groups at both ends, cyclic polymethylsiloxane, and trimethylsilyl groups at both ends. Examples thereof include polymethylsiloxane and a (dimethylsiloxane) (methylsiloxane) copolymer having trimethylsilyl groups at both ends. The component is arbitrarily selected from known ones, but a platinum-based compound is particularly preferable, and platinum simple substance, platinum chloride, chloroplatinic acid, olefin-coordinated platinum, etc. are exemplified. For the purpose of controlling the curing speed of these compositions, vinyl group-containing organopolysiloxane such as tetracyclo (methylvinyl) siloxane, carbon-carbon triple bond-containing alcohol, acetone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propylene glycol monomethyl ether. It is also possible to add a crosslinking inhibitor such as.
【0088】なおシリコーンゴム層には必要に応じてシ
リカ、炭酸カルシウム、酸化チタン等の無機物の粉末、
前記のシランカップリング剤、チタネートカップリング
剤やアルミニウム系カップリング剤等の接着助剤や光重
合開始剤を添加しても良い。本発明におけるシリコーン
ゴム層は印刷インキ反撥層となるものであり、厚さが小
さいとインキ反撥性の低下、傷が入りやすい等の問題が
あり、厚さが大きいと、現像性が悪くなるという点か
ら、厚みとしては0.5〜5g/m2 が好適であり、好
ましくは1〜3g/m2 である。If necessary, the silicone rubber layer may be powdered with an inorganic substance such as silica, calcium carbonate or titanium oxide.
Adhesion aids such as the above-mentioned silane coupling agent, titanate coupling agent and aluminum-based coupling agent, and a photopolymerization initiator may be added. The silicone rubber layer in the present invention serves as a printing ink repellent layer, and when the thickness is small, there are problems such as a decrease in ink repelling property and easy scratches. When the thickness is large, developability is deteriorated. from the point, the thickness is preferably 0.5 to 5 g / m 2, preferably from 1 to 3 g / m 2.
【0089】ここに説明した湿し水不要感光性平版印刷
版において、シリコーンゴム層の上に更に種々のシリコ
ーンゴム層を塗工しても良い。更にシリコーンゴム層の
表面保護のために、シリコーンゴム層上に透明なフィル
ム、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビ
ニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポ
リエチレンテレフタレート、セロファン等をラミネート
したりポリマーのコーティングを施しても良い。これら
のフィルムは延伸して用いても良い。またこれらのフィ
ルムにはマットを施しても良い。In the photosensitive lithographic printing plate requiring no fountain solution described above, various silicone rubber layers may be further coated on the silicone rubber layer. Further, in order to protect the surface of the silicone rubber layer, a transparent film such as polyethylene, polypropylene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, polyethylene terephthalate, or cellophane is laminated on the silicone rubber layer or coated with a polymer. May be. These films may be used after being stretched. A mat may be applied to these films.
【0090】本発明の湿し水不要感光性平版印刷版は通
常、像露光、現像工程を施される。本発明の印刷版に用
いられる活性光線の光源としては、近赤外から赤外領域
に発光波長を持つ光源が好ましく、例えば、固体レー
ザ、半導体レーザが特に好ましい。ただし、使用される
酸前駆体の種類によっては、水銀灯、メタルハライドラ
ンプ、キセノンランプ、ケミカルランプ、カーボンアー
ク灯の紫外線の他、電子線、X線、イオンビーム、遠紫
外線などでも画像形成は可能である。フォトレジスト用
の光源に使われるg線、i線、Deep−UV光も使用する
事ができ、また高密度エネルギービーム(レーザビーム
又は電子線)による走査露光も本発明に使用することが
できる。このようなレーザビームとしてはヘリウム・ネ
オンレーザ、アルゴンレーザ、クリプトンイオンレー
ザ、ヘリウム・カドミウムレーザ、KrFエキシマレー
ザなどが挙げられる。The fountain solution-free photosensitive lithographic printing plate of the present invention is usually subjected to image exposure and development steps. As a light source for actinic rays used in the printing plate of the present invention, a light source having an emission wavelength in the near infrared to infrared region is preferable, and for example, a solid laser and a semiconductor laser are particularly preferable. However, depending on the type of acid precursor used, image formation is possible with electron beams, X-rays, ion beams, far-ultraviolet rays, etc. in addition to ultraviolet rays from mercury lamps, metal halide lamps, xenon lamps, chemical lamps and carbon arc lamps. is there. The g-line, i-line, and Deep-UV light used as a light source for photoresist can also be used, and scanning exposure with a high-density energy beam (laser beam or electron beam) can also be used in the present invention. Examples of such a laser beam include a helium / neon laser, an argon laser, a krypton ion laser, a helium / cadmium laser, and a KrF excimer laser.
