JPH08198860A - Process for producing 2- (1H-1,2,4-triazol-1-yl) acetophenones - Google Patents
Process for producing 2- (1H-1,2,4-triazol-1-yl) acetophenonesInfo
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Abstract
(57)【要約】
本発明は、抗真菌剤および農薬の製造原料として有用で
ある2−(1H−1,2,4−トリアゾール−1−イル)
アセトフェノン類の新規製造法に関する。
【構成】カルボキシル保護基で保護された1,2,4−ト
リアゾール酢酸誘導体にフェニル基が置換されていても
よい安息香酸類の反応性誘導体を塩基および金属ハロゲ
ン化物の存在下に反応させ、ついで、脱エステルおよび
脱炭酸することを特徴とする2−(1H−1,2,4−ト
リアゾール−1−イル)アセトフェノン類の製造法。
【効果】本願発明の製造法は、抗真菌剤および農薬の製
造原料として有用である2−(1H−1,2,4−トリア
ゾール−1−イル)アセトフェノン類を高純度かつ高収
率で製造でき、さらに、各工程の反応時間が通常1〜5
時間程度と比較的短く、精製工程も簡便であり、スケー
ルアップが容易で工業的に有用である。(57) [Summary] The present invention is useful as a raw material for producing antifungal agents and agricultural chemicals. 2- (1H-1,2,4-triazol-1-yl)
The present invention relates to a new method for producing acetophenones. [Structure] A 1,2,4-triazoleacetic acid derivative protected with a carboxyl protecting group is reacted with a reactive derivative of benzoic acid which may have a phenyl group substituted in the presence of a base and a metal halide, and then, A method for producing 2- (1H-1,2,4-triazol-1-yl) acetophenones, which comprises deesterification and decarboxylation. [Effect] The production method of the present invention produces 2- (1H-1,2,4-triazol-1-yl) acetophenones, which are useful as raw materials for producing antifungal agents and agricultural chemicals, in high purity and high yield. In addition, the reaction time of each step is usually 1 to 5
The time is relatively short, the purification process is simple, scale-up is easy, and it is industrially useful.
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、抗真菌剤または農薬の
製造原料として有用である、一般式[1]FIELD OF THE INVENTION The present invention is useful as a raw material for producing antifungal agents or agricultural chemicals.
【化7】 (式中、R1およびR2は、同一または異なって水素原
子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、シアノ基、ニ
トロ基、ハロゲノ低級アルキル基、低級アルキルスルホ
ニル基またはハロゲン原子を示す。)で表わされる2−
(1H−1,2,4−トリアゾール−1−イル)アセトフ
ェノン類の製造法に関するものである。すなわち、具体
的には、一般式[4][Chemical 7] (In the formula, R 1 and R 2 are the same or different and each represents a hydrogen atom, a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a cyano group, a nitro group, a halogeno lower alkyl group, a lower alkylsulfonyl group or a halogen atom.) 2-
The present invention relates to a method for producing (1H-1,2,4-triazol-1-yl) acetophenones. That is, specifically, the general formula [4]
【化8】 (式中、Rは、カルボキシル保護基を示す。)で表わさ
れる1,2,4−トリアゾール酢酸誘導体に一般式[3]Embedded image (In the formula, R represents a carboxyl protecting group.) The 1,2,4-triazoleacetic acid derivative represented by the general formula [3]
【化9】 (式中、R1およびR2は、同一または異なって水素原
子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、シアノ基、ニ
トロ基、ハロゲノ低級アルキル基、低級アルキルスルホ
ニル基またはハロゲン原子を示す。)で表わされる安息
香酸類の反応性誘導体を塩基および金属ハロゲン化物の
存在下に反応させ、一般式[5][Chemical 9] (In the formula, R 1 and R 2 are the same or different and each represents a hydrogen atom, a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a cyano group, a nitro group, a halogeno lower alkyl group, a lower alkylsulfonyl group or a halogen atom.) By reacting a reactive derivative of benzoic acid represented by the formula [5] with a base and a metal halide.
【化10】 (式中、R1、R2およびRは、上記したと同様の意味を
有する。)で表わされる3−フェニル−2−(1H−
1,2,4−トリアゾール−1−イル)プロピオン酸エス
テル誘導体を得、ついで、脱エステルおよび脱炭酸する
ことを特徴とする一般式[1][Chemical 10] (In the formula, R 1 , R 2 and R have the same meanings as described above.) 3-phenyl-2- (1H-
1,2,4-triazol-1-yl) propionic acid ester derivative is obtained, followed by deesterification and decarboxylation of the general formula [1]
【化11】 (式中、R1およびR2は、上記したと同様の意味を有す
る。)で表わされる2−(1H−1,2,4−トリアゾー
ル−1−イル)アセトフェノン類の製造法を提供するも
のである。[Chemical 11] (In the formula, R 1 and R 2 have the same meanings as described above.) A method for producing 2- (1H-1,2,4-triazol-1-yl) acetophenones is provided. Is.
【0002】[0002]
【従来の技術】これまで、一般式[1]の化合物の製造
法として、たとえば、特公昭59-13512号および同59-532
66号に記載の方法が知られている。すなわち、一般式
[2]2. Description of the Related Art Heretofore, as a method for producing a compound of the general formula [1], for example, JP-B-59-13512 and 59-532.
