JP5977042B2 - Coating device, substrate holding device, and substrate holding method - Google Patents
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Description
この発明は、電子ペーパー用基板、有機EL表示装置用ガラス基板、液晶表示装置用ガラス基板、太陽電池用パネル基板、PDP用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板等の基板に対して塗布液を塗布するための塗布装置、および、この塗布装置に好適に適用可能な基板保持装置および基板保持方法に関する。 The present invention relates to substrates for electronic paper, glass substrates for organic EL display devices, glass substrates for liquid crystal display devices, panel substrates for solar cells, glass substrates for PDP, glass substrates for photomasks, substrates for optical disks, etc. The present invention relates to a coating apparatus for coating a coating liquid, and a substrate holding apparatus and a substrate holding method that can be suitably applied to the coating apparatus.
基板に対して塗布液を塗布するための塗布装置は、基板を載置するステージと、前記ステージ上に載置された基板の表面と近接した状態で当該基板に対して水平方向に相対的に移動することにより基板の表面に塗布液を塗布するスリットノズルとを備える。塗布液の塗布時には、基板の表面の平面度が塗布精度に大きな影響を与えることから、ステージとしてその平面度が数マイクロメータ程度とされた石定盤等を使用するとともに、基板をこのステージ上に吸着保持するようにしている。 A coating apparatus for coating a substrate with a coating liquid is relatively in a horizontal direction with respect to a stage on which the substrate is placed and a surface of the substrate placed on the stage. And a slit nozzle that applies the coating liquid to the surface of the substrate by moving. When applying the coating liquid, the flatness of the surface of the substrate greatly affects the coating accuracy. Therefore, a stone surface plate with a flatness of about several micrometers is used as the stage, and the substrate is placed on this stage. It is trying to hold it by adsorption.
しかしながら、基板が大型化したり、基板の厚みが厚かった場合には、基板の周縁部付近に反りが生じやすい。また、電子ペーパー用基板等の基板においても、基板の周縁部付近に反りが生ずることが多い。基板にこのような反りが生じた場合には、基板全域をステージ上に吸着保持することが不可能となる。このため、従来においては、押さえ部材を利用して基板の周縁部付近をステージに押し付けるようにしている(特許文献1、特許文献2、特許文献3参照)。 However, when the size of the substrate is increased or the thickness of the substrate is thick, warpage is likely to occur in the vicinity of the peripheral portion of the substrate. Further, even in a substrate such as an electronic paper substrate, warpage often occurs in the vicinity of the peripheral edge of the substrate. When such a warp occurs in the substrate, it becomes impossible to suck and hold the entire region of the substrate on the stage. For this reason, conventionally, the vicinity of the peripheral edge of the substrate is pressed against the stage using a pressing member (see Patent Document 1, Patent Document 2, and Patent Document 3).
例えば、電子ペーパー用基板は、支持層と、接着層と、電子ペーパー用フィルムとをこの順に積層した構成を有する。そして、電子ペーパー用フィルムのサイズは支持層のサイズより若干小さくなっており、電子ペーパー用フィルムの端縁は支持層の端縁より10mm程度内側に配置されている。この電子ペーパー用基板においては、製品の精度を向上させるため、電子ペーパー用フィルムとの接触は禁じられており、電子ペーパー用基板の搬送時等においては、電子ペーパー用フィルム側では支持層の周縁部にのみ接触が許容されている。このような電子ペーパー用基板以外にも、一般的に、基板はその中央部が接触不可領域とされ周縁部が接触可能領域とされている。 For example, an electronic paper substrate has a configuration in which a support layer, an adhesive layer, and an electronic paper film are laminated in this order. The size of the electronic paper film is slightly smaller than the size of the support layer, and the edge of the electronic paper film is disposed about 10 mm inside the edge of the support layer. In this electronic paper substrate, in order to improve the accuracy of the product, contact with the electronic paper film is forbidden. When the electronic paper substrate is transported, the periphery of the support layer is on the electronic paper film side. Contact is allowed only to the part. In addition to the electronic paper substrate, the substrate generally has a central portion as a non-contactable region and a peripheral portion as a contactable region.
このため、従来のように基板の周縁付近をステージに押し付けるときに、押さえ部材が基板の接触不可領域と接触してしまう場合がある。このような場合には、その基板が製品として使用できないことになる。また、特許文献3に記載されたように、基板の端縁側から応力を付与することにより基板の周縁部付近をステージに押し付けるようにした場合には、基板に負荷がかかり基板が損傷するおそれがある。 For this reason, when the vicinity of the periphery of the substrate is pressed against the stage as in the prior art, the pressing member may come into contact with the non-contactable area of the substrate. In such a case, the substrate cannot be used as a product. Further, as described in Patent Document 3, when the stress is applied from the edge side of the substrate to press the vicinity of the peripheral portion of the substrate against the stage, the substrate may be loaded and the substrate may be damaged. is there.
この発明は上記課題を解決するためになされたものであり、基板を好適にステージ上に保持することが可能な塗布装置、基板保持装置および基板保持方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made to solve the above-described problems, and an object thereof is to provide a coating apparatus, a substrate holding apparatus, and a substrate holding method capable of suitably holding a substrate on a stage.
請求項1に記載の発明は、中央部が接触不可領域とされ周縁部が接触可能領域とされた基板を載置するステージと、前記ステージに載置された基板の表面と近接した状態で当該基板に対して水平方向に相対的に移動することにより前記基板の表面に塗布液を塗布するスリットノズルと、を備えた塗布装置であって、 前記ステージに載置された基板の周縁部を前記ステージに向けて押圧する基板保持機構を備え、当該基板保持機構は、前記ステージに載置された基板の端縁に当接することにより基板を位置決めする当接部材と、前記基板の表面における前記当接部材と前記基板の端縁との当接位置から基板の中央部側に所定距離だけ離隔した領域を、前記ステージに向けて押圧する押圧部材と、前記当接部材と前記押圧部材とを支持する第1支持部と、前記第1支持部に対して摺動可能に設けられた第2支持部と、前記第1支持部と前記第2支持部との間に配設されたバネと、前記当接部材が前記ステージに載置された基板の端縁に当接するとともに、前記押圧部材が前記ステージ上に載置された基板の周縁部と対向する当接位置と、前記当接部材および前記押圧部材が前記ステージに載置された基板の端縁から退避する退避位置との間で前記第1支持部および前記第2支持部を移動させる水平移動機構と、前記押圧部材が前記ステージに載置された基板の前記周縁部を押圧する押圧位置と、前記押圧部材が前記ステージに載置された基板の前記周縁部から離隔する離隔位置との間で前記第1支持部および前記第2支持部を移動させる昇降機構と、を備え、前記当接部材が前記当接位置に配置された状態で、前記昇降機構により前記第1支持部および前記第2支持部を前記離隔位置から前記押圧位置に下降させることを特徴とする。 According to the first aspect of the present invention, there is provided a stage on which a substrate having a central portion as a non-contactable region and a peripheral portion as a contactable region is placed, and in a state close to the surface of the substrate placed on the stage A slit nozzle that applies a coating liquid to the surface of the substrate by moving in a horizontal direction relative to the substrate, and a peripheral portion of the substrate placed on the stage A substrate holding mechanism that presses the substrate toward the stage, the substrate holding mechanism including an abutting member that positions the substrate by abutting against an edge of the substrate placed on the stage, and the contact on the surface of the substrate. A pressing member that presses a region separated from the contact position between the contact member and the edge of the substrate toward the center of the substrate by a predetermined distance toward the stage, and supports the contact member and the pressing member. The first branch A holding portion, a second support portion slidably provided with respect to the first support portion, a spring disposed between the first support portion and the second support portion, and the contact A contact position where the member contacts the edge of the substrate placed on the stage and the pressing member faces a peripheral edge of the substrate placed on the stage; the contact member and the pressing member; A horizontal movement mechanism that moves the first support part and the second support part between a retreat position that retreats from an edge of the substrate placed on the stage, and the pressing member is placed on the stage. The first support portion and the second support portion between a pressing position that presses the peripheral portion of the substrate and a separation position where the pressing member separates from the peripheral portion of the substrate placed on the stage. An elevating mechanism for moving, and the contact member is in the contact position The arrangement state in, characterized in that lowering the first support and the second support portion by the elevating mechanism to the pressing position from the separation position.
