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JP7503363B2 - Method and device for cutting workpiece - Google Patents

Method and device for cutting workpiece Download PDF

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JP7503363B2
JP7503363B2 JP2020085476A JP2020085476A JP7503363B2 JP 7503363 B2 JP7503363 B2 JP 7503363B2 JP 2020085476 A JP2020085476 A JP 2020085476A JP 2020085476 A JP2020085476 A JP 2020085476A JP 7503363 B2 JP7503363 B2 JP 7503363B2
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Description

本発明は、テープに貼着された被加工物を切削ブレードで切削する切削方法に関する。 The present invention relates to a cutting method for cutting a workpiece attached to a tape with a cutting blade.

従来、切削ブレードで切削して個片化されたウェーハのハンドリングを容易にするために、切削前に予めウェーハの裏面にテープを貼着することが知られている(例えば、特許文献1参照)。 Conventionally, in order to facilitate handling of wafers that have been cut into individual pieces using a cutting blade, it has been known to apply tape to the backside of the wafer before cutting (see, for example, Patent Document 1).

円形のウェーハを切削して個々のチップへと分割すると、ウェーハの外周縁付近には三角チップと呼ばれる端材チップが形成される。端材チップはデバイスが形成されたチップに比べて面積が小さいことに加え、ウェーハの外周縁は面取りされた厚み方向において円弧状となっているため、テープとの間で生じる接着力が弱い。このため、切削中にテープ上から端材チップが剥離し飛んでしまう所謂チップ飛びが発生することが懸念される。剥離したチップが切削ブレードに衝突すると切削ブレードを破損しかねない。 When a circular wafer is cut and divided into individual chips, scrap chips called triangular chips are formed near the outer edge of the wafer. Scrap chips have a smaller area than chips on which devices are formed, and because the outer edge of the wafer is chamfered and arc-shaped in the thickness direction, the adhesive strength between the scrap chips and the tape is weak. For this reason, there is a concern that scrap chips may peel off from the tape and fly off during cutting, causing so-called chip fly-off. If the peeled chips collide with the cutting blade, it could damage the cutting blade.

そこで、特許文献1では、ウェーハの外周部分の糊の接着力(粘着力)を、そのほかの領域よりも強くなるようにした構成が開示されている。 Therefore, Patent Document 1 discloses a configuration in which the adhesive strength (stickiness) of the glue on the outer periphery of the wafer is stronger than that of other areas.

特開2013-21109号公報JP 2013-21109 A

しかし、接着力が異なる領域を形成した特殊なテープは高価になってしまう。また、上述した三角チップのチップ飛びを防止するためにウェーハの外周縁部の接着力を強くする場合には、当該接着力の強い領域とウェーハの外周縁部の厳密な位置合わせをした上で貼着しなくてはならず、改善が切望されていた。 However, special tapes with areas of different adhesive strength are expensive. Also, when strengthening the adhesive strength of the outer edge of the wafer to prevent the above-mentioned triangular chips from flying off, the area with strong adhesive strength must be precisely aligned with the outer edge of the wafer before it is attached, and improvements were desperately needed.

本発明は以上の課題に鑑み、特殊なテープを用いることなくチップ飛びを防止しうる新規な切削方法を提供するものである。 In consideration of the above problems, the present invention provides a new cutting method that can prevent chipping without using special tape.

本発明の解決しようとする課題は以上の如くであり、次にこの課題を解決するための機構を説明する。 The problem that this invention aims to solve is as described above, and next we will explain the mechanism for solving this problem.

本発明の一態様によれば、
被加工物を切削ブレードで切削する被加工物の切削方法であって、
基材の上に糊層が形成されるテープに被加工物を貼着するテープ貼着ステップと、
該テープ貼着ステップを実施した後、該テープを加熱して該テープの該被加工物との接着力を向上させる加熱ステップと、
該加熱ステップを実施した後、該テープを介して保持テーブルで該被加工物を保持する保持ステップと、
該保持ステップを実施した後、切削ブレードを該テープへ切り込ませつつ該被加工物を該切削ブレードで切削する切削ステップと、
を備えた被加工物の切削方法とする。
According to one aspect of the present invention,
A method for cutting a workpiece by using a cutting blade, comprising the steps of:
A tape application step of applying a workpiece to a tape having a base material and a glue layer formed thereon;
a heating step for heating the tape after the tape application step to improve the adhesive strength of the tape to the workpiece;
a holding step of holding the workpiece on a holding table via the tape after the heating step is performed;
a cutting step of cutting the workpiece with a cutting blade while cutting the tape after the holding step is performed;
The cutting method for a workpiece comprises the steps of:

また、本発明の一態様によれば、
該保持テーブルを備えた切削装置は加熱ユニットを有し、
該加熱ステップは、該加熱ユニットで実施される、
被加工物の切削方法とする。
According to another aspect of the present invention,
The cutting device including the holding table has a heating unit,
The heating step is carried out in the heating unit;
This is a method for cutting a workpiece.

また、本発明の一態様によれば、
該テープ貼着ステップを実施した後、該加熱ステップを実施する前に、該テープを加熱する予備加熱ステップを更に備えた、
被加工物の切削方法とする。
According to another aspect of the present invention,
The method further includes a preheating step of heating the tape after the tape application step and before the heating step.
This is a method for cutting a workpiece.

また、本発明の一態様によれば、
上記被加工物の切削方法を実施するための切削装置であって、
テープに貼着された該被加工物を該テープを介して保持する保持テーブルと、
該保持テーブルで保持された該被加工物を切削する切削ブレードが着脱自在に装着されるスピンドルと、
該保持テーブルを該スピンドルに対して相対移動させる移動機構と、
該被加工物を複数収容可能なカセットが載置されるカセット載置台と、
該被加工物に貼着された該テープを加熱する加熱ユニットと、
該カセット載置台に載置された該カセットから該加熱ユニットへと該被加工物を搬送するとともに該加熱ユニットから該保持テーブルへと該被加工物を搬送する搬送機構と、
を備えた切削装置とする。
According to another aspect of the present invention,
A cutting apparatus for carrying out the above-mentioned method for cutting a workpiece,
a holding table that holds the workpiece attached to the tape via the tape;
a spindle to which a cutting blade for cutting the workpiece held by the holding table is detachably attached;
a moving mechanism for moving the holding table relative to the spindle;
a cassette placement table on which a cassette capable of accommodating a plurality of the workpieces is placed;
a heating unit for heating the tape attached to the workpiece;
a conveying mechanism for conveying the workpiece from the cassette placed on the cassette placement table to the heating unit and from the heating unit to the holding table;
The cutting device is equipped with:

本発明の一態様によれば、ワークとテープの間の接触面積が大きくなり、両者間の単位面積当たりの接着力が向上し、外周縁付近のチップ飛びを防止することが可能となり、接着力が異なる領域を形成した特殊なテープを用いる必要を無くすことができる。 According to one aspect of the present invention, the contact area between the workpiece and the tape is increased, improving the adhesive strength per unit area between the two, making it possible to prevent chipping near the outer edge, and eliminating the need to use a special tape with areas of different adhesive strength.