The method described in No. 66 is known. That is, the general formula [2]
【化12】 (式中、R1およびR2は、前記したと同様の意味を有
し;Xは、ハロゲン原子を示す。)で表わされるアセト
フェノン誘導体に1,2,4−トリアゾールを反応させる
ことにより一般式[1]の化合物を得る方法である(製
造法1)。また、ジャーナル・オブ・ヘテロサイクリッ
ク・ケミストリー[J.Heterocyclic.Chem.]、第30巻、
第1405頁(1993年)およびジャーナル・オブ・オーガニ
ック・ケミストリー[J.Org.Chem.]、第54巻、第731頁
(1989年)に記載の方法が知られている。すなわち、一
般式[2]の化合物に4−アミノ−1,2,4−トリアゾ
ールを反応させ、ついで脱アミノ化反応に付すことによ
り一般式[1]の化合物を得る方法である(製造法
2)。[Chemical 12] (In the formula, R 1 and R 2 have the same meanings as described above; X represents a halogen atom.) The acetophenone derivative represented by the general formula is reacted with 1,2,4-triazole. This is a method for obtaining the compound of [1] (Production method 1). Also, Journal of Heterocyclic Chemistry [J.Heterocyclic.Chem.], Volume 30,
The methods described in p. 1405 (1993) and in Journal of Organic Chemistry [J.Org.Chem.], 54, p.731 (1989) are known. That is, the compound of the general formula [2] is reacted with 4-amino-1,2,4-triazole and then subjected to a deamination reaction to obtain the compound of the general formula [1] (Production method 2 ).
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】製造法1は、副生成物
としてトリアゾールの4位置換体が約20%生成し、かつ
収率も40%と低い製造法である。また、一般式[2]の
化合物は刺激性が著しく、その取扱いには困難を伴う。
一方、製造法2は、トリアゾールの4位置換体の副生を
抑えることが出来るものの、刺激性を有する一般式
[2]の化合物および高価な4−アミノ−1,2,4−ト
リアゾールを使用する必要がある。本発明の目的は、工
業的規模で高収率かつ高純度な2−(1H−1,2,4−
トリアゾール−1−イル)アセトフェノン類の新規製造
法を提供することにある。The production method 1 is a production method in which about 20% of the 4-substituted triazole is produced as a by-product and the yield is as low as 40%. Further, the compound of the general formula [2] is extremely irritating, and its handling is difficult.
On the other hand, the production method 2 uses a compound of the general formula [2] and an expensive 4-amino-1,2,4-triazole which are irritating, although the by-product of the 4-position substitution product of triazole can be suppressed. There is a need. The object of the present invention is to produce 2- (1H-1,2,4-) of high yield and high purity on an industrial scale.
It is to provide a novel method for producing triazol-1-yl) acetophenones.
【0004】[0004]
【課題を解決するための手段】このような状況下におい
て、本発明者らは、鋭意検討を行なった結果、一般式
[3]で表わされる安息香酸類の反応性誘導体と一般式
[4]で表わされる1,2,4−トリアゾール酢酸誘導体
を塩基および金属ハロゲン化物の存在下に反応させ、一
般式[5]で表わされる3−フェニル−2−(1H−
1,2,4−トリアゾール−1−イル)プロピオン酸エス
テル誘導体を得、ついで、脱エステルおよび脱炭酸反応
に付すことにより一般式[1]の2−(1H−1,2,4
−トリアゾール−1−イル)アセトフェノン誘導体が高
純度かつ高収率で製造でき、さらに、各工程の反応時間
が通常1〜5時間程度と比較的短く、精製工程も簡便で
あり、スケールアップが容易で工業的に有用であること
を見出し、本発明を完成するに至った。Under these circumstances, the inventors of the present invention have conducted diligent studies, and as a result, have shown that a reactive derivative of benzoic acid represented by the general formula [3] and a reactive derivative of the general formula [4] are used. The 1,2,4-triazoleacetic acid derivative represented by the reaction is reacted in the presence of a base and a metal halide to give 3-phenyl-2- (1H- represented by the general formula [5].
1,2,4-triazol-1-yl) propionic acid ester derivative is obtained, and then deesterified and decarboxylated to give 2- (1H-1,2,4) of the general formula [1].
The -triazol-1-yl) acetophenone derivative can be produced in high purity and high yield, and the reaction time of each step is usually relatively short at about 1 to 5 hours, the purification step is simple, and scale-up is easy. Then, they found that they were industrially useful and completed the present invention.