請求項2に記載の発明は、中央部が接触不可領域とされ周縁部が接触可能領域とされた基板を載置するステージと、前記ステージに載置された基板の表面と近接した状態で当該基板に対して水平方向に相対的に移動することにより前記基板の表面に塗布液を塗布するスリットノズルと、を備えた塗布装置であって、
前記ステージに載置された基板の周縁部を前記ステージに向けて押圧する基板保持機構を備え、当該基板保持機構は、前記ステージに載置された基板の端縁に当接することにより基板を位置決めする当接部材と、前記基板の表面における前記当接部材と前記基板の端縁との当接位置から基板の中央部側に所定距離だけ離隔した領域を、前記ステージに向けて押圧する押圧部材と、前記当接部材と前記押圧部材とを支持する第1支持部と、前記第1支持部に対して摺動可能に設けられた第2支持部と、前記当接部材が前記ステージに載置された基板の端縁に当接するとともに、前記押圧部材が前記ステージ上に載置された基板の周縁部と対向する当接位置と、前記当接部材および前記押圧部材が前記ステージに載置された基板の端縁から退避する退避位置との間で前記第1支持部および前記第2支持部を移動させる水平移動機構と、前記押圧部材が前記ステージに載置された基板の前記周縁部を押圧する押圧位置と、前記押圧部材が前記ステージに載置された基板の前記周縁部から離隔する離隔位置との間で前記第1支持部および前記第2支持部を移動させる昇降機構と、前記昇降機構により前記押圧部材が前記離隔位置から前記押圧位置に移動した後に、前記当接部材を前記押圧部材に対して前記ステージに載置された基板の端縁から離隔する方向に移動させる当接部材移動機構と、を備え、前記当接部材移動機構は、互いに対向する傾斜面を互いに当接させた状態で配置された一対のくさび状部材を備え、前記一対のくさび状部材の一方は前記第1支持部に連結されるとともに、前記一対のくさび状部材の他方は前記第2支持部材に連結されることを特徴とする。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a stage on which a substrate having a central portion as a non-contactable region and a peripheral portion as a contactable region is placed, and in a state close to the surface of the substrate placed on the stage A slit nozzle that applies a coating liquid to the surface of the substrate by moving relative to the substrate in a horizontal direction,
A substrate holding mechanism that presses the peripheral edge of the substrate placed on the stage toward the stage, and the substrate holding mechanism positions the substrate by contacting the edge of the substrate placed on the stage. And a pressing member that presses, toward the stage, a region separated by a predetermined distance from the contact position between the contact member and the edge of the substrate on the surface of the substrate toward the center of the substrate. A first support portion that supports the contact member and the pressing member, a second support portion that is slidable with respect to the first support portion, and the contact member mounted on the stage. Abutting position where the pressing member is in contact with an edge of the placed substrate and the pressing member is opposed to a peripheral edge of the substrate placed on the stage; and the contacting member and the pressing member are placed on the stage Retract from the edge of the printed board A horizontal movement mechanism for moving the first support portion and the second support portion between the retraction position, a pressing position where the pressing member presses the peripheral edge portion of the substrate placed on the stage, and the pressing An elevating mechanism that moves the first support portion and the second support portion between a position where the member is separated from the peripheral edge portion of the substrate placed on the stage, and the elevating mechanism causes the pressing member to be An abutting member moving mechanism for moving the abutting member in a direction away from an edge of the substrate placed on the stage with respect to the pressing member after moving from the separation position to the pressing position; The abutting member moving mechanism includes a pair of wedge-shaped members disposed in a state in which inclined surfaces facing each other are in contact with each other, and one of the pair of wedge-shaped members is coupled to the first support portion. With The other serial pair of wedge-shaped member is characterized in that it is connected to the second support member.
請求項3に記載の発明は、請求項1または請求項2に記載の発明において、前記基板保持機構は、前記ステージに載置された基板の周辺において前記ステージに形成された複数の凹部内に、各々、配設される。 According to a third aspect of the present invention, in the first or second aspect of the present invention, the substrate holding mechanism is provided in a plurality of recesses formed in the stage around the substrate placed on the stage. , Respectively.
請求項4に記載の発明は、請求項1から請求項3のいずれかに記載の塗布装置において、前記ステージに形成された孔部と、前記当接部材が前記基板の端縁に当接した後で、前記押圧部材が前記基板の前記周縁部を押圧する前に、前記孔部より排気を行う排気手段と、前記ステージに形成された孔部のうち、前記基板の中央付近に対向する孔部の真空度を測定する第1圧力計と、前記ステージに形成された孔部のうち、前記基板の端縁付近に対向する孔部の真空度を測定する第2圧力計と、をさらに備え、前記第2圧力計により前記基板の端縁付近に形成された孔部の真空度が一定値に達していないことが検出されたときに、前記昇降機構により前記押圧部材を前記離隔位置から前記押圧位置に移動させる。 According to a fourth aspect of the present invention, in the coating apparatus according to any one of the first to third aspects, the hole formed in the stage and the abutting member abut against the edge of the substrate. Later, before the pressing member presses the peripheral edge of the substrate , an exhaust unit that exhausts air from the hole, and a hole facing the vicinity of the center of the substrate among the holes formed in the stage A first pressure gauge that measures the degree of vacuum of the part, and a second pressure gauge that measures the degree of vacuum of the hole facing the vicinity of the edge of the substrate among the holes formed in the stage. When the second pressure gauge detects that the degree of vacuum of the hole formed in the vicinity of the edge of the substrate does not reach a certain value, the lifting mechanism moves the pressing member from the separation position. Move to the pressing position.
請求項5に記載の発明は、請求項1から請求項4のいずれかに記載の発明において、前記基板は、支持層と、接着層と、電子ペーパー用フィルムとをこの順に積層した電子ペーパー用基板である。 According to a fifth aspect of the invention, in the invention according to any one of the first to fourth aspects, the substrate is for electronic paper in which a support layer, an adhesive layer, and an electronic paper film are laminated in this order. It is a substrate.