【0091】本発明による湿し水不要感光性平版印刷版
は露光した後、酸前駆体から発生した酸による反応を促
進するため加熱を施しても良い。この加熱工程は80〜
150℃の温度範囲で、5秒〜20分の範囲で行われる
ことが好ましい。露光及び必要に応じて加熱工程を経た
湿し水不要感光性平版印刷版は、画像部の感光層の一部
あるいは全部を溶解あるいは膨潤しうる現像液、あるい
はシリコーンゴム層を膨潤しうる現像液で現像される。
この場合画像部の感光層およびその上のシリコーンゴム
層が除去される場合と画像部のシリコーンゴム層のみが
除去される場合があり、これは現像液の強さによって制
御することができる。The photosensitive lithographic printing plate not requiring fountain solution according to the present invention may be exposed and then heated to accelerate the reaction by the acid generated from the acid precursor. This heating process is 80 ~
It is preferable that the heating is performed in the temperature range of 150 ° C. for 5 seconds to 20 minutes. A photosensitive lithographic printing plate that does not require dampening water that has undergone exposure and optionally a heating step is a developer capable of dissolving or swelling a part or all of the photosensitive layer in the image area, or a developer capable of swelling a silicone rubber layer. To be developed.
In this case, the photosensitive layer in the image area and the silicone rubber layer on it may be removed, or only the silicone rubber layer in the image area may be removed, which can be controlled by the strength of the developing solution.
【0092】本発明の湿し水不要感光性平版印刷板の現
像液としては、公知のものが使用できる。例えば、脂肪
族炭化水素類(ヘキサン、ヘプタン、“アイソパーE、
H、G”(エッソ化学製脂肪族炭化水素類の商標名)あ
るいはガソリン、灯油など)、芳香族炭化水素類(トル
エン、キシレンなど)、あるいはハロゲン化炭化水素
(トリクレンなど)に下記の極性溶媒を添加したものや
極性溶媒そのものが好適である。 ・アルコール類(メタノール、エタノール、プロパノー
ル、ベンジルアルコール、エチレングリコールモノフェ
ニルエーテル、2−メトキシエタノール、2−エトキシ
エタノール、カルビトールモノメチルエーテル、カルビ
トールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモ
ノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエ
ーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジ
プロピレングリコールモノメチルエーテル、ポリエチレ
ングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコー
ル、ポリプロピレングリコール、トリエチレングリコー
ル、テトラエチレングリコール) ・ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン) ・エステル類(酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、
乳酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテル
アセテート、カルビトールアセテート、ジメチルフタレ
ート、ジエチルフタレート) ・その他(トリエチルフォスフェート、トリクレジルフ
ォスフェート)As the developer for the photosensitive lithographic printing plate not requiring fountain solution of the present invention, a known developer can be used. For example, aliphatic hydrocarbons (hexane, heptane, “Isopar E,
H, G "(trade name of aliphatic hydrocarbons manufactured by Esso Kagaku) or gasoline, kerosene, etc., aromatic hydrocarbons (toluene, xylene, etc.), or halogenated hydrocarbons (tricrene, etc.) Alcohols (methanol, ethanol, propanol, benzyl alcohol, ethylene glycol monophenyl ether, 2-methoxyethanol, 2-ethoxyethanol, carbitol monomethyl ether, carbitol mono) are suitable. Ethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, polyethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol Ren glycol, polypropylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol) ・ Ketones (acetone, methyl ethyl ketone) ・ Esters (ethyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate,
Butyl lactate, propylene glycol monomethyl ether acetate, carbitol acetate, dimethyl phthalate, diethyl phthalate) ・ Others (triethyl phosphate, tricresyl phosphate)