また、本発明の一態様によれば、切削装置の切削ユニットによる切削加工の直前に、ワークとテープの接着力を向上させることができ、接着力を維持したままの切削加工が可能となって、チップ飛びをより効果的に防止することができる。 Furthermore, according to one aspect of the present invention, the adhesive strength between the workpiece and the tape can be improved immediately before cutting by the cutting unit of the cutting device, making it possible to perform cutting while maintaining the adhesive strength, and more effectively preventing chipping.

また、本発明の一態様によれば、予備加熱ステップを経ることで、加熱ステップでは二回目の加熱が実施されることになり、予備加熱ステップを経ない場合と比較して、ワークとテープの接着力を更に向上することができる。 Furthermore, according to one aspect of the present invention, by going through the pre-heating step, a second heating is performed in the heating step, and the adhesive strength between the workpiece and the tape can be further improved compared to when the pre-heating step is not performed.

また、本発明の一態様によれば、切削装置単体で加熱ステップを実施することが可能となり、切削装置の切削ユニットによる切削加工の直前に、ワークとテープの接着力を向上させることができる。 Furthermore, according to one aspect of the present invention, it is possible to perform the heating step using the cutting device alone, and the adhesive strength between the workpiece and the tape can be improved immediately before cutting processing using the cutting unit of the cutting device.

本発明を実施する切削装置の一実施形態について示す図である。1 is a diagram showing an embodiment of a cutting device for implementing the present invention; カセット載置機構の一実施形態について示す図である。13A and 13B are diagrams illustrating an embodiment of a cassette mounting mechanism. (A)は加熱ユニットの一実施形態について示す図である。(B)は加熱ユニットにワークユニットを載置した状態について示す図である。1A is a diagram showing one embodiment of a heating unit, and FIG. 1B is a diagram showing a state in which a work unit is placed on the heating unit. 本発明にかかる切削方法の一実施形態について示すフローチャートである。1 is a flowchart showing an embodiment of a cutting method according to the present invention. 被加工物であるワークをテープに貼着したワークユニットの一実施形態について示す図である。1 is a diagram showing an embodiment of a work unit in which a workpiece, which is an object to be processed, is attached to a tape. FIG. (A)は保持ステップについて説明する図である。(B)は切削ステップについて説明する図である。1A is a diagram illustrating a holding step, and FIG. 1B is a diagram illustrating a cutting step. 切削ステップの実施後のワークユニットについて示す図である。FIG. 13 is a diagram showing the work unit after a cutting step has been performed.

以下、本発明に係る実施形態につき、図面を参照しつつ詳細に説明する。
以下の説明においては、図1に示すようにXYZ直交座標系を設定し、このXYZ直交座標系を参照しつつ各部の位置関係について説明する。水平面内の一端向をX軸方向、水平面内においてX軸方向と直交する方向をY軸方向、X軸方向及びY軸方向のそれぞれと直交する方向をZ軸方向とする。X軸及びY軸を含むX,Y平面は、水平面と平行である。X,Y平面と直交するZ軸方向は、鉛直方向である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
In the following description, an XYZ Cartesian coordinate system is set as shown in Fig. 1, and the positional relationship of each part is described with reference to this XYZ Cartesian coordinate system. One end direction in a horizontal plane is the X-axis direction, a direction perpendicular to the X-axis direction in the horizontal plane is the Y-axis direction, and a direction perpendicular to both the X-axis direction and the Y-axis direction is the Z-axis direction. The X-Y plane including the X-axis and Y-axis is parallel to the horizontal plane. The Z-axis direction perpendicular to the X-Y plane is the vertical direction.

図1に示す切削装置1は、ワークWを切削加工するダイサーである。ワークWは、特に限定されないが、例えば、半導体ウェーハや光デバイスウェーハ、無機材料基板、延性樹脂材料基板等、各種の加工材料である。ワークWと環状フレームFがテープTに貼着され、ワークユニットUとしてハンドリングされる。 The cutting device 1 shown in FIG. 1 is a dicer that cuts a workpiece W. The workpiece W is not particularly limited, but may be, for example, a semiconductor wafer, an optical device wafer, an inorganic material substrate, a ductile resin material substrate, or any other type of processing material. The workpiece W and an annular frame F are attached to a tape T and handled as a work unit U.

図1に示すように、切削装置1は、装置本体2と、カセット載置台3と、第一門型コラム4と、第二門型コラム5と、を備える。装置本体2は、直方体形状に形成されている。カセット載置台3は、装置本体2の上面に矩形状に配設されている。装置本体2の上面には、第一門型コラム4と第二門型コラム5が間隔を空けて、平行となるように配設されている。 As shown in FIG. 1, the cutting device 1 comprises a device body 2, a cassette mounting table 3, a first gate-type column 4, and a second gate-type column 5. The device body 2 is formed in a rectangular parallelepiped shape. The cassette mounting table 3 is disposed in a rectangular shape on the upper surface of the device body 2. The first gate-type column 4 and the second gate-type column 5 are disposed on the upper surface of the device body 2 so as to be parallel to each other with a gap therebetween.

カセット載置台3に載置されるカセット10は、加工前後のワークWを複数収容するものであり、昇降するカセット載置台3に載置される。カセット10には、搬送機構60と向かい合う側に開口部10b(図2)が形成される。 The cassette 10 placed on the cassette placement table 3 contains multiple workpieces W before and after processing, and is placed on the cassette placement table 3, which rises and falls. The cassette 10 has an opening 10b (Figure 2) on the side facing the transport mechanism 60.

切削装置1は、保持テーブル20と、加工ユニット30と、洗浄・乾燥機構40と、仮置き機構50と、搬送機構60と、X軸移動機構(不図示)と、Y軸移動機構80と、Z軸移動機構90と、を備える。 The cutting device 1 includes a holding table 20, a processing unit 30, a cleaning and drying mechanism 40, a temporary placement mechanism 50, a transport mechanism 60, an X-axis movement mechanism (not shown), a Y-axis movement mechanism 80, and a Z-axis movement mechanism 90.