請求項6に記載の発明は、中央部が接触不可領域とされ周縁部が接触可能領域とされた基板の周縁部をステージに向けて押圧する基板保持装置であって、前記ステージに載置された基板の端縁に当接することにより基板を位置決めする当接部材と、前記基板の表面における前記当接部材と前記基板の端縁との当接位置から基板の中央部側に所定距離だけ離隔した領域を、前記ステージに向けて押圧する押圧部材と、前記当接部材と前記押圧部材とを支持する支持部と、前記支持部を、前記当接部材が前記ステージに載置された基板の端縁に当接する当接位置と、前記ステージに載置された基板の端縁から退避する退避位置との間で移動させる水平移動機構と、前記支持部を、前記押圧部材が前記ステージに載置された基板の表面を押圧する押圧位置と、前記ステージに載置された基板の表面から離隔する離隔位置との間で移動させる昇降機構と、前記ステージに形成された孔部と、前記当接部材が前記基板の端縁に当接した後で、前記押圧部材が前記基板の前記周縁部を押圧する前に、前記孔部より排気を行う排気手段と、前記ステージに形成された孔部のうち、前記基板の中央付近に対向する孔部の真空度を測定する第1圧力計と、前記ステージに形成された孔部のうち、前記基板の端縁付近に対向する孔部の真空度を測定する第2圧力計と、を備え、前記第2圧力計により前記基板の端縁付近に対向する孔部の真空度が一定値に達していないことが検出されたときに、前記昇降機構により前記押圧部材を前記離隔位置から前記押圧位置に移動させることを特徴とする。 The invention according to claim 6 is a substrate holding device that presses a peripheral portion of a substrate having a central portion as a non-contactable region and a peripheral portion as a contactable region toward the stage, and is placed on the stage. A contact member that positions the substrate by contacting the edge of the substrate and a contact position between the contact member and the edge of the substrate on the surface of the substrate by a predetermined distance toward the center of the substrate. A pressing member that presses the region toward the stage, a support portion that supports the contact member and the pressing member, and the support portion. The support member is disposed on the stage on which the contact member is placed on the stage. A horizontal movement mechanism that moves between a contact position that contacts the edge and a retreat position that retreats from an edge of the substrate placed on the stage, and the support portion, the pressing member is mounted on the stage. Press to press the surface of the placed substrate Position, a lifting mechanism for moving between a distant position away from the surface of the substrate placed on the stage, and the hole formed in the stage, the edge of the abutment member is the substrate those After the contact, before the pressing member presses the peripheral edge of the substrate, the exhaust means for exhausting air from the hole and the hole formed in the stage face the vicinity of the center of the substrate. A first pressure gauge for measuring the degree of vacuum of the hole to be measured, and a second pressure gauge for measuring the degree of vacuum of the hole facing the vicinity of the edge of the substrate among the holes formed in the stage. And when the second pressure gauge detects that the degree of vacuum of the hole facing the vicinity of the edge of the substrate has not reached a certain value, the lifting mechanism moves the pressing member from the separation position. It moves to a press position, It is characterized by the above-mentioned.
請求項7に記載の発明は、中央部が接触不可領域とされ周縁部が接触可能領域とされた基板をステージ上に吸着保持するための基板保持方法であって、前記基板を前記ステージ上に載置する載置工程と、前記ステージに形成された孔部から気体を噴出する気体噴出工程と、前記ステージに載置された基板の端縁に当接部材を当接させて前記基板を位置決めする位置決め工程と、前記ステージに形成された孔部から排気を行う排気工程と、前記ステージに形成された孔部のうち、前記基板の中央部付近に対向する孔部の真空度と、前記基板の端縁付近に対向する孔部の真空度をそれぞれ測定する真空度測定工程と、前記基板の端縁付近に対向する孔部の真空度が一定値に達していない場合に、前記基板の表面における前記当接部材と前記基板の端縁との当接位置から基板の中央部側に所定距離だけ離隔した領域を押圧部材により前記ステージに向けて押圧する押圧工程とを備えたことを特徴とする。 The invention according to claim 7 is a substrate holding method for sucking and holding on a stage a substrate having a central portion as an inaccessible region and a peripheral portion as a contactable region, wherein the substrate is placed on the stage. A placement step; a gas ejection step for ejecting gas from a hole formed in the stage; and an abutting member abutting against an edge of the substrate placed on the stage to position the substrate Positioning step, evacuation step of exhausting from the hole formed in the stage , out of the holes formed in the stage, the degree of vacuum of the hole facing the vicinity of the center of the substrate, and the substrate if the vacuum degree measuring step of measuring the edge near the degree of vacuum holes facing each degree of vacuum holes which faces the vicinity of the periphery of the substrate does not reach a constant value, the surface of the substrate Between the contact member and the substrate Characterized by comprising a region spaced by a predetermined distance in the central portion of the substrate from the contact position with the edge by the pressing member and a pressing step of pressing toward the stage.
請求項1に記載の発明によれば、基板の接触不可領域に接触することなく、基板の接触可能領域のみを押圧部材により押圧することにより、基板をその全域がステージと当接する状態でステージ上に保持することが可能となる。また、水平移動機構と昇降機構により、当接部材と押圧部材を同時に移動させて、基板の位置決めと押圧とを実行することが可能となる。さらに、第1支持部と第2支持部との間に配設されたバネの作用により、押圧部材による基板の押圧力を所定の大きさに維持することが可能となる。 According to the first aspect of the present invention, only the contactable area of the substrate is pressed by the pressing member without contacting the noncontactable area of the substrate, so that the entire area of the substrate is in contact with the stage. It is possible to hold it. Further, it is possible to perform positioning and pressing of the substrate by simultaneously moving the contact member and the pressing member by the horizontal movement mechanism and the lifting mechanism. Further, the pressing force of the substrate by the pressing member can be maintained at a predetermined size by the action of the spring disposed between the first support portion and the second support portion.
請求項2に記載の発明によれば、基板の接触不可領域に接触することなく、基板の接触可能領域のみを押圧部材により押圧することにより、基板をその全域がステージと当接する状態でステージ上に保持することが可能となる。また、水平移動機構と昇降機構により、当接部材と押圧部材を同時に移動させて、基板の位置決めと押圧とを実行することが可能となる。さらに、一対のくさび状部材を有する当接部材移動機構の作用により、当接部材と基板の端縁とが摺動することを防止することが可能となる。According to the invention described in claim 2, by pressing only the contactable area of the substrate by the pressing member without contacting the non-contactable area of the substrate, the substrate is placed on the stage in a state where the entire area is in contact with the stage. It is possible to hold it. Further, it is possible to perform positioning and pressing of the substrate by simultaneously moving the contact member and the pressing member by the horizontal movement mechanism and the lifting mechanism. Further, the contact member moving mechanism having a pair of wedge-shaped members can prevent the contact member and the edge of the substrate from sliding.
請求項3に記載の発明によれば、塗布液の塗布動作に影響を与えることなく、基板をステージ上に保持することが可能となる。 According to the third aspect of the present invention, the substrate can be held on the stage without affecting the coating liquid coating operation.
請求項4に記載の発明によれば、位置決め後の基板をステージに吸着保持することが可能となる。この時、基板の反りにより基板の端縁がステージに吸着保持されない場合においてのみ基板を押圧部材により押圧することから、基板の吸着保持作業を効率的に実行することが可能となる。 According to the invention described in claim 4 , it becomes possible to suck and hold the positioned substrate on the stage. At this time, since the substrate is pressed by the pressing member only when the edge of the substrate is not sucked and held by the stage due to the warp of the substrate, the sucking and holding work of the substrate can be performed efficiently.