【0093】また上記有機溶剤系現像液に水を添加した
り、上記溶剤を界面活性剤を用いて水に可溶化したもの
や、更にその上にアルカリ剤、例えば珪酸ナトリウム、
珪酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水
酸化リチウム、第三リン酸ナトリウム、第二リン酸ナト
リウム、第三リン酸アンモニウム、第二リン酸アンモニ
ウム、メタ珪酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、アンモ
ニア水などのような無機アルカリ剤や、テトラアルキル
アンモニウムハイドライド、モノエタノールアミン、ジ
エタノールアミン、トリエタノールアミンなどのような
有機アルカリ剤を添加することができる。また場合によ
っては単に水道水やアルカリ水を現像液として使用する
ことができ、必要に応じて界面活性剤や上記のような有
機溶媒を加えることもできる。またクリスタルバイオレ
ット、アストラゾンレッドなどの染料を現像液に加えて
現像と、画像部の染色を同時に行うことも可能である。
現像は、例えば上記のような現像液を含む現像用パッド
で版面をこすったり、現像液を版面に注いだ後に水中で
現像ブラシでこするなど、公知の方法で行うことができ
る。現像液温は任意であるが、好ましくは10℃〜50
℃である。Further, water is added to the above organic solvent type developer, or the above solvent is solubilized in water by using a surface active agent, and further an alkaline agent such as sodium silicate,
Potassium silicate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, sodium phosphate tribasic, sodium phosphate dibasic, ammonium phosphate tribasic, ammonium phosphate dibasic, sodium metasilicate, sodium bicarbonate, aqueous ammonia, etc. And an organic alkali agent such as tetraalkylammonium hydride, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, etc. can be added. In some cases, tap water or alkaline water can be simply used as a developing solution, and a surfactant or the above-mentioned organic solvent can be added if necessary. It is also possible to add a dye such as crystal violet or astrazone red to a developing solution to perform development and dye the image area at the same time.
The development can be carried out by a known method such as rubbing the plate surface with a developing pad containing a developer as described above, or pouring the developer onto the plate surface and then rubbing it with a developing brush in water. The temperature of the developer is arbitrary, but is preferably 10 ° C to 50 ° C.
° C.
【0094】このようにして得られた刷版は、その画像
形成性を確認するため露出画像部を染色液で染色し、検
知しうるようにできる。現像液に露出画像部の染色のた
めの染料を含有しない場合には現像後に染色液で染色さ
れる。染色液を軟らかいパッドにしみこませ、画像部を
軽くこすることにより、画像部のみが染色され、これに
よりハイライト部まで現像が十分に行われていることを
確認できる。染色液としては水溶性の分散染料、酸性染
料および塩基性染料のうちから選ばれる1種または2種
以上を水、アルコール類、ケトン類、エーテル類などの
単独または2種以上の混合液に溶解または分散せしめた
ものが用いられる。染色性を向上させるためにカルボン
酸類、アミン類、界面活性剤、染色助剤、消泡剤などを
加えることも効果的である。In the printing plate thus obtained, the exposed image portion can be dyed with a dyeing solution so as to be detected so as to confirm the image forming property. When the developer does not contain a dye for dyeing the exposed image area, it is dyed with a dyeing solution after development. By impregnating the dyeing solution into a soft pad and rubbing the image area lightly, only the image area is dyed, whereby it can be confirmed that the development is sufficiently performed up to the highlight area. As the dyeing solution, one or more selected from water-soluble disperse dyes, acid dyes and basic dyes are dissolved in water, alcohols, ketones, ethers, etc. alone or in a mixture of two or more kinds. Alternatively, a dispersed product is used. It is also effective to add a carboxylic acid, an amine, a surfactant, a dyeing aid, an antifoaming agent or the like in order to improve the dyeability.