保持テーブル20は、ワークWを吸引保持する保持面21を有している。保持テーブル20は、図示せぬX軸移動機構により装置本体2に対してX軸方向に加工送りされる。保持テーブル20の保持面21は、ワークWが搬出入される搬出入位置と、ワークWが加工ユニット30により加工される加工開始位置と、に位置付けられる。保持テーブル20は、装置本体2に対してZ軸方向に平行な軸周りに回転可能に設けられる。 The holding table 20 has a holding surface 21 that suction-holds the workpiece W. The holding table 20 is moved for processing in the X-axis direction relative to the device body 2 by an X-axis movement mechanism (not shown). The holding surface 21 of the holding table 20 is positioned at a loading/unloading position where the workpiece W is loaded and unloaded, and at a processing start position where the workpiece W is processed by the processing unit 30. The holding table 20 is rotatably mounted around an axis parallel to the Z-axis direction relative to the device body 2.

加工ユニット30は、保持テーブル20に保持されたワークWを加工する。加工ユニット30は、保持テーブル20を挟んで、Y軸方向に間隔をおいて2つ配置されている。加工ユニット30は、Y軸移動機構80によってY軸方向に平行な移動経路に沿って移動し、Z軸移動機構90によってZ軸方向に平行な移動経路に沿って移動する。 The processing unit 30 processes the workpiece W held on the holding table 20. Two processing units 30 are arranged at a distance in the Y-axis direction, sandwiching the holding table 20. The processing unit 30 is moved along a movement path parallel to the Y-axis direction by the Y-axis movement mechanism 80, and moved along a movement path parallel to the Z-axis direction by the Z-axis movement mechanism 90.

加工ユニット30は、切削ブレード31aと、スピンドル31bと、ハウジング31cとを備えている。切削ブレード31aは、極薄の円板状かつ環状に形成された切削砥石である。スピンドル31bは、切削ブレード31aを着脱可能に装着する。ハウジング31cは、モータ等の駆動源を有しており、Y軸方向に平行な軸周りに回転可能にスピンドル31bを支持している。ハウジング31cは、Y軸方向に平行に移動可能、かつ、Z軸方向に平行に移動可能となるように、第二門型コラム5に支持されている。ハウジング31cは、切削ブレード31aを、ワークWに対して切削加工を施す加工開始位置と、ワークWに対して切削加工を施す前や後の退避位置と、に位置付ける。 The processing unit 30 includes a cutting blade 31a, a spindle 31b, and a housing 31c. The cutting blade 31a is a cutting grindstone formed in an extremely thin, disk-like and annular shape. The cutting blade 31a is detachably attached to the spindle 31b. The housing 31c has a drive source such as a motor, and supports the spindle 31b so that it can rotate around an axis parallel to the Y-axis direction. The housing 31c is supported by the second gate-shaped column 5 so that it can move parallel to the Y-axis direction and parallel to the Z-axis direction. The housing 31c positions the cutting blade 31a at a processing start position where cutting is performed on the workpiece W, and at a retracted position before and after cutting is performed on the workpiece W.

洗浄・乾燥機構40は、加工後のワークWを洗浄し、乾燥させる。洗浄・乾燥機構40は、純水等の洗浄液を、洗浄テーブル41に保持されたワークWに向けて噴射して洗浄し、清浄なエアー(圧縮空気)等をワークWに向けて噴射して乾燥させる。洗浄テーブル41は、保持テーブル20と同様にワークWを吸引保持する。 The cleaning and drying mechanism 40 cleans and dries the workpiece W after machining. The cleaning and drying mechanism 40 sprays a cleaning liquid such as pure water toward the workpiece W held on the cleaning table 41 to clean it, and sprays clean air (compressed air) toward the workpiece W to dry it. The cleaning table 41 suction-holds the workpiece W in the same way as the holding table 20.

仮置き機構50は、カセット載置台3に載置されたカセット10から搬出したワークWを仮置きする。仮置き機構50は、カセット10から搬出したワークWを支持する一対のガイドレール51を有し、ガイドレール51の間のX軸方向の間隔は、図示せぬ調整機構により調整される。 The temporary placement mechanism 50 temporarily places the workpiece W transferred from the cassette 10 placed on the cassette placement table 3. The temporary placement mechanism 50 has a pair of guide rails 51 that support the workpiece W transferred from the cassette 10, and the distance between the guide rails 51 in the X-axis direction is adjusted by an adjustment mechanism (not shown).

具体的には、一対のガイドレール51は、ワークユニットUが仮置きされる仮置き位置と、仮置き位置よりX軸方向において互いの間隔が狭くなり、ワークユニットUの中心合わせがなされる中心合わせ位置と、ワークユニットUがガイドレールの間を通過でき、仮置き位置での設定よりも広い間隔に設定される離間位置と、に位置付けられる。 Specifically, the pair of guide rails 51 are positioned at a temporary placement position where the work unit U is temporarily placed, a centering position where the distance between them is narrower in the X-axis direction than at the temporary placement position and the work unit U is centered, and a separation position where the work unit U can pass between the guide rails and the distance is set wider than at the temporary placement position.

搬送機構60は、ワークユニットUを搬送するための第一搬送機構61と、第二搬送機構62と、を備えている。 The transport mechanism 60 includes a first transport mechanism 61 and a second transport mechanism 62 for transporting the work unit U.

第一搬送機構61は、カセット10と仮置き機構50と保持テーブル20と洗浄・乾燥機構40の洗浄テーブル41との間でワークユニットUを搬送する。具体的には、第一搬送機構61は、Y軸方向、及び、Z軸方向に移動可能に構成され、カセット10から搬出し仮置き機構50に仮置したワークユニットUを保持テーブル20に搬入する。また、第一搬送機構61は、ワークユニットUを洗浄・乾燥機構40の洗浄テーブル41から仮置き機構50に搬入する。 The first transport mechanism 61 transports the work unit U between the cassette 10, the temporary placement mechanism 50, the holding table 20, and the cleaning table 41 of the cleaning/drying mechanism 40. Specifically, the first transport mechanism 61 is configured to be movable in the Y-axis direction and the Z-axis direction, and transports the work unit U that has been removed from the cassette 10 and temporarily placed in the temporary placement mechanism 50 to the holding table 20. The first transport mechanism 61 also transports the work unit U from the cleaning table 41 of the cleaning/drying mechanism 40 to the temporary placement mechanism 50.

第二搬送機構62は、保持テーブル20と洗浄・乾燥機構40の洗浄テーブル41との間でワークユニットUを搬送する。第二搬送機構62は、Y軸方向、及び、Z軸方向に移動可能に構成され、ワークユニットUを保持テーブル20から搬出し、洗浄・乾燥機構40の洗浄テーブルに搬入する。 The second transport mechanism 62 transports the work unit U between the holding table 20 and the cleaning table 41 of the cleaning/drying mechanism 40. The second transport mechanism 62 is configured to be movable in the Y-axis direction and the Z-axis direction, and transports the work unit U out of the holding table 20 and into the cleaning table of the cleaning/drying mechanism 40.