請求項5に記載の発明によれば、中央部が接触不可領域とされ、反りが生じやすい電子ペーパー用基板を、好適にステージに保持することが可能となる。 According to the fifth aspect of the present invention, the electronic paper substrate that is likely to be warped can be suitably held on the stage.
請求項6に記載の発明によれば、基板の接触不可領域に接触することなく、基板の接触可能領域のみを押圧部材により押圧することにより、基板をその全域がステージと当接する状態でステージ上に保持することが可能となる。この時、基板の反りにより基板の端縁がステージに吸着保持されない場合においてのみ基板を押圧部材により押圧することから、基板の吸着保持作業を効率的に実行することが可能となる。According to the invention described in claim 6, by pressing only the contactable area of the substrate by the pressing member without contacting the non-contactable area of the substrate, the substrate is placed on the stage in a state where the entire area is in contact with the stage. It is possible to hold it. At this time, since the substrate is pressed by the pressing member only when the edge of the substrate is not sucked and held by the stage due to the warp of the substrate, the sucking and holding work of the substrate can be performed efficiently.
請求項7に記載の発明によれば、孔部から噴出する気体の作用により基板を容易に移動させて基板の位置決めを行った後に、基板をステージ上に吸着保持することができる。そして、基板の接触不可領域に接触することなく、基板の接触可能領域のみを押圧部材により押圧して、基板の端縁をステージに吸着保持することが可能となる。この時、基板の反りにより基板の端縁がステージに吸着保持されない場合においてのみ基板を押圧部材により押圧することから、基板の吸着保持作業を効率的に実行することが可能となる。 According to the seventh aspect of the invention, the substrate can be sucked and held on the stage after the substrate is easily moved and positioned by the action of the gas ejected from the hole. Then, only the contactable area of the substrate is pressed by the pressing member without contacting the noncontactable area of the substrate, and the edge of the substrate can be sucked and held on the stage. At this time, since the substrate is pressed by the pressing member only when the edge of the substrate is not sucked and held by the stage due to the warp of the substrate, the sucking and holding work of the substrate can be performed efficiently.
以下、この発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。図1は、この発明に係る塗布装置の斜視図である。また、図2は、この発明に係る塗布装置の側面概要図である。なお、図1においては、後述するノズル洗浄機構31およびプリディスペンス機構34の図示を省略している。また、図2においては、後述するキャリッジ14等の図示を省略している。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a perspective view of a coating apparatus according to the present invention. FIG. 2 is a schematic side view of the coating apparatus according to the present invention. In FIG. 1, a
この塗布装置は、後述するように、電子ペーパー用フィルムと支持層とを接着層により接着した電子ペーパー用基板100に対して塗布液を塗布するためのものである。すなわち、この塗布装置により塗布液が塗布される電子ペーパー用基板100は、支持層と、接着層と、電子ペーパー用フィルムとがこの順に積層された構成を有する。このような電子ペーパー用基板100は、反りが生じやすいという特性を有する。
As will be described later, this coating apparatus is for applying a coating solution to an
この塗布装置は、電子ペーパー用基板100を吸着保持するためのステージ11を備える。このステージ11としては、その上面の平面度が数マイクロメータ程度とされた石定盤等が使用される。このステージ11の表面には、後述する吸着溝が形成されている。また、このステージ11には、後述するように、この発明に係る基板保持機構40、60を収納するための8個の凹部12が形成されている。ステージ11上に吸着保持された電子ペーパー用基板100は、この基板保持機構40、60によりその周縁部をステージ11に向けて押圧される。また、ステージ11には、図示を省略した複数のリフトピンが、適宜の間隔をおいて設けられている。このリフトピンは、電子ペーパー用基板100の搬入、搬出時に、電子ペーパー用基板100をその下方より支持して、ステージ11の表面より上方に上昇させる。
This coating apparatus includes a
ステージ11の上方には、このステージ11の両側部分から略水平に掛け渡されたキャリッジ14が設けられている。このキャリッジ14は、スリットノズル13を支持するためのノズル支持部15と、このノズル支持部15の両端を支持する左右一対の昇降機構16とを備える。また、ステージ11の両端部には、略水平方向に平行に伸びる一対の走行レール17が配設される。これらの走行レール17は、キャリッジ14の両端部をガイドすることにより、キャリッジ14を、図1に示すX方向に往復移動させる。
Above the
ステージ11およびキャリッジ14の両側部分には、ステージ11の両側の縁側に沿って、それぞれ固定子21と移動子22を備える一対のリニアモータ20が配設されている。また、ステージ11およびキャリッジ14の両側部分には、それぞれスケール部と検出子とを備えた一対のリニアエンコーダ23が固設される。このリニアエンコーダ23は、キャリッジ14の位置を検出する。
A pair of
また、図2に示すように、ステージ11の側方には、ノズル洗浄機構31が配設されている。このノズル洗浄機構31は、洗浄ブロック32と待機ポッド33とを備える。この塗布装置においては、塗布動作を実行する前あるいは実行した後に、スリットノズル13をこのノズル洗浄機構31で洗浄するようにしている。
Further, as shown in FIG. 2, a
また、図2に示すように、ステージ11の側方には、プリディスペンス機構34が配設されている。このプリディスペンス機構34は、貯留槽35内に貯留された洗浄液中にその一部を浸漬したプリディスペンスローラ36と、ドクターブレード37とを備える。プリディスペンスローラ36とドクターブレード37とは、Y方向に対して、スリットノズル13と同等以上の長さを有する。また、プリディスペンスローラ36は、図示しないモータの駆動により回転する。この塗布装置においては、塗布動作を実行する前に、プリディスペンスローラ36の上方に移動したスリットノズル13から少量の塗布液を吐出することにより、ノズル洗浄機構31による洗浄時に洗浄液を含有した塗布液を、スリットノズル13内から除去する工程を実行するようにしている。
Further, as shown in FIG. 2, a
図3は、ステージ11の表面に形成された孔部98、99および吸着溝91、92との関係を示す概要図である。また、図4は、孔部98、99への排気および気体供給系を示す概要図である。
FIG. 3 is a schematic diagram showing the relationship between the
図3に示すように、ステージ11における電子ペーパー用基板100の中央部付近と対向する位置には、孔部99が穿設されている。また、ステージ11における電子ペーパー用基板100の中央部付近と対向する位置には、この孔部99と連通する吸着溝92が、多数の矩形をなす状態で形成されている。一方、ステージ11における電子ペーパー用基板100の周辺部付近と対向する位置には、孔部98が穿設されている。また、ステージ11における電子ペーパー用基板100の周辺部付近と対向する位置には、この孔部98と連通する吸着溝91が、吸着溝92を取り囲むように、多数の矩形をなす状態で形成されている。
As shown in FIG. 3, a
各孔部99は、図4に示すチャンバー94と連通している。図4に示すように、チャンバー94は、切替弁96aを介して、図示しない窒素ガスの供給源と接続されている。また、チャンバー94は、切替弁96aおよび開閉弁97aを介して、図示しない真空ポンプ等の排気手段と接続されている。チャンバー94と切替弁96aとの間には、圧力計95aが配設されている。一方、各孔部98は、チャンバー93と連通している。チャンバー93は、切替弁96bを介して、図示しない窒素ガスの供給源と接続されている。また、チャンバー93は、切替弁96bおよび開閉弁97bを介して、図示しない真空ポンプ等の排気手段と接続されている。チャンバー93と切替弁96bとの間には、圧力計95bが配設されている。
Each
なお、電子ペーパー用基板100の周辺部付近と対向する位置に穿設された孔部98と連通するチャンバー93は、チャンバー94を取り囲む形状を有する単一のものであってもよく、複数に分割されたものであってもよい。図4においては、チャンバー93が2分割された場合を示している。