【0095】染色液により染色された刷版は、ついで水
洗し、その後乾燥する事が望ましく、これにより版面の
べとつきを抑えることができ、刷版の取り扱い性を向上
させることができる。またこのように処理された刷版を
積み重ねて保管する場合には版面を保護するために合紙
を挿入し挟んでおくことが好ましい。以上のような現像
処理と染色処理、またそれに続く水洗乾燥処理は自動処
理機で行うことが好ましい。このような自動処理機の好
ましいものは特開平2−220061号公報に記載され
ている。The printing plate dyed with the dyeing solution is preferably washed with water and then dried, whereby the stickiness of the printing plate can be suppressed and the handling property of the printing plate can be improved. When the printing plates thus treated are stacked and stored, it is preferable to insert and sandwich a slip sheet to protect the plate surface. It is preferable that the above-mentioned development processing, dyeing processing, and subsequent water washing and drying processing are carried out by an automatic processor. A preferable example of such an automatic processor is described in JP-A-2-220061.
【0096】[0096]
【発明の効果】本発明の湿し水不要感光性平版印刷版
は、ポジ型またはネガ型の両方に使用可能なヒートモー
ド型直接製版用湿し水不要平版印刷版であり、近赤外か
ら赤外に発光領域を持つ固体レーザ・半導体レーザを用
いてコンピュータ等のデジタル信号から直接製版が可能
である。The photosensitive lithographic printing plate not requiring fountain solution of the present invention is a lithographic printing plate requiring no fountain solution for heat mode type direct plate making which can be used for both positive type and negative type. It is possible to make a plate directly from a digital signal from a computer or the like by using a solid-state laser / semiconductor laser having an infrared emission region.
【0097】[0097]
(基板の作成)厚さ0.24mmの2Sアルミニウム板を8
0℃に保った第三燐酸ナトリウムの10%水溶液に3分
間浸漬して脱脂し、ナイロンブラシで砂目立てした後、
アルミン酸ナトリウムで約10分間エッチングして、硫
酸水素ナトリウム3%水溶液でデスマット処理を行っ
た。このアルミニウム板を20%硫酸中で電流密度2A
/dm2 で2分間陽極酸化を行った。(Creation of substrate) 8 of 2S aluminum plate with a thickness of 0.24 mm
After immersing in a 10% aqueous solution of sodium triphosphate kept at 0 ° C for 3 minutes to degrease it and graining with a nylon brush,
It was etched with sodium aluminate for about 10 minutes, and desmutted with a 3% aqueous solution of sodium hydrogen sulfate. This aluminum plate is subjected to a current density of 2 A in 20% sulfuric acid.
Anodization was performed for 2 minutes at / dm 2 .
【0098】(カーボンブラック分散液の作成)下記重
量比による組成物をガラスビーズにより10分間分散
し、カーボンブラック分散液を得た。 カーボンブラック 1重量部 ベンジルメタクリレート/メタクリル酸共重合体 1.6重量部 (モル比72/28,重量平均分子量7万) シクロヘキサノン 1.6重量部 メトキシプロピルアセテート 3.8重量部(Preparation of Carbon Black Dispersion) A composition having the following weight ratio was dispersed with glass beads for 10 minutes to obtain a carbon black dispersion. Carbon black 1 part by weight Benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer 1.6 parts by weight (molar ratio 72/28, weight average molecular weight 70,000) Cyclohexanone 1.6 parts by weight Methoxypropyl acetate 3.8 parts by weight
【0099】(感光層)上記アルミニウム板上に、下記
組成の感光液を塗布し、80℃で2分間乾燥した。乾燥