Y軸移動機構80は、加工ユニット30を装置本体2に対してY軸方向(割り出し送り方向に相当)に平行に相対移動させる。Y軸移動機構80は、ボールねじ、パルスモータ、ガイドレール等を含む直動機構で構成されている。Y軸移動機構80は、第二門型コラム5に対してY軸方向に平行に移動可能に支持されるY軸可動基台81を備えている。 The Y-axis movement mechanism 80 moves the processing unit 30 relative to the device body 2 in parallel to the Y-axis direction (corresponding to the indexing feed direction). The Y-axis movement mechanism 80 is composed of a linear motion mechanism including a ball screw, a pulse motor, a guide rail, etc. The Y-axis movement mechanism 80 is equipped with a Y-axis movable base 81 that is supported so as to be movable parallel to the Y-axis direction relative to the second gate-shaped column 5.

Z軸移動機構90は、加工ユニット30を装置本体2に対してZ軸方向(切り込み送り方向に相当)に平行に相対移動させる。Z軸移動機構90は、ボールねじ、パルスモータ、ガイドレール等を含むY軸移動機構80と同様の直動機構で構成されている。Z軸移動機構90は、Y軸可動基台81に対してZ軸方向に平行に移動可能に支持されるZ軸可動基台91を備えている。Z軸可動基台91のZ軸方向の下端には、加工ユニット30が設けら、Z軸可動基台91をZ軸方向に平行に移動させることで、加工ユニット30がZ軸方向に平行に移動する。 The Z-axis movement mechanism 90 moves the processing unit 30 relative to the device body 2 in parallel to the Z-axis direction (corresponding to the cutting feed direction). The Z-axis movement mechanism 90 is composed of a linear motion mechanism similar to the Y-axis movement mechanism 80, including a ball screw, a pulse motor, a guide rail, etc. The Z-axis movement mechanism 90 is equipped with a Z-axis movable base 91 that is supported so as to be movable parallel to the Z-axis direction relative to the Y-axis movable base 81. The processing unit 30 is provided at the lower end of the Z-axis movable base 91 in the Z-axis direction, and by moving the Z-axis movable base 91 parallel to the Z-axis direction, the processing unit 30 moves parallel to the Z-axis direction.

以上に述べた切削装置1を構成する各種機構は、コントローラ100によって動作制御され、ワークの搬送や切削加工等が自動的に実施される。 The various mechanisms constituting the cutting device 1 described above are controlled by the controller 100, and workpiece transportation, cutting processing, etc. are performed automatically.

次に、図2に示すように、カセット載置台3を昇降可能に支持するカセット載置機構32について説明する。カセット載置機構32は、カセット載置台3の下方に配設された加熱ユニット34と、カセット載置台3を上下方向に移動させるための昇降機構35と、を備える。加熱ユニット34や昇降機構35は、コントローラ100によって制御される。 Next, as shown in FIG. 2, the cassette mounting mechanism 32 that supports the cassette mounting table 3 so that it can be raised and lowered will be described. The cassette mounting mechanism 32 includes a heating unit 34 disposed below the cassette mounting table 3, and a lifting mechanism 35 for moving the cassette mounting table 3 in the up and down direction. The heating unit 34 and the lifting mechanism 35 are controlled by the controller 100.

加熱ユニット34は、ワークWが貼着されたテープTを加熱するためのものであり、ハウジング33により形成されるチャンバー33a内に設けられる。ハウジング33は、支持台36の上部に固定されており、支持台36とともに昇降する。 The heating unit 34 is for heating the tape T to which the workpiece W is attached, and is provided in a chamber 33a formed by the housing 33. The housing 33 is fixed to the top of the support table 36 and rises and falls together with the support table 36.

ハウジング33には、第一搬送機構61(図1)のクランプ機構61aに対向する側に開口部33bが形成される。第一搬送機構61によって環状フレームFが挟持されたワークユニットUは、開口部33bを通じてチャンバー33a内へ搬入され、また、開口部33bを通じてチャンバー33a外へと搬出される。 An opening 33b is formed in the housing 33 on the side facing the clamp mechanism 61a of the first conveying mechanism 61 (Figure 1). The work unit U, whose annular frame F is clamped by the first conveying mechanism 61, is carried into the chamber 33a through the opening 33b, and is also carried out of the chamber 33a through the opening 33b.

支持台36の下端部には、装置本体2の側壁2bに沿って垂直方向に設けられるガイドレール35aに案内される被ガイド部36aと、垂直方向に設けられるボールねじ35bが挿通されるナット部36bが設けられる。パルスモータ35cによりボールねじ35bが回転駆動されると、支持台36がガイドレール35aに沿って垂直方向に移動する。支持台36や昇降機構35は、装置本体2(図1)の内部空間2aに収容される。 The lower end of the support base 36 is provided with a guided portion 36a that is guided by a guide rail 35a that is provided vertically along the side wall 2b of the device body 2, and a nut portion 36b through which a ball screw 35b that is provided vertically is inserted. When the ball screw 35b is driven to rotate by the pulse motor 35c, the support base 36 moves vertically along the guide rail 35a. The support base 36 and the lifting mechanism 35 are housed in the internal space 2a of the device body 2 (Figure 1).

支持台36とともにハウジング33が昇降し、ハウジング33の天板を構成するカセット載置台3が昇降し、カセット載置台3に載置されるカセット10も昇降する。 The housing 33 rises and falls together with the support base 36, the cassette mounting base 3 that constitutes the top plate of the housing 33 rises and falls, and the cassette 10 placed on the cassette mounting base 3 also rises and falls.

カセット10には、ワークユニットUを載置する載置棚10aが複数段設けられ、カセット10の開口部10bを通じて各載置棚10aにワークユニットUがスライドして搬入される。 The cassette 10 has multiple stages of placement shelves 10a on which the work units U are placed, and the work units U are slid into each placement shelf 10a through the opening 10b of the cassette 10.

カセット10の開口部10bは、第一搬送機構61(図1)のクランプ機構61aに対向するように配置される。第一搬送機構61によって環状フレームFが挟持されたワークユニットUは、開口部10bを通じてカセット10内へ搬入され、また、開口部10bを通じてカセット10外へと搬出される。 The opening 10b of the cassette 10 is positioned to face the clamp mechanism 61a of the first conveying mechanism 61 (Figure 1). The work unit U, whose annular frame F is clamped by the first conveying mechanism 61, is carried into the cassette 10 through the opening 10b, and is also carried out of the cassette 10 through the opening 10b.