【0005】以下、本発明を詳細に説明する。本明細書
において、特に断らない限り、ハロゲン原子とは、フッ
素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子を;低級
アルキル基とは、たとえば、メチル、エチル、n-プロピ
ル、イソプロピル、n-ブチル、sec-ブチル、イソブチ
ル、tert−ブチルおよびペンチルなどの直鎖状もしくは
分枝鎖状のC1-5アルキル基を;低級アルコキシ基と
は、たとえば、メトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、
イソプロポキシ、n−ブトキシ、イソブトキシ、sec−ブ
トキシ、tert−ブトキシおよびペンチルオキシなどのC
1-5アルコキシ基を;ハロゲノ低級アルキル基とは、た
とえば、フルオロメチル、クロロメチル、ブロモメチ
ル、ジクロロメチル、トリフルオロメチル、トリクロロ
メチル、クロロエチル、ジクロロエチル、トリクロロエ
チルおよびクロロプロピルなどのハロゲノ−C1-5アル
キル基を;低級アルキルスルホニル基とは、たとえば、
メチルスルホニル、エチルスルホニル、n−プロピルス
ルホニル、イソプロピルスルホニル、n−ブチルスルホ
ニル、イソブチルスルホニル、sec−ブチルスルホニ
ル、tert−ブチルスルホニルおよびペンチルスルホニル
などのC1-5アルキルスルホニル基を;カルボキシル基
の保護基とは、通常のカルボキシル基の保護基として使
用し得るすべての基であり、たとえば、メチル、エチ
ル、n−プロピル、iso−プロピル、1,1−ジメチルプ
ロピル、n−ブチルおよびtert−ブチルなどの低級アル
キル基;フェニルおよびナフチルなどのアリール基;ベ
ンジル、ジフェニルメチル、トリチル、p−ニトロベン
ジル、p−メトキシベンジルおよびビス(p−メトキシ
フェニル)メチルなどのアル−低級アルキル基;2−テ
トラヒドロピラニルおよび2−テトラヒドロフラニルな
どの含酸素複素環式基;2,2,2−トリクロロエチルな
どのハロゲノ低級アルキル基;2−(トリメチルシリ
ル)エチルなどの低級アルキルシリルアルキル基;シク
ロヘキシルなどのシクロアルキル基;メトキシメチル、
メトキシエトキシメチルおよび2−(トリメチルシリ
ル)エトキシメチルなどの低級アルコキシ低級アルキル
基;ベンジルオキシメチルなどのアル−低級アルコキシ
低級アルキル基;1,1−ジメチル−2−プロペニル、
3−メチル−3−ブチニルおよびアリルなどの低級アル
ケニル基並びにトリメチルシリル、トリエチルシリル、
トリイソプロピルシリル、ジエチルイソプロピルシリ
ル、tert−ブチルジメチルシリル、tert−ブチルジフェ
ニルシリル、ジフェニルメチルシリルおよびtert−ブチ
ルメトキシフェニルシリルなどの低級アルキル置換シリ
ル基などをそれぞれ示す。The present invention will be described in detail below. In the present specification, unless otherwise specified, the halogen atom means a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom; the lower alkyl group means, for example, methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, a linear or branched C 1-5 alkyl group such as sec-butyl, isobutyl, tert-butyl and pentyl; a lower alkoxy group includes, for example, methoxy, ethoxy, n-propoxy,
C such as isopropoxy, n-butoxy, isobutoxy, sec-butoxy, tert-butoxy and pentyloxy
1-5 alkoxy group; halogeno lower alkyl group means, for example, halogeno-C 1 such as fluoromethyl, chloromethyl, bromomethyl, dichloromethyl, trifluoromethyl, trichloromethyl, chloroethyl, dichloroethyl, trichloroethyl and chloropropyl. -5 alkyl group; a lower alkylsulfonyl group is, for example,
A C 1-5 alkylsulfonyl group such as methylsulfonyl, ethylsulfonyl, n-propylsulfonyl, isopropylsulfonyl, n-butylsulfonyl, isobutylsulfonyl, sec-butylsulfonyl, tert-butylsulfonyl and pentylsulfonyl; a protecting group for a carboxyl group Is all groups which can be used as a usual protecting group for a carboxyl group, such as methyl, ethyl, n-propyl, iso-propyl, 1,1-dimethylpropyl, n-butyl and tert-butyl. Lower alkyl group; aryl group such as phenyl and naphthyl; al-lower alkyl group such as benzyl, diphenylmethyl, trityl, p-nitrobenzyl, p-methoxybenzyl and bis (p-methoxyphenyl) methyl; 2-tetrahydropyranyl And 2-tet Oxygen-containing heterocyclic groups such as Hidorofuraniru; 2,2,2 halogeno-lower alkyl groups such as trichloroethyl; cycloalkyl groups such as cyclohexyl; methoxymethyl, 2-lower alkylsilyl group, such as (trimethylsilyl) ethyl
Lower alkoxy lower alkyl groups such as methoxyethoxymethyl and 2- (trimethylsilyl) ethoxymethyl; al-lower alkoxy lower alkyl groups such as benzyloxymethyl; 1,1-dimethyl-2-propenyl,
Lower alkenyl groups such as 3-methyl-3-butynyl and allyl and trimethylsilyl, triethylsilyl,
Lower alkyl-substituted silyl groups such as triisopropylsilyl, diethylisopropylsilyl, tert-butyldimethylsilyl, tert-butyldiphenylsilyl, diphenylmethylsilyl and tert-butylmethoxyphenylsilyl are shown, respectively.
【0006】一般式[1]、[4]および[5]の化合
物は、対応する塩であってもよい。その塩としては、通
常知られている塩基性基における塩が挙げられ、具体的
には、たとえば、塩酸、臭化水素酸および硫酸などの鉱
酸との塩;並びにメタンスルホン酸、ベンゼンスルホン
酸、p-トルエンスルホン酸、メシチレンスルホン酸およ
びナフタレンスルホン酸などのスルホン酸との塩などが
挙げられる。The compounds of the general formulas [1], [4] and [5] may be corresponding salts. Examples of the salt include salts in commonly known basic groups, specifically, salts with mineral acids such as hydrochloric acid, hydrobromic acid and sulfuric acid; and methanesulfonic acid, benzenesulfonic acid. , P-toluenesulfonic acid, mesitylenesulfonic acid and naphthalenesulfonic acid, and salts thereof with sulfonic acids.