後の重量は2g/m2 であった。 前記のカーボンブラック分散液 10重量部 表−1のエノールエーテル化合物 3重量部 表−1の酸前駆体 0.3重量部 メチルメタクリレート/メタクリル酸の共重合体 10重量部 (モル比70/30,重量平均分子量3万) MCF323 0.1重量部 (大日本インキ化学工業(株)製、界面活性剤) メチルエチルケトン 50重量部(Photosensitive Layer) A photosensitive solution having the following composition was applied on the above aluminum plate and dried at 80 ° C. for 2 minutes. The weight after drying was 2 g / m 2 . 10 parts by weight of the above carbon black dispersion 3 parts by weight of enol ether compound of Table-1 0.3 parts by weight of acid precursor of table-1 10 parts by weight of methyl methacrylate / methacrylic acid copolymer (molar ratio 70/30, Weight average molecular weight 30,000) MCF323 0.1 part by weight (Dainippon Ink and Chemicals, Inc., surfactant) Methyl ethyl ketone 50 parts by weight
【0100】(シリコーンゴム層)上記感光層上に、下
記のシリコーンゴム組成液を乾燥重量2g/m2 になる
よう塗布し、100℃、2分間乾燥した。 ・α,ω−ジビニルポリジメチルシロキサン(重合度約700) 9重量部 ・(CH3)3-Si-O-(SiH(CH3)-O)8-Si(CH3)3 0.5重量部 ・ポリジメチルシロキサン(重合度約8,000) 0.5重量部 ・オレフィン−塩化白金酸 0.2重量部 ・抑制剤(CH2=CHSi(CH3)2OSi(CH3)3) 0.3重量部 ・アイソパーE(エッソ化学(株)製) 140重量部 上記のようにして得られたシリコーンゴム層の表面に、
厚さ9μmの二軸延伸ポリプロピレンフィルムをラミネ
ートし、湿し水不要感光性平版印刷版を得た。(Silicone Rubber Layer) The following silicone rubber composition liquid was applied onto the photosensitive layer so that the dry weight was 2 g / m 2, and dried at 100 ° C. for 2 minutes.・ Α, ω-divinylpolydimethylsiloxane (polymerization degree: about 700) 9 parts by weight ・ (CH 3 ) 3 -Si-O- (SiH (CH 3 ) -O) 8 -Si (CH 3 ) 3 0.5 part by weight parts polydimethylsiloxane (polymerization degree about 8,000) 0.5 parts by weight olefin - chloroplatinic acid 0.2 parts by weight inhibitor (CH 2 = CHSi (CH 3 ) 2 OSi (CH 3) 3) 0.3 By weight: Isopar E (manufactured by Esso Chemical Co., Ltd.) 140 parts by weight On the surface of the silicone rubber layer obtained as described above,
A biaxially stretched polypropylene film having a thickness of 9 μm was laminated to obtain a photosensitive lithographic printing plate not requiring dampening water.
【0101】得られた印刷版を、版面出力2Wに調節し
たYAGレーザで露光した後、ラミネートされたフィル
ムを剥離し、トリプロピレングリコールの40℃の液に
印刷版を1分間浸漬し水中で現像パッドによりこすった
ところ、いずれの実施例の印刷版においても、露光部で
はシリコーンゴム層が残存し、未露光部では感光層が露
出したポジ型の湿し水不要平版印刷版か得られた。The printing plate thus obtained was exposed to a YAG laser adjusted to a plate surface output of 2 W, the laminated film was peeled off, the printing plate was immersed in a solution of tripropylene glycol at 40 ° C. for 1 minute and developed in water. When rubbed with a pad, a positive type fountain solution-free lithographic printing plate in which the silicone rubber layer remained in the exposed portion and the photosensitive layer was exposed in the unexposed portion was obtained in any of the printing plates of Examples.
【0102】[0102]
【表1】 表−1 エノールエーテル化合物 酸前駆体 実施例1 II−11 IX−2 実施例2 VI−3 IX−2 実施例3 II−11 VII −2 実施例4 II−11 VIII−2実施例5 II−11 XI−8 [Table 1] Table-1 Enol ether compound Acid precursor Example 1 II-11 IX-2 Example 2 VI-3 IX-2 Example 3 II-11 VII-2 Example 4 II-11 VIII-2 Implementation Example 5 II-11 XI-8
【0103】比較例1 実施例1の感光液組成中、カーボンブラック分散液の代
わりに油溶性染料(ビクトリアピュアブルーBOH)1.
25重量部を用いた以外は実施例1と同様にして、湿し
水不要感光性平版印刷版を作成した。この湿し水不要感
光性平版印刷版を実施例1と同様に露光、現像処理した
ところ、シリコーンゴム層が全面で剥離し、画像が得ら
れなかった。 Comparative Example 1 In the photosensitive liquid composition of Example 1, an oil-soluble dye (Victoria Pure Blue BOH) was used in place of the carbon black dispersion.