図3(A)(B)は、加熱ユニット34の構成例について示す図である。図3(A)は、図2と同様にYZ軸面における側面図を示し、図3(B)は、XZ軸面における側面図を示す。図3(A)では、ワークユニットUが載置されない状態を示し、図3(B)ではワークユニットUが載置された状態を示している。 Figures 3(A) and (B) are diagrams showing an example of the configuration of the heating unit 34. Figure 3(A) shows a side view in the YZ-axis plane, similar to Figure 2, and Figure 3(B) shows a side view in the XZ-axis plane. Figure 3(A) shows a state in which the work unit U is not placed, and Figure 3(B) shows a state in which the work unit U is placed.

図3(A)(B)に示すように、加熱ユニット34は、カセット載置台3の下方に配置されるハウジング33内に設置される。加熱ユニット34は、支持台34aと、支持台34aの上部に設けられる加熱テーブル34bと、加熱テーブル34bの上部に設けられる一対の支持レール34cと、を有して構成される。 As shown in Figures 3(A) and (B), the heating unit 34 is installed in a housing 33 disposed below the cassette mounting table 3. The heating unit 34 is configured to include a support base 34a, a heating table 34b provided on the upper part of the support base 34a, and a pair of support rails 34c provided on the upper part of the heating table 34b.

加熱テーブル34bには、ワークユニットUのテープTの裏面が載置される平坦な加熱面34dが形成される。本実施例では、加熱面34dの面積は、テープTにおいてワークWが貼着される範囲よりも広く構成され、ワークWの外周縁を含む領域を短時間で効率よく加熱できるように構成される。 The heating table 34b is formed with a flat heating surface 34d on which the back surface of the tape T of the work unit U is placed. In this embodiment, the area of the heating surface 34d is configured to be larger than the area of the tape T to which the work W is attached, and is configured so that the area including the outer periphery of the work W can be efficiently heated in a short time.

加熱テーブル34bには、加熱面34dを昇温させるためのヒーター34eが設けられる。本実施例では、ヒーター34eは、加熱面34dの下方に内装され、加熱面34dと略同等の広い面積を同時に加熱可能とする面ヒータにて構成される。面ヒータは例えば、電熱コイルを渦巻状に巻回したもので構成することができる。 The heating table 34b is provided with a heater 34e for raising the temperature of the heating surface 34d. In this embodiment, the heater 34e is installed below the heating surface 34d and is configured as a surface heater that can simultaneously heat a large area approximately equal to that of the heating surface 34d. The surface heater can be configured, for example, as an electric heating coil wound in a spiral shape.

加熱テーブル34bは、ヒーター34eの熱を加熱面34dに効率よく伝熱させるため、熱伝導性の高い金属で構成することができ、例えば、SUS等にて構成することができる。 The heating table 34b can be made of a metal with high thermal conductivity, such as SUS, to efficiently transfer heat from the heater 34e to the heating surface 34d.

図3(B)に示すように、加熱テーブル34bのX軸方向の両端部には、それぞれワークユニットUの環状フレームFを載置するため一対の支持レール34cが設けられる。支持レール34cは断面略L字状に構成され、支持レール34cにワークユニットUが載置されると、両支持レール34cの縦壁面の間に環状フレームFが配置され、ワークWが加熱面34dの上方に位置するように位置決めされる。 As shown in FIG. 3B, a pair of support rails 34c are provided at both ends of the heating table 34b in the X-axis direction for placing the annular frame F of the work unit U. The support rails 34c are configured with a roughly L-shaped cross section, and when the work unit U is placed on the support rails 34c, the annular frame F is disposed between the vertical wall surfaces of both support rails 34c, and the work W is positioned so that it is located above the heating surface 34d.

図3(A)に示すように、支持レール34cはY軸方向に伸びるように設けられており、第一搬送機構61(図2)によって、ワークユニットUがY軸方向に搬送される際に、環状フレームFをガイドできるように構成される。 As shown in FIG. 3(A), the support rail 34c is arranged to extend in the Y-axis direction and is configured to guide the annular frame F when the work unit U is transported in the Y-axis direction by the first transport mechanism 61 (FIG. 2).

次に、以上のように構成した装置構成を用い、図4に示す手順で行う加工方法について説明する。 Next, we will explain the processing method using the device configuration described above and the procedure shown in Figure 4.

<テープ貼着ステップS1>
図5に示すように、基材Taの上に糊層Tbが形成されるテープTにワークWを貼着するステップである。
<Tape application step S1>
As shown in FIG. 5, this is a step in which a workpiece W is attached to the tape T having a base material Ta and an adhesive layer Tb formed thereon.

図5に示す例のワークWは、シリコンを母材とする半導体ウェーハであり、円板形状のワークWの表面Waには、複数のストリートWs(分割予定ライン)によって格子状に区画された複数の領域に、ICやLSI等のデバイスWdが形成されている。 The workpiece W in the example shown in Figure 5 is a semiconductor wafer made of silicon as a base material, and on the surface Wa of the disk-shaped workpiece W, devices Wd such as ICs and LSIs are formed in multiple areas partitioned in a grid pattern by multiple streets Ws (planned division lines).

ワークWの裏面WbがテープTの基材Taに形成される糊層Tbに貼着される。基材Taは、例えばポリオレフィンや塩化ビニル、ポリエチレンテレフタラートである。また、糊層Tbは、例えばアクリル系やゴム系の感圧式の糊である。 The back surface Wb of the workpiece W is attached to an adhesive layer Tb formed on the substrate Ta of the tape T. The substrate Ta is, for example, polyolefin, polyvinyl chloride, or polyethylene terephthalate. The adhesive layer Tb is, for example, an acrylic or rubber-based pressure-sensitive adhesive.

テープTの糊層Tbには、ワークWを取り囲むようにSUS等の金属からなる環状フレームFが貼着される。 An annular frame F made of a metal such as SUS is attached to the adhesive layer Tb of the tape T so as to surround the workpiece W.

以上のようにして、ワークWと、環状フレームFと、テープTが一体化されたワークユニットUが形成される。図1に示すように、ワークユニットUはカセット10に収容されて、カセット10がカセット載置台3へと供給される。 In this manner, a work unit U is formed in which the work W, the annular frame F, and the tape T are integrated. As shown in FIG. 1, the work unit U is housed in a cassette 10, and the cassette 10 is supplied to the cassette mounting table 3.

<加熱ステップS2>
テープ貼着ステップを実施した後、テープTを加熱してテープTとワークWとの接着力を向上させるステップである。
<Heating step S2>
After the tape application step, the tape T is heated to improve the adhesive strength between the tape T and the workpiece W.