【0007】一般式[3]の反応性誘導体としては、た
とえば、酸クロリドおよび酸ブロミドなどの酸ハライ
ド;酸イミダゾリド;並びに炭酸モノエチルエステル、
炭酸モノイソブチルエステルなどの炭酸モノエステルと
の混合酸無水物やピバリン酸およびトリクロロ酢酸など
のハロゲンで置換されていてもよい低級アルカン酸との
混合酸無水物などが挙げられる。Examples of the reactive derivative of the general formula [3] include acid halides such as acid chloride and acid bromide; acid imidazolide; and carbonic acid monoethyl ester.
Examples thereof include a mixed acid anhydride with a carbonic acid monoester such as carbonic acid monoisobutyl ester and a mixed acid anhydride with a lower alkanoic acid which may be substituted with halogen such as pivalic acid and trichloroacetic acid.
【0008】一般式[4]の化合物または一般式[3]
の反応性誘導体において、異性体(たとえば、光学異性
体、幾何異性体および互変異性体など)が存在する場
合、本発明は、それらの異性体を用いてもよく、また、
溶媒和物および種々の形状の結晶を用いてもよい。つぎ
に、本発明製造法について説明する。The compound of the general formula [4] or the general formula [3]
In the reactive derivative of, when the isomers (for example, optical isomers, geometric isomers and tautomers) exist, the present invention may use the isomers,
Solvates and crystals of various shapes may be used. Next, the production method of the present invention will be described.
【0009】本発明製造法において用いられる一般式
[4]の化合物および一般式[3]の反応性誘導体にお
いて、好ましい化合物としては、R1およびR2が低級ア
ルキル基、低級アルコキシ基またはハロゲン原子であ
り、Rが低級アルキル基、アリール基またはアル−低級
アルキル基であり、反応性誘導体が、酸ハライドまたは
酸イミダゾリドである化合物が挙げられ、さらに好まし
い化合物としては、R1およびR2がフッ素または塩素原
子であり、Rがメチル、エチルまたはtert−ブチル基で
あり、反応性誘導体が酸クロリドまたは酸イミダゾリド
である化合物が挙げられる。一般式[1]の化合物は、
たとえば、つぎに示す製造ルートにしたがって製造する
ことができる。In the compound of the general formula [4] and the reactive derivative of the general formula [3] used in the production method of the present invention, preferred compounds are those in which R 1 and R 2 are a lower alkyl group, a lower alkoxy group or a halogen atom. And R is a lower alkyl group, an aryl group or an al-lower alkyl group, and the reactive derivative is an acid halide or an acid imidazolide. More preferable compounds are R 1 and R 2 Or a compound which is a chlorine atom, R is a methyl, ethyl or tert-butyl group, and the reactive derivative is an acid chloride or an acid imidazolide. The compound of the general formula [1] is
For example, it can be manufactured according to the following manufacturing route.
【0010】[0010]
【化13】 [Chemical 13]
【0011】一般式[5]の化合物は、一般式[3]の
反応性誘導体を一般式[4]の化合物と塩基および金属
ハロゲン化物の存在下に反応させることにより得ること
ができる。一般式[4]の化合物の使用量は、一般式
[3]の反応性誘導体に対して、1〜5倍モルであれば
よく、好ましくは1〜3倍モルであればよい。この反応
で用いられる塩基としては、好ましくは、トリエチルア
ミンなどの3級アミンが挙げられる。塩基の使用量は、
使用する金属ハロゲン化物に対して、2〜10倍モルであ
ればよく、好ましくは、2〜3倍モルであればよい。こ
の反応で用いられる金属ハロゲン化物としては、好まし
くは、塩化マグネシウムなどが挙げられる。金属ハロゲ
ン化物の使用量は、一般式[3]の反応性誘導体に対
し、1〜5倍モルであればよく、好ましくは、1〜3倍
モルであればよい。たとえば、塩化マグネシウムの場合
には、一般式[3]の反応性誘導体に対し、1〜5倍モ
ルであればよく、好ましくは、1〜3倍モルであればよ
い。この反応で使用される溶媒としては、反応に悪影響
を及ぼさない溶媒であれば特に限定されないが、たとえ
ば、ベンゼン、トルエンおよびキシレンなどの芳香族炭
化水素;ジオキサンおよびテトラヒドロフランなどのエ
ーテル類;クロロホルムおよびメチレンクロリドなどの
ハロゲン化炭化水素類;N,N−ジメチルホルムアミド
などのアミド類並びにジメチルスルホキシドなどのスル
ホキシド類などが挙げられ、これらの溶媒を一種または
二種以上混合して使用してもよい。この反応は、通常、
-20〜50℃、好ましくは、0〜25℃で、30分〜24時間、
好ましくは、1〜5時間実施すればよい。The compound of the general formula [5] can be obtained by reacting the reactive derivative of the general formula [3] with the compound of the general formula [4] in the presence of a base and a metal halide. The amount of the compound of the general formula [4] used may be 1 to 5 times, preferably 1 to 3 times the mol of the reactive derivative of the general formula [3]. The base used in this reaction is preferably a tertiary amine such as triethylamine. The amount of base used is
It may be 2 to 10 times mol, preferably 2 to 3 times mol, of the metal halide used. The metal halide used in this reaction is preferably magnesium chloride or the like. The amount of the metal halide used may be 1 to 5 times, preferably 1 to 3 times the mol of the reactive derivative of the general formula [3]. For example, in the case of magnesium chloride, it may be 1 to 5 times, preferably 1 to 3 times the mol of the reactive derivative of the general formula [3]. The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as it does not adversely influence the reaction, and examples thereof include aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; ethers such as dioxane and tetrahydrofuran; chloroform and methylene. Examples thereof include halogenated hydrocarbons such as chloride; amides such as N, N-dimethylformamide; and sulfoxides such as dimethyl sulfoxide. These solvents may be used alone or in combination of two or more. This reaction is usually
-20 to 50 ° C, preferably 0 to 25 ° C, 30 minutes to 24 hours,
Preferably, it may be carried out for 1 to 5 hours.