Note that the
この塗布装置において、後述する電子ペーパー用基板100の位置決めを行うときには、切替弁96a、96bを切り替えることによりチャンバー93、94内に窒素ガスを供給し、孔部98、99より窒素ガスを噴出する。これにより、電子ペーパー用基板100をステージ11上で水平方向に容易に移動させることが可能となる。一方、電子ペーパー用基板100をステージ11上に吸着保持するときには、切替弁96a、96bを切り替えるとともに開閉弁97a、97bを開放することにより、孔部98、99およびこれに連通する吸着溝91、92から排気を行う。
In this coating apparatus, when positioning the
この場合には、後述するように、最初に開閉弁97aを開放して電子ペーパー用基板100の中央部をステージ11に吸着保持した後に、 開閉弁97bを開放して電子ペーパー用基板100の周辺部をステージ11に吸着保持する。このときのチャンバー93、94の真空度、すなわち、電子ペーパー用基板100とステージ11との間の領域の真空度は、圧力計95a、95bにより測定される。
In this case, as will be described later, the opening / closing valve 97a is first opened and the central portion of the
以上のような構成を有する塗布装置により塗布動作を実行するときには、ステージ11上に電子ペーパー用基板100を吸着保持する。この場合には、必要に応じ、8個の凹部12内に配設された基板保持機構40、60により電子ペーパー用基板100の周縁部をステージ11に向けて押圧する。そして、スリットノズル13をステージ11に吸着保持された電子ペーパー用基板100の表面と近接させた状態で、このスリットノズル13をリニアモータ20の駆動により電子ペーパー用基板100の表面に沿って移動させるとともに、塗布液を電子ペーパー用基板100の表面に供給する。これにより、電子ペーパー用基板100の表面に塗布液の薄膜が形成される。
When the coating operation is performed by the coating apparatus having the above-described configuration, the
次に、この発明の特徴部分である基板保持機構の構成について説明する。図5から図10は、この発明の第1実施形態に係る基板保持機構40により電子ペーパー用基板100を保持する動作を示す説明図である。ここで、図5、図6、図7、図9は、基板保持機構40の側断面図である。また、図8は、図7のA−A断面図であり、図10は、図9のA−A断面図である。
Next, the structure of the substrate holding mechanism which is a characteristic part of the present invention will be described. 5 to 10 are explanatory views showing the operation of holding the
この基板保持機構40は、電子ペーパー用フィルム101と支持層102とを接着層を介して積層した電子ペーパー用基板100の周縁部を、ステージ11に向けて押圧するためのものであり、ステージ11に形成された8個の凹部12内に各々配設されている。
The
この基板保持機構40は、電子ペーパー用基板100の端縁に当接することにより、この電子ペーパー用基板100を位置決めするために使用される、鉛直方向の軸心を中心に回転可能なローラ状部材からなる当接部材41を備える。また、この基板保持機構40は、電子ペーパー用基板100の表面における当接部材41と電子ペーパー用基板100の端縁との当接位置から電子ペーパー用基板100の中央部側に所定距離だけ離隔した領域を、ステージ11に向けて押圧するために使用される、棒状部材47の回りに巻回されたオーリングより成る押圧部材42を備える。
The
当接部材41は、第1支持部43に支持されている。また、押圧部材42は、棒状部材47を介して第1支持部43に支持されている。この第1支持部43は、第2支持部45に配設された一対のガイド軸44対して摺動可能な構成を有する。また、図8および図10に示すように、第2支持部45に配設された軸48と第1支持部43との間には、バネ46が配設されている。
The
ここで、当接部材41と電子ペーパー用基板100の端縁との当接位置と、押圧部材42による電子ペーパー用基板100の表面の押圧位置との距離は、例えば、5mm程度に設定されている。すなわち、当接部材41と電子ペーパー用基板100の端縁との当接位置と、押圧部材42による電子ペーパー用基板100の表面の押圧位置との距離は、電子ペーパー用基板100における電子ペーパー用フィルム101の端縁と支持層102の端縁との距離より小さくなるように設定されている。
Here, the distance between the contact position of the
第1支持部43は、エアシリンダとガイド部材とを備えたエアスライダー51により、押圧部材42がステージ11に載置された電子ペーパー用基板100の表面を押圧する押圧位置と、ステージ11に載置された電子ペーパー用基板100の表面から離隔する離隔位置との間を昇降する。また、このエアスライダー51は、基台53上に固定されたエアスライダー52により、当接部材41がステージ11に載置された電子ペーパー用基板100の端縁に当接する当接位置と、ステージ11に載置された電子ペーパー用基板100の端縁から退避する退避位置との間を移動する。また、基台53上には、ネジ55の作用によりその上端の位置を変更可能な当たり部材54が配設されている。
The
次に、この基板保持機構40により電子ペーパー用基板100の周縁部をステージ11に向けて押圧する押圧動作について説明する。
Next, a pressing operation for pressing the peripheral portion of the
電子ペーパー用基板100に対して塗布液を塗布するために、電子ペーパー用基板100が図示しない搬送機構によりステージ11上に搬送されたときには、基板保持機構40は、図5に示す待機状態となっている。電子ペーパー用基板100の周縁部をステージ11に向けて押圧する押圧動作を開始するときには、最初に、図4に示す切替弁96a、96bおよび開閉弁97a、97bを操作することにより、ステージ11上に形成された孔部98および孔部99から窒素ガスを噴出する。これにより、ステージ11上における電子ペーパー用基板100の水平方向の移動が容易となる。
When the
この状態において、図6に示すように、エアスライダー51の作用により、第1支持部43および第2支持部45等を、当接部材41および押圧部材42とともに上昇させる。そして、図7に示すように、エアスライダー52の作用により、エアスライダー51をステージ11に載置された電子ペーパー用基板100に近接する方向に移動させる。これにより、当接部材41は、第1、第2支持部43、45等とともに、電子ペーパー用基板100の端縁から退避した退避位置から、電子ペーパー用基板100の端縁に当接する当接位置まで移動する。この当接部材41の移動に伴って、電子ペーパー用基板100がステージ11上で位置決めされる。
In this state, as shown in FIG. 6, the
次に、図4に示す切替弁96aおよび開閉弁97aを操作することにより、チャンバー94と連通する孔部99から排気を行う。これにより、孔部99と連通する吸着溝92から排気がなされ、電子ペーパー用基板100における中央部付近がステージ11上に吸着保持される。そして、この状態で一定の時間が経過すれば、図4に示す切替弁96bおよび開閉弁97bを操作することにより、チャンバー93と連通する孔部98からも排気を行う。これにより、孔部98と連通する吸着溝91からも排気がなされ、電子ペーパー用基板100における周辺部付近がステージ11上に吸着保持される。
Next, exhaust is performed from the
この時の電子ペーパー用基板100のステージ11に対する吸着保持状態は、圧力計95a、95bによるチャンバー93、94内の気圧の測定値により確認することができる。圧力計95a、95bによるチャンバー93、94内の気圧の測定値により、電子ペーパー用基板100の全域がステージ11上に吸着保持されていることが確認できた場合には、そのまま、塗布液の塗布動作を開始する。
At this time, the suction holding state of the
一方、反りの大きい電子ペーパー用基板100の場合には、その周辺付近がステージ11上に吸着保持されない場合がある。この場合には、電子ペーパー用基板100の周辺部分に対応するチャンバー93内の気圧が下がらないことになる。このような状態を圧力計95bが検出した場合には、基板保持機構40における押圧部材42により、電子ペーパー用基板100の周縁部をステージ11に向けて押圧する。
On the other hand, in the case of the
すなわち、図9に示すように、エアスライダー51の作用により、第1支持部43および第2支持部45等を、当接部材41および押圧部材42とともに下降させる。これにより、押圧部材42がステージ11に載置された電子ペーパー用基板100の表面から離隔する離隔位置からステージ11に載置された電子ペーパー用基板100の表面を押圧する押圧位置に移動する。これにより、電子ペーパー用基板100の全面がステージ11に当接し、電子ペーパー用基板100の全面がステージ11上に吸着保持されることになる。
That is, as shown in FIG. 9, the
このときの、押圧部材42による電子ペーパー用基板100の表面の押圧力は、バネ46の作用により所定の大きさに維持される。この時の押圧力の大きさは、当たり部材54の高さ位置を変更することにより、適切な値に調整することが可能となる。
At this time, the pressing force of the surface of the
このように、この第1実施形態に係る基板保持機構40によれば、当接部材41と電子ペーパー用基板100の端縁との当接位置と、押圧部材42による電子ペーパー用基板100の表面の押圧位置との距離が、電子ペーパー用基板100における電子ペーパー用フィルム101の端縁と支持層102の端縁との距離より小さくなるように設定されていることから、電子ペーパー用基板100の接触不可領域である電子ペーパー用フィルム101に接触することなく、電子ペーパー用基板100の接触可能領域である支持層102のみを押圧部材42により押圧することが可能となる。
As described above, according to the