具体的には、図1乃至図3の構成において、カセット載置台3が昇降し、カセット10内に収容された加工対象となるワークユニットUの高さ位置が、第一搬送機構61のクランプ機構61aに対向する高さに位置付けられる。次いで、クランプ機構61aが、加工対象となるワークユニットU側に前進して移動してカセット10内に進入してワークユニットUをクランプした後、後退して退避する。 Specifically, in the configuration of Figures 1 to 3, the cassette mounting table 3 is raised and lowered, and the height position of the work unit U to be processed contained in the cassette 10 is positioned at a height opposite the clamp mechanism 61a of the first transport mechanism 61. Next, the clamp mechanism 61a moves forward toward the work unit U to be processed, enters the cassette 10, clamps the work unit U, and then retreats.

次いで、カセット載置台3が上昇し、ハウジング33の開口部33bが第一搬送機構61のクランプ機構61aに対向する高さに位置付けられる。次いで、退避していたクランプ機構61aが前進し、ワークユニットUをチャンバー33a内に進入させ、加熱ユニット34の加熱テーブル34b上にワークユニットUを搬入する。 The cassette placement table 3 then rises, and the opening 33b of the housing 33 is positioned at a height opposite the clamp mechanism 61a of the first transport mechanism 61. The clamp mechanism 61a, which had been retracted, then advances, causing the work unit U to enter the chamber 33a and to load the work unit U onto the heating table 34b of the heating unit 34.

図3(B)に示すように、ワークWがテープTを介して加熱面34dに載置され、ヒーター34eを通電することで、テープTの加熱が開始される。加熱の条件は、テープTやワークWの種別、大きさなどによって設定されるものであり、例えば、90℃で15分加熱する。 As shown in FIG. 3B, the workpiece W is placed on the heating surface 34d via the tape T, and heating of the tape T is started by energizing the heater 34e. The heating conditions are set according to the type and size of the tape T and workpiece W, and for example, heating is performed at 90°C for 15 minutes.

この加熱により、テープTを構成する基材Taや糊層Tbが温度上昇により軟化して、ワークWとテープTの間の接触面積が大きくなり、両者間の単位面積当たりの接着力が向上する。特に、ワークWの外周縁に対応する箇所まで広範囲に接着力が高められることで、後述するように、外周縁付近のチップ飛びを防止することができる。 This heating causes the base material Ta and adhesive layer Tb that make up the tape T to soften due to the increased temperature, increasing the contact area between the workpiece W and the tape T and improving the adhesive strength per unit area between the two. In particular, by increasing the adhesive strength over a wide area up to the point corresponding to the outer periphery of the workpiece W, it is possible to prevent chipping near the outer periphery, as described below.

<保持ステップS3>
図6(A)に示すように、加熱ステップS2を実施した後、テープTを介して保持テーブル20でワークWを保持するステップである。
<Retention step S3>
As shown in FIG. 6A, this is a step in which the workpiece W is held by the holding table 20 via the tape T after the heating step S2 is performed.

具体的には、図2に示すように、第一搬送機構61のクランプ機構61aでワークユニットUを挟持してハウジング33から搬出するとともに、図1に示すように、仮置き機構50にワークユニットUを仮置し、一対のガイドレール51で位置決めを行う。次いで、第一搬送機構61により、ガイドレール51上に載置されたワークユニットUを保持テーブル20に搬送する。 Specifically, as shown in FIG. 2, the work unit U is clamped by the clamp mechanism 61a of the first transport mechanism 61 and transported out of the housing 33, and as shown in FIG. 1, the work unit U is temporarily placed on the temporary placement mechanism 50 and positioned by a pair of guide rails 51. Next, the first transport mechanism 61 transports the work unit U placed on the guide rails 51 to the holding table 20.

図6(A)に示すように、保持テーブル20では、テープTを介してワークWの裏面Wbが保持テーブル20の保持面21に吸引保持されるとともに、環状フレームFがクランプ22によって保持される。 As shown in FIG. 6(A), on the holding table 20, the back surface Wb of the workpiece W is suction-held to the holding surface 21 of the holding table 20 via the tape T, and the annular frame F is held by the clamp 22.

<切削ステップS4>
図6(B)に示すように、保持ステップS3を実施した後、切削ブレード31aをテープTへ切り込ませつつワークWを切削ブレード31aで切削するステップである。
<Cutting step S4>
As shown in FIG. 6B, after the holding step S3 is performed, the cutting blade 31a is caused to cut into the tape T while cutting the workpiece W with the cutting blade 31a.

具体的には、切削ブレード31aをZ軸方向における所定の切り込み高さに位置付けて高速回転させるとともに、切削ブレード31aのY軸方向(図1)の位置をワークWのストリートWs(図5)の位置に合わせ、保持テーブル20をX軸方向に加工送りすることで、ワークWの切削加工を行う。 Specifically, the cutting blade 31a is positioned at a predetermined cutting height in the Z-axis direction and rotated at high speed, the position of the cutting blade 31a in the Y-axis direction (Figure 1) is aligned with the position of the street Ws (Figure 5) of the workpiece W, and the holding table 20 is fed for processing in the X-axis direction to perform cutting processing on the workpiece W.

切削ブレード31aのY軸方向のインデックス送りと、保持テーブル20のX軸方向の加工送と、を繰り返し、第一方向に伸びる全てのストリートWs(図5)について切削加工を行った後、保持テーブル20を90度回転し、第一方向と直交する第二方向に伸びるストリートWs(図5)についても同様に切削加工を行う。 The index feed of the cutting blade 31a in the Y-axis direction and the processing feed of the holding table 20 in the X-axis direction are repeated to perform cutting processing on all the streets Ws (Figure 5) extending in the first direction, and then the holding table 20 is rotated 90 degrees and similar cutting processing is performed on the streets Ws (Figure 5) extending in the second direction perpendicular to the first direction.

以上のように切削加工がされることで、図7に示すように、ワークWがチップCに個片化される。この切削加工の際には、ワークWの外周縁付近には端材チップCa(三角チップ)が形成され、この端材チップCaはテープTとの接触面積が小さいものとなるが、上述した加熱ステップS2を経ることにより、接着力が高まっているため、端材チップCaがテープTから剥離して飛んでしまうというチップ飛びを防ぐ事ができる。 By performing the cutting process as described above, the workpiece W is divided into individual chips C, as shown in Figure 7. During this cutting process, scrap chips Ca (triangular chips) are formed near the outer edge of the workpiece W, and these scrap chips Ca have a small contact area with the tape T. However, by undergoing the heating step S2 described above, the adhesive strength is increased, so it is possible to prevent the scrap chips Ca from peeling off from the tape T and flying away.