【0012】一般式[1]の化合物は、一般式[5]の
化合物を従来公知の方法、たとえば、オーガニック・シ
ンセシス・コレクティブ・ボリューム[Organic Synthe
ses collective volume]第4巻、第708頁に記載の方法
などに準じて、脱エステルおよび脱炭酸反応に付すこと
により得ることができる。つぎに本発明方法で用いられ
る原料である、一般式[4]の化合物またはその塩の製
造法を説明する。一般式[4]の化合物またはその塩
は、たとえば、つぎに示す製造ルートにしたがって製造
することができる。The compound of the general formula [1] can be obtained by a method known in the prior art, for example, the organic synthesis collective volume [Organic Synthetic Volume].
ses collective volume] Vol. 4, p. 708, etc., and can be obtained by subjecting to deesterification and decarboxylation. Next, a method for producing the compound of the general formula [4] or a salt thereof, which is a raw material used in the method of the present invention, will be described. The compound of the general formula [4] or a salt thereof can be produced, for example, according to the production route shown below.
【0013】[0013]
【化14】 Embedded image
【0014】また、本発明方法で用いられる原料であ
る、一般式[3]の反応性誘導体は、相当する安息香酸
を従来公知の方法、たとえば、実験化学講座、第20巻、
第209頁およびアンゲバンテ・ヘミー・インターナル・
エディション・イングリィシュ[Angew. Chem. Int. E
d. Engl.]、第18巻、第72頁記載の方法などに準じて得
ることができる。The reactive derivative of the general formula [3], which is the raw material used in the method of the present invention, can be prepared by a method known in the related art, for example, Experimental Chemistry Course, Volume 20,
P. 209 and Angevante Chemie Internal
Edition English [Angew. Chem. Int. E
d. Engl.], Vol. 18, page 72 and the like.
【0015】一般式[4]の化合物は、たとえば、1,
2,4−トリアゾールとハロゲノ酢酸エステルを塩基の
存在下、反応させることにより得られる。この反応で用
いられる塩基としては、たとえば、1,8−ジアザビシ
クロ[5.4.0]−7−ウンデセンおよび1,5−ジア
ザビシクロ[4.3.0]ノン−5−エンなどの有機塩
基;ナトリウムおよびカリウムなどのアルカリ金属;水
酸化リチウム、水酸化ナトリウムおよび水酸化カリウム
などの水酸化アルカリ金属;ナトリウムメトキシドおよ
びカリウム第三級ブトキシドなどのアルカリ金属アルコ
キシド;水素化ナトリウムなどの水素化アルカリ金属が
挙げられる。塩基の使用量は、1,2,4−トリアゾール
に対して、1〜3倍モルであればよく、好ましくは、1
〜1.5倍モルであればよい。この反応で使用される溶媒
としては、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であれば特に
限定されないが、たとえば、ベンゼン、トルエンおよび
キシレンなどの芳香族炭化水素;ジオキサンおよびテト
ラヒドロフランなどのエーテル類;クロロホルムおよび
メチレンクロリドなどのハロゲン化炭化水素類;メタノ
ールおよびエタノールなどのアルコール類;N,N−ジ
メチルホルムアミドなどのアミド類;ジメチルスルホキ
シドなどのスルホキシド類並びに水などが挙げられ、こ
れらの溶媒を一種または二種以上混合して使用してもよ
い。この反応は、通常、-50〜100℃、好ましくは、0〜
50℃で、10分〜24時間、好ましくは、30分〜3時間実施
すればよい。The compound of the general formula [4] is, for example, 1,
It can be obtained by reacting 2,4-triazole and halogenoacetic acid ester in the presence of a base. Examples of the base used in this reaction include organic bases such as 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene and 1,5-diazabicyclo [4.3.0] non-5-ene; Alkali metals such as sodium and potassium; Alkali metal hydroxides such as lithium hydroxide, sodium hydroxide and potassium hydroxide; Alkali metal alkoxides such as sodium methoxide and potassium tertiary butoxide; Alkali metal hydrides such as sodium hydride Is mentioned. The amount of the base used may be 1 to 3 times mols of 1,2,4-triazole, and preferably 1
It may be up to 1.5 times mol. The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as it does not adversely influence the reaction, and examples thereof include aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; ethers such as dioxane and tetrahydrofuran; chloroform and methylene. Halogenated hydrocarbons such as chlorides; alcohols such as methanol and ethanol; amides such as N, N-dimethylformamide; sulfoxides such as dimethyl sulfoxide and water, and these solvents may be used alone or in combination of two or more. You may mix and use. This reaction is generally carried out at -50 to 100 ° C, preferably 0 to
It may be carried out at 50 ° C. for 10 minutes to 24 hours, preferably 30 minutes to 3 hours.
【0016】つぎに、本発明化合物の製造例を具体的に
参考例および実施例を挙げて説明するが、本発明はこれ
に限定されるものではない。Next, the production examples of the compound of the present invention will be specifically described with reference to Reference Examples and Examples, but the present invention is not limited thereto.