この時、電子ペーパー用基板100の反りにより、この電子ペーパー用基板100の端縁がステージ11に吸着保持されない場合においてのみ、電子ペーパー用基板100を押圧部材42により押圧することから、電子ペーパー用基板100の吸着保持作業を効率的に実行することが可能となる。
At this time, the
次に、この発明の他の実施形態に係る基板保持機構の構成について説明する。図11から図15は、この発明の第2実施形態に係る基板保持機構60により電子ペーパー用基板100を保持する動作を示す説明図である。また、図16は、基板保持機構60の平面概要図である。なお、上述した第1実施形態に係る基板保持機構40と同様の部材については、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。
Next, the configuration of a substrate holding mechanism according to another embodiment of the present invention will be described. 11 to 15 are explanatory views showing the operation of holding the
この第2実施形態に係る基板保持機構60は、押圧部材42が離隔位置から押圧位置に移動した後に、当接部材41を押圧部材42に対して、ステージ11に載置された電子ペーパー用基板100の端縁から離隔する方向に移動させるための、くさび状部材61、62を備える当接部材移動機構を備えている。
In the
一対のくさび状部材61、62は、互いに対向する傾斜面を備え、その傾斜面を互いに当接させた状態で配置されている。このくさび状部材61は第1支持部43に連結されており、くさび状部材62は第2支持部45に連結されている。また、これらのくさび状部材61、62は、バネ63により、その傾斜面が常に当接する方向に、第1支持部43および第2支持部45を介して付勢されている。そして、この基板保持機構60においては、鉛直方向の軸心を中心に回転可能なローラ状部材からなる当接部材41は、くさび状部材62に接続された連結部材64上に配置されている。
The pair of wedge-shaped
次に、この基板保持機構60により電子ペーパー用基板100の周縁部をステージ11に向けて押圧する押圧動作について説明する。
Next, a pressing operation for pressing the peripheral portion of the
電子ペーパー用基板100に対して塗布液を塗布するために、電子ペーパー用基板100が図示しない搬送機構によりステージ11上に搬送されたときには、基板保持機構60は、図11に示す待機状態となっている。電子ペーパー用基板100の周縁部をステージ11に向けて押圧する押圧動作を開始するときには、上述した第1実施形態の場合と同様、最初に、図4に示す切替弁96a、96bおよび開閉弁97a、97bを操作することにより、ステージ11上に形成された孔部98および孔部99から窒素ガスを噴出する。これにより、ステージ11上における電子ペーパー用基板100の水平方向の移動が容易となる。
When the
この状態において、図12に示すように、エアスライダー51の作用により、第1支持部43および第2支持部45等を、当接部材41および押圧部材42とともに上昇させる。そして、図13に示すように、エアスライダー52の作用により、エアスライダー51をステージ11に載置された電子ペーパー用基板100に近接する方向に移動させる。これにより、当接部材41は、第1、第2支持部43、45等とともに、電子ペーパー用基板100の端縁から退避した退避位置から、電子ペーパー用基板100の端縁に当接する当接位置まで移動する。この当接部材41の移動に伴って、電子ペーパー用基板100がステージ11上で位置決めされる。
In this state, as shown in FIG. 12, the
次に、図4に示す切替弁96aおよび開閉弁97aを操作することにより、チャンバー94と連通する孔部99から排気を行う。これにより、孔部99と連通する吸着溝92から排気がなされ、電子ペーパー用基板100における中央部付近がステージ11上に吸着保持される。そして、この状態で一定の時間が経過すれば、図4に示す切替弁96bおよび開閉弁97bを操作することにより、チャンバー93と連通する孔部98からも排気を行う。これにより、孔部98と連通する吸着溝91からも排気がなされ、電子ペーパー用基板100における周辺部付近がステージ11上に吸着保持される。
Next, exhaust is performed from the
そして、第1実施形態の場合と同様、電子ペーパー用基板100のステージ11に対する吸着保持状態を圧力計95a、95bによるチャンバー93、94内の気圧の測定値により確認する。チャンバー93、94内の気圧の測定値により、電子ペーパー用基板100の全域がステージ11上に吸着保持されていることが確認できた場合には、そのまま、塗布液の塗布動作を開始する。一方、電子ペーパー用基板100の周辺部分に対応するチャンバー93内の気圧が下がらない場合には、基板保持機構60における押圧部材42により、電子ペーパー用基板100の周縁部をステージ11に向けて押圧する。
Then, as in the case of the first embodiment, the suction holding state of the
すなわち、図14に示すように、エアスライダー51の作用により、第1支持部43および第2支持部45等を、当接部材41および押圧部材42とともに下降させる。これにより、押圧部材42がステージ11に載置された電子ペーパー用基板100の表面から離隔する離隔位置からステージ11に載置された電子ペーパー用基板100の表面を押圧する押圧位置に移動する。これにより、電子ペーパー用基板100の全面がステージ11に当接し、電子ペーパー用基板100の全面がステージ11上に吸着保持されることになる。この時には、当接部材41は、電子ペーパー用基板100の端縁に当接する当接位置に配置されている。
That is, as shown in FIG. 14, the
この状態から、エアスライダー51の作用により第1支持部43および第2支持部45等がさらに下降した場合には、くさび状部材62が第2支持部45とともに、くさび状部材61および第1支持部43に対して相対的に下降する。これに伴って、一対のくさび状部材61、62の傾斜面の作用により、くさび状部材62が第2支持部45とともに、図15に示す右方向に移動する。そして、これに伴って、連結部材64上に配置されたくさび状部材62と連結された連結部材64も右方向に移動する。このため、当接部材41は、電子ペーパー用基板100の端縁に当接する当接位置から電子ペーパー用基板100の端縁から退避した退避位置まで移動する。このため、当接部材41と電子ペーパー用基板100の端縁とが摺動することを防止することが可能となる。
In this state, when the
この第2実施形態に係る基板保持機構60においても、当接部材41と電子ペーパー用基板100の端縁との当接位置と、押圧部材42による電子ペーパー用基板100の表面の押圧位置との距離が、電子ペーパー用基板100における電子ペーパー用フィルム101の端縁と支持層102の端縁との距離より小さくなるように設定されていることから、電子ペーパー用基板100の接触不可領域である電子ペーパー用フィルム101に接触することなく、電子ペーパー用基板100の接触可能領域である支持層102のみを押圧部材42により押圧することが可能となる。
Also in the
11 ステージ
12 凹部
13 スリットノズル
14 キャリッジ
15 支持部
17 走行レール
20 リニアモータ
23 リニアエンコーダ
31 ノズル洗浄機構
34 プリディスペンス機構
40 基板保持機構
41 当接部材
42 押圧部材
43 第1支持部
44 ガイド軸
45 第2支持部
46 バネ
51 エアスライダー
52 エアスライダー
54 当たり部材
60 基板保持機構
61 くさび状部材
62 くさび状部材
63 バネ
64 連結部材
91 吸着溝
92 吸着溝
93 チャンバー
94 チャンバー
95 圧力計
96 切替弁
97 開閉弁
98 孔部
99 孔部
100 電子ペーパー用基板
101 電子ペーパー用フィルム
102 支持層
DESCRIPTION OF
Claims (7)
前記ステージに載置された基板の周縁部を前記ステージに向けて押圧する基板保持機構を備え、
当該基板保持機構は、
前記ステージに載置された基板の端縁に当接することにより基板を位置決めする当接部材と、
前記基板の表面における前記当接部材と前記基板の端縁との当接位置から基板の中央部側に所定距離だけ離隔した領域を、前記ステージに向けて押圧する押圧部材と、
前記当接部材と前記押圧部材とを支持する第1支持部と、
前記第1支持部に対して摺動可能に設けられた第2支持部と、
前記第1支持部と前記第2支持部との間に配設されたバネと、
前記当接部材が前記ステージに載置された基板の端縁に当接するとともに、前記押圧部材が前記ステージ上に載置された基板の周縁部と対向する当接位置と、前記当接部材および前記押圧部材が前記ステージに載置された基板の端縁から退避する退避位置との間で前記第1支持部および前記第2支持部を移動させる水平移動機構と、
前記押圧部材が前記ステージに載置された基板の前記周縁部を押圧する押圧位置と、前記押圧部材が前記ステージに載置された基板の前記周縁部から離隔する離隔位置との間で前記第1支持部および前記第2支持部を移動させる昇降機構と、
を備え、
前記当接部材が前記当接位置に配置された状態で、前記昇降機構により前記第1支持部および前記第2支持部を前記離隔位置から前記押圧位置に下降させることを特徴とする塗布装置。 A stage on which a substrate having a central portion as a non-contactable region and a peripheral portion as a contactable region is placed, and in a state of being close to the surface of the substrate placed on the stage, relative to the substrate in the horizontal direction. A slit nozzle that applies a coating liquid onto the surface of the substrate by moving to a coating device,
A substrate holding mechanism that presses the peripheral edge of the substrate placed on the stage toward the stage;