<予備加熱ステップSa>
以上の実施形態において、図4に示すように、テープ貼着ステップS1と、加熱ステップS2の間に、テープを加熱する予備加熱ステップSaを実施することとしてもよい。
<Preheating Step Sa>
In the above embodiment, as shown in FIG. 4, a pre-heating step Sa for heating the tape may be carried out between the tape applying step S1 and the heating step S2.

この予備加熱ステップSaは、テープ貼着ステップS1と、加熱ステップS2の間に行われるものであればよく、特に具体的な方法に限定されるものではない。 This pre-heating step Sa need only be performed between the tape application step S1 and the heating step S2, and is not limited to any particular method.

例えば、カセット10(図1)に収容される前において、複数のワークユニットUを密閉式の加熱装置(オーブン)で加熱することや、一つのワークユニットUを開放式の加熱装置(ホットプレート)により加熱することなどが考えられる。加熱条件は特に限定されるものではないが、例えば、90℃で30分加熱することなどが考えられる。加熱後にカセット10(図1)に収容し、カセット10をカセット載置台3へと供給する。 For example, before being stored in the cassette 10 (Fig. 1), multiple work units U may be heated in a closed heating device (oven), or one work unit U may be heated in an open heating device (hot plate). The heating conditions are not particularly limited, but may be, for example, heating at 90°C for 30 minutes. After heating, the work units are stored in the cassette 10 (Fig. 1), and the cassette 10 is supplied to the cassette loading table 3.

また、加熱ユニット34により予備加熱ステップSaを実施することとしてもよい。即ち、カセット10からワークユニットUを加熱ユニット34に搬送し、加熱した後、再度カセット10に戻すことにより、予備加熱ステップSaを実施するものである。 Also, the preheating step Sa may be performed by the heating unit 34. That is, the preheating step Sa is performed by transporting the work unit U from the cassette 10 to the heating unit 34, heating it, and then returning it to the cassette 10.

以上のような予備加熱ステップSaにおいても、加熱ステップS2と同様に、テープTを構成する基材Taや糊層Tbが温度上昇により軟化して、ワークWとテープTの間の接触面積が大きくなり、両者間の単位面積当たりの接着力を向上させることができる。 In the above-described preheating step Sa, as in the heating step S2, the base material Ta and adhesive layer Tb that constitute the tape T soften due to the increase in temperature, increasing the contact area between the workpiece W and the tape T, thereby improving the adhesive strength per unit area between the two.

そして、予備加熱ステップSaを経ることで、加熱ステップS2では二回目の加熱が実施されることになり、予備加熱ステップSaを経ない場合と比較して、ワークWとテープTの接着力を更に向上することができる。 By going through the pre-heating step Sa, a second heating is performed in the heating step S2, and the adhesive strength between the workpiece W and the tape T can be further improved compared to when the pre-heating step Sa is not performed.

以上のようにして本発明を実現することができる。
即ち、図1乃至図4に示すように、
被加工物であるワークWを切削ブレード31aで切削するワークWの切削方法であって、
基材Taの上に糊層Tbが形成されるテープTにワークWを貼着するテープ貼着ステップS1と、
テープ貼着ステップS1を実施した後、テープTを加熱してテープTのワークWとの接着力を向上させる加熱ステップS2と、
加熱ステップS2を実施した後、テープTを介して保持テーブル20でワークWを保持する保持ステップS3と、
保持ステップS3を実施した後、切削ブレード31aをテープTへ切り込ませつつワークWを切削ブレード31aで切削する切削ステップS4と、
を備えたワークWの切削方法とするものである。
The present invention can be realized in the above manner.
That is, as shown in FIGS.
A method for cutting a workpiece W, which is a workpiece, with a cutting blade 31a, comprising the steps of:
A tape application step S1 in which a workpiece W is applied to a tape T having a base material Ta and an adhesive layer Tb formed thereon;
After performing the tape application step S1, a heating step S2 is performed in which the tape T is heated to improve the adhesive strength of the tape T with the workpiece W;
After the heating step S2 is performed, a holding step S3 is performed in which the workpiece W is held on the holding table 20 via the tape T.
After carrying out the holding step S3, a cutting step S4 is carried out in which the cutting blade 31a is caused to cut into the tape T while cutting the workpiece W with the cutting blade 31a;
The cutting method for the workpiece W is provided with the above.

これにより、ワークWとテープTの間の接触面積が大きくなり、両者間の単位面積当たりの接着力が向上し、外周縁付近のチップ飛びを防止することが可能となり、接着力が異なる領域を形成した特殊なテープを用いる必要を無くすことができる。 This increases the contact area between the workpiece W and the tape T, improving the adhesive strength per unit area between the two, making it possible to prevent chipping near the outer edge and eliminating the need to use a special tape with areas of different adhesive strength.

また、図1乃至図3に示すように、
保持テーブル20を備えた切削装置1は加熱ユニット34を有し、
加熱ステップS2は、加熱ユニット34で実施される、こととするものである。
Also, as shown in FIGS.
The cutting device 1 equipped with the holding table 20 has a heating unit 34,
The heating step S2 is to be carried out by the heating unit 34.

これにより、切削装置1の切削ユニット30による切削加工の直前に、ワークWとテープTの接着力を向上させることができ、高い接着力を維持したままの切削加工が可能となって、チップ飛びをより効果的に防止することができる。 This makes it possible to improve the adhesive strength between the workpiece W and the tape T immediately before cutting by the cutting unit 30 of the cutting device 1, making it possible to perform cutting while maintaining high adhesive strength, and more effectively preventing chipping.

また、図4に示すように、
テープ貼着ステップS1を実施した後、加熱ステップS2を実施する前に、テープTを加熱する予備加熱ステップSaを更に備えた、こととするものである。
Also, as shown in FIG.
After performing the tape application step S1 and before performing the heating step S2, a pre-heating step Sa of heating the tape T is further provided.

このように、予備加熱ステップSaを経ることで、加熱ステップS2では二回目の加熱が実施されることになり、予備加熱ステップSaを経ない場合と比較して、ワークWとテープTの接着力を更に向上することができる。 In this way, by going through the pre-heating step Sa, a second heating is performed in the heating step S2, and the adhesive strength between the workpiece W and the tape T can be further improved compared to when the pre-heating step Sa is not performed.