【0017】実施例1 塩化マグネシウム5.7gをメチレンクロリド40mlおよび
N,N−ジメチルホルムアミド5mlの混合液に懸濁さ
せ、2−(1H−1,2,4−トリアゾール−1−イル)
酢酸tert−ブチルエステル10.0gおよびトリエチルアミ
ン12.1gを加え、25℃で1時間攪拌する。ついで、氷冷
下に、2,4−ジフルオロ安息香酸クロリド9.6gを滴下
し、25℃で5時間攪拌する。反応混合物に水50mlを加
え、6N塩酸でpH2.0に調整する。有機層を分取し、水
および飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を留去する。得られた残
留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー[溶離液;
n−ヘキサン:酢酸エチル=4:1]で精製すれば、淡
黄色固形物の3−(2,4−ジフルオロフェニル)−3
−オキソ−2−(1H−1,2,4−トリアゾール−1−
イル)プロピオン酸tert−ブチルエステル14.5g(収率8
2.4%)を得る。 IR(KBr)cm-1:3100,1754,1738,1500 NMR(CDCl3)δ:1.39(s,9H),6.7−8.3(m,4H),7.96(s,1H),
8.46(s,1H)Example 1 Magnesium chloride (5.7 g) was suspended in a mixed solution of methylene chloride (40 ml) and N, N-dimethylformamide (5 ml) to give 2- (1H-1,2,4-triazol-1-yl).
10.0 g of acetic acid tert-butyl ester and 12.1 g of triethylamine are added, and the mixture is stirred at 25 ° C. for 1 hour. Then, under ice cooling, 9.6 g of 2,4-difluorobenzoic acid chloride was added dropwise, and the mixture was stirred at 25 ° C for 5 hours. 50 ml of water is added to the reaction mixture, and the pH is adjusted to 2.0 with 6N hydrochloric acid. The organic layer is separated, washed successively with water and saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent is distilled off under reduced pressure. The obtained residue was subjected to silica gel column chromatography [eluent;
n-Hexane: ethyl acetate = 4: 1] to give 3- (2,4-difluorophenyl) -3 as a pale yellow solid.
-Oxo-2- (1H-1,2,4-triazole-1-
Yl) propionic acid tert-butyl ester 14.5 g (yield 8
2.4%). IR (KBr) cm -1 : 3100,1754,1738,1500 NMR (CDCl 3 ) δ: 1.39 (s, 9H), 6.7-8.3 (m, 4H), 7.96 (s, 1H),
8.46 (s, 1H)
【0018】実施例2 3−(2,4−ジフルオロフェニル)−3−オキソ−2
−(1H−1,2,4−トリアゾール−1−イル)プロピ
オン酸tert−ブチルエステル10.0gに6N塩酸10mlを加
え、1時間加熱還流させる。反応混合物を20℃に冷却
後、トルエン10mlを加え、3N水酸化ナトリウム水溶液
でpH8.5に調整する。氷冷下、析出晶を濾取すれば、淡
黄色結晶の1−(2,4−ジフルオロフェニル)−2−
(1H−1,2,4−トリアゾール−1−イル)エタノン
6.2g(収率90.0%)を得る。 融点:105.3−106.9℃ IR(KBr)cm-1:3050,1690,1510 NMR(CDCl3)δ:5.57(d,2H,3Hz),6.7−8.3(m,3H),7.93(s,
1H),8.20(s,1H)Example 2 3- (2,4-difluorophenyl) -3-oxo-2
10 ml of 6N hydrochloric acid was added to 10.0 g of-(1H-1,2,4-triazol-1-yl) propionic acid tert-butyl ester, and the mixture was heated under reflux for 1 hour. After cooling the reaction mixture to 20 ° C., 10 ml of toluene is added and the pH is adjusted to 8.5 with a 3N aqueous sodium hydroxide solution. The precipitated crystals were collected by filtration under ice cooling to give 1- (2,4-difluorophenyl) -2- as pale yellow crystals.