The substrate holding mechanism is
An abutting member for positioning the substrate by abutting against an edge of the substrate placed on the stage;
A pressing member that presses a region separated from the contact position between the contact member and the edge of the substrate on the surface of the substrate by a predetermined distance toward the center of the substrate toward the stage;
A first support portion for supporting the contact member and the pressing member;
A second support portion slidably provided with respect to the first support portion;
A spring disposed between the first support portion and the second support portion;
The abutting member abuts against an edge of the substrate placed on the stage, the abutting position where the pressing member faces the peripheral edge of the substrate placed on the stage, the abutting member, and A horizontal movement mechanism for moving the first support part and the second support part between a retreat position in which the pressing member retreats from an edge of the substrate placed on the stage;
Between the pressing position where the pressing member presses the peripheral edge of the substrate placed on the stage and the separation position where the pressing member separates from the peripheral edge of the substrate placed on the stage. An elevating mechanism for moving the first support part and the second support part;
With
The coating apparatus, wherein the first support part and the second support part are lowered from the separation position to the pressing position by the lifting mechanism in a state where the contact member is disposed at the contact position .
前記ステージに載置された基板の周縁部を前記ステージに向けて押圧する基板保持機構を備え、
当該基板保持機構は、
前記ステージに載置された基板の端縁に当接することにより基板を位置決めする当接部材と、
前記基板の表面における前記当接部材と前記基板の端縁との当接位置から基板の中央部側に所定距離だけ離隔した領域を、前記ステージに向けて押圧する押圧部材と、
前記当接部材と前記押圧部材とを支持する第1支持部と、
前記第1支持部に対して摺動可能に設けられた第2支持部と、
前記当接部材が前記ステージに載置された基板の端縁に当接するとともに、前記押圧部材が前記ステージ上に載置された基板の周縁部と対向する当接位置と、前記当接部材および前記押圧部材が前記ステージに載置された基板の端縁から退避する退避位置との間で前記第1支持部および前記第2支持部を移動させる水平移動機構と、
前記押圧部材が前記ステージに載置された基板の前記周縁部を押圧する押圧位置と、前記押圧部材が前記ステージに載置された基板の前記周縁部から離隔する離隔位置との間で前記第1支持部および前記第2支持部を移動させる昇降機構と、
前記昇降機構により前記押圧部材が前記離隔位置から前記押圧位置に移動した後に、前記当接部材を前記押圧部材に対して前記ステージに載置された基板の端縁から離隔する方向に移動させる当接部材移動機構と、を備え、
前記当接部材移動機構は、互いに対向する傾斜面を互いに当接させた状態で配置された一対のくさび状部材を備え、前記一対のくさび状部材の一方は前記第1支持部に連結されるとともに、前記一対のくさび状部材の他方は前記第2支持部材に連結されることを特徴とする塗布装置。 A stage on which a substrate having a central portion as a non-contactable region and a peripheral portion as a contactable region is placed, and in a state of being close to the surface of the substrate placed on the stage, relative to the substrate in the horizontal direction. A slit nozzle that applies a coating liquid onto the surface of the substrate by moving to a coating device,
A substrate holding mechanism that presses the peripheral edge of the substrate placed on the stage toward the stage;
The substrate holding mechanism is
An abutting member for positioning the substrate by abutting against an edge of the substrate placed on the stage;
A pressing member that presses a region separated from the contact position between the contact member and the edge of the substrate on the surface of the substrate by a predetermined distance toward the center of the substrate toward the stage;
A first support portion for supporting the contact member and the pressing member;
A second support portion slidably provided with respect to the first support portion;
The abutting member abuts against an edge of the substrate placed on the stage, the abutting position where the pressing member faces the peripheral edge of the substrate placed on the stage, the abutting member, and A horizontal movement mechanism for moving the first support part and the second support part between a retreat position in which the pressing member retreats from an edge of the substrate placed on the stage;
Between the pressing position where the pressing member presses the peripheral edge of the substrate placed on the stage and the separation position where the pressing member separates from the peripheral edge of the substrate placed on the stage. An elevating mechanism for moving the first support part and the second support part;
After the pressing member is moved from the separation position to the pressing position by the lifting mechanism, the contact member is moved in a direction away from the edge of the substrate placed on the stage with respect to the pressing member. A contact member moving mechanism,
The abutting member moving mechanism includes a pair of wedge-shaped members disposed in a state in which inclined surfaces facing each other are in contact with each other, and one of the pair of wedge-shaped members is coupled to the first support portion. In addition, the other of the pair of wedge-shaped members is connected to the second support member .