また、図1乃至図3に示すように、
ワークWの切削方法を実施するための切削装置1であって、
テープTに貼着されたワークWをテープTを介して保持する保持テーブル20と、
保持テーブル20で保持されたワークWを切削する切削ブレード31aが着脱自在に装着されるスピンドル31bと、
保持テーブル20をスピンドル31bに対して相対移動させる図示せぬ移動機構(X軸移動機構)と、
ワークWを複数収容可能なカセット10が載置されるカセット載置台3と、
ワークWに貼着されたテープTを加熱する加熱ユニット34と、
カセット載置台3に載置されたカセット10から加熱ユニット34へとワークWを搬送するとともに加熱ユニット34から保持テーブル20へとワークWを搬送する搬送機構(第一搬送機構61)と、を備えた切削装置1とするものである。
Also, as shown in FIGS.
A cutting device 1 for performing a cutting method for a workpiece W,
A holding table 20 that holds the work W attached to the tape T via the tape T;
A spindle 31b to which a cutting blade 31a for cutting the workpiece W held by the holding table 20 is detachably attached;
a moving mechanism (X-axis moving mechanism) (not shown) that moves the holding table 20 relative to the spindle 31b;
A cassette mounting table 3 on which a cassette 10 capable of accommodating a plurality of works W is mounted;
a heating unit 34 for heating the tape T attached to the workpiece W;
The cutting device 1 is equipped with a conveying mechanism (first conveying mechanism 61) that conveys the workpiece W from the cassette 10 placed on the cassette mounting table 3 to the heating unit 34 and from the heating unit 34 to the holding table 20.

これにより、切削装置1単体で加熱ステップを実施することが可能となり、切削装置1の切削ユニット30による切削加工の直前に、ワークWとテープTの接着力を向上させることができる。 This makes it possible to perform the heating step using the cutting device 1 alone, and improves the adhesive strength between the workpiece W and the tape T immediately before cutting processing using the cutting unit 30 of the cutting device 1.

1 切削装置
2 装置本体
3 カセット載置台
10 カセット
20 保持テーブル
30 加工ユニット
31a 切削ブレード
31b スピンドル
32 カセット載置機構
33 ハウジング
33a チャンバー
33b 開口部
34 加熱ユニット
34a 支持台
34b 加熱テーブル
34c 支持レール
34d 加熱面
34e ヒーター
35 昇降機構
61 第一搬送機構
61a クランプ機構
C チップ
Ca 端材チップ
F 環状フレーム
S1 テープ貼着ステップ
S2 加熱ステップ
S3 保持ステップ
S4 切削ステップ
Sa 予備加熱ステップ
T テープ
Ta 基材
Tb 糊層
U ワークユニット
W ワーク
Wa 表面
Wb 裏面
Wd デバイス
Ws ストリート



1 Cutting device 2 Device body 3 Cassette placement table 10 Cassette 20 Holding table 30 Processing unit 31a Cutting blade 31b Spindle 32 Cassette placement mechanism 33 Housing 33a Chamber 33b Opening 34 Heating unit 34a Support table 34b Heating table 34c Support rail 34d Heating surface 34e Heater 35 Lifting mechanism 61 First conveying mechanism 61a Clamping mechanism C Chip Ca Scrap chip F Annular frame S1 Tape application step S2 Heating step S3 Holding step S4 Cutting step Sa Preheating step T Tape Ta Substrate Tb Glue layer U Work unit W Work Wa Front surface Wb Back surface Wd Device Ws Street



Claims (3)

被加工物を切削ブレードで切削する被加工物の切削方法であって、
基材の上に糊層が形成されるテープに被加工物を貼着してワークユニットを形成するテープ貼着ステップと、
該テープ貼着ステップを実施した後、該ワークユニットをカセットに収容し、該ワークユニットを収容した該カセットをカセット載置台に載置し、該カセットから該ワークユニットを取り出して該テープを加熱して該テープの該被加工物との接着力を向上させる加熱ステップと、
該加熱ステップを実施した後、該テープを介して保持テーブルで該被加工物を保持する保持ステップと、
該保持ステップを実施した後、切削ブレードを該テープへ切り込ませつつ該被加工物を該切削ブレードで切削する切削ステップと、
を備えた被加工物の切削方法であって、
該保持テーブルを備えた切削装置は、該カセット載置台を天板として有するハウジング内に設けられる加熱ユニットを有し、
該加熱ステップは、該加熱ユニットで実施される、
ことを特徴とする被加工物の切削方法。
A method for cutting a workpiece by using a cutting blade, comprising the steps of:
a tape application step of applying a workpiece to a tape having a base material and a glue layer formed thereon to form a work unit ;
a heating step of, after carrying out the tape application step, storing the work unit in a cassette, placing the cassette storing the work unit on a cassette placement table, removing the work unit from the cassette, and heating the tape to improve the adhesive strength of the tape to the workpiece;
a holding step of holding the workpiece on a holding table via the tape after the heating step is performed;
a cutting step of cutting the workpiece with a cutting blade while cutting the tape after the holding step is performed;
A method for cutting a workpiece , comprising:
The cutting device having the holding table has a heating unit provided in a housing having the cassette mounting table as a top plate ,
The heating step is carried out in the heating unit;
A method for cutting a workpiece , comprising :
該テープ貼着ステップを実施した後、該ワークユニットをカセットに収容する前に、該テープを加熱する予備加熱ステップを更に備えた、
ことを特徴とする請求項に記載の被加工物の切削方法。
After performing the tape application step, the method further includes a preheating step of heating the tape before the work unit is accommodated in a cassette .
2. The method for cutting a workpiece according to claim 1 .
請求項または請求項に記載の被加工物の切削方法を実施するための切削装置であって、
テープに貼着された該被加工物を該テープを介して保持する保持テーブルと、
該保持テーブルで保持された該被加工物を切削する切削ブレードが着脱自在に装着されるスピンドルと、
該保持テーブルを該スピンドルに対して相対移動させる移動機構と、
該被加工物を複数収容可能なカセットが載置されるカセット載置台と、
該カセット載置台を天板として有するハウジング内に設けられ、該被加工物に貼着された該テープを加熱する加熱ユニットと、
該カセット載置台に載置された該カセットから該加熱ユニットへと該被加工物を搬送するとともに該加熱ユニットから該保持テーブルへと該被加工物を搬送する搬送機構と、
を備えた切削装置。
A cutting apparatus for carrying out the method for cutting a workpiece according to claim 1 or 2 ,
a holding table that holds the workpiece attached to the tape via the tape;
a spindle to which a cutting blade for cutting the workpiece held by the holding table is detachably attached;
a moving mechanism for moving the holding table relative to the spindle;
a cassette placement table on which a cassette capable of accommodating a plurality of the workpieces is placed;
a heating unit provided in a housing having the cassette mounting table as a top plate, the heating unit heating the tape attached to the workpiece;
a conveying mechanism for conveying the workpiece from the cassette placed on the cassette placement table to the heating unit and from the heating unit to the holding table;
A cutting device comprising:
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