A fountain solution-free photosensitive lithographic printing plate was prepared in the same manner as in Example 1 except that 25 parts by weight was used. When this photosensitive lithographic printing plate requiring no fountain solution was exposed and developed in the same manner as in Example 1, the silicone rubber layer was peeled off over the entire surface, and no image was obtained.
【0104】実施例6 実施例1で用いたカーボンブラック分散液10重量部の
代わりに下記染料( 0.02 重量部)を用い、実施例1と
同様の操作により感光性平版印刷版を作成した。 染料:2,6-ジ-t- ブチル-4-[5-(2,6- ジ-t- ブチル-4H-
チオピラン-4- イリデン)-ペンタ-1,3- ジエニル] チオ
ピリリウムテトラフルオロボレート(米国特許第4,2
83,475号記載の化合物) 得られた感光性平版印刷版を半導体レーザ(波長825 n
m、スポット径:1/e2 =11.9 μm)を用い、線速度8m/se
c、版面出力110mW で露光した。実施例1と同様の現像
処理を行ったところ、ポジ型の湿し水不要平版印刷版が
得られた。 Example 6 A photosensitive lithographic printing plate was prepared in the same manner as in Example 1, except that the dye (0.02 parts by weight) shown below was used instead of 10 parts by weight of the carbon black dispersion used in Example 1. Dye: 2,6-di-t-butyl-4- [5- (2,6-di-t-butyl-4H-
Thiopyran-4-ylidene) -penta-1,3-dienyl] thiopyrylium tetrafluoroborate (US Pat. No. 4,2,4)
Compounds described in No. 83,475) The obtained photosensitive lithographic printing plate was used as a semiconductor laser (wavelength 825 n
m, spot diameter: 1 / e 2 = 11.9 μm), linear velocity 8 m / se
c, the plate surface was exposed at 110 mW. When the same developing treatment as in Example 1 was carried out, a positive type fountain solution-free lithographic printing plate was obtained.
【0105】実施例7 実施例1で用いたシリコーンゴム層の代わりに、下記組
成よりなるシリコーンゴム液を乾燥重量2g/m2 とな
るように実施例1の感光層上に塗布し、100℃、2分
間乾燥させ、カバーフィルムを設けて湿し水不要感光性
平版印刷版を作成した。 ・両末端に水酸基を有するジメチルポリシロキサン(重合度700) 9重量部 ・メチルトリアセトキシシラン 0.3重量部 ・トリメトキシシリルプロピル−3, 5− ジアリルイソシアヌレート 0.3重量部 ・ジブチル錫ジオクタノエート 0.03重量部 ・アイソパーE(エッソ化学(株)製) 160重量部 この印刷版を実施例1と同様に露光、現像処理を行った
ところ、ポジ型の湿し水不要平版印刷版が得られた。 Example 7 Instead of the silicone rubber layer used in Example 1, a silicone rubber liquid having the following composition was applied on the photosensitive layer of Example 1 so that the dry weight was 2 g / m 2, and the temperature was 100 ° C. It was dried for 2 minutes, and a cover film was provided to prepare a photosensitive lithographic printing plate not requiring dampening water. Dimethylpolysiloxane having hydroxyl groups at both ends (polymerization degree 700) 9 parts by weight Methyltriacetoxysilane 0.3 parts by weight Trimethoxysilylpropyl-3,5-diallyl isocyanurate 0.3 parts by weight Dibutyltin dioctanoate 0.03 parts by weight Isopar E (manufactured by Esso Chemical Co., Ltd.) 160 parts by weight When this printing plate was exposed and developed in the same manner as in Example 1, a positive type fountain solution-free lithographic printing plate was obtained. Was given.