前記基板保持機構は、前記ステージに載置された基板の周辺において前記ステージに形成された複数の凹部内に、各々、配設される塗布装置。 In the coating device according to claim 1 or 2 ,
The substrate holding mechanism is a coating apparatus that is respectively disposed in a plurality of recesses formed on the stage around the substrate placed on the stage.
前記ステージに形成された孔部と、
前記当接部材が前記基板の端縁に当接した後で、前記押圧部材が前記基板の前記周縁部を押圧する前に、前記孔部より排気を行う排気手段と、
前記ステージに形成された孔部のうち、前記基板の中央付近に対向する孔部の真空度を測定する第1圧力計と、
前記ステージに形成された孔部のうち、前記基板の端縁付近に対向する孔部の真空度を測定する第2圧力計と、
をさらに備え、
前記第2圧力計により前記基板の端縁付近に形成された孔部の真空度が一定値に達していないことが検出されたときに、前記昇降機構により前記押圧部材を前記離隔位置から前記押圧位置に移動させる塗布装置。 In the coating device in any one of Claims 1-3 ,
A hole formed in the stage;
Exhaust means for exhausting air from the hole before the pressing member presses the peripheral edge of the substrate after the contact member contacts the edge of the substrate;
A first pressure gauge that measures the degree of vacuum of a hole facing the vicinity of the center of the substrate among the holes formed in the stage;
A second pressure gauge that measures the degree of vacuum of the hole facing the vicinity of the edge of the substrate among the holes formed in the stage;
Further comprising a,
When the second pressure gauge detects that the degree of vacuum of the hole formed in the vicinity of the edge of the substrate does not reach a certain value, the elevating mechanism causes the pressing member to be pressed from the separation position. coating device Before moving to the position.
前記基板は、支持層と、接着層と、電子ペーパー用フィルムとをこの順に積層した電子ペーパー用基板である塗布装置。 In the coating device in any one of Claims 1-4 ,
The said board | substrate is a coating device which is a board | substrate for electronic paper which laminated | stacked the support layer, the contact bonding layer, and the film for electronic paper in this order.
前記ステージに載置された基板の端縁に当接することにより基板を位置決めする当接部材と、
前記基板の表面における前記当接部材と前記基板の端縁との当接位置から基板の中央部側に所定距離だけ離隔した領域を、前記ステージに向けて押圧する押圧部材と、
前記当接部材と前記押圧部材とを支持する支持部と、
前記支持部を、前記当接部材が前記ステージに載置された基板の端縁に当接する当接位置と、前記ステージに載置された基板の端縁から退避する退避位置との間で移動させる水平移動機構と、
前記支持部を、前記押圧部材が前記ステージに載置された基板の表面を押圧する押圧位置と、前記ステージに載置された基板の表面から離隔する離隔位置との間で移動させる昇降機構と、
前記ステージに形成された孔部と、
前記当接部材が前記基板の端縁に当接した後で、前記押圧部材が前記基板の前記周縁部を押圧する前に、前記孔部より排気を行う排気手段と、
前記ステージに形成された孔部のうち、前記基板の中央付近に対向する孔部の真空度を測定する第1圧力計と、
前記ステージに形成された孔部のうち、前記基板の端縁付近に対向する孔部の真空度を測定する第2圧力計と、
を備え、
前記第2圧力計により前記基板の端縁付近に対向する孔部の真空度が一定値に達していないことが検出されたときに、前記昇降機構により前記押圧部材を前記離隔位置から前記押圧位置に移動させることを特徴とする基板保持装置。 A substrate holding device that presses a peripheral portion of a substrate having a central portion as a non-contactable region and a peripheral portion as a contactable region toward a stage,
An abutting member for positioning the substrate by abutting against an edge of the substrate placed on the stage;
A pressing member that presses a region separated from the contact position between the contact member and the edge of the substrate on the surface of the substrate by a predetermined distance toward the center of the substrate toward the stage;
A support portion for supporting the contact member and the pressing member;
The support is moved between a contact position where the contact member contacts the edge of the substrate placed on the stage and a retreat position where the support member retreats from the edge of the substrate placed on the stage. A horizontal movement mechanism,
An elevating mechanism for moving the support portion between a pressing position where the pressing member presses the surface of the substrate placed on the stage and a separation position separated from the surface of the substrate placed on the stage; ,
A hole formed in the stage;
Exhaust means for exhausting air from the hole before the pressing member presses the peripheral edge of the substrate after the contact member contacts the edge of the substrate;
A first pressure gauge that measures the degree of vacuum of a hole facing the vicinity of the center of the substrate among the holes formed in the stage;
A second pressure gauge that measures the degree of vacuum of the hole facing the vicinity of the edge of the substrate among the holes formed in the stage;
With
When the second pressure gauge detects that the degree of vacuum of the hole facing the vicinity of the edge of the substrate does not reach a certain value, the lifting mechanism moves the pressing member from the separation position to the pressing position. A substrate holding device, wherein the substrate holding device is moved .
前記基板を前記ステージ上に載置する載置工程と、
前記ステージに形成された孔部から気体を噴出する気体噴出工程と、
前記ステージに載置された基板の端縁に当接部材を当接させて前記基板を位置決めする位置決め工程と、
前記ステージに形成された孔部から排気を行う排気工程と、
前記ステージに形成された孔部のうち、前記基板の中央部付近に対向する位置に形成された孔部の真空度と、前記基板の端縁付近に対向する位置に形成された孔部の真空度をそれぞれ測定する真空度測定工程と、
前記基板の端縁付近に対向する孔部の真空度が一定値に達していない場合に、前記基板の表面における前記当接部材と前記基板の端縁との当接位置から基板の中央部側に所定距離だけ離隔した領域を押圧部材により前記ステージに向けて押圧する押圧工程と、
を備えたことを特徴とする基板保持方法。 A substrate holding method for adsorbing and holding on a stage a substrate having a central part as a non-contactable area and a peripheral part as a contactable area,
A placing step of placing the substrate on the stage;
A gas ejection step for ejecting gas from the hole formed in the stage;
A positioning step of positioning the substrate by bringing a contact member into contact with an edge of the substrate placed on the stage;
An exhaust process for exhausting from the hole formed in the stage ;
Of the holes formed in the stage, the degree of vacuum of the hole formed at a position facing the vicinity of the center of the substrate and the vacuum of the hole formed at a position facing the edge of the substrate A vacuum measurement process for measuring the degree of each ,
When the degree of vacuum of the hole facing the edge of the substrate does not reach a certain value, the center of the substrate from the contact position of the contact member and the edge of the substrate on the surface of the substrate A pressing step of pressing a region separated by a predetermined distance toward the stage by a pressing member;
A substrate holding method comprising:
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