(1H-1,2,4-triazol-1-yl) ethanone
6.2 g (yield 90.0%) are obtained. Mp: 105.3-106.9 ℃ IR (KBr) cm -1: 3050,1690,1510 NMR (CDCl 3) δ: 5.57 (d, 2H, 3Hz), 6.7-8.3 (m, 3H), 7.93 (s,
1H), 8.20 (s, 1H)
【0019】実施例3 (1)2,4−ジフルオロ安息香酸200.0gをメチレンク
ロリド1000mlに懸濁させ、塩化チオニル180.6gおよび
N,N−ジメチルホルムアミド2mlを加え、3時間加熱
還流させる。減圧下に溶媒を留去した後、塩化メチレン
400mlを加え、2,4−ジフルオロ安息香酸クロリドの溶
液を得る。 (2)N,N−ジメチルホルムアミド200mlに水酸化ナト
リウム69.8gおよび1,2,4−トリアゾール118.0gを加
え、45℃で1時間攪拌する。反応混合物を30℃に冷却し
た後、クロロ酢酸tert−ブチルエステル238.2gを滴下
し、45℃で1時間攪拌する。反応混合物にメチレンクロ
リド600mlおよび合成ゼオライト160gを加え、濾過し、
2−(1H−1,2,4−トリアゾール−1−イル)酢酸
tert−ブチルエステルおよび2−(1H−1,2,4−ト
リアゾール−4−イル)酢酸tert−ブチルエステル溶液
を得る。この溶液に塩化マグネシウム156.6gおよびトリ
エチルアミン320.0gを加え、25℃で30分間攪拌する。反
応混合物に氷冷下、(1)で調整した溶液を滴下し、25
℃で5時間攪拌する。ついで、水600mlを加え、6N塩
酸でpH2.0に調整した後、有機層を分取する。得られた
有機層に6N塩酸430mlを加え、メチレンクロリドを留
去しながら85℃まで昇温する。20℃に冷却後、トルエン
400mlを加え、3N水酸化ナトリウム水溶液でpH8.5に調
整する。氷冷下、析出晶を濾取すれば、淡黄色結晶の1
−(2,4−ジフルオロフェニル)−2−(1H−1,
2,4−トリアゾール−1−イル)エタノン230.0g(収
率81.5%)を得る。 融点:105.3−106.9℃ IR(KBr)cm-1:3050,1690,1510 NMR(CDCl3)δ:5.57(d,2H,3Hz),6.7−8.3(m,3H),7.93(s,
1H),8.20(s,1H)Example 3 (1) 200.0 g of 2,4-difluorobenzoic acid was suspended in 1000 ml of methylene chloride, 180.6 g of thionyl chloride and 2 ml of N, N-dimethylformamide were added, and the mixture was heated under reflux for 3 hours. After distilling off the solvent under reduced pressure, methylene chloride
400 ml is added to obtain a solution of 2,4-difluorobenzoic acid chloride. (2) To 200 ml of N, N-dimethylformamide, 69.8 g of sodium hydroxide and 118.0 g of 1,2,4-triazole were added, and the mixture was stirred at 45 ° C for 1 hour. The reaction mixture is cooled to 30 ° C., 238.2 g of chloroacetic acid tert-butyl ester is added dropwise, and the mixture is stirred at 45 ° C. for 1 hr. To the reaction mixture was added 600 ml of methylene chloride and 160 g of synthetic zeolite, filtered,
2- (1H-1,2,4-triazol-1-yl) acetic acid
tert-Butyl ester and 2- (1H-1,2,4-triazol-4-yl) acetic acid tert-butyl ester solution are obtained. 156.6 g of magnesium chloride and 320.0 g of triethylamine are added to this solution, and the mixture is stirred at 25 ° C for 30 minutes. The solution prepared in (1) was added dropwise to the reaction mixture under ice cooling.
Stir for 5 hours at ° C. Then, 600 ml of water is added, the pH is adjusted to 2.0 with 6N hydrochloric acid, and the organic layer is separated. To the obtained organic layer is added 430 ml of 6N hydrochloric acid, and the temperature is raised to 85 ° C. while distilling methylene chloride. After cooling to 20 ℃, toluene
Add 400 ml and adjust the pH to 8.5 with 3N aqueous sodium hydroxide. The precipitated crystals were collected by filtration under ice cooling to give 1
-(2,4-difluorophenyl) -2- (1H-1,
230.0 g (yield 81.5%) of 2,4-triazol-1-yl) ethanone are obtained. Mp: 105.3-106.9 ℃ IR (KBr) cm -1: 3050,1690,1510 NMR (CDCl 3) δ: 5.57 (d, 2H, 3Hz), 6.7-8.3 (m, 3H), 7.93 (s,
1H), 8.20 (s, 1H)
【0020】実施例4 実施例3と同様にして、2,4−ジフルオロ安息香酸の
代わりに、2,4−ジクロロ安息香酸5.2gを用いて、1
−(2,4−ジクロロフェニル)−2−(1H−1,2,
4−トリアゾール−1−イル)エタノン5.2g(収率75.6
%)を得る。 融点:114.4−116.5℃ IR(KBr)cm-1:3080,1690,1510 NMR(CDCl3)ppm:5.61(s,2H),7.2−7.7(m,3H),7.95(s,1
H),8.23(s,1H)Example 4 In the same manner as in Example 3, except that 5.2 g of 2,4-dichlorobenzoic acid was used instead of 2,4-difluorobenzoic acid, 1
-(2,4-dichlorophenyl) -2- (1H-1,2,
5.2 g of 4-triazol-1-yl) ethanone (yield 75.6
%). Mp: 114.4-116.5 ℃ IR (KBr) cm -1: 3080,1690,1510 NMR (CDCl 3) ppm: 5.61 (s, 2H), 7.2-7.7 (m, 3H), 7.95 (s, 1
H), 8.23 (s, 1H)
【0021】参考例1 N,N−ジメチルホルムアミド10mlに水酸化ナトリウム
3.5gおよび1,2,4−トリアゾール5.9gを加え、45℃で
1時間攪拌する。この反応混合物を30℃に冷却した後、
クロロ酢酸tert−ブチルエステル11.9gを滴下し、45℃
で1時間攪拌する。酢酸エチル100mlおよび水100mlを加
え、6N塩酸でpH2.5に調整した後、有機層を分取す
る。得られた有機層に水100mlを加え、飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液でpH8.0に調整した後、有機層を分取す
る。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を留去する。残留
物を蒸留精製すれば、無色結晶の2−(1H−1,2,4
−トリアゾール−1−イル)酢酸tert−ブチルエステル
10.5g(収率75.2%)を得る。 融点:56.9−58.5℃ IR(KBr)cm-1:3110,1740,1510 NMR(CDCl3)δ:1.41(s,9H),4.87(s,2H),7.95(s,1H),8.18
(s,1H)Reference Example 1 10 ml of N, N-dimethylformamide was added to sodium hydroxide.