【0106】実施例8 〔ネガ型湿し水不要感光性平版印刷版の作成〕実施例1
で作成したアルミニウム基板に実施例1の感光液を塗布
し120℃で10分間乾燥して感光層を形成した。その
感光層上に、実施例1と同様にしてシリコーンゴム層の
形成、フィルムのラミネートを行い湿し水不要感光性平
版印刷版を作成した。得られた印刷版を、版面出力2W
に調節したYAGレーザで露光した後、ラミネートされ
たフィルムを剥離し、トリプロピレングリコールの40
℃の液に印刷版を1分間浸漬し、水中で現像パッドによ
りこすったところ、未露光部ではシリコーンゴム層が残
存し、露光部では感光層が露出したネガ型湿し水不要平
版印刷版が得られた。 Example 8 [ Preparation of a negative-type dampening water-free photosensitive lithographic printing plate] Example 1
The photosensitive solution of Example 1 was applied to the aluminum substrate prepared in 1. and dried at 120 ° C. for 10 minutes to form a photosensitive layer. On the photosensitive layer, a silicone rubber layer was formed and a film was laminated in the same manner as in Example 1 to prepare a photosensitive lithographic printing plate not requiring dampening water. The printing plate obtained is printed with a plate output of 2 W.
After exposing with a YAG laser adjusted to, the laminated film was peeled off, and 40 parts of tripropylene glycol was removed.
When the printing plate was immersed in a liquid at ℃ for 1 minute and rubbed with a development pad in water, the silicone rubber layer remained in the unexposed area and the photosensitive layer was exposed in the exposed area. Was obtained.
【0107】比較例2 実施例8の感光液組成中カーボンブラック分散液の代わ
りに油溶性染料(ビクトリアピュアブルーBOH)1.2
5重量部を用いた以外は実施例8と同様にして、湿し水
不要平版印刷版を作成した。この印刷版を実施例8と同
様に露光、現像処理したところシリコーンゴム層が全面
で剥離せず画像が得られなかった。 Comparative Example 2 Oil-soluble dye (Victoria Pure Blue BOH) 1.2 in place of the carbon black dispersion in the photosensitive liquid composition of Example 8 was used.
A planographic printing plate unnecessary for fountain solution was prepared in the same manner as in Example 8 except that 5 parts by weight was used. When this printing plate was exposed and developed in the same manner as in Example 8, the silicone rubber layer was not peeled off over the entire surface and an image could not be obtained.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G03F 7/033 G03F 7/033 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification number Agency reference number FI Technical indication location G03F 7/033 G03F 7/033
Claims (1)
をこの順に積層してなり、該感光層が少なくとも (a)一般式(I)で示されるエノールエーテル基を少な
くとも2個有する化合物、 (b) 線状高分子化合物 (c) 赤外線吸収剤 (d) 酸前駆体 を含有することを特徴とする湿し水不要感光性平版印刷
版。 (R1 )(R2 )C=C(R3 )−O− (I) (式中、R1 、R2 、R3 はそれぞれ独立に水素、アル
キル基又はアリール基を表す。また、それらの内の2つ
が結合して飽和又はオレフィン性不飽和の環を形成して
もよい。)1. A compound in which a photosensitive layer and a silicone rubber layer are laminated in this order on a support, and the photosensitive layer has at least (a) at least two enol ether groups represented by the general formula (I), A photosensitive lithographic printing plate not requiring a fountain solution, which comprises (b) a linear polymer compound (c) an infrared absorber (d) an acid precursor. (R 1 ) (R 2 ) C═C (R 3 ) —O— (I) (In the formula, R 1 , R 2 , and R 3 each independently represent hydrogen, an alkyl group, or an aryl group. Two of them may combine to form a saturated or olefinically unsaturated ring.)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7231675A JPH0980745A (en) | 1995-09-08 | 1995-09-08 | Damping-waterless photosensitive planographic printing plate |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7231675A JPH0980745A (en) | 1995-09-08 | 1995-09-08 | Damping-waterless photosensitive planographic printing plate |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0980745A true JPH0980745A (en) | 1997-03-28 |
Family
ID=16927229
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7231675A Pending JPH0980745A (en) | 1995-09-08 | 1995-09-08 | Damping-waterless photosensitive planographic printing plate |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0980745A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11160860A (en) * | 1997-11-28 | 1999-06-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | Positive image forming material |
-
1995
- 1995-09-08 JP JP7231675A patent/JPH0980745A/en active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11160860A (en) * | 1997-11-28 | 1999-06-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | Positive image forming material |
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