Add 3.5 g and 5.9 g of 1,2,4-triazole and stir at 45 ° C. for 1 hour. After cooling the reaction mixture to 30 ° C,
Chloroacetic acid tert-butyl ester 11.9 g was added dropwise at 45 ° C.
Stir for 1 hour. 100 ml of ethyl acetate and 100 ml of water are added, the pH is adjusted to 2.5 with 6N hydrochloric acid, and the organic layer is separated. 100 ml of water is added to the obtained organic layer and the pH is adjusted to 8.0 with a saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution, and then the organic layer is separated. The obtained organic layer is washed with saturated saline and then dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent is distilled off under reduced pressure. The residue was purified by distillation to give 2- (1H-1,2,4) colorless crystals.
-Triazol-1-yl) acetic acid tert-butyl ester
10.5 g (yield 75.2%) is obtained. Melting point: 56.9-58.5 ° C IR (KBr) cm -1 : 3110,1740,1510 NMR (CDCl 3 ) δ: 1.41 (s, 9H), 4.87 (s, 2H), 7.95 (s, 1H), 8.18
(s, 1H)
【0022】[0022]
【発明の効果】本願発明の製造法は、抗真菌剤および農
薬の製造原料として有用である2−(1H−1,2,4−
トリアゾール−1−イル)アセトフェノン類を高純度か
つ高収率で製造でき、さらに、各工程の反応時間が通常
1〜5時間程度と比較的短く、精製工程も簡便であり、
スケールアップが容易で工業的に有用である。INDUSTRIAL APPLICABILITY The production method of the present invention is useful as a raw material for producing antifungal agents and agricultural chemicals 2- (1H-1,2,4-)
Triazol-1-yl) acetophenones can be produced in high purity and high yield, and the reaction time in each step is usually relatively short at about 1 to 5 hours, and the purification step is simple,
Easy to scale up and industrially useful.
Claims (2)
2は、同一または異なって水素原子、低級アルキル基、
低級アルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲノ低級
アルキル基、低級アルキルスルホニル基またはハロゲン
原子を示す。)で表わされる3−フェニル−2−(1H
−1,2,4−トリアゾール−1−イル)プロピオン酸エ
ステル誘導体を脱エステルおよび脱炭酸することを特徴
とする 【化2】 (式中、R1およびR2は、上記したと同様の意味を有す
る。)で表わされる2−(1H−1,2,4−トリアゾー
ル−1−イル)アセトフェノン類の製造法。Claims: (Wherein R represents a carboxyl protecting group; R 1 and R
2 is the same or different and is a hydrogen atom, a lower alkyl group,
A lower alkoxy group, a cyano group, a nitro group, a halogeno lower alkyl group, a lower alkylsulfonyl group or a halogen atom is shown. ) 3-phenyl-2- (1H
1,2,4-triazol-1-yl) propionic acid ester derivative is deesterified and decarboxylated. (In the formula, R 1 and R 2 have the same meanings as described above.) A method for producing 2- (1H-1,2,4-triazol-1-yl) acetophenones.
れる1,2,4−トリアゾール酢酸誘導体に 【化4】 (式中、R1およびR2は、同一または異なって水素原
子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、シアノ基、ニ
トロ基、ハロゲノ低級アルキル基、低級アルキルスルホ
ニル基またはハロゲン原子を示す。)で表わされる安息
香酸類の反応性誘導体を塩基および金属ハロゲン化物の
存在下に反応させ、 【化5】 (式中、R1、R2およびRは、上記したと同様の意味を
有する。)で表わされる3−フェニル−2−(1H−
1,2,4−トリアゾール−1−イル)プロピオン酸エス
テル誘導体を得、ついで、脱エステルおよび脱炭酸する
ことを特徴とする 【化6】 (式中、R1およびR2は、上記したと同様の意味を有す
る。)で表わされる2−(1H−1,2,4−トリアゾー
ル−1−イル)アセトフェノン類の製造法。2. (In the formula, R represents a carboxyl-protecting group.) The 1,2,4-triazoleacetic acid derivative represented by (In the formula, R 1 and R 2 are the same or different and each represents a hydrogen atom, a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a cyano group, a nitro group, a halogeno lower alkyl group, a lower alkylsulfonyl group or a halogen atom.) Reacting a reactive derivative of benzoic acid to a base and a metal halide, (In the formula, R 1 , R 2 and R have the same meanings as described above.) 3-phenyl-2- (1H-
1,2,4-triazol-1-yl) propionic acid ester derivative is obtained, followed by deesterification and decarboxylation. (In the formula, R 1 and R 2 have the same meanings as described above.) A method for producing 2- (1H-1,2,4-triazol-1-yl) acetophenones.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7027383A JPH08198860A (en) | 1995-01-23 | 1995-01-23 | Process for producing 2- (1H-1,2,4-triazol-1-yl) acetophenones |
Applications Claiming Priority (1)
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---|---|---|---|
JP7027383A JPH08198860A (en) | 1995-01-23 | 1995-01-23 | Process for producing 2- (1H-1,2,4-triazol-1-yl) acetophenones |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08198860A true JPH08198860A (en) | 1996-08-06 |
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ID=12219534
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7027383A Pending JPH08198860A (en) | 1995-01-23 | 1995-01-23 | Process for producing 2- (1H-1,2,4-triazol-1-yl) acetophenones |
Country Status (1)
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JP (1) | JPH08198860A (en) |
-
1995
- 1995-01-23 JP JP7027383A patent/JPH08198860A/en active Pending
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